JPH05166597A - 半導体製造装置における液体窒素を使用した真空装置の電極の低温温度コントロールシステム - Google Patents
半導体製造装置における液体窒素を使用した真空装置の電極の低温温度コントロールシステムInfo
- Publication number
- JPH05166597A JPH05166597A JP3327777A JP32777791A JPH05166597A JP H05166597 A JPH05166597 A JP H05166597A JP 3327777 A JP3327777 A JP 3327777A JP 32777791 A JP32777791 A JP 32777791A JP H05166597 A JPH05166597 A JP H05166597A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid nitrogen
- nitrogen
- electrode
- valve
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単な構成により、半導体製造装置における
液体窒素を使用した真空装置の電極の低温温度コントロ
ールシステムである。 【構成】 図１に示すように窒素再液化用冷凍機３と温
度制御されるべき電極２とこの電極に液体窒素を供給す
る二つの液体窒素タンク４、５をパイプにより連結して
窒素を循環させ、タンク内の液体窒素の液面を感知する
センサ７、８及び圧力を感知するセンサ１４、１５から
の入力信号により、窒素再液化用冷凍機３を制御し、且
つ二つの液体窒素タンク４、５を切り換えて使用するよ
うに、バルブを制御する制御回路１１を設けたもので、
液体窒素の消費量を少なくすることができる結果、コス
トを低く抑えることが可能であり、高精度の温度コント
ロールが行える。
液体窒素を使用した真空装置の電極の低温温度コントロ
ールシステムである。 【構成】 図１に示すように窒素再液化用冷凍機３と温
度制御されるべき電極２とこの電極に液体窒素を供給す
る二つの液体窒素タンク４、５をパイプにより連結して
窒素を循環させ、タンク内の液体窒素の液面を感知する
センサ７、８及び圧力を感知するセンサ１４、１５から
の入力信号により、窒素再液化用冷凍機３を制御し、且
つ二つの液体窒素タンク４、５を切り換えて使用するよ
うに、バルブを制御する制御回路１１を設けたもので、
液体窒素の消費量を少なくすることができる結果、コス
トを低く抑えることが可能であり、高精度の温度コント
ロールが行える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置におけ
る液体窒素を使用した真空装置の電極の低温温度コント
ロールシステムに関する。
る液体窒素を使用した真空装置の電極の低温温度コント
ロールシステムに関する。
【０００２】
【従来技術】半導体製造装置の電極として高周波電極を
用いたエッチング装置は、図２に示すように、アースに
接続した真空チャンバ（アノード）１内を真空排気し、
その中にエッチングを目的としたガスをチャンバ内が一
定圧力になるように流量を制御して導入する。真空チャ
ンバ１と電気的に絶縁されたカソード部に高周波を印加
すると真空チャンバ内にプラズマ放電が発生する。プラ
ズマ内で導入されたガスがイオンとなって電極（カソー
ド）２に引きつけられ、電極２上に置かれたウエハー１
３に超高温のイオンが衝突してウエハーをエッチングす
る。この時、超高温のイオンの衝突とウエハー上での化
学反応によりウエハーの温度が上昇するため、温度制御
をする必要がある。
用いたエッチング装置は、図２に示すように、アースに
接続した真空チャンバ（アノード）１内を真空排気し、
その中にエッチングを目的としたガスをチャンバ内が一
定圧力になるように流量を制御して導入する。真空チャ
ンバ１と電気的に絶縁されたカソード部に高周波を印加
すると真空チャンバ内にプラズマ放電が発生する。プラ
ズマ内で導入されたガスがイオンとなって電極（カソー
ド）２に引きつけられ、電極２上に置かれたウエハー１
３に超高温のイオンが衝突してウエハーをエッチングす
る。この時、超高温のイオンの衝突とウエハー上での化
学反応によりウエハーの温度が上昇するため、温度制御
をする必要がある。
【０００３】従来、半導体製造装置における液体窒素を
使用した低温温度コントロールシステムは（１）液体窒
素を流すか又は溜め込み、加熱用ヒーターで温度をコン
トロールするシステム（図３参照）、（２）液体窒素の
流量を空圧作動バルブで開閉することによって液体窒素
を供給→供給停止→再供給の繰り返しで温度を制御する
システム（図４参照）等がある。
使用した低温温度コントロールシステムは（１）液体窒
素を流すか又は溜め込み、加熱用ヒーターで温度をコン
トロールするシステム（図３参照）、（２）液体窒素の
流量を空圧作動バルブで開閉することによって液体窒素
を供給→供給停止→再供給の繰り返しで温度を制御する
システム（図４参照）等がある。
【０００４】しかしながら、前者は液体窒素単独で温度
制御するのではなく、加熱ヒーターを用いた複式温度コ
ントロールシステムで極めて複雑であり、そして後者は
バルブが開もしくは閉の２動作制御のため、温度コント
ロールしたい電極の温度制御精度が悪く、またいずれも
気化した窒素ガスを大気放出するなど液体窒素の消費量
が多く、頻繁に液体窒素タンクの交換や工場施設の液体
窒素タンクからの配管が必要である等の欠点がある。
制御するのではなく、加熱ヒーターを用いた複式温度コ
ントロールシステムで極めて複雑であり、そして後者は
バルブが開もしくは閉の２動作制御のため、温度コント
ロールしたい電極の温度制御精度が悪く、またいずれも
気化した窒素ガスを大気放出するなど液体窒素の消費量
が多く、頻繁に液体窒素タンクの交換や工場施設の液体
窒素タンクからの配管が必要である等の欠点がある。
【０００５】これらの従来装置は、1988年２月15日財団
法人電気学会の電子デバイス研究資料（資料番号EDD-88
-42 ）に「Low-Temperature Reactive Ion Etching and
Microwave Plasma Etching 」として記載されている。
法人電気学会の電子デバイス研究資料（資料番号EDD-88
-42 ）に「Low-Temperature Reactive Ion Etching and
Microwave Plasma Etching 」として記載されている。
【０００６】
【発明の解決すべき課題】従って、本発明は簡単な構成
により、従来装置のもつ欠点を除去し、液体窒素の消費
量を少なくすることができる結果、コストを低く抑える
ことが可能であり、また高精度の温度コントロールが行
える半導体製造装置における液体窒素を使用した真空装
置の電極の低温温度コントロールシステムを提供するこ
とを目的とする。
により、従来装置のもつ欠点を除去し、液体窒素の消費
量を少なくすることができる結果、コストを低く抑える
ことが可能であり、また高精度の温度コントロールが行
える半導体製造装置における液体窒素を使用した真空装
置の電極の低温温度コントロールシステムを提供するこ
とを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、窒素再液化用
冷凍機と温度制御されるべき電極とこの電極に液体窒素
を供給する二つの液体窒素タンクをパイプにより連結し
て窒素を循環させ、タンク内の液体窒素の液面及び圧力
を感知するセンサからの入力信号により、窒素再液化用
冷凍機を制御し、且つ二つの液体窒素タンクを切り換え
て使用するように、バルブを制御する制御回路を設けた
ものである。
冷凍機と温度制御されるべき電極とこの電極に液体窒素
を供給する二つの液体窒素タンクをパイプにより連結し
て窒素を循環させ、タンク内の液体窒素の液面及び圧力
を感知するセンサからの入力信号により、窒素再液化用
冷凍機を制御し、且つ二つの液体窒素タンクを切り換え
て使用するように、バルブを制御する制御回路を設けた
ものである。
【０００８】
【実施例】本発明は、図１に示すように、真空チァンバ
（アノード）１内に設けられた電極（カソード）２と窒
素再液化用冷凍機３と二つの併設した第１及び第２の液
体窒素タンク４、５を配管し、液体窒素が第１の液体窒
素タンク４又は第２の液体窒素タンク５から電極２に流
れ込み、電極から吐出した窒素ガス又は液体窒素が窒素
再液化用冷凍機３に送りこまれ、そして送りこまれた窒
素ガスはそこで再び液体窒素となって、第１の液体窒素
タンク４又は第２の液体窒素タンク５に戻るように循環
する。そして電極２の入力側には温度調節用電動バルブ
Ｖ1 を、液体窒素タンク４と５には吐出側にそれぞれ液
体窒素供給バルブＶ2 とＶ3 、加圧用窒素バルブＶ4 と
Ｖ5 、吸入側には液体窒素貯蔵用バルブＶ6 とＶ7 及び
圧力調整バルブＶ8 とＶ9 を、窒素再液化用冷凍機３の
吸入側には再液化バルブＶ11を、そして再液化バルブＶ
11の電極側に窒素ガス放出バルブＶ10と再液化バルブＶ
11の冷凍機３側に液化用窒素ガス供給バルブＶ12をそれ
ぞれ設ける。また第１及び第２の液体窒素タンク４、５
には液体窒素制御回路６に接続された液体窒素液面セン
サ７と８及び圧力センサ１４と１５が設けられている。
更に、電極２には温度センサ９があり、これと温度調節
計１０及びバルブコントローラ１１によって温度調節用
電動バルブＶ1 を制御するようになっている。
（アノード）１内に設けられた電極（カソード）２と窒
素再液化用冷凍機３と二つの併設した第１及び第２の液
体窒素タンク４、５を配管し、液体窒素が第１の液体窒
素タンク４又は第２の液体窒素タンク５から電極２に流
れ込み、電極から吐出した窒素ガス又は液体窒素が窒素
再液化用冷凍機３に送りこまれ、そして送りこまれた窒
素ガスはそこで再び液体窒素となって、第１の液体窒素
タンク４又は第２の液体窒素タンク５に戻るように循環
する。そして電極２の入力側には温度調節用電動バルブ
Ｖ1 を、液体窒素タンク４と５には吐出側にそれぞれ液
体窒素供給バルブＶ2 とＶ3 、加圧用窒素バルブＶ4 と
Ｖ5 、吸入側には液体窒素貯蔵用バルブＶ6 とＶ7 及び
圧力調整バルブＶ8 とＶ9 を、窒素再液化用冷凍機３の
吸入側には再液化バルブＶ11を、そして再液化バルブＶ
11の電極側に窒素ガス放出バルブＶ10と再液化バルブＶ
11の冷凍機３側に液化用窒素ガス供給バルブＶ12をそれ
ぞれ設ける。また第１及び第２の液体窒素タンク４、５
には液体窒素制御回路６に接続された液体窒素液面セン
サ７と８及び圧力センサ１４と１５が設けられている。
更に、電極２には温度センサ９があり、これと温度調節
計１０及びバルブコントローラ１１によって温度調節用
電動バルブＶ1 を制御するようになっている。
【０００９】本発明は、以上のような構成において、全
てのバルブＶ2 〜Ｖ12を全閉状態とし、次に、加圧用窒
素バルブＶ4 を開いて窒素ガスを液体窒素で満たされた
液体窒素タンク４へ供給すると共に液体窒素供給バルブ
Ｖ2 を開く。液体窒素タンク４は窒素ガスの過圧を避け
るため、圧力センサでタンク内の圧力を測定し過圧の場
合は圧力調整バルブＶ8 を開き、タンク内の圧力をある
程度一定に保つ。液体窒素供給バルブＶ2 を開くことに
より、電極２へ液体窒素が供給されるが、温度調節用電
動バルブＶ1 によって、液体窒素の流量を０〜１００％
（Ｍａｘ）の範囲内で可変にする制御法により電極２を
冷却する。
てのバルブＶ2 〜Ｖ12を全閉状態とし、次に、加圧用窒
素バルブＶ4 を開いて窒素ガスを液体窒素で満たされた
液体窒素タンク４へ供給すると共に液体窒素供給バルブ
Ｖ2 を開く。液体窒素タンク４は窒素ガスの過圧を避け
るため、圧力センサでタンク内の圧力を測定し過圧の場
合は圧力調整バルブＶ8 を開き、タンク内の圧力をある
程度一定に保つ。液体窒素供給バルブＶ2 を開くことに
より、電極２へ液体窒素が供給されるが、温度調節用電
動バルブＶ1 によって、液体窒素の流量を０〜１００％
（Ｍａｘ）の範囲内で可変にする制御法により電極２を
冷却する。
【００１０】電極より吐出した窒素ガス又は液体窒素は
再液化バルブＶ11を開いて窒素再液化用冷凍機３に送ら
れることによって液化され、更に、液体窒素貯蔵用バル
ブＶ7 を開くことによって液体窒素が空になっている第
２の液体窒素タンク５へ貯蔵される。そして第１の液体
窒素タンク４の液体窒素の残量が少なくなった場合は、
液体窒素供給バルブＶ2 、加圧用窒素バルブＶ4 、液体
窒素貯蔵用バルブＶ7 が、それぞれ閉じると共に、液体
窒素供給バルブＶ3 加圧用窒素バルブＶ5 、液体窒素貯
蔵用バルブＶ6 がそれぞれ開いて、温度コントロール用
の液体窒素が第２の液体窒素タンク５から電極２へ供給
されるように切り換えられると共に、液体窒素が不足し
ている第１の液体窒素タンク４は窒素再液化用冷凍機３
より液体窒素が補充される。同様にして、第２の液体窒
素タンク５の液体窒素の残量が少なくなった場合は、第
１の液体窒素タンク４に切り換えられる。
再液化バルブＶ11を開いて窒素再液化用冷凍機３に送ら
れることによって液化され、更に、液体窒素貯蔵用バル
ブＶ7 を開くことによって液体窒素が空になっている第
２の液体窒素タンク５へ貯蔵される。そして第１の液体
窒素タンク４の液体窒素の残量が少なくなった場合は、
液体窒素供給バルブＶ2 、加圧用窒素バルブＶ4 、液体
窒素貯蔵用バルブＶ7 が、それぞれ閉じると共に、液体
窒素供給バルブＶ3 加圧用窒素バルブＶ5 、液体窒素貯
蔵用バルブＶ6 がそれぞれ開いて、温度コントロール用
の液体窒素が第２の液体窒素タンク５から電極２へ供給
されるように切り換えられると共に、液体窒素が不足し
ている第１の液体窒素タンク４は窒素再液化用冷凍機３
より液体窒素が補充される。同様にして、第２の液体窒
素タンク５の液体窒素の残量が少なくなった場合は、第
１の液体窒素タンク４に切り換えられる。
【００１１】２つの液体窒素タンク内は液面センサ７、
８により監視され、第１及び第２の液体窒素タンク４及
び５が液体窒素で満たされた時は再液化バルブＶ11を閉
じ、放出バルブＶ10を開にして電極２から吐出した窒素
ガス又は液体窒素は大気に放出される。この間、２つの
液体窒素タンク４、５は各圧力センサ１４、１５と圧力
調整バルブＶ8 、Ｖ9 によってタンク内の圧力を一定に
保つ。また２つの液体窒素タンク４、５の液体窒素の量
が同時に不足した場合は、液化用窒素ガス供給バルブＶ
12よりDry 窒素ガスを導入し窒素の液化を促進し補充す
る。
８により監視され、第１及び第２の液体窒素タンク４及
び５が液体窒素で満たされた時は再液化バルブＶ11を閉
じ、放出バルブＶ10を開にして電極２から吐出した窒素
ガス又は液体窒素は大気に放出される。この間、２つの
液体窒素タンク４、５は各圧力センサ１４、１５と圧力
調整バルブＶ8 、Ｖ9 によってタンク内の圧力を一定に
保つ。また２つの液体窒素タンク４、５の液体窒素の量
が同時に不足した場合は、液化用窒素ガス供給バルブＶ
12よりDry 窒素ガスを導入し窒素の液化を促進し補充す
る。
【００１２】これらの各バルブＶ2 〜Ｖ12及び窒素再液
化用冷凍機３は液体窒素用液面センサ７、８及び圧力セ
ンサ１４、１５からの入力信号に基づいて液体窒素制御
回路６によって直接制御される。そして温度調節用電動
バルブＶ1 は電極２に設けられた温度センサ９でバルブ
コントローラ１１を介した温度調節計１０のＰＩＤ制御
により直接制御されるが、制御回路６は温度調節計１０
へも信号をおくり、温度調節用電動バルブを間接的に制
御している。従って、温度調節用電動バルブＶ1 は電極
２に流れる液体窒素の流量を瞬時に可変にし電極の温度
を正確にかつ高精度でコントロールをすることができる
ものである。
化用冷凍機３は液体窒素用液面センサ７、８及び圧力セ
ンサ１４、１５からの入力信号に基づいて液体窒素制御
回路６によって直接制御される。そして温度調節用電動
バルブＶ1 は電極２に設けられた温度センサ９でバルブ
コントローラ１１を介した温度調節計１０のＰＩＤ制御
により直接制御されるが、制御回路６は温度調節計１０
へも信号をおくり、温度調節用電動バルブを間接的に制
御している。従って、温度調節用電動バルブＶ1 は電極
２に流れる液体窒素の流量を瞬時に可変にし電極の温度
を正確にかつ高精度でコントロールをすることができる
ものである。
【００１３】
【発明の効果】本発明は、以上の構成を有し、また動作
することにより、（１）液体窒素は循環して使用される
ため消費量が低減され、コストを低く抑えることができ
る、（２）大型の液体窒素タンクの設置、そこからの配
管の設置の必要がなく、小型の液体窒素タンク及び短い
配管でシステムを組むことができる、（３）液体窒素タ
ンク内の圧力を一定にした状態で温度調節用電動バルブ
を使用することにより高精度な温度コントロールが行え
る、（４）本システムは自動制御であるため、人の作業
が極端に少なく、単純な作業で稼働でき、稼働中は人が
装置に付く必要がない等の効果が期待できる。
することにより、（１）液体窒素は循環して使用される
ため消費量が低減され、コストを低く抑えることができ
る、（２）大型の液体窒素タンクの設置、そこからの配
管の設置の必要がなく、小型の液体窒素タンク及び短い
配管でシステムを組むことができる、（３）液体窒素タ
ンク内の圧力を一定にした状態で温度調節用電動バルブ
を使用することにより高精度な温度コントロールが行え
る、（４）本システムは自動制御であるため、人の作業
が極端に少なく、単純な作業で稼働でき、稼働中は人が
装置に付く必要がない等の効果が期待できる。
【図１】本発明のシステム構成図
【図２】真空チャンバの説明図
【図３】従来装置の構成図
【図４】従来装置の他の構成図
１ 真空チャンバ ２ 電極 ３ 窒素再液化用冷凍機 ４ 第１の液体窒素タンク ５ 第２の液体窒素タンク ６ 液体窒素制御回路 ７、８ 液体窒素用液面センサ ９ 温度センサ １０ 温度調節計 １１ バルブコントローラ １２ 絶縁パイプ １３ ウエハ １４、１５ 圧力センサ １６ ヒーター １７ 絶縁性断熱材 ２５ 液体窒素配管 ２６ ヒーターコントローラ ２７ 高周波電源 ２８ 窒素ガス配管 Ｖ1 温度調節用電動バルブ Ｖ2 、Ｖ3 液体窒素供給バルブ Ｖ4 、Ｖ5 加圧用窒素バルブ Ｖ6 、Ｖ7 液体窒素貯蔵用バルブ Ｖ8 、Ｖ9 圧力調整バルブ Ｖ10 窒素ガス放出バルブ Ｖ11 再液化バルブ Ｖ12 液化用窒素ガス供給バルブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野 真徳 千葉県山武郡山武町木原2568−５ (72)発明者 鈴木 彰 千葉県成田市新泉14−３ (72)発明者 矢野 弘 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 三原 智 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 半導体製造装置における液体窒素を使用
した真空装置の電極の低温温度コントロールシステムに
おいて、 電極に液体窒素を供給する少なくとも２つの液体窒素タ
ンクと気化した窒素ガスを液化するための窒素再液化用
冷凍機と、 前記少なくとも２つの液体窒素タンクを切り換える液体
窒素供給バルブと、 前記窒素再液化用冷凍機において再液化した液体窒素を
前記液体窒素タンクへ送る液体窒素貯蔵用バルブと、 前記液体窒素タンク内の液体窒素の量を測定する液面セ
ンサと過圧を防止する圧力センサ及び前記圧力センサと
前記液面センサからの入力信号により、前記各バルブと
前記再液化冷凍機を制御する制御回路、とから成ること
を特徴とするシステム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3327777A JPH05166597A (ja) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | 半導体製造装置における液体窒素を使用した真空装置の電極の低温温度コントロールシステム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3327777A JPH05166597A (ja) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | 半導体製造装置における液体窒素を使用した真空装置の電極の低温温度コントロールシステム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05166597A true JPH05166597A (ja) | 1993-07-02 |
Family
ID=18202867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3327777A Withdrawn JPH05166597A (ja) | 1991-12-11 | 1991-12-11 | 半導体製造装置における液体窒素を使用した真空装置の電極の低温温度コントロールシステム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05166597A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107726039A (zh) * | 2017-10-20 | 2018-02-23 | 广东锐捷安全技术股份有限公司 | 一种用于液态气体低温储存的容器组 |
| CN110146438A (zh) * | 2019-07-05 | 2019-08-20 | 宁夏大学 | 一种实时监测工业废水排放管动态腐蚀的装置 |
| CN113406129A (zh) * | 2021-07-28 | 2021-09-17 | 重庆大学 | 一种用于x射线单晶体衍射仪的液氮蒸发器 |
-
1991
- 1991-12-11 JP JP3327777A patent/JPH05166597A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107726039A (zh) * | 2017-10-20 | 2018-02-23 | 广东锐捷安全技术股份有限公司 | 一种用于液态气体低温储存的容器组 |
| CN110146438A (zh) * | 2019-07-05 | 2019-08-20 | 宁夏大学 | 一种实时监测工业废水排放管动态腐蚀的装置 |
| CN113406129A (zh) * | 2021-07-28 | 2021-09-17 | 重庆大学 | 一种用于x射线单晶体衍射仪的液氮蒸发器 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0776988B1 (en) | Temperature regulation apparatus | |
| EP0465185B1 (en) | Vacuum processing method and apparatus | |
| US8864932B2 (en) | Plasma processing apparatus, electrode temperature adjustment device and electrode temperature adjustment method | |
| JP4256031B2 (ja) | 処理装置およびその温度制御方法 | |
| US3415310A (en) | Apparatus for controlling the temperature and oxygen concentration in a compartment | |
| US6532796B1 (en) | Method of substrate temperature control and method of assessing substrate temperature controllability | |
| US8809197B2 (en) | Plasma etching apparatus and control method | |
| CN109285754B (zh) | 被处理体的处理装置和处理装置的检查方法 | |
| US20110220288A1 (en) | Temperature control system, temperature control method, plasma processing apparatus and computer storage medium | |
| US20060213763A1 (en) | Temperature control method and apparatus, and plasma processing apparatus | |
| CN102041487A (zh) | 基板载置台的温度控制系统及其温度控制方法 | |
| CN109300763B (zh) | 基片处理装置和基片处理装置的运用方法 | |
| CN109154082A (zh) | 升华气体供应系统和升华气体供应方法 | |
| CN108630513A (zh) | 等离子体处理装置以及等离子体处理方法 | |
| CN102954639A (zh) | 温控装置及其温控方法 | |
| JP4579025B2 (ja) | 温度調整方法，温度調整装置，プラズマ処理装置 | |
| US8597401B2 (en) | Exhausting method and gas processing apparatus | |
| JPH05166597A (ja) | 半導体製造装置における液体窒素を使用した真空装置の電極の低温温度コントロールシステム | |
| US5450266A (en) | Superconducting fault current limiter | |
| CN110275556B (zh) | 静电卡盘的温度控制方法、系统及半导体处理设备 | |
| US20070056512A1 (en) | Rapid cooling system for RTP chamber | |
| TWI258187B (en) | Gas introduction system for controlling temperature of object to be processed | |
| JP3931357B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH05163096A (ja) | 半導体製造装置における冷凍機を用いた真空装置の電極の低温温度コントロールシステム | |
| JP2007027567A (ja) | プラズマ処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990311 |