JPH0516459B2 - - Google Patents
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Description
(産業上の利用分野)
本発明はミクロポアを有するプラズマ重合薄膜
を製造方法に関する。 (従来の技術) プラズマ重合を用いればあらゆる有機及び有機
金属化合物の重合が可能であり、プラズマ重合薄
膜が得られる。得られる薄膜は一般に高度の架橋
構造をとり、ピンホールフリーであると言われて
いる。このためプラズマ重合膜は表面保護膜や金
属防錆膜等各方面に応用されている。 しかし、ピンホールフリーの為、物質通過膜と
しての利用は2、3の応用例を除いて他の応用分
野に比して遅れているのが現状である。プラズマ
重合膜の物質透過膜としての応用は、プラズマ重
合膜の超薄膜としての特性を利用した分野で、酸
素富化膜及び逆浸透膜への応用が検討されてい
る。これらの分野でのプラズマ重合膜の特徴は膜
構造の級密性と超薄膜化の技術であり、それぞれ
物質の分離性と物質の透過性に寄与している。し
かしながら、分離性と透過性は相反する性質であ
り、分離性を増加させると透過性が低下し、透過
性を増加させると分離性が低下し、両者のコント
ロールは非常に困難である。 本発明者らは、鋭意研究の結果、従来のプラズ
マ重合膜に比し、極めて透過性の優れたプラズマ
重合膜を完成させ、本発明に至つた。 (発明が解決しようとする問題点) 本発明の目的は、プラズマ重合膜中に意図的に
ミクロポアを形成せしめ、その数と大きさによつ
て膜の透過性を制御でき、膜厚の増加によつて透
過性の低下が極めて少ないミクロポアを有するプ
ラズマ重合薄膜の製造方法を提案するにある。 (問題点を解決する為の手段) 本発明方法は、プラズマ重合性有機化合物及び
I2又はBr2の共存下グロー放電を行い、基板上に
I2又はBr2を含有するプラズマ重合膜を形成させ
た後、前記I2はBr2を除去し、ミクロポアを形成
させること特徴とする。 本発明に使用するプラズマ重合性有機化合物
(以後モノマーと称する)はプラズマ重合により
薄膜を形成する有機化合物であればいづれの化合
物でもよく、得に限定されない。モノマー中に金
属原子、ケイ素、リン、イオウ等炭素以外の原子
を含んでも何らさしつかえない。又目的に応じて
官能基、二重結合等をもつモノマーを使用し、そ
の反応性、重合性等を改良してもよい。重合性及
び成膜性から好ましいモノマーは二重結合を一つ
以上含有するモノマーがよく、例えば、エチレ
ン、プロピレン、アクリロニトリル、メチルメタ
クリレート、スチレン、α−メチルスチレン、ア
クリル酸、メタクリル酸、ビニルピリジン、塩化
ビニル、塩化ビニリデン、テトラフロロエチレ
ン、2−ヒドロキシメチルエタクリレート、ジビ
ニルベンゼン、ブタジエン、クロロプレン等であ
る。又環状のモノマーも好ましく、例えばシクロ
ヘキサン、パーフロロシクロヘキサン、ε−カプ
ロラクタム、テトラハイドロフラン、ベンゼン、
ナフタリン、ジオキサン、ヘキサメチルシクロト
リシロキサン等である。これらモノマーは単独で
使用しても又2つ以上併用してもよく、モノマー
の構造や性質に応じ、又目的に応じ適宜選択す
る。 プラズマ重合不活性物質としてはI2、Br2、
As、Sb、S、P、H2O等が使用できるが、ラジ
カルスカベンジヤーであるI2、Br2が好ましい。
プラズマ重合性有機化合物及びプラズマ重合不活
性物質はプラズマ重合に際し共存させ、グロー放
電によりモノマーをプラズマ化し、プラズマ重合
を行う。又、この際、Ar、N2、H2、He、CO2、
O2等の非重合性ガスを共存させプラズマ重合を
行うこともでき、又プラズマ重合後にこれら非重
合性ガスプラズマで処理し、プラズマ重合膜をエ
ツチング、表面架橋等を行うことで膜の透過性を
改良することもできる。 本発明で用いるプラズマはいわゆる低温プラズ
マを指し、該イオン化ガスプラズマはかかるプラ
ズマを生成するための公知方法のいずれによつて
も生成させることができる。例えばJ・R.ホラ
ハン(Hollahan)とA・T.ベル(Bell)版「プ
ラズマ化学の応用技術」、ワイリー、ニユーヨー
ク1974およびMシエン(Shen)版「重合体のプ
ラズマ化学」デツカー・ニユーヨーク・1976に記
載されている。即ち高周波発生器に連結された平
行板電極の間にモノマーを真空下で入れ、真空室
の外部又は内部のいずれかの平行板を用いてプラ
ズマを生成させることが出来る。また外部誘導コ
イルによつて電場をつくらせ、イオン化ガスのプ
ラズマを発生させてもよく、また反対に荷電した
電極に間隔をおいて直接真空室に入れてプラズマ
を生成させてもよい。 プラズマ重合条件としては真空度、プラズマ出
力、時間、基板温度、モノマー流量等があげられ
る。これらの条件は使用するモノマーの種類によ
り適宜選択する。例えば真空度は重合速度、重合
膜の緻密性、I2、Br2のドーピング量に影響を与
え、膜の透過性を大きく左右する。真空度は通常
10-5〜102Torr、好ましくは10-3〜101Torrであ
る。プラズマ出力はモノマーより選択するが、通
常5〜500W、好ましくは10〜300W、更に好まし
くは50〜200Wである。重合時間と薄厚はほぼ比
例しており、基板温度も重合速度、膜の性状に影
響があり、室温以下が好ましい。モノマー流量と
I2、Br2等のプラズマ重合不活性物質の流量との
比率により重合膜中のI2、Br2等のドーピング量
が変化し、透過性に大きな差異が現われる。例え
ば、モノマーに対するプラズマ重合不活性物質の
流量比が0.01wt%より小さい場合は、プラズマ重
合不活性物質はプラズマ重合膜中にモノマー或い
は分子的な分散状態で取り込まれ、該不活性物質
除去後に形成される空孔も極めて小さいものとな
る。一方、この流量比が50wt%と大きくなると、
反応系内の汚染や不活性物質のクラスター化によ
り生成空孔が極めて大きく又、不規則になり好ま
しくない。通常、0.01〜50wt%であり、好ましく
は0.05〜30wt%、特に好ましくは0.1wt%〜20wt
%である。一例を挙げると実施例に記すように、
1wt%のI2のドービングにより膜のイオン透過性
は107倍にも増加した。このようにI2のドーピン
グにより透過性は急激に変化し、膜の微細構造が
変化していることを示唆している。 基板としては有機高分子多孔性フイルム又は膜
を用い、機械的強度を有するものがよく、目的に
より孔径、厚み、耐熱性、耐薬品性及びその他性
質を選択する。又材質は、通常、テフロン、PE、
PP、ポリスルホン、酢酸セルロース、ポリイミ
ド、PET、ポリアミド等を使用する。又ITOガ
ラス、くし型電極を用いる場合もある。 プラズマ重合後のプラズマ重合不活性物質含有
プラズマ重合膜は有機溶剤又は無機溶剤で洗浄す
るか、又は真空乾燥、加熱乾燥等によりプラズマ
重合不活性物質の一部又は全部を除去する。その
後、重合膜中にはプラズマ重合不活性物質に起因
するミクロポアが形成される。 このようなミクロポアの存在は液体透過性や電
気化学挙動に興味ある結果を示している。例え
ば、銅フタロシアニンプラズマ重合膜は膜が緻密
なためイオンが透過できず、酸化還元によるエレ
クトロクロミズムを示さない。ところが重合の際
I2を同時にドーピングした膜は、エレクトロミズ
ムを示すようになる。 以下、実施例を示して本発明を更に詳細に説明
する。実施例中、膜厚は繰り返し反射干渉膜厚計
を用いて測定した。イオンの透過性は、フエリシ
アン酸イオン透過性についてサイクリツクボルタ
ンメトリーにより測定し、フエリシアン酸イオン
の拡散速度比(D/D0)で表わした。Dはプラ
ズマ重合膜の拡散速度、D0はプラズマ重合前の
拡散速度を示す。尚、サイクリツクボルタンメト
リーは0.1Mの支持電解質を含む0.01Mの透過液
中で行つた。 実施例 1 第1図には今回使用したプラズマ重合装置を示
す。1は高周波(RF)電源で、ここでは18.56M
Hzの高周波電源を使用した。1で発生させられた
高周波は2のマツチングボツクスを経て反応容器
3内の直径10cmの電極4に通じられる。電極4と
アースされた対の電極5との間に高周波が印加さ
れると、反応容器内部でプラズマが発生する。 ヨウ素6,6′は電極の左右の容器に2.0gづ
つ、又スチレンを19より導入しコントロールバ
ルブ13によりモノマーの供給量を変化させる。 下部電極5上に基板(くし型電極)10を設置
しプラズマを発生させる。高周波出力は100W、
真空度は0.4Torrとし、第1表に示す種々の条件
にてプラズマ重合を行つた。モノマーのプラズマ
は青白いプラズマでヨウ素のプラズマは黄色を呈
していた。プラズマ照射後、試料を取り出し、大
量のエタノールに浸漬し、プラズマ重合膜中のヨ
ウ素を十分に洗浄し除去した。洗浄液は黄色を呈
し、明らかにヨウ素が溶出しているのが確認され
た。さらに試料を室温にて真空乾燥した。 各サンプルの膜厚及びフエリシアン酸イオンの
透過性として拡散速度比(D/D0)を測定した。 尚、比較例としてヨウ素を使用せず同様のプラ
ズマ重合を行つた。又ヨウ素の添加量はモノマー
とヨウ素の使用全量に対するヨウ素の重量%を表
わす。
を製造方法に関する。 (従来の技術) プラズマ重合を用いればあらゆる有機及び有機
金属化合物の重合が可能であり、プラズマ重合薄
膜が得られる。得られる薄膜は一般に高度の架橋
構造をとり、ピンホールフリーであると言われて
いる。このためプラズマ重合膜は表面保護膜や金
属防錆膜等各方面に応用されている。 しかし、ピンホールフリーの為、物質通過膜と
しての利用は2、3の応用例を除いて他の応用分
野に比して遅れているのが現状である。プラズマ
重合膜の物質透過膜としての応用は、プラズマ重
合膜の超薄膜としての特性を利用した分野で、酸
素富化膜及び逆浸透膜への応用が検討されてい
る。これらの分野でのプラズマ重合膜の特徴は膜
構造の級密性と超薄膜化の技術であり、それぞれ
物質の分離性と物質の透過性に寄与している。し
かしながら、分離性と透過性は相反する性質であ
り、分離性を増加させると透過性が低下し、透過
性を増加させると分離性が低下し、両者のコント
ロールは非常に困難である。 本発明者らは、鋭意研究の結果、従来のプラズ
マ重合膜に比し、極めて透過性の優れたプラズマ
重合膜を完成させ、本発明に至つた。 (発明が解決しようとする問題点) 本発明の目的は、プラズマ重合膜中に意図的に
ミクロポアを形成せしめ、その数と大きさによつ
て膜の透過性を制御でき、膜厚の増加によつて透
過性の低下が極めて少ないミクロポアを有するプ
ラズマ重合薄膜の製造方法を提案するにある。 (問題点を解決する為の手段) 本発明方法は、プラズマ重合性有機化合物及び
I2又はBr2の共存下グロー放電を行い、基板上に
I2又はBr2を含有するプラズマ重合膜を形成させ
た後、前記I2はBr2を除去し、ミクロポアを形成
させること特徴とする。 本発明に使用するプラズマ重合性有機化合物
(以後モノマーと称する)はプラズマ重合により
薄膜を形成する有機化合物であればいづれの化合
物でもよく、得に限定されない。モノマー中に金
属原子、ケイ素、リン、イオウ等炭素以外の原子
を含んでも何らさしつかえない。又目的に応じて
官能基、二重結合等をもつモノマーを使用し、そ
の反応性、重合性等を改良してもよい。重合性及
び成膜性から好ましいモノマーは二重結合を一つ
以上含有するモノマーがよく、例えば、エチレ
ン、プロピレン、アクリロニトリル、メチルメタ
クリレート、スチレン、α−メチルスチレン、ア
クリル酸、メタクリル酸、ビニルピリジン、塩化
ビニル、塩化ビニリデン、テトラフロロエチレ
ン、2−ヒドロキシメチルエタクリレート、ジビ
ニルベンゼン、ブタジエン、クロロプレン等であ
る。又環状のモノマーも好ましく、例えばシクロ
ヘキサン、パーフロロシクロヘキサン、ε−カプ
ロラクタム、テトラハイドロフラン、ベンゼン、
ナフタリン、ジオキサン、ヘキサメチルシクロト
リシロキサン等である。これらモノマーは単独で
使用しても又2つ以上併用してもよく、モノマー
の構造や性質に応じ、又目的に応じ適宜選択す
る。 プラズマ重合不活性物質としてはI2、Br2、
As、Sb、S、P、H2O等が使用できるが、ラジ
カルスカベンジヤーであるI2、Br2が好ましい。
プラズマ重合性有機化合物及びプラズマ重合不活
性物質はプラズマ重合に際し共存させ、グロー放
電によりモノマーをプラズマ化し、プラズマ重合
を行う。又、この際、Ar、N2、H2、He、CO2、
O2等の非重合性ガスを共存させプラズマ重合を
行うこともでき、又プラズマ重合後にこれら非重
合性ガスプラズマで処理し、プラズマ重合膜をエ
ツチング、表面架橋等を行うことで膜の透過性を
改良することもできる。 本発明で用いるプラズマはいわゆる低温プラズ
マを指し、該イオン化ガスプラズマはかかるプラ
ズマを生成するための公知方法のいずれによつて
も生成させることができる。例えばJ・R.ホラ
ハン(Hollahan)とA・T.ベル(Bell)版「プ
ラズマ化学の応用技術」、ワイリー、ニユーヨー
ク1974およびMシエン(Shen)版「重合体のプ
ラズマ化学」デツカー・ニユーヨーク・1976に記
載されている。即ち高周波発生器に連結された平
行板電極の間にモノマーを真空下で入れ、真空室
の外部又は内部のいずれかの平行板を用いてプラ
ズマを生成させることが出来る。また外部誘導コ
イルによつて電場をつくらせ、イオン化ガスのプ
ラズマを発生させてもよく、また反対に荷電した
電極に間隔をおいて直接真空室に入れてプラズマ
を生成させてもよい。 プラズマ重合条件としては真空度、プラズマ出
力、時間、基板温度、モノマー流量等があげられ
る。これらの条件は使用するモノマーの種類によ
り適宜選択する。例えば真空度は重合速度、重合
膜の緻密性、I2、Br2のドーピング量に影響を与
え、膜の透過性を大きく左右する。真空度は通常
10-5〜102Torr、好ましくは10-3〜101Torrであ
る。プラズマ出力はモノマーより選択するが、通
常5〜500W、好ましくは10〜300W、更に好まし
くは50〜200Wである。重合時間と薄厚はほぼ比
例しており、基板温度も重合速度、膜の性状に影
響があり、室温以下が好ましい。モノマー流量と
I2、Br2等のプラズマ重合不活性物質の流量との
比率により重合膜中のI2、Br2等のドーピング量
が変化し、透過性に大きな差異が現われる。例え
ば、モノマーに対するプラズマ重合不活性物質の
流量比が0.01wt%より小さい場合は、プラズマ重
合不活性物質はプラズマ重合膜中にモノマー或い
は分子的な分散状態で取り込まれ、該不活性物質
除去後に形成される空孔も極めて小さいものとな
る。一方、この流量比が50wt%と大きくなると、
反応系内の汚染や不活性物質のクラスター化によ
り生成空孔が極めて大きく又、不規則になり好ま
しくない。通常、0.01〜50wt%であり、好ましく
は0.05〜30wt%、特に好ましくは0.1wt%〜20wt
%である。一例を挙げると実施例に記すように、
1wt%のI2のドービングにより膜のイオン透過性
は107倍にも増加した。このようにI2のドーピン
グにより透過性は急激に変化し、膜の微細構造が
変化していることを示唆している。 基板としては有機高分子多孔性フイルム又は膜
を用い、機械的強度を有するものがよく、目的に
より孔径、厚み、耐熱性、耐薬品性及びその他性
質を選択する。又材質は、通常、テフロン、PE、
PP、ポリスルホン、酢酸セルロース、ポリイミ
ド、PET、ポリアミド等を使用する。又ITOガ
ラス、くし型電極を用いる場合もある。 プラズマ重合後のプラズマ重合不活性物質含有
プラズマ重合膜は有機溶剤又は無機溶剤で洗浄す
るか、又は真空乾燥、加熱乾燥等によりプラズマ
重合不活性物質の一部又は全部を除去する。その
後、重合膜中にはプラズマ重合不活性物質に起因
するミクロポアが形成される。 このようなミクロポアの存在は液体透過性や電
気化学挙動に興味ある結果を示している。例え
ば、銅フタロシアニンプラズマ重合膜は膜が緻密
なためイオンが透過できず、酸化還元によるエレ
クトロクロミズムを示さない。ところが重合の際
I2を同時にドーピングした膜は、エレクトロミズ
ムを示すようになる。 以下、実施例を示して本発明を更に詳細に説明
する。実施例中、膜厚は繰り返し反射干渉膜厚計
を用いて測定した。イオンの透過性は、フエリシ
アン酸イオン透過性についてサイクリツクボルタ
ンメトリーにより測定し、フエリシアン酸イオン
の拡散速度比(D/D0)で表わした。Dはプラ
ズマ重合膜の拡散速度、D0はプラズマ重合前の
拡散速度を示す。尚、サイクリツクボルタンメト
リーは0.1Mの支持電解質を含む0.01Mの透過液
中で行つた。 実施例 1 第1図には今回使用したプラズマ重合装置を示
す。1は高周波(RF)電源で、ここでは18.56M
Hzの高周波電源を使用した。1で発生させられた
高周波は2のマツチングボツクスを経て反応容器
3内の直径10cmの電極4に通じられる。電極4と
アースされた対の電極5との間に高周波が印加さ
れると、反応容器内部でプラズマが発生する。 ヨウ素6,6′は電極の左右の容器に2.0gづ
つ、又スチレンを19より導入しコントロールバ
ルブ13によりモノマーの供給量を変化させる。 下部電極5上に基板(くし型電極)10を設置
しプラズマを発生させる。高周波出力は100W、
真空度は0.4Torrとし、第1表に示す種々の条件
にてプラズマ重合を行つた。モノマーのプラズマ
は青白いプラズマでヨウ素のプラズマは黄色を呈
していた。プラズマ照射後、試料を取り出し、大
量のエタノールに浸漬し、プラズマ重合膜中のヨ
ウ素を十分に洗浄し除去した。洗浄液は黄色を呈
し、明らかにヨウ素が溶出しているのが確認され
た。さらに試料を室温にて真空乾燥した。 各サンプルの膜厚及びフエリシアン酸イオンの
透過性として拡散速度比(D/D0)を測定した。 尚、比較例としてヨウ素を使用せず同様のプラ
ズマ重合を行つた。又ヨウ素の添加量はモノマー
とヨウ素の使用全量に対するヨウ素の重量%を表
わす。
【表】
第1表に示すように、わずか1wt%のI2添加に
より、膜のイオン透過性は107倍に激増した。 実施例 2 第2表に示す各種条件に実施例1と同様にプラ
ズマ重合を行い、洗浄、乾燥を行つた。尚、モノ
マーとしてはメチルメタクリレート(MMA)を
使用した。
より、膜のイオン透過性は107倍に激増した。 実施例 2 第2表に示す各種条件に実施例1と同様にプラ
ズマ重合を行い、洗浄、乾燥を行つた。尚、モノ
マーとしてはメチルメタクリレート(MMA)を
使用した。
【表】
【表】
第2表に示すように、イオン透過性は10〜103
倍大きくなり、I2の添加量が0.1%以上では膜厚
の増加にも拘らず、イオン透過性も増加している
ことが判る。 (発明の効果) 本発明方法は、従来のプラズマ重合膜と同様に
ピンホールフリーであるにも拘らず、透過性が極
めて大きい重合膜を製造できる。すなわち、プラ
ズマ重合膜中にプラズマ重合不活性物質をドーピ
ングし、さらに洗浄等により除去したプラズマ重
合膜は極めて特徴的な効果を示す。例えば、プラ
ズマ重合膜の膜厚の増加によりイオン透過性はド
ーピングなしの従来法では透過性の低下は顕著で
あるのに対して、I2を添加した場合膜厚の増加に
よるイオン透過性の低下が少なく、或いは増大す
るという従来では考えられない効果を示した。 このように膜の透過性がドーピング剤の量で制
御でき、膜厚を大きくできるので、イオ透過膜、
分離膜、センサーの分野で極めて有用である。
倍大きくなり、I2の添加量が0.1%以上では膜厚
の増加にも拘らず、イオン透過性も増加している
ことが判る。 (発明の効果) 本発明方法は、従来のプラズマ重合膜と同様に
ピンホールフリーであるにも拘らず、透過性が極
めて大きい重合膜を製造できる。すなわち、プラ
ズマ重合膜中にプラズマ重合不活性物質をドーピ
ングし、さらに洗浄等により除去したプラズマ重
合膜は極めて特徴的な効果を示す。例えば、プラ
ズマ重合膜の膜厚の増加によりイオン透過性はド
ーピングなしの従来法では透過性の低下は顕著で
あるのに対して、I2を添加した場合膜厚の増加に
よるイオン透過性の低下が少なく、或いは増大す
るという従来では考えられない効果を示した。 このように膜の透過性がドーピング剤の量で制
御でき、膜厚を大きくできるので、イオ透過膜、
分離膜、センサーの分野で極めて有用である。
第1図は十字管型プラズマ重合装置であり、1
は高周波(RF)電源、3はガラス製反応容器、
4は上部電極、5は下部電極、6及び6′はプラ
ズマ重合不活性物質を示す。又、19はプラズマ
重合性有機化合物(モノマー)、10は基板を示
す。
は高周波(RF)電源、3はガラス製反応容器、
4は上部電極、5は下部電極、6及び6′はプラ
ズマ重合不活性物質を示す。又、19はプラズマ
重合性有機化合物(モノマー)、10は基板を示
す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 プラズマ重合性有機化合物及びI2又はBr2の
共存下グロー放電を行い、基板上にI2又はBr2を
含有するプラズマ重合膜を形成させた後、前記I2
又はBr2を除去し、ミクロポアを形成させること
を特徴とするミクロポアを有するプラズマ重合薄
膜の製造方法。 2 プラズマ重合性有機化合物が二重結合を一つ
以上含有する有機化合物である特許請求の範囲第
1項記載の方法。 3 グロー放電を非重合性ガスの共存下行う特許
請求の範囲第1項記載の方法。 4 グロー放電が真空度10-3〜101Torrにて行う
特許請求の範囲第1項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19521985A JPS6254734A (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | ミクロポアを有するプラズマ重合薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19521985A JPS6254734A (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | ミクロポアを有するプラズマ重合薄膜の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6254734A JPS6254734A (ja) | 1987-03-10 |
JPH0516459B2 true JPH0516459B2 (ja) | 1993-03-04 |
Family
ID=16337443
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19521985A Granted JPS6254734A (ja) | 1985-09-03 | 1985-09-03 | ミクロポアを有するプラズマ重合薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6254734A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006029622A1 (de) | 2006-06-28 | 2008-01-03 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Bauelements, insbesondere ein mikromechanisches und/oder mikrofluidisches und/oder mikroelektronisches Bauelement und Bauelement |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS516564A (en) * | 1974-07-04 | 1976-01-20 | Fuji Photo Optical Co Ltd | Zuumurenzu |
JPS5232755A (en) * | 1975-09-05 | 1977-03-12 | Steelcase Inc | Adjustable back rest mechanism |
JPS5752083A (en) * | 1980-06-30 | 1982-03-27 | Ibm | Sentence processor |
-
1985
- 1985-09-03 JP JP19521985A patent/JPS6254734A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS516564A (en) * | 1974-07-04 | 1976-01-20 | Fuji Photo Optical Co Ltd | Zuumurenzu |
JPS5232755A (en) * | 1975-09-05 | 1977-03-12 | Steelcase Inc | Adjustable back rest mechanism |
JPS5752083A (en) * | 1980-06-30 | 1982-03-27 | Ibm | Sentence processor |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6254734A (ja) | 1987-03-10 |
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