JPH05160238A - クリーンルームの清浄度監視方法 - Google Patents
クリーンルームの清浄度監視方法Info
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- JPH05160238A JPH05160238A JP31813991A JP31813991A JPH05160238A JP H05160238 A JPH05160238 A JP H05160238A JP 31813991 A JP31813991 A JP 31813991A JP 31813991 A JP31813991 A JP 31813991A JP H05160238 A JPH05160238 A JP H05160238A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明はクリーンルームの清浄度監視方法に
関し、監視の簡便化を実現することを目的とする。 【構成】 クリーンルーム内に置かれた基盤上に着滴さ
れた定量の液滴の直径を測定する液滴直径測定工程1
と、測定直径値の経時変化を求める工程2と、測定直径
値の経時変化を、クリーンルームの清浄度が正常である
場合の測定直径値経時変化と比較する工程3と、上記比
較工程によって得た差違が、所定値以下の場合には、上
記クリーンルーム内の清浄度は正常であると判断し、上
記所定値を越えると上記クリーンルーム内の清浄度は異
常であると判断する工程4とより構成する。
関し、監視の簡便化を実現することを目的とする。 【構成】 クリーンルーム内に置かれた基盤上に着滴さ
れた定量の液滴の直径を測定する液滴直径測定工程1
と、測定直径値の経時変化を求める工程2と、測定直径
値の経時変化を、クリーンルームの清浄度が正常である
場合の測定直径値経時変化と比較する工程3と、上記比
較工程によって得た差違が、所定値以下の場合には、上
記クリーンルーム内の清浄度は正常であると判断し、上
記所定値を越えると上記クリーンルーム内の清浄度は異
常であると判断する工程4とより構成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はクリーンルームの清浄度
を監視する方法に関する。
を監視する方法に関する。
【0002】半導体装置の製造工場において、クリーン
ルームの清浄の程度、半導体装置の歩留り等と関連性を
有する。
ルームの清浄の程度、半導体装置の歩留り等と関連性を
有する。
【0003】このため、クリーンルームは常に所望の清
浄度に維持されるように管理する必要がある。
浄度に維持されるように管理する必要がある。
【0004】クリーンルームの清浄度を管理するには、
前提としてクリーンルームの清浄度を監視することが必
要となる。
前提としてクリーンルームの清浄度を監視することが必
要となる。
【0005】監視方法は簡易であることが望ましい。
【0006】
【従来の技術】従来、クリーンルームの清浄度の監視
は、クリーンルームの清浄度の程度によって、基盤上に
着滴された液滴の接触角の経時変化の状況が相違するこ
とに着目して、接触角計を使用して、上記液滴の接触角
を繰り返し測定することにより行っていた。
は、クリーンルームの清浄度の程度によって、基盤上に
着滴された液滴の接触角の経時変化の状況が相違するこ
とに着目して、接触角計を使用して、上記液滴の接触角
を繰り返し測定することにより行っていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、接触角計を使
用して接触角を測定する操作は、一般的には相当に面倒
である。
用して接触角を測定する操作は、一般的には相当に面倒
である。
【0008】このため、クリーンルームの清浄度を簡易
に監視することが困難であった。
に監視することが困難であった。
【0009】そこで、本発明は、清浄度の監視の簡易化
を実現したクリーンルームの清浄度監視方法を提供する
ことを目的とする。
を実現したクリーンルームの清浄度監視方法を提供する
ことを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明のクリーンルーム
の清浄度監視方法は、図1に示すように、液滴直径測定
工程1と、直径値経時変化求め工程2と、比較工程3
と、クリーンルーム清浄度正常異常判断工程4とよりな
る。
の清浄度監視方法は、図1に示すように、液滴直径測定
工程1と、直径値経時変化求め工程2と、比較工程3
と、クリーンルーム清浄度正常異常判断工程4とよりな
る。
【0011】一般的にはクリーンルームの温度及び湿度
は一定である。変化する可能性がある場合は補正する。
は一定である。変化する可能性がある場合は補正する。
【0012】液滴直径測定工程1においては、クリーン
ルーム内に置かれた基盤上に着滴された定量の液滴の直
径を連続的又は定期的に測定する。
ルーム内に置かれた基盤上に着滴された定量の液滴の直
径を連続的又は定期的に測定する。
【0013】図2(A)に示すように、基盤10の上面
10aが清浄とされた最初の状態では基盤表面張力rS
が大きく、液滴11は、広く拡がった状態となる。
10aが清浄とされた最初の状態では基盤表面張力rS
が大きく、液滴11は、広く拡がった状態となる。
【0014】時間の経過に伴って、基盤10の上面10
aが徐々に汚れてくる。基盤上面10aのうち、液滴1
1の周縁11aに臨む部分も汚れてくる。
aが徐々に汚れてくる。基盤上面10aのうち、液滴1
1の周縁11aに臨む部分も汚れてくる。
【0015】この汚れに伴って、上記の基準表面張力r
S が減じ、液滴11は液の表面張力rS によって中央に
寄せ集められ、液滴11は盛り上がる。
S が減じ、液滴11は液の表面張力rS によって中央に
寄せ集められ、液滴11は盛り上がる。
【0016】着滴時から時間t1 経過後には、液滴11
は、図2(B)に符号11-1で示す如くになる。
は、図2(B)に符号11-1で示す如くになる。
【0017】更に時間が経過し、着滴時から時間t2 経
過後には、液滴11は、図2(C)に符号11-2で示す
如くになる。
過後には、液滴11は、図2(C)に符号11-2で示す
如くになる。
【0018】液滴11(11-1,11-2)の直径は、D
→D1→D2 と漸次減少する。本発明はこのことを利用
している。
→D1→D2 と漸次減少する。本発明はこのことを利用
している。
【0019】図1中の直径値経時変化求め工程2におい
ては、測定して得た直径値D,D1 ,D2 を、図3に示
すように、プロットして、線II-1を描く。
ては、測定して得た直径値D,D1 ,D2 を、図3に示
すように、プロットして、線II-1を描く。
【0020】図3中、線Iは、クリーンルームの清浄度
が正常である場合の、直径値経時変化である。
が正常である場合の、直径値経時変化である。
【0021】なお、クリーンルームに何らかの異常が生
じ、清浄度が低下すると、液滴の直径は更に早く縮小
し、直径値経時変化は、図3中、線II-2で示す如くにな
る。
じ、清浄度が低下すると、液滴の直径は更に早く縮小
し、直径値経時変化は、図3中、線II-2で示す如くにな
る。
【0022】次に、図1中の比較工程3を行う。
【0023】ここでは、図3中の線II-1を線Iと比較
し、時刻t1における両者の差違δ1 及び時刻t2 にお
ける両者の差違δ2 を求める。
し、時刻t1における両者の差違δ1 及び時刻t2 にお
ける両者の差違δ2 を求める。
【0024】更には、図3中の線II-2を線Iと比較し、
時刻t1 における両者の差違δ3 及び時刻t3 における
両者の差違δ4 を求める。
時刻t1 における両者の差違δ3 及び時刻t3 における
両者の差違δ4 を求める。
【0025】最後に、図1中のクリーンルーム清浄度正
常異常判断工程4を行う。
常異常判断工程4を行う。
【0026】ここでは、図3中の差違δ1 〜δ4 を基準
の差違δ0 (クリーンルームの清浄度が正常である場合
に通常生じうる差違)と比較し、δ0 より小さければ、
正常と判断し、δ0 より大であれば異常と判断する。
の差違δ0 (クリーンルームの清浄度が正常である場合
に通常生じうる差違)と比較し、δ0 より小さければ、
正常と判断し、δ0 より大であれば異常と判断する。
【0027】δ1 ,δ2 は<δ0 である。よって、直径
値が線II-1のように経持変化するときには、クリーンル
ームの清浄度は正常であると判断される。
値が線II-1のように経持変化するときには、クリーンル
ームの清浄度は正常であると判断される。
【0028】δ3 は>δ0 である。よって、直径値が線
II-2のように経時変化するときには、時刻t1 の時点
で、クリーンルームの清浄度が異常となったと判断され
る。
II-2のように経時変化するときには、時刻t1 の時点
で、クリーンルームの清浄度が異常となったと判断され
る。
【0029】異常と判断されると、所定の処置がとられ
る。
る。
【0030】
【作用】液滴直径測定工程1は、接触角を測定する場合
に比べて、測定作業を簡易とするように作用する。
に比べて、測定作業を簡易とするように作用する。
【0031】
【実施例】図4は本発明の一実施例を示す。
【0032】図中、図1に示す構成部分と対応する部分
には同一符号を付し、その説明は省略する。
には同一符号を付し、その説明は省略する。
【0033】まず、液滴直径測定工程1及びこれと関連
する工程について説明する。
する工程について説明する。
【0034】この工程は、図5に示す液滴直径測定装置
20を使用して行う。
20を使用して行う。
【0035】この装置20は、清浄度を監視すべきクリ
ーンルームの内部に配設してある。
ーンルームの内部に配設してある。
【0036】まず、装置20の概略構成について説明す
る。
る。
【0037】21は研磨した石英基盤であり、直径が5
mm,厚さが1mmの大きさであり、ロードセル22によっ
て基台23上に支持されている。ダイヤモンド基盤を使
用してもよい。
mm,厚さが1mmの大きさであり、ロードセル22によっ
て基台23上に支持されている。ダイヤモンド基盤を使
用してもよい。
【0038】24はサックバック付きのディスペンサで
あり、基盤21の上方に配してある。
あり、基盤21の上方に配してある。
【0039】25はCCD素子であり、基盤21の下面
側に配してある。
側に配してある。
【0040】着滴を行うに先行して、図4中、拭き工程
40を行う。
40を行う。
【0041】この工程40では、図5中のワイパ装置2
6を使用して、基盤21の上面21aを拭き、上面21
aを清浄な状態とする。
6を使用して、基盤21の上面21aを拭き、上面21
aを清浄な状態とする。
【0042】続いて、図4中、紫外線照射工程41を行
う。
う。
【0043】この工程41では、図5中、シャッタ機構
27を開き、紫外線源28からの波長が190 〜350 nmの
紫外線29を、基盤21の上面21aに十分に照射し、
基盤21の上面21aの親水性を回復させる。紫外線2
9を十分に照射した後は、シャッタを閉じる。
27を開き、紫外線源28からの波長が190 〜350 nmの
紫外線29を、基盤21の上面21aに十分に照射し、
基盤21の上面21aの親水性を回復させる。紫外線2
9を十分に照射した後は、シャッタを閉じる。
【0044】この後、N2 を吹き付けてもよい。
【0045】この後、着滴工程42を行う。
【0046】この工程42においては、図5中、容器3
0内の純水31を、定量ポンプであるエアー駆動ベロー
ズポンプ32により0.5 %以下の精度で、ディスペンサ
24に供給し、ディスペンサ24によって、純水の液滴
を基盤21上に落とし、基盤21の上面21a上に径D
が0.2 〜1.0 mm程度の液滴11を着滴させる。
0内の純水31を、定量ポンプであるエアー駆動ベロー
ズポンプ32により0.5 %以下の精度で、ディスペンサ
24に供給し、ディスペンサ24によって、純水の液滴
を基盤21上に落とし、基盤21の上面21a上に径D
が0.2 〜1.0 mm程度の液滴11を着滴させる。
【0047】この後、液滴直径測定工程1を行う。
【0048】この工程1は、測定用光源33よりの光3
4を基盤21上に照射し、基盤21を透過した光34a
(液滴11の部分は多少暗くなる)をCCD素子25に
より受光し、CCD素子25の出力を処理回路35によ
り処理することにより行われる。この工程1は定期的に
行われる。
4を基盤21上に照射し、基盤21を透過した光34a
(液滴11の部分は多少暗くなる)をCCD素子25に
より受光し、CCD素子25の出力を処理回路35によ
り処理することにより行われる。この工程1は定期的に
行われる。
【0049】上記の工程1は、何らの部材を動かすこと
なく、単にCCD素子25が透過光を受光することによ
って行われ、従来の接触角測定に比べて簡便である。
なく、単にCCD素子25が透過光を受光することによ
って行われ、従来の接触角測定に比べて簡便である。
【0050】なお、反射光を利用して液滴の直径を測定
してもよい。
してもよい。
【0051】このとき、図4中、重量測定工程43を併
せて行う。
せて行う。
【0052】この工程43では、図5中、ロードセル2
2及び測定回路36を使用して基盤21及び液滴11の
合計重量を測定し、液滴11からの蒸発による減少分を
求める。
2及び測定回路36を使用して基盤21及び液滴11の
合計重量を測定し、液滴11からの蒸発による減少分を
求める。
【0053】端子37からは、蒸発分が補正された液滴
11の直径の測定値:即ち実際の測定値より若干大きい
測定値が出力される。
11の直径の測定値:即ち実際の測定値より若干大きい
測定値が出力される。
【0054】また、図4中、液滴高さ測定工程44を行
う。
う。
【0055】この工程44は、図5中の液滴高さ測定装
置38を使用して行い、液滴11の高さHを測定する。
この工程44は、上記蒸発量の補正が適切か否かを判断
するために行う。
置38を使用して行い、液滴11の高さHを測定する。
この工程44は、上記蒸発量の補正が適切か否かを判断
するために行う。
【0056】次いで、図4中、直径値経時変化求め工程
2を行い、図6に示すように、基準の線Iが描かれてい
るグラフ用紙に、測定した直径値をプロットし、線II-3
を描く。
2を行い、図6に示すように、基準の線Iが描かれてい
るグラフ用紙に、測定した直径値をプロットし、線II-3
を描く。
【0057】次いで、図4中、比較工程3を行い、図6
中の線II-3と線Iとを比較し、両者の差違δ5 を求め
る。
中の線II-3と線Iとを比較し、両者の差違δ5 を求め
る。
【0058】次いで、図4中、クリーンルーム清浄度正
常異常判断工程4を行う。
常異常判断工程4を行う。
【0059】ここでは、上記の差違δ5 を基準の差違δ
0 と比較する。
0 と比較する。
【0060】δ5 <δ0 であるため、クリーンルームの
清浄度は正常であると判断する。
清浄度は正常であると判断する。
【0061】着滴時t0 から所定時間t3 が経過する
と、第1回目の監視期間50-1が終了し、再び図4の工
程を繰り返して行う。
と、第1回目の監視期間50-1が終了し、再び図4の工
程を繰り返して行う。
【0062】即ち、基盤21の上面21aを清浄し、着
滴し、直径の測定等を行ない、図6中、線II-4を描き、
線Iと比較し、差違δ6 を求める。
滴し、直径の測定等を行ない、図6中、線II-4を描き、
線Iと比較し、差違δ6 を求める。
【0063】δ6 <δ0 であるため、クリーンルームの
清浄度は、第2回目の監視期間50-2中も、依然として
正常であると判断される。
清浄度は、第2回目の監視期間50-2中も、依然として
正常であると判断される。
【0064】以後も上記の動作が繰り返して行われ、ク
リーンルームの清浄度は継続して監視される。
リーンルームの清浄度は継続して監視される。
【0065】ここで、第N回目の監視期間50-nにおい
て、線が図6中、II-mで示すようになったと仮定する。
て、線が図6中、II-mで示すようになったと仮定する。
【0066】この場合には、基準の線Iとの差違δ7 が
δ0 より大となった時点t10において、クリーンルーム
の清浄度に異常が生じたと判断される。
δ0 より大となった時点t10において、クリーンルーム
の清浄度に異常が生じたと判断される。
【0067】
【発明の効果】以上説明した様に、請求項1の発明によ
れば、クリーンルームの清浄度を従来に比べて簡易に監
視することが出来る。
れば、クリーンルームの清浄度を従来に比べて簡易に監
視することが出来る。
【0068】請求項2の発明によれば、液滴の蒸発分を
補正した直径値に基づくため、クリーンルームの清浄度
を請求項1の発明に比べて精度良く監視することが出来
る。
補正した直径値に基づくため、クリーンルームの清浄度
を請求項1の発明に比べて精度良く監視することが出来
る。
【図1】本発明の原理図である。
【図2】液滴の変化を示す図である。
【図3】液滴直径の経時変化を示す図である。
【図4】本発明のクリーンルームの清浄度監視方法の一
実施例を示す図である。
実施例を示す図である。
【図5】本発明方法に使用する液滴直径測定装置の概略
構成図である。
構成図である。
【図6】図4に示す監視方法を説明する図である。
1 液滴直径測定工程 2 直径値経時変化求め工程 3 比較工程 4 クリーンルームの清浄度正常異常判断工程 10 基盤 11,11-1,11-2 液滴 20 液滴直径測定装置 21 石英基盤 22 ロードセル 23 基台 24 ディスペンサ 25 CCD素子 26 ワイパ装置 27 シャッタ機構 28 紫外線源 29 紫外線 30 容器 31 純水 32 エアー駆動ベローズポンプ 33 計測用光源 34 光 35 処理回路 36 測定回路 37 端子 38 液滴高さ測定装置 40 拭き工程 41 紫外線照射工程 42 着滴工程 43 重量測定工程 44 液滴高さ測定工程
Claims (2)
- 【請求項1】 クリーンルーム内に置かれた基盤(2
1)上に着滴された定量の液滴(11)の直径(D)を
測定する液滴直径測定工程(1)と、 該液滴直径測定工程により得た測定直径値の経時変化を
求める工程(2)と、 該測定直径値の経時変化を、クリーンルームの清浄度が
正常である場合の測定直径値経時変化と比較する工程
(3)と、 上記比較工程によって得た差違が、所定値以下の場合に
は、上記クリーンルーム内の清浄度は正常であると判断
し、上記所定値を越えると上記クリーンルーム内の清浄
度は異常であると判断するクリーンルーム清浄度正常異
常判断工程(4)とよりなる構成としたことを特徴とす
るクリーンルームの清浄度監視方法。 - 【請求項2】 クリーンルーム内に置かれた基盤(2
1)上に着滴された定量の液滴(11)の直径(D)を
測定する液滴直径測定工程(1)と、 上記液滴の蒸発量を求めて、上記液滴直径測定工程によ
り得た測定直径値を補正すべく上記液滴を含めた上記基
盤の重量を測定する工程(43)と、 液滴の蒸発分が補正された測定直径値の経時変化を求め
る工程(2)と、 該測定直径値の経時変化を、クリーンルームの清浄度が
正常である場合の測定直径値経時変化と比較する工程
(3)と、 上記比較工程によって得た差違が、所定値以下の場合に
は、上記クリーンルーム内の清浄度は正常であると判断
し、上記所定値を越えると上記クリーンルーム内の清浄
度は異常であると判断するクリーンルーム清浄度正常異
常判断工程(4)とよりなる構成としたことを特徴とす
るクリーンルームの清浄度監視方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31813991A JPH05160238A (ja) | 1991-12-02 | 1991-12-02 | クリーンルームの清浄度監視方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31813991A JPH05160238A (ja) | 1991-12-02 | 1991-12-02 | クリーンルームの清浄度監視方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05160238A true JPH05160238A (ja) | 1993-06-25 |
Family
ID=18095939
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31813991A Withdrawn JPH05160238A (ja) | 1991-12-02 | 1991-12-02 | クリーンルームの清浄度監視方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05160238A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117153713A (zh) * | 2023-10-25 | 2023-12-01 | 江苏惠达电子科技有限责任公司 | 频率元器件残留污染物的检测方法、系统和设备控制方法 |
-
1991
- 1991-12-02 JP JP31813991A patent/JPH05160238A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117153713A (zh) * | 2023-10-25 | 2023-12-01 | 江苏惠达电子科技有限责任公司 | 频率元器件残留污染物的检测方法、系统和设备控制方法 |
CN117153713B (zh) * | 2023-10-25 | 2024-02-02 | 江苏惠达电子科技有限责任公司 | 频率元器件残留污染物的检测方法、系统和设备控制方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990311 |