JPH05142549A - Liquid crystal display panel - Google Patents

Liquid crystal display panel

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Publication number
JPH05142549A
JPH05142549A JP30922191A JP30922191A JPH05142549A JP H05142549 A JPH05142549 A JP H05142549A JP 30922191 A JP30922191 A JP 30922191A JP 30922191 A JP30922191 A JP 30922191A JP H05142549 A JPH05142549 A JP H05142549A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
particles
substrate
patterns
liquid crystal
photocurable resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP30922191A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiharu Otsuka
敏治 大塚
Takeshi Inoue
健 井上
Norishige Shichiri
徳重 七里
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP30922191A priority Critical patent/JPH05142549A/en
Publication of JPH05142549A publication Critical patent/JPH05142549A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To improve thickness accuracy and position accuracy and to prevent the degradation in quality by constituting spacers of patterns consisting of a photosetting resin compsn. and particles size. CONSTITUTION:A photosetting resin compsn. layer 2 is formed on a substrate 1 formed with picture element electrodes and is irradiated with active rays 4, such as UV rays, via a photomask 3 having the prescribed patterns. The uncured parts are removed by development processing. The particles 6a having the uniform grain size are then sprayed onto the substrate 1 formed with the patterns 2a, by which the particles 6a are captured on the surfaces of the patterns 2a. The particles 6a are pushed into the patterns 2a and the patterns 2a are deformed when a substrate 7 is heated and press contacted onto the particles 6a after the particles 6a are left only in the parts of the patterns 2a. The substrates 1, 7 face to each other apart by as much as the grain size of the particles 6. Then, the spacers consisting of the 6a having the excellent thickness accuracy can be disposed in the prescribed parts between the substrates 1 and 7.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、厚み精度と位置精度が
優れたスペーサーを有する液晶表示パネルに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display panel having a spacer having excellent thickness accuracy and positional accuracy.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、液晶表示パネルの表示特性
は、液晶を挟む基板間の厚み精度と密接な関係があり、
厚み精度の低下が色むらなどの不良の原因になることが
知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, the display characteristics of a liquid crystal display panel are closely related to the thickness accuracy between substrates sandwiching a liquid crystal,
It is known that a decrease in thickness accuracy causes defects such as color unevenness.

【0003】そこで、基板間の厚みを精度よく一定の間
隔に保つために、粒径の均一な粒子をスペーサーとして
基板間に配設しているが、粒子の配設方法は、通常、単
に基板上へ散布するという方法によって行われているた
め、単位面積当たりの平均散布量しか制御することがで
きず、特定の部位へ必要量だけ散布するということは困
難であった。
Therefore, in order to accurately maintain the thickness between the substrates at a constant interval, particles having a uniform particle size are provided as spacers between the substrates. Since it is carried out by the method of spraying upward, only the average spraying amount per unit area can be controlled, and it was difficult to spray the required amount to a specific site.

【0004】従って、粒子の散布が不必要な部位、例え
ば、表示画素中に粒子の混入が起こり、液晶表示パネル
の品質を低下させるという問題点があった。上記の問題
を解決するために、露光、現像によりパターン形成が可
能な光硬化性樹脂をスペーサーとして使用する方法が、
特開昭48−71596号公報および特開平1−257
824号公報に開示されている。
Therefore, there is a problem that the quality of the liquid crystal display panel is deteriorated due to the mixing of particles in a portion where the particles are not required to be dispersed, for example, in display pixels. In order to solve the above problems, a method of using a photocurable resin capable of forming a pattern by exposure and development as a spacer,
JP-A-48-71596 and JP-A-1-257.
No. 824 is disclosed.

【0005】上記方法では、基板上の任意の位置にスペ
ーサーを配設することができるが、光硬化性樹脂の露
光、現像によって、厚みが変化する上に、スペーサーの
強度が弱く圧縮によって変形や破壊を起こし易いため、
従来からスペーサーに使用されてきた粒子に比べて厚み
精度が劣るという問題がある。
In the above method, the spacer can be arranged at an arbitrary position on the substrate. However, the thickness of the spacer changes due to exposure and development of the photocurable resin, and the spacer has a weak strength and is deformed by compression. Because it is easy to cause damage,
There is a problem in that the thickness accuracy is inferior to that of particles that have been conventionally used as spacers.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記欠点に
鑑みてなされたものであり、その目的は、厚み精度と位
置精度に優れたスペーサーを使用し、厚み精度の低下に
よる色むらをなくし、表示画素中へ粒子の混入による品
質低下を防止した液晶表示パネルを提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks, and an object thereof is to use a spacer excellent in thickness accuracy and position accuracy to eliminate color unevenness due to a decrease in thickness accuracy. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display panel that prevents deterioration of quality due to mixing of particles into display pixels.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示パネル
は、表示画素電極が設けられた一対の基板を、スペーサ
ーを介して一定の間隔となるように対向させ、該基板間
に液晶を封入して接着固定された液晶表示パネルにおい
て、前記スペーサーが、光硬化性樹脂組成物の硬化物か
らなるパターンと、該パターン中に埋設された粒径が均
一な粒子から構成されていることを特徴とし、そのこと
により上記目的が達成される。
In a liquid crystal display panel according to the present invention, a pair of substrates provided with display pixel electrodes are opposed to each other with a spacer therebetween at a constant interval, and liquid crystal is sealed between the substrates. In the liquid crystal display panel fixed by adhesion, the spacer is composed of a pattern made of a cured product of a photocurable resin composition and particles embedded in the pattern having a uniform particle size. Therefore, the above object is achieved.

【0008】本発明を以下に説明する。本発明で使用さ
れる基板としては、透明性、耐熱性、剛性などが要求さ
れ、例えば、通常の液晶表示パネルに用いられている板
ガラスが好適である。
The present invention will be described below. The substrate used in the present invention is required to have transparency, heat resistance, rigidity, etc., and, for example, a plate glass used in a normal liquid crystal display panel is suitable.

【0009】表示画素電極としては、透明であって、液
晶に有効な印加電圧を加えられるものであれば特に制限
はなく、例えば、通常に使用されているITO(インジ
ウム酸化錫)が好適である。電極の形成方法としては、
任意の方法が採用され、例えば、蒸着やスパッタリング
等により基板上にITO薄膜を形成し、レジスト材を用
いて任意の画像パターンにエッチングすればよい。
The display pixel electrode is not particularly limited as long as it is transparent and can apply an effective applied voltage to the liquid crystal. For example, commonly used ITO (indium tin oxide) is suitable. .. As a method of forming the electrodes,
Any method may be adopted, for example, an ITO thin film may be formed on the substrate by vapor deposition, sputtering, or the like, and an arbitrary image pattern may be etched using a resist material.

【0010】液晶としては、特に制限はなく、一般に用
いられているTN型、STN型のものが好適に使用され
る。本発明で使用される光硬化性樹脂組成物としては、
特に制限されるものではないが、例えば、バインダーポ
リマー、光重合性オリゴマー及び光重合開始剤からなる
樹脂組成物が用いられる。
The liquid crystal is not particularly limited, and generally used TN and STN types are preferably used. The photocurable resin composition used in the present invention,
Although not particularly limited, for example, a resin composition including a binder polymer, a photopolymerizable oligomer, and a photopolymerization initiator is used.

【0011】上記バインダーポリマーとしては、フィル
ム性、貼付性からアクリル系ポリマーが好適であり、例
えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸
プロピル、(メタ)アクリル酸−n−ブチル、(メタ)
アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸−n−オク
チル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル
酸−2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸−2−ク
ロルエチル、α−クロル(メタ)アクリル酸メチル、
(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ジメ
チルアミノエチルなどの(メタ)アクリル酸エステル類
と、(メタ)アクリル酸との共重合体が好ましい。
The binder polymer is preferably an acrylic polymer from the viewpoint of film property and sticking property, and examples thereof include methyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, -n-butyl (meth) acrylate, and ( Meta)
Isobutyl acrylate, n-octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-chloroethyl (meth) acrylate, α-chloro (meth) acrylic acid methyl ester ,
A copolymer of (meth) acrylic acid with a (meth) acrylic acid ester such as phenyl (meth) acrylate or dimethylaminoethyl (meth) acrylate is preferable.

【0012】バインダーポリマー中の(メタ)アクリル
酸の量は、少なくなると、アルカリ水溶液に対して不溶
となって現像ができなくなり、逆に多くなると溶媒また
は他の成分との相溶性が低下し、解像性も低下するの
で、(メタ)アクリル酸エステル類65〜85重量%に
対して、(メタ)アクリル酸が15〜35重量%添加さ
れるのが好ましい。
When the amount of (meth) acrylic acid in the binder polymer is small, it becomes insoluble in an alkaline aqueous solution and development cannot be carried out. On the contrary, when it is large, the compatibility with the solvent or other components is lowered, Since the resolution is also lowered, it is preferable to add 15 to 35% by weight of (meth) acrylic acid to 65 to 85% by weight of (meth) acrylic acid ester.

【0013】また、バインダーポリマーの重量平均分子
量は、小さくなると造膜性が悪くなり、逆に大きくなる
と、アルカリ水溶液への溶解性が低下して現像され難く
なり、解像性も低下するので、5万〜30万の範囲が好
適である。
When the weight average molecular weight of the binder polymer is small, the film-forming property is poor, and when it is large, on the other hand, the solubility in an alkaline aqueous solution is low, development is difficult, and the resolution is low. The range of 50,000 to 300,000 is suitable.

【0014】上記光重合性オリゴマーとしては、例え
ば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポ
リオールアクリレートなど、公知の光重合性化合物が使
用可能であるが、本発明では、下記一般式(I)で示さ
れるウレタンアクリレートを単独で用いるか、もしくは
一般式(I)で示されるウレタンアクリレートと公知の
光重合性化合物を組合わせて用いることが好ましい。
As the photopolymerizable oligomer, known photopolymerizable compounds such as urethane acrylate, epoxy acrylate and polyol acrylate can be used. In the present invention, the urethane represented by the following general formula (I) is used. It is preferable to use an acrylate alone or to use a urethane acrylate represented by the general formula (I) in combination with a known photopolymerizable compound.

【0015】[0015]

【化1】 [Chemical 1]

【0016】式 (I)において、R1 及びR2 は水素又
はメチル基、Yは炭素数2〜20の2価の炭化水素基、
qは1〜15の整数、R3 は炭素数1〜10の炭化水素
基、pは1〜100の整数である。
In the formula (I), R 1 and R 2 are hydrogen or a methyl group, Y is a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms,
q is an integer of 1 to 15, R 3 is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and p is an integer of 1 to 100.

【0017】ここで、Yで示される炭素数2〜20の2
価の炭化水素基としては、直鎖、分枝鎖、脂環式または
芳香族などの部分から構成される炭化水素基、例えば、
ヘキサメチレン基、トリレン基、イソホロン基、テトラ
メチルキシリレン基、ナフチレン基等が挙げられる。
Here, 2 having 2 to 20 carbon atoms represented by Y
As the valent hydrocarbon group, a hydrocarbon group composed of a linear, branched, alicyclic or aromatic moiety, for example,
Hexamethylene group, tolylene group, isophorone group, tetramethylxylylene group, naphthylene group and the like can be mentioned.

【0018】式 (I)で示されるウレタンアクリレート
の重量平均分子量は、小さくなると樹脂の柔軟性が低下
し、逆に大きくなると現像時間が長くなるので1,50
0〜10,000の範囲が好ましい。
When the weight average molecular weight of the urethane acrylate represented by the formula (I) is small, the flexibility of the resin is lowered, and conversely, when it is large, the developing time is prolonged, so that 1,50
The range of 0 to 10,000 is preferable.

【0019】上記ウレタンオリゴマーの製法は、任意の
方法が採用されてよく、例えば、ジイソシアネートとジ
オールを、求める化合物の組成比に合う割合で混合して
反応させ、末端にイソシアネート基をもつウレタンオリ
ゴマーを形成した後、水酸基をもつ(メタ)アクリレー
トを添加して末端にあるイソシアネート基と反応させれ
ばよい。この際、必要ならば、酢酸エチル、メチルエチ
ルケトン、トルエンなどの有機溶剤に溶解して反応させ
てもよく、さらにジブチルスズジラウレートなどの触媒
を添加してもよい。
As the method for producing the above-mentioned urethane oligomer, any method may be adopted. For example, diisocyanate and diol are mixed and reacted at a ratio matching the composition ratio of the desired compound, and a urethane oligomer having an isocyanate group at the terminal is obtained. After the formation, a (meth) acrylate having a hydroxyl group may be added and reacted with an isocyanate group at the end. At this time, if necessary, the reaction may be carried out by dissolving it in an organic solvent such as ethyl acetate, methyl ethyl ketone, or toluene, and a catalyst such as dibutyltin dilaurate may be added.

【0020】光重合性オリゴマーの量は、少なくなると
露光、現像後の光硬化性樹脂層の柔軟性が低下し、逆に
多くなるとコールドフローが起こり易くなると共に解像
性が低下するので、前記バインダーポリマー100重量
部に対して、5〜150重量部が好ましく、より好まし
くは10〜100重量部である。
When the amount of the photopolymerizable oligomer is small, the flexibility of the photocurable resin layer after exposure and development is lowered, and conversely, when it is large, cold flow is likely to occur and the resolution is lowered. The amount is preferably 5 to 150 parts by weight, more preferably 10 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the binder polymer.

【0021】本発明で使用される光重合開始剤として
は、紫外線、可視光線などの活性光線により上記光重合
性ポリマーを活性化し、重合を開始させる性質を有する
ものであればよい。
The photopolymerization initiator used in the present invention may be any one having a property of activating the above-mentioned photopolymerizable polymer by actinic rays such as ultraviolet rays and visible rays to initiate polymerization.

【0022】紫外線で活性化するものとしては、例え
ば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾ
フェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケ
トン、ベンジルアントラキノン、t−ブチルアントラキ
ノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラ
キノン、2−アミノアントラキノン、2−クロロアント
ラキノンなどの芳香族カルボニル化合物類;チオキサン
トン、2−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサ
ントン、2,4−ジエチルチオキサントンなどのチオキ
サントン類;ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチ
ルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、キュメン
ハイドロパーオキサイドなどの過酸化物類;ベンゼンジ
アゾニウムなどの(ジ)アゾ化合物類など公知のものを
使用することができる。
As those which are activated by ultraviolet rays, for example, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, benzophenone, dimethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl anthraquinone, t-butyl anthraquinone, 2-methyl anthraquinone, 2 -Aromatic carbonyl compounds such as ethylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone and 2-chloroanthraquinone; thioxanthones such as thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone and 2,4-diethylthioxanthone; benzoyl peroxide, di- Peroxides such as t-butyl peroxide, dicumyl peroxide and cumene hydroperoxide; such as benzenediazonium ( ) It can be used known ones such as azo compounds.

【0023】光重合開始剤の量は、光硬化性樹脂組成物
層の厚さや照射光量を考慮して決定される。例えば、工
程上露光時間を短縮する必要がある場合は、光重合開始
剤の量を多くする必要があるので、光重合開始剤の添加
量は、前記バインダーポリマー100重量部に対して、
0.1〜10重量部が好ましい。
The amount of the photopolymerization initiator is determined in consideration of the thickness of the photocurable resin composition layer and the irradiation light amount. For example, when it is necessary to shorten the exposure time in the process, it is necessary to increase the amount of the photopolymerization initiator. Therefore, the amount of the photopolymerization initiator added is 100 parts by weight of the binder polymer.
0.1 to 10 parts by weight is preferable.

【0024】また、本発明で使用される光硬化性樹脂組
成物に、テトラエチレングリコールジアクリレートなど
の光重合性モノマー;ジオクチルフタレート、トリエチ
レングリコールジアセテート、p−トルエンスルホンア
ミド、N−エチルトルエンスルホンアミド等の可塑剤;
ヒドロキノン、p−メトキシフェノール等の熱重合禁止
剤;安定剤;紫外線吸収剤;酸化防止剤;メチルエチル
ケトン、トルエン等の溶媒などが添加されてもよい。
In addition, the photocurable resin composition used in the present invention contains a photopolymerizable monomer such as tetraethylene glycol diacrylate; dioctyl phthalate, triethylene glycol diacetate, p-toluene sulfonamide, N-ethyltoluene. Plasticizers such as sulfonamides;
A thermal polymerization inhibitor such as hydroquinone or p-methoxyphenol; a stabilizer; an ultraviolet absorber; an antioxidant; a solvent such as methyl ethyl ketone or toluene may be added.

【0025】また、本発明で用いられる粒径の均一な粒
子としては、例えば、液晶表示パネル用ギャップ材とし
て市販されている材料が使用可能である。次に、本発明
の液晶表示パネルの製造方法について説明する。
As the particles having a uniform particle size used in the present invention, for example, a material commercially available as a gap material for a liquid crystal display panel can be used. Next, a method for manufacturing the liquid crystal display panel of the present invention will be described.

【0026】まず、図1に示すように、画素電極が形成
された基板1上に、光硬化性樹脂層2を形成する。光硬
化性樹脂層2は、光硬化性樹脂組成物に溶媒を添加した
溶液を基板1上に直接塗布してもよく、また予めフィル
ム化した光硬化性樹脂組成物(光硬化性樹脂フィルム)
を基板1上に、熱ラミネート法などによって積層しても
よい。
First, as shown in FIG. 1, a photocurable resin layer 2 is formed on a substrate 1 on which pixel electrodes are formed. The photocurable resin layer 2 may be formed by directly applying a solution obtained by adding a solvent to the photocurable resin composition onto the substrate 1, or by forming a film into a photocurable resin composition (photocurable resin film) in advance.
May be laminated on the substrate 1 by a thermal laminating method or the like.

【0027】上記光硬化性樹脂層2に、所定のパターン
を有するフォトマスク3を介して、紫外線などの活性光
線4を照射し、所定の部分を硬化させる。次いで、光硬
化性樹脂層2の未硬化部分を、アルカリ水溶液で現像処
理して除去することにより、基板1上に光硬化性樹脂に
よる所定のパターンを形成する。
The photocurable resin layer 2 is irradiated with an actinic ray 4 such as an ultraviolet ray through a photomask 3 having a predetermined pattern to cure a predetermined portion. Then, the uncured portion of the photo-curable resin layer 2 is developed and removed by an alkaline aqueous solution to remove it, thereby forming a predetermined pattern of the photo-curable resin on the substrate 1.

【0028】ここで、フォトマスク3を用いる代わり
に、レーザーなどの光源のビームを走査することによ
り、光硬化性樹脂層2を硬化させてもよい。また、図2
に示すように、離型性を有する基材5上で、上記と同様
な方法によって、予めパターン2bを形成しておき、パ
ターン2bを基板1上へ転写してもよい。
Here, instead of using the photomask 3, the photocurable resin layer 2 may be cured by scanning with a beam of a light source such as a laser. Also, FIG.
As shown in, the pattern 2b may be previously formed on the substrate 5 having releasability by the same method as described above, and the pattern 2b may be transferred onto the substrate 1.

【0029】このような転写によって、基板1上にパタ
ーンを形成する方法は、例えば、基板1を現像工程にさ
らすことなくパターン形成ができるので、現像による基
板1への悪影響が懸念されるような場合に用いることが
できる。
In the method of forming a pattern on the substrate 1 by such transfer, for example, since the pattern can be formed without exposing the substrate 1 to the developing process, there is a concern that the development may adversely affect the substrate 1. Can be used in some cases.

【0030】次に、図3に示すように、粒径が均一な粒
子6を、パターン2aが形成された基板1上へ散布す
る。パターン2a上に散布された粒子6aは、パターン
2aの表面に捕捉される。
Next, as shown in FIG. 3, particles 6 having a uniform particle size are dispersed on the substrate 1 on which the pattern 2a is formed. The particles 6a scattered on the pattern 2a are captured on the surface of the pattern 2a.

【0031】また、基板1上のパターン2aのない部分
に落下した粒子6bは、基板1を裏向けて振り落とす
か、または空気を吹きつけて飛ばすことにより除去する
ことができる。
Further, the particles 6b which have fallen on the portion on the substrate 1 where the pattern 2a is not present can be removed by shaking off the substrate 1 or blowing it off with air.

【0032】ここで、粒子6をパターン2aによって効
果的に捕捉するために、パターン2aを加熱して表面に
粘着性を付与したり、粒子6を溶剤と共に散布する、あ
るいは光硬化性樹脂層に予め可塑剤や粘着付与剤を添加
して置くなどの方法を採用してもよい。
Here, in order to effectively capture the particles 6 by the pattern 2a, the pattern 2a is heated to give tackiness to the surface, the particles 6 are sprayed with a solvent, or a photocurable resin layer is formed. A method of adding a plasticizer or a tackifier in advance and placing it may be adopted.

【0033】上述のようにして、パターン2aの部分に
だけ粒子6を残す操作を行った後、図4に示すように、
粒子6上に基板7を加熱、圧着すると粒子6がパターン
2a中に押し込まれて、パターン2aが変形し、基板1
と基板7とが、粒子6の粒径に相当する距離だけ隔てら
れて相対することになる。
After performing the operation for leaving the particles 6 only in the pattern 2a as described above, as shown in FIG.
When the substrate 7 is heated and pressure-bonded onto the particles 6, the particles 6 are pushed into the pattern 2a, and the pattern 2a is deformed.
And the substrate 7 are opposed to each other with a distance corresponding to the particle size of the particles 6 therebetween.

【0034】以上の操作によって、基板1と基板7との
間の所定の部位に、厚み精度の優れた粒子6によるスペ
ーサーを配設することができ、基板1と基板7との間隔
を一定に保つことができる。
By the above operation, it is possible to dispose a spacer made of particles 6 having an excellent thickness accuracy at a predetermined portion between the substrate 1 and the substrate 7, and to keep the distance between the substrate 1 and the substrate 7 constant. Can be kept.

【0035】上記スペーサーの配設において、基板上に
形成される光硬化性樹脂層の厚みは、薄くなると粒子を
十分に固定することができなくなって、位置ずれを起こ
す恐れがあり、逆に厚くなると、粒子と基板との間に介
在する光硬化性樹脂が、圧着によって十分変形せず厚み
精度を低下させるので、粒子の粒径の20〜100%の
範囲にあることが好ましい。
In the arrangement of the spacers, if the thickness of the photo-curable resin layer formed on the substrate becomes thin, particles cannot be sufficiently fixed, and there is a risk of misalignment. If so, the photocurable resin interposed between the particles and the substrate is not sufficiently deformed by pressure bonding and the thickness accuracy is reduced. Therefore, it is preferably in the range of 20 to 100% of the particle diameter of the particles.

【0036】本発明において、上述の操作とは別に、予
め粒径の均一な粒子を光硬化性樹脂中に混合しておき、
これを基板に積層して光硬化性樹脂層を形成し、フォト
マスクを通して露光、現像してパターンを形成すること
も可能である。
In the present invention, separately from the above operation, particles having a uniform particle size are mixed in advance in the photocurable resin,
It is also possible to form a pattern by laminating this on a substrate to form a photocurable resin layer, and exposing and developing through a photomask.

【0037】この場合、粒子の体積に対して、光硬化性
樹脂の体積が50〜300%の範囲にあることが好まし
く、光硬化性樹脂の厚みは、粒子の粒径の120%以下
であることが好ましい。
In this case, the volume of the photocurable resin is preferably in the range of 50 to 300% with respect to the volume of the particles, and the thickness of the photocurable resin is 120% or less of the particle diameter of the particles. Preferably.

【0038】尚、この方法では、光硬化性樹脂は粒子が
混合された状態で露光、現像が行われるので、粒子の下
部の光硬化性樹脂には活性光線が届かず、この部分が未
硬化のままで残り、未反応の光硬化性樹脂が液晶に悪影
響を与える可能性がある。
In this method, since the photocurable resin is exposed and developed in a state where the particles are mixed, the actinic ray does not reach the photocurable resin below the particles, and this part is uncured. There is a possibility that the unreacted photocurable resin may adversely affect the liquid crystal.

【0039】このような悪影響を防止するためには、現
像後に基板側から活性光線を照射し、未硬化部分を十分
硬化させればよい。本発明では、パターンの形成は、光
硬化性樹脂を露光、現像して得られるが、露光するため
の光源としては、特に限定されるものではなく、従来公
知のものが使用でき、例えば、超高圧水銀灯、メタルハ
ライドランプ等が好適に用いられる。また、現像する際
に用いられる現像液としては、特に限定されるものでは
ないが、例えば、0.5〜5重量%の濃度の炭酸ナトリ
ウム水溶液が好適に用いられる。また、現像装置につい
ては、特に制限はなく、公知のものが使用される。
In order to prevent such an adverse effect, it is sufficient to irradiate an actinic ray from the substrate side after development to sufficiently cure the uncured portion. In the present invention, the pattern is formed by exposing and developing a photocurable resin, but the light source for exposing is not particularly limited, and conventionally known ones can be used. A high pressure mercury lamp, a metal halide lamp and the like are preferably used. The developing solution used for development is not particularly limited, but for example, an aqueous solution of sodium carbonate having a concentration of 0.5 to 5% by weight is preferably used. The developing device is not particularly limited, and a known device can be used.

【0040】[0040]

【実施例】以下に本発明を実施例に基づいて説明する。EXAMPLES The present invention will be described below based on examples.

【0041】(実施例1〜2、比較例1) 〔光重合性オリゴマーの調製〕還流冷却器、滴下漏斗、
温度計およびメカニカルスタラーを備えた5リットルの
4つ口フラスコにヘキサメチレンジイソシアネート50
4g(3mol)、溶媒として乾燥メチルエチルケトン
(MEK)826g、ジブチルスズジラウレート(触
媒)1gを加えて攪拌しながら、さらにポリエチレング
リコール916g(2mol、平均分子量:458)を
加えて5時間還流した。
(Examples 1 and 2, Comparative Example 1) [Preparation of Photopolymerizable Oligomer] Reflux condenser, dropping funnel,
Hexamethylene diisocyanate 50 in a 5 liter 4-neck flask equipped with a thermometer and mechanical stirrer.
4 g (3 mol), 826 g of dry methyl ethyl ketone (MEK) as a solvent, and 1 g of dibutyltin dilaurate (catalyst) were added and stirred, and 916 g of polyethylene glycol (2 mol, average molecular weight: 458) was further added and refluxed for 5 hours.

【0042】次いで、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト232g(2mol)を滴下し、さらに5時間還流し
て反応させた後、MEKを蒸発させて、光重合性オリゴ
マーを調製した。
Then, 232 g (2 mol) of 2-hydroxyethyl acrylate was added dropwise, the mixture was refluxed for another 5 hours for reaction, and MEK was evaporated to prepare a photopolymerizable oligomer.

【0043】〔光硬化性樹脂組成物の調製〕 バインダーポリマー 100重量部 (メタクリル酸メチル/メタクリル酸ブチル/メタクリル酸 =重量比50/25/25、重量平均分子量Mw :15万) 光重合性オリゴマー 75重量部 光重合性モノマー(成分:テトラエチレングリコール 75重量部 ジアクリレート) 光重合開始剤(成分:ベンジルジメチルケタール) (チバガイギー社製「イルガキュアー651」) 2.5重量部 上記配合により、光硬化性樹脂組成物の溶液を調製し
た。
[Preparation of Photocurable Resin Composition] 100 parts by weight of binder polymer (methyl methacrylate / butyl methacrylate / methacrylic acid = weight ratio 50/25/25, weight average molecular weight Mw: 150,000) Photopolymerizable oligomer 75 parts by weight Photopolymerizable monomer (component: tetraethylene glycol 75 parts by weight diacrylate) Photopolymerization initiator (component: benzyl dimethyl ketal) (“Irgacure 651” manufactured by Ciba-Geigy) 2.5 parts by weight A solution of the curable resin composition was prepared.

【0044】〔光硬化性樹脂フィルムの調製〕上記で調
製した光硬化性樹脂組成物溶液を、厚さ75μmのPE
Tフィルム上に流延、乾燥して、厚みが5、10及び1
5μmの3種類の光硬化性樹脂フィルムを作製した。
[Preparation of Photocurable Resin Film] The photocurable resin composition solution prepared above was treated with PE having a thickness of 75 μm.
Cast on T-film and dry to obtain thicknesses of 5, 10 and 1
Three types of 5 μm photocurable resin films were prepared.

【0045】〔液晶パネルの作製〕3枚の板ガラス製基
板にスパッタリング法によって、ストライプ状のITO
電極を形成した後、ポリイミド膜を形成しラビング処理
にを施した。
[Production of Liquid Crystal Panel] Striped ITO is formed on three flat glass substrates by sputtering.
After forming the electrodes, a polyimide film was formed and subjected to rubbing treatment.

【0046】また、別の3枚の板ガラス製基板上に、上
記で作製した厚み5、10及び15μmの光硬化性樹脂
フィルムをそれぞれラミネートして光硬化性樹脂層を形
成し、透明部が表示画素に重ならないようにデザインさ
れたフォトマスクを介して、超高圧水銀灯により100
mJ/cm2 の強さの紫外線を照射した後、1%の炭酸
ナトリウム水溶液で現像処理して未硬化部分を除去し、
それぞれパターンを形成した。
Further, the photocurable resin films having the thicknesses of 5, 10 and 15 μm produced above were laminated on another three plate glass substrates to form a photocurable resin layer, and a transparent portion was displayed. Through a photomask designed so that it does not overlap with the pixels, 100
After irradiating with ultraviolet rays having an intensity of mJ / cm 2 , development treatment is performed with a 1% sodium carbonate aqueous solution to remove uncured portions,
Each pattern was formed.

【0047】次いで、パターンを形成した3枚の基板を
よく洗浄し、各基板を120℃に加熱しながらスペーサ
ー用粒子(積水フアインケミカル(株)製「ミクロパー
ルSP−210」、粒径10μm)を散布した後、乾燥
空気を吹きつけて基板上の不要な粒子を除去した。
Next, the three patterned substrates were thoroughly washed, and spacer particles (“Micropearl SP-210” manufactured by Sekisui Fine Chemical Co., Ltd., particle size: 10 μm) while heating each substrate to 120 ° C. ) Was sprayed, and then dry air was blown to remove unnecessary particles on the substrate.

【0048】パターンを形成した基板と、ITO電極を
形成しラビング処理を施した基板とを、120℃に加熱
しながら圧着し、周辺部にシール処理を施した後、真空
下で液晶を注入し、厚みの異なる3種類の光硬化性樹脂
フィルムに対応した3種類の液晶表示パネルを作製し
た。
The substrate on which the pattern was formed and the substrate on which the ITO electrode was formed and subjected to the rubbing treatment were pressure-bonded while being heated to 120 ° C., the peripheral portion was sealed, and liquid crystal was injected under vacuum. , 3 types of liquid crystal display panels corresponding to 3 types of photocurable resin films having different thicknesses were produced.

【0049】得られた液晶表示パネルを評価し、その評
価結果を表1に示した。
The obtained liquid crystal display panel was evaluated, and the evaluation results are shown in Table 1.

【0050】[0050]

【表1】 [Table 1]

【0051】[0051]

【発明の効果】本発明の液晶表示パネルは、均一な粒径
を有する粒子をスペーサーとして使用し、スペーサーの
位置は光硬化性樹脂の露光、現像によるパターンによっ
て決定されるので、厚み精度、位置精度ともに優れ、厚
みのばらつきによる色むらや表示画素中への粒子の混入
による品質低下を防止することができる。
The liquid crystal display panel of the present invention uses particles having a uniform particle size as spacers, and the position of the spacers is determined by the pattern of the photocurable resin exposed and developed. The accuracy is excellent, and it is possible to prevent color unevenness due to thickness variation and quality deterioration due to mixing of particles into display pixels.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明において、基板上に形成された光硬化性
樹脂層に、フォトマスクを介して露光,硬化させる状況
を示す概要図である。
FIG. 1 is a schematic view showing a situation in which a photocurable resin layer formed on a substrate is exposed and cured through a photomask in the present invention.

【図2】本発明において、予めパターンが形成された光
硬化性樹脂を基板に転写する状況を示す概要図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a situation in which a photo-curable resin having a pattern formed in advance is transferred to a substrate in the present invention.

【図3】本発明において、パターンが形成された基板上
に、粒径が均一な粒子を散布する状況を示す概要図であ
る。
FIG. 3 is a schematic view showing a situation in which particles having a uniform particle diameter are dispersed on a substrate on which a pattern is formed in the present invention.

【図4】本発明において、パターン上に散布された粒子
を、基板により圧着する状況を示す概要図である。
FIG. 4 is a schematic view showing a situation in which particles scattered on a pattern are pressure bonded by a substrate in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 光硬化性樹脂層 2a パターン 2b パターン 3 フォトマスク 4 活性光線 5 基材 6 粒子 7 基板 1 substrate 2 photocurable resin layer 2a pattern 2b pattern 3 photomask 4 actinic ray 5 base material 6 particles 7 substrate

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表示画素電極が設けられた一対の基板
を、スペーサーを介して一定の間隔となるように対向さ
せ、該基板間に液晶を封入して接着固定された液晶表示
パネルにおいて、前記スペーサーが、光硬化性樹脂組成
物の硬化物からなるパターンと、該パターン中に埋設さ
れた粒径が均一な粒子から構成されていることを特徴と
する液晶表示パネル。
1. A liquid crystal display panel in which a pair of substrates provided with display pixel electrodes are opposed to each other with a spacer interposed therebetween at a constant interval, and liquid crystal is sealed between the substrates by adhesive bonding. A liquid crystal display panel, wherein the spacer comprises a pattern made of a cured product of a photocurable resin composition and particles embedded in the pattern and having a uniform particle size.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2706215A1 (en) * 1993-06-08 1994-12-16 Thomson Lcd Method of producing distance pieces for a flat liquid-crystal screen
US6757044B2 (en) 1998-01-30 2004-06-29 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display device with spacers controlling thickness of liquid crystal layer
JP2008116880A (en) * 2006-11-08 2008-05-22 Toppan Printing Co Ltd Method for forming spacer bead on color filter for liquid crystal display device and method for manufacturing liquid crystal display element

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