JPH0513757A - Output buffer circuit - Google Patents
Output buffer circuitInfo
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- JPH0513757A JPH0513757A JP18557191A JP18557191A JPH0513757A JP H0513757 A JPH0513757 A JP H0513757A JP 18557191 A JP18557191 A JP 18557191A JP 18557191 A JP18557191 A JP 18557191A JP H0513757 A JPH0513757 A JP H0513757A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、集積回路の内部回路
と、該集積回路の外部に接続される出力パッドとの間に
設けられた出力バッファ回路に係り、特に、該出力パッ
ドから印加される集積回路の外部からの静電パルスに対
する耐圧(electrostatic discharge 耐圧,以降、ES
D耐圧と呼ぶ)の向上に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an output buffer circuit provided between an internal circuit of an integrated circuit and an output pad connected to the outside of the integrated circuit, and more particularly to an output buffer circuit applied from the output pad. Withstands electrostatic discharge from outside the integrated circuit (electrostatic discharge breakdown voltage, hereinafter ES
(Referred to as D breakdown voltage).
【0002】[0002]
【従来の技術】MOS(metal oxide semiconductor )
型等の集積回路では、該集積回路のパッケージ上の入出
力ピンから印加された静電パルス等により、該入出力ピ
ンに接続されている該集積回路の入出力回路が破壊され
てしまう恐れがある。2. Description of the Related Art MOS (metal oxide semiconductor)
In an integrated circuit such as a mold, the input / output circuit of the integrated circuit connected to the input / output pin may be destroyed by an electrostatic pulse or the like applied from the input / output pin on the package of the integrated circuit. is there.
【0003】従って、従来から、集積回路の入出力回路
の、該集積回路外部から印加された過大電圧を発生する
静電パルス等による破壊、即ち、静電破壊から保護する
という技術が開示されている。以降、このような技術
を、静電保護と呼ぶ。Therefore, conventionally, there has been disclosed a technique of protecting an input / output circuit of an integrated circuit from destruction due to an electrostatic pulse or the like which generates an excessive voltage applied from the outside of the integrated circuit, that is, electrostatic breakdown. There is. Hereinafter, such a technique is referred to as electrostatic protection.
【0004】例えば、特公平2−36071では、外部
電気接続部を形成するボンディングパッドに接続された
集積回路装置のための入力保護構成体において、ドーピ
ングレベルが減ぜられたウェル部分によって半導体基体
から分離され、且つ、ドーピングレベルがエンハンスさ
れた内部部分を含んだソース領域及びドレン領域を有す
ると共に、これらの領域の一方が前記ボンディングパッ
ドに接続され、他方の領域が基準電圧路に接続され、こ
れら2つの領域の間の面域は、フィールド酸化膜の厚み
に対応する実質的に均一な厚みの絶縁材層で覆われてお
り、又、該2つの領域の間の該均一な厚みの絶縁材層上
に設けられた前記ボンディングパッドと内部回路とを電
気的に接続する導電路とを備えた入力保護構成体に関す
る技術が開示されている。For example, in Japanese Examined Patent Publication No. 2-36071, in an input protection structure for an integrated circuit device connected to a bonding pad forming an external electrical connection, a well portion having a reduced doping level is used to remove the semiconductor substrate from the semiconductor substrate. A source region and a drain region that include separate and enhanced doping level internal portions, one of these regions being connected to the bonding pad and the other region being connected to a reference voltage path; The surface area between the two regions is covered with a layer of insulating material of substantially uniform thickness corresponding to the thickness of the field oxide, and the insulating material of uniform thickness between the two regions. Disclosed is a technique relating to an input protection structure including the bonding pad provided on a layer and a conductive path electrically connecting an internal circuit. There.
【0005】この特公平2−36071の入力保護構成
体は、いわゆるフィールドトランジスタと呼ばれるもの
であり、ボンディングパッドに接続され、ゲート電極を
構成する導電路に静電パルスが印加されると、該ボンデ
ィングパッドあるいは基準電圧路に接続されるソース領
域とドレン領域との間がオン状態となり、これにより、
ボンディングパッドに印加された静電パルスを基準電圧
路に逃がすことができ、集積回路装置の内部回路の静電
破壊からの保護を行っている。The input protection structure of JP-B-2-36071 is a so-called field transistor, which is connected to a bonding pad and, when an electrostatic pulse is applied to a conductive path forming a gate electrode, the bonding is performed. An ON state is established between the source region and the drain region connected to the pad or the reference voltage path.
The electrostatic pulse applied to the bonding pad can be released to the reference voltage path to protect the internal circuit of the integrated circuit device from electrostatic breakdown.
【0006】図7は、従来の静電保護がなされた出力バ
ッファ回路の回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram of a conventional output buffer circuit protected by static electricity.
【0007】この図7において、内部回路からの出力信
号は、PチャネルMOSトランジスタTPと、Nチャネ
ルMOSトランジスタTNとで構成された出力バッファ
回路を介して、パッドPへ出力される。In FIG. 7, an output signal from the internal circuit is output to pad P via an output buffer circuit formed of P channel MOS transistor TP and N channel MOS transistor TN.
【0008】この出力バッファ回路においては、該Pチ
ャネルMOSトランジスタTPのドレン部に、アノード
が電源VDDに接続されカソードがパッドPに接続され
たダイオードD1が、又該NチャネルMOSトランジス
タTNのドレン部には、アノードがパッドPに接続され
カソードがグランドVSSに接続されたダイオードD2
がそれぞれ存在する。これらのダイオードD1、D2
は、それぞれ該パッドPから印加される集積回路の外部
からの静電パルスによる出力バッファの破壊を防止する
役目を持つ。In this output buffer circuit, a diode D1 having an anode connected to the power supply VDD and a cathode connected to the pad P is provided at the drain portion of the P-channel MOS transistor TP, and a drain portion of the N-channel MOS transistor TN. Has a diode D2 whose anode is connected to the pad P and whose cathode is connected to the ground VSS.
Exists respectively. These diodes D1 and D2
Have a role of preventing destruction of the output buffer due to an electrostatic pulse applied from the pad P from the outside of the integrated circuit.
【0009】これらのダイオードD1あるいはD2は、
電源VDDとグランドVSSとの間に通常かかる電源電
圧等の通常の電圧よりも高い電圧がパッドPに印加され
ると、アノードとカソードとの間がオン状態となり、こ
れによってパッドPと電源VDDとの間、あるいはパッ
ドPとグランドVSSとの間に過大な電位差が生じてし
まうことを防止して、PチャネルMOSトランジスタT
PやNチャネルMOSトランジスタTNや、更に内部回
路等の過大電圧による損傷を防いでいる。These diodes D1 or D2 are
When a voltage higher than a normal voltage such as a power supply voltage normally applied between the power supply VDD and the ground VSS is applied to the pad P, the anode and the cathode are turned on, whereby the pad P and the power supply VDD are connected. Of the P-channel MOS transistor T by preventing an excessive potential difference between the pad P and the ground VSS.
Damage to the P and N channel MOS transistors TN and internal circuits due to excessive voltage is prevented.
【0010】[0010]
【発明が達成しようとする課題】しかしながら、前述の
特公平2−36071で開示されている技術は、集積回
路装置の入力保護構成体であって、出力バッファ回路の
静電耐圧を向上させるという技術ではない。However, the technique disclosed in Japanese Patent Publication No. 2-36071 described above is an input protection structure of an integrated circuit device and improves the electrostatic breakdown voltage of an output buffer circuit. is not.
【0011】又、図7を用いて前述した従来の静電保護
がなされた出力バッファ回路は、十分なESD耐圧を得
るためには該出力バッファのドレンを大きくする必要が
あり、集積回路レイアウト面積が広くなってしまうとい
う問題がある。Further, in the conventional output buffer circuit protected by electrostatic discharge described above with reference to FIG. 7, it is necessary to increase the drain of the output buffer in order to obtain a sufficient ESD withstand voltage. There is a problem that it becomes wider.
【0012】従って、より一層ESD耐圧を向上させる
場合には、出力バッファのドレン面積を更に大きくした
り、あるいはダイオードD1及びD2と同様の働きをす
るダイオードを新たに作り込んで並列に接続しなければ
ならず、集積回路レイアウト面積を増大させてしまうと
いう問題がある。Therefore, in order to further improve the ESD withstand voltage, the drain area of the output buffer must be further increased, or a diode having the same function as the diodes D1 and D2 must be newly formed and connected in parallel. Therefore, there is a problem that the integrated circuit layout area is increased.
【0013】本発明は、前記従来の問題点を解決するべ
くなされたもので、集積回路の内部回路と、該集積回路
の外部に接続される出力パッドとの間に設けられた出力
バッファ回路において、より少ない集積回路レイアウト
面積で、該出力パッドから印加される集積回路の外部か
らの静電パルスに対する耐圧を向上することができる出
力バッファ回路を提供することを目的とする。The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and provides an output buffer circuit provided between an internal circuit of an integrated circuit and an output pad connected to the outside of the integrated circuit. It is an object of the present invention to provide an output buffer circuit capable of improving the breakdown voltage against an electrostatic pulse applied from the output pad from the outside with a smaller integrated circuit layout area.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明は、集積回路の内
部回路と、該集積回路の外部に接続される出力パッドと
の間に設けられた出力バッファ回路において、ゲート電
極及びドレン電極が前記出力パッドへの導電路に接続さ
れ、ソース電極がグランド側に接続された保護用フィー
ルドトランジスタを設け、出力パッドから印加されてし
まう静電パルスを、該保護用フィールドトランジスタで
グランド側へ逃がして、静電耐圧を向上させることによ
り、前記課題を達成したものである。According to the present invention, in an output buffer circuit provided between an internal circuit of an integrated circuit and an output pad connected to the outside of the integrated circuit, a gate electrode and a drain electrode are provided as described above. Provided with a protective field transistor connected to the conductive path to the output pad, the source electrode of which is connected to the ground side, the electrostatic pulse applied from the output pad is released to the ground side by the protective field transistor, The above problems have been achieved by improving the electrostatic breakdown voltage.
【0015】[0015]
【作用】本発明は、出力バッファ回路のESD耐圧を向
上させるために、より少ない集積回路レイアウト面積で
ESD耐圧を効果的に向上させることができる保護用フ
ィールドトランジスタを用いるようにしている。According to the present invention, in order to improve the ESD breakdown voltage of the output buffer circuit, a protective field transistor capable of effectively improving the ESD breakdown voltage with a smaller integrated circuit layout area is used.
【0016】この保護用フィールドトランジスタは、ゲ
ート電極及びドレン電極が静電パルスが印加される恐れ
のある出力パッドへの導電路に接続される。又、この保
護用フィールドトランジスタのソース電極は、グランド
側に接続される。In this protective field transistor, the gate electrode and the drain electrode are connected to a conductive path to an output pad to which an electrostatic pulse may be applied. The source electrode of this protective field transistor is connected to the ground side.
【0017】従って、本発明によれば、出力パッドに静
電パルスが印加されてしまった場合には、ドレン電極と
ソース電極との間をオン状態とするためのゲート電極へ
の電圧も印加され、ドレン電極とソース電極との間がオ
ン状態となって、出力パッドに印加された静電パルスを
グランド側へ逃がすことができ、出力バッファ回路や集
積回路の内部の他の回路を、静電パルスによる過大電圧
から保護することができる。Therefore, according to the present invention, when an electrostatic pulse is applied to the output pad, a voltage is applied to the gate electrode for turning on the drain electrode and the source electrode. , Between the drain electrode and the source electrode is turned on, the electrostatic pulse applied to the output pad can be released to the ground side, and the output buffer circuit and other circuits inside the integrated circuit are electrostatically charged. It is possible to protect from excessive voltage due to pulses.
【0018】なお、本発明に用いられる保護用フィール
ドトランジスタは、次に列挙するような特性を有するも
のでなければならないが、本発明は、この保護用フィー
ルドトランジスタの具体的な構造を限定するものではな
い。The protective field transistor used in the present invention must have the following characteristics, but the present invention limits the specific structure of this protective field transistor. is not.
【0019】ドレン電極とソース電極との間がオン状
態となる。ゲート電極に印加される電圧は、対象となる
集積回路に用いられる電源電圧等の通常の電圧より高い
電圧であること。該保護用フィールドトランジスタ自
身や他の回路等を損傷することなく、出力パッドから印
加されてしまった静電パルスをグランド側へ逃がして、
確実に静電保護を行えること。The state between the drain electrode and the source electrode is turned on. The voltage applied to the gate electrode must be higher than the normal voltage such as the power supply voltage used for the target integrated circuit. The electrostatic pulse applied from the output pad is released to the ground side without damaging the protective field transistor itself or other circuits,
Be sure to provide electrostatic protection.
【0020】なお、このような特性を有する保護用フィ
ールドトランジスタの構造の一例は、実施例として図2
を用いて後述する。An example of the structure of the protective field transistor having such characteristics is shown in FIG.
Will be described later.
【0021】[0021]
【実施例】以下、図を用いて本発明の実施例を詳細に説
明する。Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
【0022】図1は、本発明の実施例の出力バッファ回
路の回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram of an output buffer circuit according to an embodiment of the present invention.
【0023】この図1において、符号TP、TN、D
1、D2、VDD、VSS、Pは、前述の図7の同符号
のものと同一のものである。In FIG. 1, reference numerals TP, TN, D
1, D2, VDD, VSS and P are the same as those having the same reference numerals in FIG.
【0024】この図1の出力バッファ回路においては、
保護ダイオードD1及びD2と共に、保護用フィールド
トランジスタTFNが用いられている。In the output buffer circuit of FIG. 1,
A protective field transistor TFN is used together with the protective diodes D1 and D2.
【0025】この保護用フィールドトランジスタTFN
は、ゲート電極及びドレン電極が出力パッドPへの導電
路に接続され、ソース電極がグランドVSSに接続され
ている。This protective field transistor TFN
Has a gate electrode and a drain electrode connected to a conductive path to the output pad P, and a source electrode connected to the ground VSS.
【0026】又、この保護用フィールドトランジスタT
FNは、電源VDDとグランドVSSとの間に印加され
る電源電圧等の通常の電圧よりは高い所定の電圧がゲー
ト電極に印加されると、ドレン電極とソース電極との間
がオン状態となるものである。Further, this protective field transistor T
When a predetermined voltage higher than a normal voltage such as a power supply voltage applied between the power supply VDD and the ground VSS is applied to the gate electrode of the FN, the drain electrode and the source electrode are turned on. It is a thing.
【0027】図2は、本実施例で用いられる保護用フィ
ールドトランジスタの断面図である。FIG. 2 is a sectional view of a protective field transistor used in this embodiment.
【0028】この図2において、保護用フィールドトラ
ンジスタは、ゲート電極30と、ドレン電極32と、ソ
ース電極34とを有している。In FIG. 2, the protective field transistor has a gate electrode 30, a drain electrode 32, and a source electrode 34.
【0029】前記ドレン電極32は、P型基板10に形
成されたn ウェル16上に形成されたn + ドレン14に
接続されている。The drain electrode 32 is connected to the n + drain 14 formed on the n well 16 formed on the P-type substrate 10.
【0030】前記ソース電極34は、P型基板10上に
形成されたn +ソース12に接続されている。The source electrode 34 is connected to the n + source 12 formed on the P-type substrate 10.
【0031】又、これらn ウェル16とn + ソース12
との間には、チャネルストップ18が形成されている。Also, these n well 16 and n + source 12
A channel stop 18 is formed between and.
【0032】前記ゲート電極30は、層間絶縁膜22と
フィールド酸化膜24とを介して、前記チャネルストッ
プ18等の位置の上方に設けられている。The gate electrode 30 is provided above the position of the channel stop 18 and the like via the interlayer insulating film 22 and the field oxide film 24.
【0033】以上説明した保護用フィールドトランジス
タのゲート電極30及びドレン電極32は、アルミニウ
ム配線層20b により、図1を用いて前述したパッドP
に接続されている。又、この保護用フィールドトランジ
スタのソース電極は、アルミニウム配線層20a によ
り、図1を用いて前述したグランドVSSに接続されて
いる。The gate electrode 30 and the drain electrode 32 of the protective field transistor described above are the pad P described above with reference to FIG. 1 by the aluminum wiring layer 20b.
It is connected to the. The source electrode of this protective field transistor is connected to the ground VSS described above with reference to FIG. 1 by the aluminum wiring layer 20a.
【0034】なお、符号26は、パッシベーション膜で
ある。Reference numeral 26 is a passivation film.
【0035】なお、この図2に示される保護用フィール
ドトランジスタにおいては、n ウェル16は、当該保護
用フィールドトランジスタのn +ドレン14のブレーク
ダウン耐圧を向上させている。In the protective field transistor shown in FIG. 2, the n well 16 improves the breakdown withstand voltage of the n + drain 14 of the protective field transistor.
【0036】以上説明した通り、本実施例によれば、保
護用フィールドトランジスタを効果的に用いて、出力パ
ッドから印加されてしまう静電パルスから、出力バッフ
ァ回路自体あるいは他の内部回路のESD耐圧を向上さ
せることができる。又、本実施例によれば、従来保護ダ
イオードのみを用いて出力バッファ回路のESD耐圧を
向上させていた場合と比べて、同じESD耐圧の向上の
度合とすれば、集積回路レイアウト面積を減少すること
ができる。As described above, according to this embodiment, the protection field transistor is effectively used, and the ESD withstand voltage of the output buffer circuit itself or other internal circuits is prevented from the electrostatic pulse applied from the output pad. Can be improved. Further, according to the present embodiment, compared with the case where the ESD withstand voltage of the output buffer circuit is improved by using only the conventional protection diode, if the degree of improvement of the ESD withstand voltage is the same, the integrated circuit layout area is reduced. be able to.
【0037】なお、本実施例のESD耐圧について、図
3に示されるようなマシンモデルでのESD耐圧試験
と、図4で示される人体モデルでのESD耐圧試験とを
行っている。With respect to the ESD withstand voltage of this embodiment, an ESD withstand voltage test with a machine model as shown in FIG. 3 and an ESD withstand voltage test with a human body model as shown in FIG. 4 are performed.
【0038】図3において、グランド基準のマシンモデ
ルでのESD耐圧試験は、集積回路50のVDD端子を
オープンとし、VSS端子をグランドに接続して、切換
スイッチ52をc 端子とb 端子とがオン状態となるよう
に切換えてコンデンサCに試験電圧Vを印加した後、該
切換スイッチ52を端子cと端子a とがオン状態となる
ように切換えて、集積回路50の出力端子Oにコンデン
サCに蓄えられた静電気を加えるというものである。In FIG. 3, in the ESD withstand test using a ground-based machine model, the VDD terminal of the integrated circuit 50 is opened, the VSS terminal is connected to the ground, and the changeover switch 52 is turned on with the c terminal and the b terminal turned on. After the test voltage V is applied to the capacitor C so that the terminal C and the terminal a are turned on, the output terminal O of the integrated circuit 50 is switched to the capacitor C. It is to add stored static electricity.
【0039】なお、電源基準のマシンモデルのESD耐
圧試験は、集積回路50のVSS端子をオープンとし、
VDD端子をグランドに接続して、同様の試験を行うと
いうものである。In the ESD withstand voltage test of the machine model based on the power source, the VSS terminal of the integrated circuit 50 is opened,
The same test is performed by connecting the VDD terminal to the ground.
【0040】図4において、人体モデルのESD耐圧試
験は、グランド基準の場合も、電源基準の場合も、前述
の図3のマシンモデルのESD耐圧試験とほぼ同様であ
るが、用いられるコンデンサCの静電容量が小さくなる
ことと、抵抗R(1.5k Ω)を用いる点が異なる。In FIG. 4, the ESD withstand test of the human body model is almost the same as the ESD withstand test of the machine model of FIG. 3 described above regardless of whether it is ground reference or power supply reference. The difference is that the capacitance is small and the resistance R (1.5 kΩ) is used.
【0041】以上説明したマシンモデルでのESD耐圧
試験によれば、本実施例は、図7を用いて前述した従来
例に比べ、ESD耐圧を約100V向上させることがで
きる。According to the ESD withstand voltage test using the machine model described above, the present embodiment can improve the ESD withstand voltage by about 100 V as compared with the conventional example described with reference to FIG.
【0042】又、以上説明した人体モデルでのESD耐
圧試験においても、本実施例は、図7を用いて前述した
従来例に比べ、ESD耐圧を約500V向上されている
ことが確認されている。Also, in the ESD withstand voltage test using the human body model described above, it has been confirmed that the present embodiment improves the ESD withstand voltage by about 500 V as compared with the conventional example described with reference to FIG. ..
【0043】なお、図5は、図7を用いて前述した従来
例における、マシンモデルESD耐圧試験によるESD
耐圧の度数分布のグラフである。FIG. 5 shows the ESD by the machine model ESD withstand voltage test in the conventional example described above with reference to FIG.
It is a graph of frequency distribution of breakdown voltage.
【0044】一方、図6は、本実施例における、マシン
モデルESD耐圧試験によるESD耐圧の度数分布のグ
ラフである。On the other hand, FIG. 6 is a graph of the frequency distribution of the ESD withstand voltage by the machine model ESD withstand voltage test in this embodiment.
【0045】これら図5及び図6を比較して明らかな通
り、本実施例によれば、ESD耐圧を向上させることが
できる。As is clear from the comparison between FIG. 5 and FIG. 6, according to this embodiment, the ESD withstand voltage can be improved.
【0046】[0046]
【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、集
積回路の内部回路と、該集積回路の外部に接続される出
力パッドとの間に設けられた出力バッファ回路におい
て、より少ない集積回路レイアウト面積で、該出力パッ
ドから印加される集積回路の外部からの静電パルスに対
する耐圧を向上することができるという優れた効果を得
ることができる。As described above, according to the present invention, in the output buffer circuit provided between the internal circuit of the integrated circuit and the output pad connected to the outside of the integrated circuit, less integrated circuits are provided. With the layout area, it is possible to obtain an excellent effect that the withstand voltage against an electrostatic pulse applied from the outside of the integrated circuit applied from the output pad can be improved.
【図1】図1は、本発明の実施例の出力バッファ回路の
回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram of an output buffer circuit according to an embodiment of the present invention.
【図2】図2は、前記実施例で用いられる保護用フィー
ルドトランジスタの断面図である。FIG. 2 is a sectional view of a protective field transistor used in the above embodiment.
【図3】図3は、マシンモデルでのESD耐圧試験の接
続図である。FIG. 3 is a connection diagram of an ESD withstand voltage test in a machine model.
【図4】図4は、人体モデルでのESD耐圧試験の接続
図である。FIG. 4 is a connection diagram of an ESD withstand voltage test on a human body model.
【図5】図5は、従来の静電保護がなされた出力バッフ
ァ回路のESD耐圧試験の度数分布のグラフである。FIG. 5 is a graph of a frequency distribution of an ESD withstand voltage test of a conventional output buffer circuit protected by electrostatic discharge.
【図6】図6は、本実施例のESD耐圧試験の度数分布
のグラフである。FIG. 6 is a graph showing the frequency distribution of the ESD withstand voltage test of this example.
【図7】図7は、従来の静電保護がなされた出力バッフ
ァ回路の回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram of a conventional output buffer circuit provided with electrostatic protection.
10…P型基板、 12…n + ソース、 14…n + ドレン、 16…n ウェル、 18…チャネルストップ、 20a 、20b …アルミニウム配線層、 22…層間絶縁膜、 24…フィールド酸化膜、 26…パッシベーション膜、 30…ゲート電極、 32…ドレン電極、 34…ソース電極、 50…集積回路、 52…切換スイッチ、 TP…PチャネルMOSトランジスタ、 TN…NチャネルMOSトランジスタ、 D1、D2…保護ダイオード、 TFN…保護用フィールドトランジスタ、 P…パッド、 VDD…電源、 VSS…グランド端子、 C1、C2…コンデンサ(ESD耐圧試験用)、 R…抵抗(ESD耐圧試験用)。10 ... P-type substrate, 12 ... N + source, 14 ... N + drain, 16 ... N well, 18 ... Channel stop, 20a, 20b ... Aluminum wiring layer, 22 ... Interlayer insulating film, 24 ... Field oxide film, 26 ... Passivation film, 30 ... Gate electrode, 32 ... Drain electrode, 34 ... Source electrode, 50 ... Integrated circuit, 52 ... Changeover switch, TP ... P-channel MOS transistor, TN ... N-channel MOS transistor, D1, D2 ... Protective diode, TFN Protective field transistor, P ... Pad, VDD ... Power supply, VSS ... Ground terminal, C1, C2 ... Capacitor (for ESD withstand voltage test), R ... Resistor (for ESD withstand voltage test).
Claims (1)
に接続される出力パッドとの間に設けられた出力バッフ
ァ回路において、 ゲート電極及びドレン電極が前記出力パッドへの導電路
に接続され、ソース電極がグランド側に接続された保護
用フィールドトランジスタを設け、 出力パッドから印加されてしまう静電パルスを、該保護
用フィールドトランジスタでグランド側へ逃がして、静
電耐圧を向上させたことを特徴とする出力バッファ回
路。Claim: What is claimed is: 1. An output buffer circuit provided between an internal circuit of an integrated circuit and an output pad connected to the outside of the integrated circuit, wherein a gate electrode and a drain electrode are the output pad. The protective field transistor is connected to the conductive path to the ground and the source electrode is connected to the ground side, and the electrostatic pulse applied from the output pad is released to the ground side by the protective field transistor, An output buffer circuit having improved breakdown voltage.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18557191A JPH0513757A (en) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | Output buffer circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18557191A JPH0513757A (en) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | Output buffer circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0513757A true JPH0513757A (en) | 1993-01-22 |
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Family Applications (1)
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JP18557191A Pending JPH0513757A (en) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | Output buffer circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH0513757A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09186296A (en) * | 1995-12-29 | 1997-07-15 | Hyundai Electron Ind Co Ltd | Transistor of static electricity protective circuit and manufacture of the same |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57153472A (en) * | 1981-03-17 | 1982-09-22 | Toshiba Corp | Manufacture of semiconductor device |
JPH0410472A (en) * | 1990-04-26 | 1992-01-14 | Sanyo Electric Co Ltd | Protective circuit |
-
1991
- 1991-06-28 JP JP18557191A patent/JPH0513757A/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57153472A (en) * | 1981-03-17 | 1982-09-22 | Toshiba Corp | Manufacture of semiconductor device |
JPH0410472A (en) * | 1990-04-26 | 1992-01-14 | Sanyo Electric Co Ltd | Protective circuit |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09186296A (en) * | 1995-12-29 | 1997-07-15 | Hyundai Electron Ind Co Ltd | Transistor of static electricity protective circuit and manufacture of the same |
US6207997B1 (en) | 1995-12-29 | 2001-03-27 | Hyundai Electronics Industries Co. Ltd. | Thin film transistor for antistatic circuit and method for fabricating the same |
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