JPH05135728A - Transmission type electron microscope - Google Patents

Transmission type electron microscope

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JPH05135728A
JPH05135728A JP29301691A JP29301691A JPH05135728A JP H05135728 A JPH05135728 A JP H05135728A JP 29301691 A JP29301691 A JP 29301691A JP 29301691 A JP29301691 A JP 29301691A JP H05135728 A JPH05135728 A JP H05135728A
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JP
Japan
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lens
image
field limiting
diaphragm
objective
Prior art date
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Pending
Application number
JP29301691A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Arai
善博 新井
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Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
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Publication date
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Publication of JPH05135728A publication Critical patent/JPH05135728A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To improve the switching operability between the image observation mode and the diffraction image observation mode in a transmission type electron microscope. CONSTITUTION:When the image observation mode is instructed, an electron beam is focused to satisfy the focus state set by an operator, an objective aperture 11 is inserted on the optical axis, no exciting current is fed to a mini-lens ML, and a visual field limiting aperture 12 is removed from the optical axis. An electron microscope image is formed at the position of the visual field limiting aperture 12, and this image is projected on a screen 13. When the diffraction image observation mode is instructed, the electron beam is radiated at the preset radiation angle. The objective aperture 11 is removed from the optical axis, the preset exciting current is fed to the mini-lens ML, and the visual field limiting aperture 12 is inserted on the optical axis. A diffraction image is formed at the position of the visual field limiting aperture 12, and the diffraction image is projected on the screen 13.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、透過型電子顕微鏡(T
EM)に係り、特に電子顕微鏡像を観察するモードと、
回折像を観察するモードとを切り替えるための結像系レ
ンズの構成に関する。
The present invention relates to a transmission electron microscope (T
EM), especially a mode for observing an electron microscope image,
The present invention relates to a configuration of an imaging system lens for switching a mode for observing a diffraction image.

【0002】[0002]

【従来の技術】TEMにおいては、試料の拡大像である
電子顕微鏡像を観察するモード(以下、像観察モードと
称す)と、対物レンズ(OL)の後焦点面に結像される
電子線回折像(以下、単に回折像と称す)を結像系レン
ズによりスクリーンに投影して観察するモード(以下、
このモードを回折像観察モードと称す)があり、特に後
者は制限視野回折法と称されている。像観察モード時及
び回折像観察モード時の結像系レンズの動作の概略を図
2に示す。なお、図中、1は試料、2は対物絞り、3は
視野制限絞り、4はスクリーン、OLは対物レンズ、I
1 は第1中間レンズ、IL2 は第2中間レンズ、PL
は投影レンズを示す。
2. Description of the Related Art In a TEM, a mode for observing an electron microscope image which is a magnified image of a sample (hereinafter referred to as an image observation mode) and an electron beam diffraction imaged on a back focal plane of an objective lens (OL). A mode in which an image (hereinafter simply referred to as a diffraction image) is projected on a screen by an imaging lens and observed (hereinafter,
This mode is called a diffraction image observation mode), and the latter is called the selected area diffraction method. FIG. 2 shows the outline of the operation of the imaging system lens in the image observation mode and the diffraction image observation mode. In the figure, 1 is a sample, 2 is an objective diaphragm, 3 is a field limiting diaphragm, 4 is a screen, OL is an objective lens, I
L 1 is the first intermediate lens, IL 2 is the second intermediate lens, PL
Indicates a projection lens.

【0003】図2Aは像観察モード時の結像系レンズの
動作を示す図であるが、このとき対物絞り2は電子顕微
鏡像のコントラストを向上させるために挿入され、視野
制限絞り3は取り外される。また電子線は所望の明るさ
が得られるように収束されている。
FIG. 2A is a diagram showing the operation of the imaging system lens in the image observation mode. At this time, the objective diaphragm 2 is inserted to improve the contrast of the electron microscope image, and the field limiting diaphragm 3 is removed. .. The electron beam is converged so that the desired brightness can be obtained.

【0004】さて、電子線が試料1に照射されると、対
物絞り2の位置、即ちOLの後焦点面には回折像が結像
されると共に、視野制限絞り3の位置には電子顕微鏡像
が結像される。そして、第1中間レンズIL1 は当該視
野制限絞り3の位置に結像される電子顕微鏡像を物面と
して所定の位置に電子顕微鏡像を結像し、以下、当該電
子顕微鏡像は第2中間レンズIL2 ,投影レンズRLに
より拡大されてスクリーン4上に結像される。
When the sample 1 is irradiated with an electron beam, a diffraction image is formed at the position of the objective diaphragm 2, that is, the back focal plane of the OL, and an electron microscope image is formed at the position of the field limiting diaphragm 3. Is imaged. Then, the first intermediate lens IL 1 forms an electron microscope image at a predetermined position with the electron microscope image formed at the position of the field limiting diaphragm 3 as the object plane, and hereinafter, the electron microscope image is the second intermediate image. The image is enlarged on the screen 4 by the lens IL 2 and the projection lens RL.

【0005】図2Bは回折像観察モード時の結像系レン
ズの動作を示す図であり、このとき対物絞り2は取り外
され、視野制限絞り3は挿入されている。また電子線
は、回折像の中心のスポットによりスクリーン4が焼き
付いてしまうことを防止するために、大きな照射角とな
される。そして、第1中間レンズIL1 は対物絞り2の
位置に結像されている回折像を物面として所定の位置に
回折像を結像し、以下、当該回折像は第2中間レンズI
2 ,投影レンズRLにより拡大されてスクリーン4上
に結像される。
FIG. 2B is a diagram showing the operation of the image forming system lens in the diffraction image observation mode, in which the objective diaphragm 2 is removed and the field limiting diaphragm 3 is inserted. Further, the electron beam has a large irradiation angle in order to prevent the screen 4 from being burned by the spot at the center of the diffraction image. Then, the first intermediate lens IL 1 forms a diffracted image at a predetermined position with the diffracted image formed at the position of the objective diaphragm 2 as the object plane, and hereinafter, the diffracted image is the second intermediate lens I 1.
L 2 is enlarged by the projection lens RL and is focused on the screen 4.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、金属等の結
晶性を有する試料を観察する場合には像観察モードと回
折像観察モードとを頻繁に切り替える必要があり、電子
顕微鏡像の写真と、当該電子顕微鏡像と同一視野の回折
像の写真の一対の写真を撮影するためには20〜30回程度
モードの切り替えを行っているのが通常である。そし
て、上述したところから明らかなように、モードを切り
替える度毎に対物絞りの挿入あるいは取り外し、視野制
限絞りの挿入あるいは取り外し、及び電子線の収束状態
の切り替えという操作を行わなければならないので非常
に操作が煩わしいものであった。
By the way, when observing a sample having crystallinity such as metal, it is necessary to frequently switch between the image observation mode and the diffraction image observation mode. In order to take a pair of photographs of a diffraction image in the same field of view as the electron microscope image, it is usual to switch the mode about 20 to 30 times. Then, as is clear from the above description, it is necessary to insert or remove the objective diaphragm, insert or remove the field limiting diaphragm, and switch the electron beam convergence state every time the mode is switched. The operation was troublesome.

【0007】本発明は、上記の課題を解決するものであ
って、像観察モードと回折像観察モードとの切り替えを
容易に行うことができる透過型電子顕微鏡を提供するこ
とを目的とするものである。
The present invention is intended to solve the above problems, and an object thereof is to provide a transmission electron microscope capable of easily switching between an image observation mode and a diffraction image observation mode. is there.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の透過型電子顕微鏡は、対物絞りと、視野
制限絞りと、前記対物絞りと視野制限絞りの中間に配置
され、動作時には前記対物絞りの位置に結像される回折
像を前記視野制限絞りの位置に結像する第1レンズと、
常時前記視野制限絞りの位置の像を物面とする第2のレ
ンズとを少なくとも備える。
In order to achieve the above object, the transmission electron microscope of the present invention includes an objective diaphragm, a field limiting diaphragm, and an intermediate position between the objective diaphragm and the field limiting diaphragm. A first lens that sometimes forms a diffraction image at the position of the objective diaphragm at the position of the field limiting diaphragm;
At least a second lens that always has an image at the position of the field limiting diaphragm as an object plane is provided.

【0009】[0009]

【作用】対物絞りと視野制限絞りとの中間には第1レン
ズが配置されており、その後段には第2レンズが配置さ
れている。そして、第1レンズは動作時には対物絞りの
位置に結像される回折像を前記視野制限絞りの位置に結
像する。また第2レンズは常時視野制限絞りの位置の像
を物面として所定の位置に結像する。従って、第1レン
ズを非動作とした場合には、視野制限絞りの位置に結像
されている電子顕微鏡像が第2レンズ及びその後段のレ
ンズによってスクリーン上に投影される。これに対し
て、第1レンズを動作させた場合には、視野制限絞りの
位置には第1レンズの作用により回折像が結像されるの
で、当該回折像が第2レンズ及びその後段のレンズによ
ってスクリーン上に投影される。
The first lens is arranged in the middle of the objective diaphragm and the field limiting diaphragm, and the second lens is arranged in the subsequent stage. Then, the first lens forms a diffraction image formed at the position of the objective diaphragm at the position of the field limiting diaphragm during operation. The second lens always forms an image at the position of the field limiting diaphragm at a predetermined position as an object plane. Therefore, when the first lens is not operated, the electron microscope image formed at the position of the field limiting diaphragm is projected on the screen by the second lens and the lens at the subsequent stage. On the other hand, when the first lens is operated, a diffraction image is formed at the position of the field limiting diaphragm by the action of the first lens, so that the diffraction image is generated by the second lens and the lens at the subsequent stage. Projected on the screen by.

【0010】[0010]

【実施例】以下、図面を参照しつつ実施例を説明する。
図1は本発明に係る透過型電子顕微鏡の一実施例の構成
を示す図であり、図中、MLはミニレンズ、IL1 は第
1中間レンズ、10は電子銃、11は対物絞り、12は
視野制限絞り、13はスクリーン、14は制御装置、1
5はモード設定部、16は電子銃駆動部、17は対物絞
り駆動部、18はML駆動部、19は視野制限絞り駆動
部、20は偏向コイル、21は偏向コイル駆動部を示
す。なお、図1においては照射系レンズ及び第1中間レ
ンズIL1 の後段に配置される第2中間レンズ、投影レ
ンズ等は本発明の本質には関係ないので省略している。
Embodiments will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an embodiment of a transmission electron microscope according to the present invention. In the figure, ML is a mini lens, IL 1 is a first intermediate lens, 10 is an electron gun, 11 is an objective aperture, and 12 Is a field limiting diaphragm, 13 is a screen, 14 is a control device, 1
Reference numeral 5 is a mode setting unit, 16 is an electron gun drive unit, 17 is an objective aperture drive unit, 18 is an ML drive unit, 19 is a field limiting aperture drive unit, 20 is a deflection coil, and 21 is a deflection coil drive unit. Note that, in FIG. 1, the irradiation system lens, the second intermediate lens, the projection lens, and the like arranged in the subsequent stage of the first intermediate lens IL 1 are omitted because they are not related to the essence of the present invention.

【0011】図1において、ミニレンズMLは動作時に
は対物絞り11の位置に結像している回折像を物面とし
て視野制限絞り12の位置に回折像を結像させるもので
あり、空芯コイル等のヒステリシスが非常に小さいコイ
ルで構成されるのが望ましい。また、第1中間レンズI
1 は、常時、視野制限絞り12の位置に結像されてい
る像を物面として所定の位置に像を結像する。この第1
中間レンズIL1 により結像された像は、図示しない第
2中間レンズ、投影レンズ等によりスクリーン13に拡
大して結像される。偏向コイル20は電子線をスクリー
ン13上に照射しないようにするためのブランキング手
段として配置されているものである。
In FIG. 1, the mini-lens ML forms a diffracted image at the position of the field limiting diaphragm 12 with the diffracted image formed at the position of the objective diaphragm 11 as an object surface during operation. It is desirable to use a coil having very small hysteresis such as. In addition, the first intermediate lens I
L 1 always forms an image at a predetermined position with the image formed at the position of the field limiting diaphragm 12 as the object plane. This first
The image formed by the intermediate lens IL 1 is enlarged and formed on the screen 13 by a second intermediate lens, a projection lens and the like (not shown). The deflection coil 20 is arranged as blanking means for preventing the electron beam from irradiating the screen 13.

【0012】モード設定部15は像観察モードと回折像
観察モードとの切り替えを行うものであり、ボタンスイ
ッチ等の適宜のスイッチ類で構成される。また、制御装
置14はマイクロプロセッサ及びその周辺回路で構成さ
れている。
The mode setting section 15 switches between the image observation mode and the diffraction image observation mode, and is composed of appropriate switches such as button switches. The control device 14 is composed of a microprocessor and its peripheral circuits.

【0013】さて、モード設定部15により像観察モー
ドが指示されたときは、制御装置14は、電子銃駆動部
16に対しては電子線を収束させることを指示し、対物
絞り駆動部17に対しては対物絞り11を光軸上に挿入
することを指示し、ML駆動部18に対しては非動作を
指示し、視野制限絞り駆動部19に対しては視野制限絞
り12の光軸上からの取り外しを指示する。これによっ
て電子銃10から放射される電子線は所定の状態、例え
ばオペレータによって設定された収束状態を満足するよ
うに収束され、対物絞り11は光軸上に挿入され、ミニ
レンズMLには励磁電流は供給されず、視野制限絞り1
2は光軸上から取り外される。従って、このときには視
野制限絞り12の位置には電子顕微鏡像が結像されてい
るので、スクリーン13には電子顕微鏡像が投影される
ことになる。
When the image setting mode is instructed by the mode setting unit 15, the control unit 14 instructs the electron gun driving unit 16 to converge the electron beam, and the objective aperture driving unit 17. On the other hand, the objective stop 11 is instructed to be inserted on the optical axis, the ML drive section 18 is instructed not to operate, and the field limiting stop drive section 19 is set on the optical axis of the field limiting stop 12. Instruct to remove from. As a result, the electron beam emitted from the electron gun 10 is converged so as to satisfy a predetermined state, for example, a converged state set by the operator, the objective aperture 11 is inserted on the optical axis, and the exciting current is applied to the mini lens ML. Is not supplied, field limiting diaphragm 1
2 is removed from the optical axis. Therefore, at this time, since the electron microscope image is formed at the position of the field limiting diaphragm 12, the electron microscope image is projected on the screen 13.

【0014】これに対して、モード設定部15により回
折像観察モードが指示されたときには、制御装置14
は、電子銃駆動部16に対しては電子線の収束角を大き
くすることを指示し、対物絞り駆動部17に対しては対
物絞り11を光軸上から取り外すことを指示し、ML駆
動部18に対しては動作を指示し、視野制限絞り駆動部
19に対しては視野制限絞り12を光軸上に挿入するこ
とを指示する。これによって電子銃10から放射される
電子線は所定の状態、例えば予め定められた照射角にな
るようになされ、対物絞り11は光軸上から取り外さ
れ、ミニレンズMLには所定の励磁電流が供給され、視
野制限絞り12は光軸上に挿入される。従って、このと
きには視野制限絞り12の位置には回折像が結像されて
いるので、スクリーン13には回折像が投影されること
になる。
On the other hand, when the mode setting section 15 instructs the diffraction image observation mode, the control device 14
Instructs the electron gun drive unit 16 to increase the convergence angle of the electron beam, instructs the objective aperture drive unit 17 to remove the objective aperture 11 from the optical axis, and instructs the ML drive unit. 18 is instructed to operate, and the field limiting diaphragm driving unit 19 is instructed to insert the field limiting diaphragm 12 on the optical axis. As a result, the electron beam emitted from the electron gun 10 is made to have a predetermined state, for example, a predetermined irradiation angle, the objective diaphragm 11 is removed from the optical axis, and a predetermined exciting current is applied to the mini lens ML. After being supplied, the field limiting diaphragm 12 is inserted on the optical axis. Therefore, at this time, since the diffraction image is formed at the position of the field limiting diaphragm 12, the diffraction image is projected on the screen 13.

【0015】また、制御装置14は、像観察モードから
回折像観察モードへの切り替えが行われる場合には、モ
ード切り替えが指示されたときから、電子銃10、対物
絞り11、ミニレンズML及び視野制限絞り12の状態
が回折像観察モードのための状態設定が完了するまで偏
向コイル駆動部21にブランキングを指示する。これに
より偏向コイル20には所定の励磁電流が供給されるの
で、電子線は偏向され、スクリーン13には達しないの
で、モード切り替え時のスクリーン13上の像のちらつ
きを防止することができる。回折像観察モードから像観
察モードに切り替えられる場合も同様である。
Further, when the image observation mode is switched to the diffraction image observation mode, the control device 14 starts the electron gun 10, the objective diaphragm 11, the mini lens ML and the field of view from the time when the mode switching is instructed. The deflection coil driving unit 21 is instructed to perform blanking until the state of the limiting diaphragm 12 is set for the diffraction image observation mode. As a result, a predetermined exciting current is supplied to the deflection coil 20, so that the electron beam is deflected and does not reach the screen 13, so that it is possible to prevent flicker of the image on the screen 13 during mode switching. The same applies when switching from the diffraction image observation mode to the image observation mode.

【0016】以上の構成によれば、モード設定部15に
よりモード切り替えを指示するだけで容易に像観察モー
ドと回折像観察モードとを切り替えることができる。ま
た、ミニレンズMLを空芯コイルで構成すれば、空芯コ
イルはインダクタンスが非常に小さいので、高速にモー
ド切り替えを行うことができる。
According to the above construction, the image setting mode and the diffraction image viewing mode can be easily switched by simply instructing the mode setting section 15 to switch the mode. Further, if the mini-lens ML is composed of an air-core coil, the air-core coil has a very small inductance, so that mode switching can be performed at high speed.

【0017】以上、本発明の一実施例について説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく種々
の変形が可能である。例えば、上記実施例ではモード切
り替えは手動で行うものとしたが、制御装置14により
自動的に所望の周期でモード切り替えを行わせることも
可能である。また、上記実施例ではブランキングのため
の手段として偏向コイルを用いるものとしたが、電子線
を遮断する部材を光軸上に挿入するようにしてもよいも
のであり、更に当該ブランキング手段は任意の位置に配
置することができるものである。
Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment and various modifications can be made. For example, in the above-described embodiment, the mode switching is performed manually, but the control device 14 may automatically perform the mode switching at a desired cycle. Further, although the deflection coil is used as the means for blanking in the above embodiment, a member for blocking the electron beam may be inserted on the optical axis. It can be arranged at any position.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、像観察モードと回折像観察モードの指示を行
うだけで自動的に指示されたモードを達成するための状
態が設定されるので、従来に比較して操作性を大幅に改
善することができる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, the state for achieving the instructed mode is automatically set only by instructing the image observation mode and the diffraction image observation mode. Therefore, the operability can be significantly improved as compared with the conventional one.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の一実施例の構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an exemplary embodiment of the present invention.

【図2】 像観察モード時及び回折像観察モード時の結
像系レンズの動作の概略を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an outline of the operation of the imaging system lens in the image observation mode and the diffraction image observation mode.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

ML…ミニレンズ、IL1 …第1中間レンズ、10…電
子銃、11…対物絞り、12…視野制限絞り、13…ス
クリーン、14…制御装置、15…モード設定部、16
…電子銃駆動部、17…対物絞り駆動部、18…ML駆
動部、19…視野制限絞り駆動部、20…偏向コイル、
21…偏向コイル駆動部。
ML ... Mini lens, IL 1 ... First intermediate lens, 10 ... Electron gun, 11 ... Objective diaphragm, 12 ... Field limiting diaphragm, 13 ... Screen, 14 ... Control device, 15 ... Mode setting unit, 16
... Electron gun drive unit, 17 ... Objective aperture drive unit, 18 ... ML drive unit, 19 ... Field limiting aperture drive unit, 20 ... Deflection coil,
21 ... Deflection coil drive unit.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対物絞りと、視野制限絞りと、前記対物
絞りと視野制限絞りの中間に配置され、動作時には前記
対物絞りの位置に結像される回折像を前記視野制限絞り
の位置に結像する第1レンズと、常時前記視野制限絞り
の位置の像を物面とする第2のレンズとを少なくとも備
えることを特徴とする透過型電子顕微鏡。
1. An objective diaphragm, a field limiting diaphragm, and an intermediate position between the objective diaphragm and the field limiting diaphragm, which forms a diffraction image formed at the position of the objective diaphragm during operation at the position of the field limiting diaphragm. A transmission electron microscope comprising at least a first lens for imaging and a second lens having an image of the position of the field limiting diaphragm as an object surface at all times.
【請求項2】 前記第1レンズの動作/非動作に応じ
て、前記対物絞り及び前記視野制限絞りの挿脱を自動的
に行う制御手段を備えることを特徴とする請求項1記載
の透過型電子顕微鏡。
2. The transmission type according to claim 1, further comprising control means for automatically inserting and removing the objective diaphragm and the field limiting diaphragm according to the operation / non-operation of the first lens. electronic microscope.
【請求項3】 前記第1レンズの動作/非動作の切り替
え時に電子線がスクリーンまたはフィルム上に照射され
ないようにするブランキング手段を備えることを特徴と
する請求項1または2記載の透過型電子顕微鏡。
3. The transmission electron according to claim 1, further comprising a blanking means for preventing an electron beam from irradiating the screen or the film when the first lens is operated / not operated. microscope.
JP29301691A 1991-11-08 1991-11-08 Transmission type electron microscope Pending JPH05135728A (en)

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