JPH05134396A - Photomask cleaner - Google Patents
Photomask cleanerInfo
- Publication number
- JPH05134396A JPH05134396A JP29600491A JP29600491A JPH05134396A JP H05134396 A JPH05134396 A JP H05134396A JP 29600491 A JP29600491 A JP 29600491A JP 29600491 A JP29600491 A JP 29600491A JP H05134396 A JPH05134396 A JP H05134396A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- holder
- sponge brush
- brush
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置等の製造過
程で利用されているフォトリソグラフィーに用いられる
フォトマスクの洗浄装置の構造に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the structure of a photomask cleaning device used in photolithography used in the manufacturing process of semiconductor devices and the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来の半導体装置の製造等に用いられて
いるフォトマスクの洗浄装置は、図７（ａ）及び図７
（ｂ）に示すようにフォトマスク１の洗浄を行なう場合
に４カ所または２カ所を保持しながら処理している。2. Description of the Related Art A conventional photomask cleaning apparatus used for manufacturing a semiconductor device is shown in FIGS.
As shown in (b), when cleaning the photomask 1, processing is performed while holding four or two locations.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、この場合にフ
ォトマスクを保持している部分が洗浄の妨げとなり、保
持部に隠れてしまうフォトマスクの部分が洗浄できない
という問題があった。またスクラブ洗浄する場合に保持
部とブラシが擦れて発塵し、フォトマスクを汚してしま
うこともあった。However, in this case, there is a problem in that the portion holding the photomask hinders cleaning and the portion of the photomask hidden by the holding portion cannot be cleaned. Further, when scrubbing, the holding part and the brush rub against each other to generate dust, which may stain the photomask.
【０００４】そこで本発明の目的は、フォトマスクのブ
ラシによる洗浄で保持部に隠れた部分もブラシによって
洗浄できるようにし、また保持部とブラシが接触しない
ようにスクラブ洗浄することにある。Therefore, an object of the present invention is to enable the portion of the photomask hidden in the holding portion to be washed by the brush, and to perform scrub cleaning so that the holding portion and the brush do not come into contact with each other.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め本発明のフォトマスクの洗浄装置は、フォトマスクの
保持方法を４カ所中２カ所を選択する２カ所選択型にし
洗浄を行なうことを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, the photomask cleaning apparatus of the present invention adopts a cleaning method of a photomask holding method by selecting a two-point selection method from two locations out of four locations. Characterize.
【０００６】[0006]
【実施例】図１、図２、図３、図４、図５、及び図６に
本発明の実施例を載せる。Embodiments Embodiments of the present invention are shown in FIGS. 1, 2, 3, 4, 5, and 6.
【０００７】図１の１はフォトマスク、２はフォトマス
ク保持具Ａ、３はフォトマスク保持具Ｂ−１、４はフォ
トマスク保持具Ｂ−２、５はスクラブ洗浄用スポンジブ
ラシ、６はブラシ回転用モーターである。まず、フォト
マスク１は２のフォトマスク保持具Ａによって保持され
図１の様な位置まで上方から移動する。フォトマスクは
ここで一旦移動を停止し、この位置に保持される。In FIG. 1, 1 is a photomask, 2 is a photomask holder A, 3 is a photomask holder B-1, 4 is a photomask holder B-2, 5 is a scrubbing sponge brush, and 6 is a brush. It is a rotation motor. First, the photomask 1 is held by the photomask holder A 2 and moved from above to the position shown in FIG. The photomask temporarily stops moving here and is held at this position.
【０００８】以上のような図１の状態を横方向から見た
図が図２に示してある。図１と同様に１はフォトマス
ク、２はフォトマスク保持具Ａ、３はフォトマスク保持
具Ｂ−１、４はフォトマスク保持具Ｂ−２、５及び７は
スクラブ洗浄用スポンジブラシ、６及び８はブラシ回転
用モーター、９はフォトマスク保持具Ｂ−２移動用ピス
トン及びシリンダーである。ここで４のフォトマスク保
持具Ｂ−２は、フォトマスク１を図２に示される状態ま
で移動する場合に妨げになるため、９のピストン及びシ
リンダーにより左方向に移動している。また５のスポン
ジブラシは６のモーターによって右回りに、７のスポン
ジブラシは８のモーターによって左回りに回転してい
る。図２の様な状態でフォトマスクを固定したまま、
５、６、７、及び８のスポンジブラシ及びモーターを回
転させながら上方に移動させて洗浄を行う。 図３は図
１のスポンジブラシを上方に移動したときの状態を示し
ている。図１と同様に１はフォトマスク、２はフォトマ
スク保持具Ａ、３はフォトマスク保持具Ｂ−１、４はフ
ォトマスク保持具Ｂ−２、５はスクラブ洗浄用スポンジ
ブラシ、６はブラシ回転用モーターである。５のスポン
ジブラシがこの位置まで移動したときに、それまで２の
フォトマスク保持具Ａのみで支えていた１のフォトマス
クを、３のフォトマスク保持具Ｂ−１及び４のフォトマ
スク保持具Ｂ−２によっても支える。FIG. 2 shows a lateral view of the state of FIG. 1 as described above. As in FIG. 1, 1 is a photomask, 2 is a photomask holder A, 3 is a photomask holder B-1, 4 is a photomask holder B-2, 5 and 7 are scrubbing sponge brushes, 6 and Reference numeral 8 is a brush rotating motor, and 9 is a piston and a cylinder for moving the photomask holder B-2. Here, since the photomask holder B-2 of 4 is an obstacle when the photomask 1 is moved to the state shown in FIG. 2, it is moved leftward by the piston and cylinder of 9. Further, the sponge brush 5 is rotated clockwise by the motor 6 and the sponge brush 7 is rotated counterclockwise by the motor 8. With the photomask fixed as shown in Fig. 2,
Cleaning is performed by moving the sponge brushes 5, 6, 7, and 8 and the motor upward while rotating them. FIG. 3 shows a state in which the sponge brush of FIG. 1 is moved upward. As in FIG. 1, 1 is a photomask, 2 is a photomask holder A, 3 is a photomask holder B-1, 4 is a photomask holder B-2, 5 is a scrub cleaning sponge brush, and 6 is a brush rotation. Motor for. When the sponge brush 5 moves to this position, the 1 photomask that was supported only by the 2 photomask holders A up to that time is replaced by the 3 photomask holders B-1 and 4 photomask holders B-1. Also supported by -2.
【０００９】図３の状態を横方向から見た図が図４に示
してある。図２の状態では左の方に移動していた４のフ
ォトマスク保持具Ｂ−２はフォトマスク上まで移動し、
さらに３及び４のフォトマスク保持具Ｂは、フォトマス
クを保持するためにそれぞれフォトマスク方向に移動し
ている。FIG. 4 shows a lateral view of the state of FIG. In the state of FIG. 2, the photomask holder B-2 of 4 which has moved to the left moves to the top of the photomask,
Further, the photomask holders 3 and 4 are moved in the photomask direction to hold the photomasks.
【００１０】図３及び図４の様に、１のフォトマスクが
３及び４のフォトマスク保持具Ｂに支えられた直後に、
２のフォトマスク保持具Ａは左右に開きフォトマスクか
ら離れる。この様にして、フォトマスクを持ち換えるこ
とによって２のフォトマスク保持具Ａで保持している部
分にもブラシでスクラブできるようになっている。As shown in FIGS. 3 and 4, immediately after the photomask 1 is supported by the photomask holders B 3 and 4,
The second photomask holder A opens left and right and separates from the photomask. In this way, by changing the photomask, the portion held by the second photomask holder A can be scrubbed with a brush.
【００１１】図５は図３のスポンジブラシをさらに上方
に移動した状態を示している。図１と同様に１はフォト
マスク、２はフォトマスク保持具Ａ、３はフォトマスク
保持具Ｂ−１、４はフォトマスク保持具Ｂ−２、５はス
クラブ洗浄用スポンジブラシ、６はブラシ回転用モータ
ーである。この状態までスポンジブラシを移動したとき
に、再びフォトマスク保持部Ａによって１のフォトマス
クを保持する。FIG. 5 shows a state in which the sponge brush of FIG. 3 is moved further upward. As in FIG. 1, 1 is a photomask, 2 is a photomask holder A, 3 is a photomask holder B-1, 4 is a photomask holder B-2, 5 is a scrub cleaning sponge brush, and 6 is a brush rotation. Motor for. When the sponge brush is moved to this state, the photomask holder A holds the photomask 1 again.
【００１２】ここで、フォトマスク保持部Ａによってフ
ォトマスクが支えられた直後に、フォトマスク保持具Ｂ
を上下に開きフォトマスクから離す。Here, immediately after the photomask is supported by the photomask holding part A, the photomask holding tool B is provided.
Open up and down and separate from the photomask.
【００１３】さらに、図６の様にスポンジブラシを上方
に移動し、１のフォトマスクは４のフォトマスク保持具
Ｂ−２で支えられた部分もスクラブ洗浄される。Further, as shown in FIG. 6, the sponge brush is moved upward, and the portion of the photomask 1 supported by the photomask holder B-2 of 4 is also scrub-cleaned.
【００１４】以上のように、フォトマスクはスクラブ洗
浄用のスポンジブラシで全ての面についてスクラブ洗浄
される。As described above, the photomask is scrub-cleaned on all surfaces with a sponge brush for scrub cleaning.
【００１５】さらに、図６の状態からスポンジブラシを
下方に移動し繰り返し洗浄する場合には、以上の手順を
逆にたどることによって可能である。また、スポンジブ
ラシを下方に移動する場合には、図２の説明で指定した
ブラシの回転方向を逆方向にすることにより、洗浄効果
が上がる。最終的には、図１の状態にスポンジブラシを
移動し、フォトマスク保持具Ａによってフォトマスクを
支えた時点でフォトマスクを次工程へ移動する。Further, when the sponge brush is moved downward from the state of FIG. 6 to repeatedly wash it, it is possible to reverse the above procedure. Further, when the sponge brush is moved downward, the cleaning effect is improved by reversing the rotation direction of the brush designated in the explanation of FIG. Finally, the sponge brush is moved to the state of FIG. 1, and when the photomask is held by the photomask holder A, the photomask is moved to the next step.
【００１６】[0016]
【発明の効果】このように、本発明のフォトマスクの洗
浄装置を使用すると、スポンジブラシによってフォトマ
スク全体をむらなくスクラブすることが可能になり、フ
ォトマスクの汚染が極めて少なくなるという効果があ
る。As described above, when the photomask cleaning apparatus of the present invention is used, it is possible to scrub the entire photomask evenly with the sponge brush, and there is an effect that contamination of the photomask is extremely reduced. ..
【００１７】また、保持部とスポンジブラシが接触する
ことが全くないため、スポンジブラシが摩耗せず、スポ
ンジブラシによる発塵がなくなるばかりでなく、スポン
ジブラシの寿命が著しく長くなるという効果がある。Further, since the holding portion and the sponge brush never come into contact with each other, the sponge brush is not worn, dust is not generated by the sponge brush, and the life of the sponge brush is remarkably extended.
【図１】本発明の洗浄装置の正面図。FIG. 1 is a front view of a cleaning device of the present invention.
【図２】本発明の洗浄装置の側面図。FIG. 2 is a side view of the cleaning device of the present invention.
【図３】本発明の洗浄装置の正面図。FIG. 3 is a front view of the cleaning device of the present invention.
【図４】本発明の洗浄装置の側面図。FIG. 4 is a side view of the cleaning device of the present invention.
【図５】本発明の洗浄装置の正面図。FIG. 5 is a front view of the cleaning device of the present invention.
【図６】本発明の洗浄装置の正面図。FIG. 6 is a front view of the cleaning device of the present invention.
【図７】従来の洗浄装置の正面図。FIG. 7 is a front view of a conventional cleaning device.
１‥‥フォトマスク ２‥‥フォトマスク保持具Ａ ３‥‥フォトマスク保持具Ｂ−１ ４‥‥フォトマスク保持具Ｂ−２ ５‥‥スクラブ洗浄用スポンジブラシ ６‥‥ブラシ回転用モーター ７‥‥スクラブ洗浄用スポンジブラシ ８‥‥ブラシ回転用モーター ９‥‥フォトマスク保持具Ｂ−２移動用ピストン及びシ
リンダー1 Photomask 2 Photomask holder A 3 Photomask holder B-1 4 Photomask holder B-2 5 Scrub cleaning sponge brush 6 Brush rotation motor 7 Sponge brush for scrubbing 8 Motor for brush rotation 9 Photomask holder B-2 Piston and cylinder for moving
Claims (1)
クの洗浄装置に於てフォトマスクの保持方法を４カ所中
２カ所を選択する２カ所選択型にし洗浄を行なうことを
特徴とするフォトマスクの洗浄装置。1. A photomask for cleaning a photomask used for manufacturing a semiconductor or the like, wherein the method of holding the photomask is a two-point selection type in which two of four locations are selected for cleaning. Cleaning equipment.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29600491A JPH05134396A (en) | 1991-11-12 | 1991-11-12 | Photomask cleaner |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29600491A JPH05134396A (en) | 1991-11-12 | 1991-11-12 | Photomask cleaner |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05134396A true JPH05134396A (en) | 1993-05-28 |
Family
ID=17827888
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29600491A Pending JPH05134396A (en) | 1991-11-12 | 1991-11-12 | Photomask cleaner |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05134396A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014042873A (en) * | 2012-08-27 | 2014-03-13 | Hoya Corp | Substrate manufacturing method, and substrate cleaning device |
-
1991
- 1991-11-12 JP JP29600491A patent/JPH05134396A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014042873A (en) * | 2012-08-27 | 2014-03-13 | Hoya Corp | Substrate manufacturing method, and substrate cleaning device |
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