JPH0512868A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH0512868A
JPH0512868A JP3190925A JP19092591A JPH0512868A JP H0512868 A JPH0512868 A JP H0512868A JP 3190925 A JP3190925 A JP 3190925A JP 19092591 A JP19092591 A JP 19092591A JP H0512868 A JPH0512868 A JP H0512868A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sense amplifier
memory cell
output
output signal
signal
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP3190925A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiromi Saito
博身 斎藤
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Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0512868A publication Critical patent/JPH0512868A/en
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Abstract

PURPOSE:To attain a testing mode and to improve the reliability of a semiconductor storage by reducing the amplitude of the output signal of a sense amplifier and equivalently reducing the stored charge amount of a memory cell. CONSTITUTION:A word driver 123 drives selectively the level of a word line based on the decoding output of an X address latch/X decoder 122 provided at the precedent stage. At the same time, a Y selection switch circuit 127 is driven based on the decoding output of a Y address/Y decoder 126. Thus the data can be read out and written into a specified memory cell. A sense amplifier part 129 is connected to a memory cell array 124, and the memory cell information is amplified by the part 129. A control part 125 includes a logic circuit which controls an element to reduce the amplitude of the output signal of a sense amplifier and reduces equivalently the stored charge amount of the memory cell. As a result, a testing mode is attained and the memory cell capacity is easily screened. Then the reliability of a semiconductor storage is improved.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置、さら
にはそれに含まれるセンスアンプの駆動制御技術に関
し、例えばダイナミックRAM(ランダム・アクセス・
メモリ)に適用捨て有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a drive control technique of a sense amplifier included therein, which is, for example, a dynamic RAM (random access memory).
Memory) applied to effective technology.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、アイ・エス・エス・シー・シー
90,セッション15:イノベーティブサーキットデザ
インエフピーエム15.1:レベルシフテドアンドボル
テージレデュースト0.5ミクロンバイシーモスサーキ
ット第36頁から第237頁(ISSCC90,SES
SION15:Innovative Circuit
Design FPM15.1Level−Shift
ed and Voltage−Reduced Bi
CMOS Circuits P236−237)にお
いて論じられているように、電源レベルあるいは出力振
幅レベルをタイミング的に分けて使用するようにした技
術が知られている。
2. Description of the Related Art For example, IS SCS 90, Session 15: Innovative Circuit Design FPM 15.1: Level Shifted and Voltage Reduce 0.5 Micron by Seamos Circuit, pages 36 to 237. Page (ISSCC90, SES
SION15: Innovative Circuit
Design FPM15.1 Level-Shift
ed and Voltage-Reduced Bi
As discussed in CMOS Circuits P236-237), there is known a technique in which a power supply level or an output amplitude level is used separately in timing.

【0003】また、アイ・エス・エス・シー・シー8
9,セッション16:ダイナミックラムズ エフエーエ
ム16.5 ア55ナノセカンド16メガビットデーラ
ム第246頁から第247頁(ISSCC89,SES
SION16:DynamicRAMs FAM16.
5 A55ns 16MbDRAM P246−24
7)において論じられているように、メモリセルから微
小信号Vsigが出力されたところで、メモリセルとセ
ンスアンプとを切り放し、ロウアドレスストローブ信号
のリセット前にメモリセルとセンスアンプとを導通させ
ることによりセンスアンプ出力をリストアするようにし
た技術が知られている。
In addition, ISC S8
9, Session 16: Dynamic Rams FM 16.5 A55 Nanosecond 16 Megabit Deramu 246 to 247 (ISSCC89, SES
SION16: DynamicRAMs FAM16.
5 A55ns 16Mb DRAM P246-24
As discussed in 7), when the minute signal Vsig is output from the memory cell, the memory cell and the sense amplifier are disconnected, and the memory cell and the sense amplifier are brought into conduction before the row address strobe signal is reset. A technique for restoring the sense amplifier output is known.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】半導体記憶装置のテス
ティングの容易化、高速センス化の要請に基づき、上記
の電源レベルあるいは出力振幅レベルをタイミング的に
分けて使用するようにした技術の応用について本発明者
が検討したところ、電源レベルあるいは出力振幅レベル
を単にタイミング的に分けて使用するのみでは、そのよ
うな技術を半導体記憶装置のテスティング、高速センス
化に用いることは不可能とされるのが見いだされた。ま
た、上記のように、メモリセルから微小信号Vsigが
出力されたところで、メモリセルとセンスアンプとを切
り放し、ロウアドレスストローブ信号のリセット前にメ
モリセルとセンスアンプとを導通させることによりセン
スアンプ出力をリストアする技術においては、ビット線
微小信号(Vsig)のセンスが開始される前にそれを
ラッチするようにしており、そのようなラッチ動作にお
いて発生するノイズによって、Vsig破壊を生じる点
について配慮されておらず、安定動作に問題のあること
が、本発明者によって見いだされた。
On the basis of demands for facilitating testing and high-speed sensing of a semiconductor memory device, application of a technique for using the above-mentioned power supply level or output amplitude level separately in timing. As a result of a study made by the present inventor, it is impossible to use such a technique for testing and high-speed sensing of a semiconductor memory device by simply using the power supply level or the output amplitude level separately in timing. Was found. In addition, as described above, when the minute signal Vsig is output from the memory cell, the memory cell and the sense amplifier are disconnected, and the memory cell and the sense amplifier are electrically connected to each other before the row address strobe signal is reset. In the technique for restoring the bit line, the bit line minute signal (Vsig) is latched before the sensing is started, and it is taken into consideration that Vsig destruction is caused by noise generated in such a latch operation. However, it was found by the present inventor that there is a problem in stable operation.

【0005】本発明の目的は、メモリセルの蓄積電荷量
を等価的に小さくすることにより、メモリセル容量のス
クリーニングや、ソフトエラー率マージン、ビット線間
ノイズマージンのテスティングを容易に行い得る技術を
提供することにある。
It is an object of the present invention to make it possible to easily screen the memory cell capacity and easily test the soft error rate margin and the bit line noise margin by making the accumulated charge amount of the memory cell equivalently small. To provide.

【0006】本発明の別の目的は、センス動作の安定化
を図ることにある。
Another object of the present invention is to stabilize the sense operation.

【0007】本発明の別の目的は、電源ノイズを低減す
ることによって動作の安定化を図ることにある。
Another object of the present invention is to stabilize the operation by reducing power source noise.

【0008】本発明の別の目的は、ラッチドセンス方式
におけるラッチ動作時のノイズに起因するVsigデー
タ破壊を防止し得る技術を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a technique capable of preventing Vsig data destruction due to noise during latch operation in the latched sense system.

【0009】本発明の別の目的は、メモリセルアレイの
消費電力を低減することにある。
Another object of the present invention is to reduce the power consumption of the memory cell array.

【0010】本発明の別の目的は、半導体記憶装置の信
頼性の向上を図ることにある。
Another object of the present invention is to improve the reliability of a semiconductor memory device.

【0011】本発明の前記並びにその他の目的と新規な
特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The outline of the representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0013】すなわち、第1手段として、メモリセルか
らの読出し信号を増幅するセンスアンプと、このセンス
アンプを駆動制御するための制御手段とを含んで半導体
記憶装置が形成されるとき、上記センスアンプの出力信
号振幅を調節可能とする素子と、この素子を制御して上
記センスアンプの出力信号振幅を狭め上記メモリセルの
蓄積電荷量を等価的に減少させることによってテスティ
ングモードを実現する制御論理とを設けるものである。
That is, as a first means, when a semiconductor memory device is formed including a sense amplifier for amplifying a read signal from a memory cell and a control means for driving and controlling the sense amplifier, the sense amplifier is used. And a control logic for realizing the testing mode by controlling the element to narrow the output signal amplitude of the sense amplifier and equivalently reduce the accumulated charge amount of the memory cell. And are provided.

【0014】第2手段として、メモリセルからの読出し
信号を増幅するセンスアンプと、このセンスアンプを駆
動制御するための制御手段とを含んで半導体記憶装置が
形成されるとき、上記センスアンプの出力信号振幅を調
節可能とする素子と、この素子を制御して、上記センス
アンプのセンス開始時の出力信号振幅をその後の出力信
号振幅よりも狭める動作モードを実現する制御論理とを
含んで上記制御手段を形成するものである。
As a second means, when a semiconductor memory device is formed including a sense amplifier for amplifying a read signal from a memory cell and a control means for driving and controlling the sense amplifier, the output of the sense amplifier is formed. The above control including an element capable of adjusting a signal amplitude and a control logic for controlling the element to realize an operation mode in which the output signal amplitude at the start of sensing of the sense amplifier is narrower than the subsequent output signal amplitude It forms a means.

【0015】第3手段として、メモリセルからの読出し
信号を増幅するセンスアンプと、このセンスアンプを駆
動制御するための制御手段と、上記センスアンプの増幅
出力をコモンI/O線に伝達するためのカラム選択スイ
ッチと含んで半導体記憶装置が形成されるとき、上記セ
ンスアンプの出力信号振幅を調節可能とする素子と、こ
の素子を制御することにより、上記センスアンプのセン
ス開始時の出力信号振幅を狭め、且つ、上記カラム選択
スイッチがオンされた後に当該出力信号振幅を広げる動
作モードを実現する制御論理とを含んで上記制御手段を
形成するものである。
As a third means, a sense amplifier for amplifying a read signal from a memory cell, a control means for driving and controlling the sense amplifier, and an amplified output of the sense amplifier are transmitted to a common I / O line. When a semiconductor memory device is formed including the column selection switch of the above item, an element for adjusting the output signal amplitude of the sense amplifier and an output signal amplitude at the start of sensing of the sense amplifier by controlling this element. And a control logic that realizes an operation mode for narrowing the output signal amplitude and narrowing the output signal amplitude after the column selection switch is turned on.

【0016】第4手段として、メモリセルからの読出し
信号を増幅するセンスアンプと、上記メモリセルとセン
スアンプとを切り放すためのスイッチと、このセンスア
ンプを駆動制御するための制御手段と、上記センスアン
プの増幅出力をコモンI/O線に伝達するためのカラム
選択スイッチとを含んで半導体記憶装置が形成されると
き、上記センスアンプの出力信号振幅を調節可能とする
素子と、メモリセルから読出された微小信号が上記セン
スアンプによって増幅され始めた直後に上記スイッチを
オフすることによって上記メモリセルとセンスアンプと
を切り放すとともに、上記素子を制御して上記センスア
ンプの出力振幅を広げ、その出力が上記コモンI/O線
に伝達された後に、上記スイッチをオンすることによっ
て上記センスアンプ出力を上記メモリセルにリストアす
る動作モードを実現する制御論理とを含んで上記制御手
段を形成するものである。
As a fourth means, a sense amplifier for amplifying a read signal from the memory cell, a switch for disconnecting the memory cell and the sense amplifier, a control means for driving and controlling the sense amplifier, and the above-mentioned. When a semiconductor memory device is formed including a column selection switch for transmitting an amplified output of a sense amplifier to a common I / O line, an element for adjusting the output signal amplitude of the sense amplifier and a memory cell Immediately after the read minute signal starts to be amplified by the sense amplifier, the switch is turned off to separate the memory cell and the sense amplifier, and the element is controlled to widen the output amplitude of the sense amplifier. After the output is transmitted to the common I / O line, the sense amplifier is turned on by turning on the switch. An output and a control logic for implementing the mode of operation to restore to the memory cell is intended to form the control means.

【0017】第5手段として、メモリセルからの読出し
信号を増幅するセンスアンプと、このセンスアンプを駆
動制御するための制御手段と、上記センスアンプの出力
信号振幅を内部電源電圧よりも狭めるための素子と、上
記メモリセルへのデータ書込み時にビット線上の書込み
データの信号振幅を制限するためのレベル変換手段とを
含んで半導体記憶装置を形成するものである。
As a fifth means, a sense amplifier for amplifying a read signal from a memory cell, a control means for driving and controlling the sense amplifier, and an output signal amplitude of the sense amplifier to be narrower than an internal power supply voltage. A semiconductor memory device is formed including an element and level conversion means for limiting the signal amplitude of write data on a bit line when writing data to the memory cell.

【0018】[0018]

【作用】上記した第1手段によれば、上記制御論理は、
上記素子を制御して上記センスアンプの出力信号振幅を
狭め上記メモリセルの蓄積電荷量を等価的に減少させる
ことによってテスティングモードを実現し、このこと
が、メモリセル容量のスクリーニングや、ソフトエラー
率マージン、ビット線間ノイズマージンのテスティング
を可能とする。
According to the above-mentioned first means, the control logic is
A testing mode is realized by controlling the elements to narrow the output signal amplitude of the sense amplifier and equivalently reducing the amount of charge accumulated in the memory cell, which results in screening of the memory cell capacity and soft error. Enables testing of rate margin and noise margin between bit lines.

【0019】上記した第2手段によれば、上記制御論理
は、上記素子を制御して、上記センスアンプのセンス開
始時の出力信号振幅をその後の出力信号振幅よりも狭め
る動作モードを実現し、このことが、センス動作の安定
化を達成する。
According to the above-mentioned second means, the control logic controls the element to realize an operation mode in which the output signal amplitude at the start of sensing of the sense amplifier is narrower than the output signal amplitude thereafter. This achieves a stable sense operation.

【0020】上記した第3手段によれば、上記制御論理
は、上記素子を制御することにより、上記センスアンプ
のセンス開始時の出力信号振幅を狭め、且つ、上記カラ
ム選択スイッチがオンされた後に当該出力信号振幅を広
げる動作モードを実現し、このことが、電源ノイズを低
減することによって動作の安定化を達成する。
According to the above-mentioned third means, the control logic controls the element to narrow the output signal amplitude at the start of sensing of the sense amplifier, and after the column selection switch is turned on. A mode of operation that widens the amplitude of the output signal is realized, which achieves stabilization of operation by reducing power supply noise.

【0021】上記した第4手段によれば、上記制御論理
は、上記メモリセルから読出された微小信号が上記セン
スアンプによって増幅され始めた直後に上記スイッチを
オフすることによって上記メモリセルとセンスアンプと
を切り放すとともに、上記素子を制御して上記センスア
ンプの出力振幅を広げ、その出力が上記コモンI/O線
に伝達された後に、上記スイッチをオンすることによっ
て上記センスアンプ出力を上記メモリセルにリストアす
る動作モードを実現し、このことが、ラッチドセンス方
式におけるラッチ動作時のノイズに起因するVsigデ
ータ破壊を防止する。
According to the above-mentioned fourth means, the control logic controls the memory cell and the sense amplifier by turning off the switch immediately after the minute signal read from the memory cell starts to be amplified by the sense amplifier. And the output amplitude of the sense amplifier is expanded by controlling the elements, and after the output is transmitted to the common I / O line, the switch is turned on to output the sense amplifier output to the memory. The operation mode of restoring to the cell is realized, which prevents Vsig data destruction due to noise during the latch operation in the latched sense system.

【0022】上記した第5手段によれば、上記素子は、
上記センスアンプの出力信号振幅を内部電源電圧よりも
狭め、また、上記レベル変換手段は、上記メモリセルへ
のデータ書込み時にビット線上の書込みデータの信号振
幅を制限し、このことが、メモリセルアレイの消費電力
を低減するように作用する。
According to the above-mentioned fifth means, the element is
The output signal amplitude of the sense amplifier is made narrower than the internal power supply voltage, and the level conversion means limits the signal amplitude of the write data on the bit line when writing data to the memory cell. Acts to reduce power consumption.

【0023】[0023]

【実施例】図9には本発明の一実施例であるダイナミッ
クRAMが示される。同図に示されるダイナミックRA
Mは、特に制限されないが、公知の半導体集積回路製造
技術によってシリコン基板のような一つの半導体基板に
形成されている。
FIG. 9 shows a dynamic RAM according to an embodiment of the present invention. Dynamic RA shown in FIG.
Although not particularly limited, M is formed on one semiconductor substrate such as a silicon substrate by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique.

【0024】図9において124は複数個のダイナミッ
ク型メモリセルをマトリクス配置して成るメモリセルア
レイであり、このメモリセルの選択端子はロウ方向毎に
ワード線に結合され、メモリセルのデータ入力端子はカ
ラム方向毎に相補ビット線に結合される。そしてそれぞ
れの相補ビット線は、相補ビット線に1対1で結合され
た複数個のカラム選択スイッチを含むY選択スイッチ回
路127を介して相補コモンビット線に共通接続され
る。
In FIG. 9, reference numeral 124 denotes a memory cell array in which a plurality of dynamic memory cells are arranged in a matrix. Select terminals of the memory cells are connected to word lines in each row direction and data input terminals of the memory cells are connected to each other. It is coupled to complementary bit lines in each column direction. Each complementary bit line is commonly connected to the complementary common bit line through a Y selection switch circuit 127 including a plurality of column selection switches coupled to the complementary bit line on a one-to-one basis.

【0025】本実施例ダイナミックRAMでは、特に制
限されないが、アドレスマルチプレクス方式が採用さ
れ、ロウ及びカラムアドレス入力信号を、それらのタイ
ミングをずらすことにより共通のアドレス端子から取込
むようにしている。すなわちXアドレスラッチ及びXデ
コーダ122と、Yアドレスラッチ及びYデコーダ12
6の前段にはアドレスマルチプレクサ121が配置さ
れ、アドレスバッファ120を介して取込まれるアドレ
ス信号が、アドレスマルチプレクサ121によりXアド
レスラッチ及びXデコーダ122と、Yアドレスラッチ
及びYデコーダ126とに振分けられる。このようなア
ドレス入力を円滑に行うためロウアドレスストローブ信
号RAS*(*はローアクティブを示す)及びカラムア
ドレスストローブ信号CAS*の2種類のクロック信号
を外部から与えるようにしている。一つのメモリサイク
ル(RAS*クロックの1周期)中に読出しあるいは書
込みの一方の動作のみを可能とするため、RAS*クロ
ックの立下り時点でロウアドレスを、CAS*クロック
の立下り時点でカラムアドレスを内部回路に取込むよう
にし、ライトイネーブル信号WE*の状態によって当該
サイクルが、書込みサイクルか読出しサイクルかの判断
を可能としている。このような判断並びに各部の動作制
御は制御部125によって行われる。
Although not particularly limited, the dynamic RAM of the present embodiment adopts the address multiplex method, and the row and column address input signals are fetched from a common address terminal by shifting their timings. That is, the X address latch and X decoder 122 and the Y address latch and Y decoder 12
An address multiplexer 121 is arranged in the preceding stage of 6, and an address signal taken in via the address buffer 120 is distributed by the address multiplexer 121 to an X address latch and X decoder 122 and a Y address latch and Y decoder 126. In order to smoothly perform such address input, two types of clock signals, a row address strobe signal RAS * (* indicates low active) and a column address strobe signal CAS *, are externally supplied. Since only one read or write operation is possible during one memory cycle (one cycle of the RAS * clock), the row address is at the falling edge of the RAS * clock and the column address is at the falling edge of the CAS * clock. Are taken into the internal circuit, and it is possible to judge whether the cycle is a write cycle or a read cycle depending on the state of the write enable signal WE *. The control unit 125 performs such determination and operation control of each unit.

【0026】ワードドライバ123は、それの前段に配
置されたXアドレスラッチ及びXデコーダ122のデコ
ード出力に基づいてワード線を選択レベルに駆動する。
そしてYアドレスラッチ及びYデコーダ126のデコー
ド出力に基づいてY選択スイッチ回路127が駆動さ
れ、これにより特定されるメモリセルからのデータ読出
し若しくはデータ書込みが可能とされる。また、上記メ
モリセルアレイ124にはセンスアンプ部129が結合
され、メモリセル情報がこのセンスアンプ部129で増
幅されるようになっている。この場合、データ入出力回
路128にはメインアンプや入力バッファなどが含ま
れ、外部との間でデータのやりとりが可能とされる。
The word driver 123 drives the word line to the selection level based on the X address latch and the decode output of the X decoder 122 arranged in the preceding stage.
Then, the Y selection switch circuit 127 is driven based on the Y address latch and the decoded output of the Y decoder 126, thereby enabling data read or data write from the specified memory cell. A sense amplifier unit 129 is coupled to the memory cell array 124, and the memory cell information is amplified by the sense amplifier unit 129. In this case, the data input / output circuit 128 includes a main amplifier, an input buffer, etc., so that data can be exchanged with the outside.

【0027】図1には上記ダイナミックRAMの主要部
の詳細な構成が示される。
FIG. 1 shows the detailed structure of the main part of the dynamic RAM.

【0028】上記メモリセルアレイ124は、二つのメ
モリセル容量CSが直列接続され、それにNチャンネル
型MOSFET51,52が結合されて成るダイナミッ
ク型のメモリセルが複数配置される。上記二つのメモリ
セル容量CSの直列接続箇所には、プレートレベルVP
L(内部電源VDLのほぼ1/2の電位)が印加され
る。また、上記MOSFET51,52のゲートはワー
ド線8,9に結合され、ソースはビット線対(相補ビッ
ト線)に結合される。このビット線対は、ハイ側ビット
線18と、ロー側ビット線19とを含む。
In the memory cell array 124, a plurality of dynamic memory cells each having two memory cell capacitors CS connected in series and having N-channel MOSFETs 51 and 52 coupled thereto are arranged. A plate level VP is connected to the serial connection point of the two memory cell capacitors CS.
L (potential of about 1/2 of internal power supply VDL) is applied. The gates of the MOSFETs 51 and 52 are coupled to the word lines 8 and 9, and the sources are coupled to the bit line pair (complementary bit line). This bit line pair includes a high side bit line 18 and a low side bit line 19.

【0029】上記センスアンプ部129は、上記ビット
線18,19に結合されたセンスアンプSAと、上記ビ
ット線18,19のプリチャージ・イコライズ回路PE
とを含む。センスアンプSAは、Pチャンネル型MOS
FETとNチャンネル型MOSFETとが直列接続され
て成る2組のインバータINV1,INV2が結合され
ることによって形成される。また、上記プリチャージ・
イコライズ回路PEは、ビット線プリチャージレベルH
VDL(内部電源VDLのほぼ1/2の電位)をビット
線18,19に印加するためのNチャンネル型MOSF
ET54,55と、ビット線18,19を短絡するため
のNチャンネル型MOSFET53とを含む。このMO
SFET53,54,55はビット線プリチャージ信号
PCによって駆動される。
The sense amplifier section 129 includes a sense amplifier SA connected to the bit lines 18 and 19 and a precharge / equalize circuit PE for the bit lines 18 and 19.
Including and The sense amplifier SA is a P-channel type MOS
It is formed by coupling two sets of inverters INV1 and INV2, each of which is composed of an FET and an N-channel MOSFET connected in series. Also, the above precharge
The equalize circuit PE has a bit line precharge level H.
N-channel MOSF for applying VDL (potential of about 1/2 of internal power supply VDL) to the bit lines 18 and 19.
It includes ETs 54 and 55 and N-channel MOSFET 53 for short-circuiting bit lines 18 and 19. This MO
The SFETs 53, 54 and 55 are driven by the bit line precharge signal PC.

【0030】Y選択スイッチ回路127は、カラム選択
スイッチ信号20,21によって選択的に駆動されるM
OSFET56を含み、このMOSFET56の選択動
作によりビット線18,19が選択的にコモンI/O線
22乃至25に結合可能とされる。
The Y selection switch circuit 127 is selectively driven by the column selection switch signals 20 and 21.
By including the OSFET 56, the selection operation of the MOSFET 56 enables the bit lines 18 and 19 to be selectively coupled to the common I / O lines 22 to 25.

【0031】さらに、制御部125は、センスアンプ起
動信号SAS,リフレッシュ信号REF,ハーフリスト
アテスト信号QCTESTに基づいて上記センスアンプ
SAの動作を制御するための論理回路200を含み、こ
の論理回路200は、以下のように形成される。
Further, the control section 125 includes a logic circuit 200 for controlling the operation of the sense amplifier SA based on the sense amplifier start signal SAS, the refresh signal REF and the half restore test signal QCTEST. , Is formed as follows.

【0032】インバータ66が配置され、このインバー
タ66によってセンスアンプ起動信号SASが反転され
てPチャンネル型MOSFET11に伝達される。この
MOSFET11は上記センスアンプSAのNチャンネ
ルコモンソース16と、外部低電位側電源源VSSとに
結合される。また、上記インバータ66の出力信号はイ
ンバータ64によって反転されてからNチャンネル型M
OSFET12に伝達される。このMOSFET12は
上記センスアンプSAのPチャンネルコモンソース17
と、内部電源VDLに結合される。さらに、リフレッシ
ュ信号REFとハーフリストアテスト信号QCTEST
とのナンド論理が2入力ナンドゲート61によって得ら
れるようになっており、このナンドゲート61の出力
は、後段のインバータ62により反転されて2入力ノア
ゲートの一方の入力端子に伝達される。このノアゲート
63では、インバータ62,66の出力のナンド論理が
得られ、このナンド論理出力は、後段に配置された遅延
回路13により所定時間遅延されてからNチャンネル型
MOSFET14、さらに後段のインバータ65を介し
てPチャンネル型MOSFET15に伝達される。上記
MOSFET14は、上記センスアンプSAのNチャン
ネルコモンソース16と外部低電位側電源VSSとに結
合される。また、上記MOSFET15は、上記センス
アンプSASのPチャンネルコモンソース17と内部電
源VDLとに結合される。
Inverter 66 is arranged, and sense amplifier starting signal SAS is inverted by this inverter 66 and transmitted to P-channel MOSFET 11. The MOSFET 11 is coupled to the N-channel common source 16 of the sense amplifier SA and the external low potential side power source VSS. In addition, the output signal of the inverter 66 is inverted by the inverter 64 and then the N-channel type M
It is transmitted to the OSFET 12. The MOSFET 12 is a P channel common source 17 of the sense amplifier SA.
Is coupled to the internal power supply VDL. Furthermore, the refresh signal REF and the half restore test signal QCTEST
The NAND logic of and is obtained by the 2-input NAND gate 61, and the output of the NAND gate 61 is inverted by the inverter 62 at the subsequent stage and transmitted to one input terminal of the 2-input NOR gate. In the NOR gate 63, NAND logic of the outputs of the inverters 62 and 66 is obtained, and the NAND logic output is delayed by the delay circuit 13 arranged in the subsequent stage for a predetermined time, and then the N-channel MOSFET 14 and the inverter 65 in the subsequent stage are output. It is transmitted to the P-channel type MOSFET 15 via. The MOSFET 14 is coupled to the N-channel common source 16 of the sense amplifier SA and the external low potential side power supply VSS. Further, the MOSFET 15 is coupled to the P-channel common source 17 of the sense amplifier SAS and the internal power supply VDL.

【0033】上記の構成において特に制限されないが、
外部高電位側電源VCCが5Vとされるとき、内部電源
VDLは約3.3Vとされ、メモリセルプレートレベル
VPL及びビット線プリチャージレベルHVDLは内部
電源VDLの約1/2の値すなわち1.65V程度とさ
れる。今、ビット線プリチャージ信号PCがアサートさ
れることによってビット線18,19がビット線プリチ
ャージレベルHVDLとされた後、メモリセルアレイ1
24のワード線9が選択レベルに駆動された場合を考え
る。そのとき、メモリセルに書込まれていた情報がハイ
レベルの場合、ビット線18には、チャージシェアによ
るハイレベル微小信号が現われ、それとは逆にメモリセ
ル情報がローレベルの場合、ローレベル微小信号が読み
出される。そのような微小信号Vsigは、センスアン
プSAにより増幅される。ビット線18,19の信号
は、カラム選択スイッチ信号20がアサートされること
によってコモンI/O線24,25に伝えられる。同様
に他のカラム選択スイッチ信号20がアサートされるこ
とにより、それに対応するビット線の信号がコモンI/
O線24,25に伝達可能とされる。
Although not particularly limited in the above structure,
When the external high-potential-side power supply VCC is set to 5V, the internal power supply VDL is set to about 3.3V, and the memory cell plate level VPL and the bit line precharge level HVDL are about 1/2 the value of the internal power supply VDL, that is, 1.V. It is set to about 65V. Now, after the bit line precharge signal PC is asserted to set the bit lines 18 and 19 to the bit line precharge level HVDL, the memory cell array 1
Consider the case where 24 word lines 9 are driven to the selected level. At that time, if the information written in the memory cell is at a high level, a high level minute signal due to charge sharing appears on the bit line 18, and conversely, if the memory cell information is at a low level, a low level minute signal is generated. The signal is read. Such a minute signal Vsig is amplified by the sense amplifier SA. The signals on the bit lines 18 and 19 are transmitted to the common I / O lines 24 and 25 when the column selection switch signal 20 is asserted. Similarly, when the other column selection switch signal 20 is asserted, the signal on the bit line corresponding to the asserted common I / O signal.
It can be transmitted to the O lines 24 and 25.

【0034】本実施例の主要動作として、ハーフリスト
ア動作,フルリストア動作,2段センス動作が挙げら
れ、以下それについて詳述する。
The main operations of this embodiment include a half restore operation, a full restore operation, and a two-stage sense operation, which will be described in detail below.

【0035】図2にはハーフリストア動作における主要
部の論理状態が示される。
FIG. 2 shows a logical state of a main part in the half restore operation.

【0036】図2に示されるように、ハーフリストアテ
スト信号QCTESTがハイレベルにアサートされた状
態で、リフレッシュ信号REFがハイレベルにアサート
されることにより、リフレッシュ時のハーフリストアテ
ストが可能とされる。すなわち、センスアンプ起動信号
SASがハイレベルにアサートされることにより、MO
SFET11,12がオンされ、それぞれのしきい値電
圧により、メモリセルから読出された微小信号Vsig
は、VDL−VTN1及びVSS+VTP1のレベルま
で増幅される。ここで、VTP1,VTN1はそれぞれ
MOSFET11,12のしきい値とされる。そのよう
な振幅は、|VDL−VSS|がMOSFETのしきい
値の4倍にほぼ等しいと考えた場合、通常のビット線間
振幅VDLの約1/2の振幅とされる。このVDL−V
TN1,VSS+VTP1レベルがそれぞれビット線1
8,19を介してメモリセルにリストアされる。蓄積電
荷量QCは、通常VDL振幅時におけるフルリストア時
の約1/2になる。この動作により、等価的にメモリセ
ル容量CSを小さくした場合の蓄積電荷量が得られる。
即ち、フルリストア時の蓄積電荷量QC(H)は、 QC(H)=1/2(CS×VDL) とされ、ハーフリストア時の蓄積電荷量Q´C(H)
は、 Q´C(H)=CS×(VDL/2−VTN1) とされ、 QC(H)−Q´C(H)=CS×VTN1 |VTN1|≒≒VDL/4 とすれば、ハーフリストア時の等価的メモリセル容量C
SHは、 CSH≒CS(|VTP1|≒VDL/4)/2 とされる。
As shown in FIG. 2, the refresh signal REF is asserted to the high level while the half restore test signal QCTEST is asserted to the high level, thereby enabling the half restore test at the time of refresh. . That is, when the sense amplifier activation signal SAS is asserted to the high level, the MO
The SFETs 11 and 12 are turned on, and the minute signals Vsig read from the memory cells are caused by the respective threshold voltages.
Are amplified to the levels of VDL-VTN1 and VSS + VTP1. Here, VTP1 and VTN1 are threshold values of the MOSFETs 11 and 12, respectively. Such an amplitude is about 1/2 of the normal inter-bit-line amplitude VDL when it is considered that | VDL-VSS | is almost equal to four times the threshold value of the MOSFET. This VDL-V
TN1, VSS + VTP1 level is bit line 1 respectively
The data is restored to the memory cell via 8 and 19. The accumulated charge amount QC is about ½ of that at the time of full restoration when the amplitude of the normal VDL is normal. By this operation, the amount of accumulated charge when the memory cell capacitance CS is equivalently reduced can be obtained.
That is, the accumulated charge amount QC (H) at the time of full restore is QC (H) = 1/2 (CS × VDL), and the accumulated charge amount Q′C (H) at the time of half restore.
Is Q′C (H) = CS × (VDL / 2−VTN1), and QC (H) −Q′C (H) = CS × VTN1 | VTN1 | ≈≈VDL / 4 Equivalent memory cell capacity C
SH is set as CSH≈CS (| VTP1 | ≈VDL / 4) / 2.

【0037】従って、上記ハーフリストア動作によれ
ば、等価的にメモリセル容量CSを小さくした場合の蓄
積電荷量が得られるので、メモリセル容量CSに故障等
による異常があり、その容量値が所定値よりも小さい場
合には、それをスクリーニングすることができる。ま
た、メモリセルから読出された微小信号Vsigは、V
DL−VTN1及びVSS+VTP1のレベルまで増幅
され、そのような振幅は通常のVDL振幅に比べて小さ
くなるので、ソフトエラーが生じ易い。またビット線間
ノイズ耐性が低下する。そのようなことから、上記スク
リーニング時にソフトエラー率テストや、ビット線間ノ
イズマージンなどのテストを同時に行うことができる。
Therefore, according to the half-restoring operation, the accumulated charge amount when the memory cell capacitance CS is equivalently reduced can be obtained, so that there is an abnormality in the memory cell capacitance CS due to a failure or the like, and the capacitance value is predetermined. If it is less than the value, it can be screened. The minute signal Vsig read from the memory cell is V
It is amplified to the level of DL-VTN1 and VSS + VTP1, and since such an amplitude becomes smaller than the normal VDL amplitude, a soft error is likely to occur. In addition, noise resistance between bit lines is reduced. Because of this, a soft error rate test and a test for noise margin between bit lines can be performed simultaneously during the screening.

【0038】図3にはフルリストア動作における主要部
の論理状態が示される。
FIG. 3 shows a logical state of a main part in the full restore operation.

【0039】尚、このフルリストア動作時には遅延回路
13の関与が排除されるか、若しくはそこでの遅延時間
が極めて短い時間に設定されるものとする。
Incidentally, it is assumed that during the full restore operation, the involvement of the delay circuit 13 is eliminated or the delay time there is set to an extremely short time.

【0040】図3に示されるように、ハーフリストアテ
スト信号QCTESTがローレベルにネゲートされ、リ
フレッシュ信号REFがハイレベルにアサートされた場
合には、図1におけるインバータ62の出力がローレベ
ルとされ、センスアンプ起動信号SASを反転するイン
バータ66の出力状態変化がノアゲート63を通過可能
状態とされる。それにより、センスアンプ起動信号SA
SがハイレベルにアサートされることによってMOSF
ET11,12がオンされてから、ノアゲート63など
での信号伝達遅延により微小時間遅れてMOSFET1
4,15がオンされる。すなわち、センス開始時には、
MOSFET11,12がオンされることによりセンス
アンプSAのコモンソース16,17が駆動され、微小
時間後にMOSFET14,15がオンされることによ
りセンスアンプSAのコモンソース16,17の電位が
VSS,VDLに到達されることによりVDL振幅とさ
れ、それがメモリセルにリストアされる。つまり、メモ
リセルからの微小信号Vsigの増幅開始時にはMOS
FET14,15がオフ状態とされることにより、微小
信号Vsigの増幅開始時の駆動源をフルセンス時の約
1/2程度にすることができるので、微小信号Vsig
の増幅開始時のセンス感度向上によりセンス動作の安定
化が図れる。
As shown in FIG. 3, when the half restore test signal QCTEST is negated to low level and the refresh signal REF is asserted to high level, the output of the inverter 62 in FIG. 1 is set to low level, A change in the output state of the inverter 66 that inverts the sense amplifier activation signal SAS is made to be able to pass through the NOR gate 63. As a result, the sense amplifier activation signal SA
When S is asserted to the high level, the MOSF
After the ETs 11 and 12 are turned on, a slight time delay occurs due to a signal transmission delay in the NOR gate 63 and the like, and the MOSFET 1
4, 15 are turned on. That is, at the start of sense,
The common sources 16 and 17 of the sense amplifier SA are driven by turning on the MOSFETs 11 and 12, and the potentials of the common sources 16 and 17 of the sense amplifier SA become VSS and VDL by turning on the MOSFETs 14 and 15 after a short time. When it reaches the VDL amplitude, it is restored to the memory cell. That is, when the amplification of the minute signal Vsig from the memory cell is started, the MOS
By turning off the FETs 14 and 15, the drive source at the start of amplification of the minute signal Vsig can be reduced to about 1/2 of that at the time of full sense.
It is possible to stabilize the sense operation by improving the sense sensitivity at the start of amplification of the.

【0041】図4には2段センス動作における主要部の
論理状態が示される。
FIG. 4 shows the logical states of the main parts in the two-stage sensing operation.

【0042】図4に示されるように、ハーフリストアテ
スト信号QCTESTがローレベルにネゲートされ、リ
フレッシュ信号REFがハイレベルにアサートされた場
合には、図1におけるインバータ62の出力がローレベ
ルとされ、センスアンプ起動信号SASを反転するイン
バータ66の出力状態変化がノアゲート63を介して遅
延回路13に伝達可能とされる。それにより、センスア
ンプ起動信号SASがハイレベルにアサートされること
によってMOSFET11,12がオンされてから、遅
延回路13での所定の遅延時間T1後にMOSFET1
4,15がオンされる。すなわち、センス開始時に微小
信号VsigがVDL−VTN1〜VSS+VTP1ま
で増幅された後、遅延回路13での遅延時間T1だけ遅
れて、さらにVDL〜VSSまでフルセンスされる。そ
してこのフルセンス開始以前にカラム選択スイッチ信号
20がハイレベルにアサートされることによってビット
線18,19がコモンI/O線24,25に結合され、
当該フルセンス結果の外部出力が可能とされる。そのよ
うな動作によれば、所定の遅延をもった2段センスタイ
ミングにより、コモンソース電流ピーク値を分散低減す
ることができるので、電源ノイズが低減され、それによ
り動作の安定化が図られる。
As shown in FIG. 4, when the half restore test signal QCTEST is negated to the low level and the refresh signal REF is asserted to the high level, the output of the inverter 62 in FIG. 1 is set to the low level, A change in the output state of the inverter 66 that inverts the sense amplifier activation signal SAS can be transmitted to the delay circuit 13 via the NOR gate 63. Thereby, after the sense amplifier activation signal SAS is asserted to the high level to turn on the MOSFETs 11 and 12, after a predetermined delay time T1 in the delay circuit 13, the MOSFET 1 is turned on.
4, 15 are turned on. That is, after the small signal Vsig is amplified to VDL-VTN1 to VSS + VTP1 at the start of sensing, it is delayed by the delay time T1 in the delay circuit 13 and further fully sensed to VDL to VSS. The column selection switch signal 20 is asserted to a high level before the start of this full sense to couple the bit lines 18 and 19 to the common I / O lines 24 and 25,
External output of the full sense result is enabled. According to such an operation, the common source current peak value can be dispersedly reduced by the two-stage sense timing having a predetermined delay, so that the power source noise is reduced and the operation is stabilized.

【0043】上記実施例によれば以下の作用効果が得ら
れる。
According to the above embodiment, the following operational effects can be obtained.

【0044】(1)ハーフリストアテスト信号QCTE
STがハイレベルにアサートされた状態で、リフレッシ
ュ信号REFがハイレベルにアサートされることによ
り、リフレッシュ時のハーフリストアテストが可能とさ
れ、そのようなテスティングモードにおいて、センスア
ンプSAの出力信号振幅が狭められることによりハーフ
リストアが実現され、蓄積電荷量QCが、通常VDL振
幅時におけるフルリストア時の約1/2とされることに
より、メモリセル容量CSの故障等の異常をスクリーニ
ングすることができ、また、それと同時にソフトエラー
率テストや、ビット線間ノイズマージンなどのテストを
行うことができる。そのようなスクリーニングやテステ
ィングが行われることにより、本実施例ダイナミックR
AMの信頼性が向上される。
(1) Half restore test signal QCTE
By asserting the refresh signal REF to the high level while the ST is asserted to the high level, the half-restoration test at the time of refresh can be performed. In such a testing mode, the output signal amplitude of the sense amplifier SA can be obtained. Is realized by narrowing the memory capacity, and the accumulated charge amount QC is set to about half of that at the time of full restoration at the time of normal VDL amplitude, whereby an abnormality such as a failure of the memory cell capacitance CS can be screened. At the same time, it is possible to perform a soft error rate test and a test for noise margin between bit lines. By performing such screening and testing, the dynamic R
AM reliability is improved.

【0045】(2)ハーフリストアテスト信号QCTE
STがローレベルにネゲートされ、リフレッシュ信号R
EFがハイレベルにアサートされた場合に、インバータ
66の出力状態変化がノアゲート63を通過可能状態と
される。このモードでは遅延回路13の関与が排除され
ており、センスアンプ起動信号SASがハイレベルにア
サートされることによってMOSFET11,12がオ
ンされてから、ノアゲート63などでの信号伝達遅延に
より微小時間遅れてMOSFET14,15がオンされ
る。すなわち、センス開始時には、MOSFET11,
12がオンされることによりセンスアンプSAのコモン
ソース16,17が駆動され、微小時間後にMOSFE
T14,15がオンされることによりセンスアンプSA
のコモンソース16,17の電位がVSS,VDLに到
達されることによりVDL振幅に広げられる。そのよう
に微小信号Vsigの増幅開始時のセンスアンプ出力信
号振幅がフルセンス時の約1/2程度に抑えられること
により、微小信号Vsigの増幅開始時のセンス感度が
向上され、センス動作の安定化を図ることができ、本実
施例ダイナミックRAMの信頼性の向上を図ることがで
きる。
(2) Half restore test signal QCTE
ST is negated to the low level, and the refresh signal R
When EF is asserted to the high level, the change in the output state of the inverter 66 is enabled to pass through the NOR gate 63. In this mode, the involvement of the delay circuit 13 is eliminated, and after the MOSFETs 11 and 12 are turned on by asserting the sense amplifier activation signal SAS to a high level, a slight time delay occurs due to a signal transmission delay in the NOR gate 63 or the like. The MOSFETs 14 and 15 are turned on. That is, at the start of sensing, the MOSFET 11,
When the switch 12 is turned on, the common sources 16 and 17 of the sense amplifier SA are driven.
When T14 and T15 are turned on, the sense amplifier SA
When the potentials of the common sources 16 and 17 reach VSS and VDL, the VDL amplitude is expanded. In this way, the amplitude of the sense amplifier output signal at the start of amplification of the minute signal Vsig is suppressed to about 1/2 of that at the time of full sense, so that the sense sensitivity at the start of amplification of the minute signal Vsig is improved and the sense operation is stabilized. It is possible to improve the reliability of the dynamic RAM of this embodiment.

【0046】(3)ハーフリストアテスト信号QCTE
STがローレベルにネゲートされ、リフレッシュ信号R
EFがハイレベルにアサートされた場合には、インバー
タ66の出力状態変化がノアゲート63を介して遅延回
路13に伝達可能とされ、センスアンプ起動信号SAS
がハイレベルにアサートされることによってMOSFE
T11,12がオンされてから、遅延回路13での所定
の遅延時間T1後にMOSFET14,15がオンされ
ることによって、2段センスモードが実現され。このモ
ードにおいては、センス開始時に微小信号VsigがV
DL−VTN1〜VSS+VTP1まで増幅された後、
遅延回路13での遅延時間T1だけ遅れて、さらにVD
L〜VSSまでフルセンスされるので、コモンソース電
流ピーク値が分散低減され、電源ノイズが低減されるこ
とにより動作の安定化が図られることにより、本実施例
ダイナミックRAMの信頼性が向上される。
(3) Half restore test signal QCTE
ST is negated to the low level, and the refresh signal R
When EF is asserted to a high level, a change in the output state of the inverter 66 can be transmitted to the delay circuit 13 via the NOR gate 63, and the sense amplifier start signal SAS can be transmitted.
Is asserted to a high level
The two-stage sense mode is realized by turning on the MOSFETs 14 and 15 after a predetermined delay time T1 in the delay circuit 13 after the T11 and 12 are turned on. In this mode, the minute signal Vsig is V
After being amplified to DL-VTN1 to VSS + VTP1,
After delaying by the delay time T1 in the delay circuit 13, VD
Since full sensing is performed from L to VSS, the common source current peak value is reduced by dispersion and the power supply noise is reduced, so that the operation is stabilized and the reliability of the dynamic RAM of this embodiment is improved.

【0047】図5には本発明の他の実施例に係るダイナ
ミックRAMの主要部の詳細な構成が示される。
FIG. 5 shows a detailed structure of a main part of a dynamic RAM according to another embodiment of the present invention.

【0048】尚、図5において図1に示されるのと同一
の機能を有するものには同一の符号が付されている。
In FIG. 5, the same symbols are given to those having the same functions as those shown in FIG.

【0049】図5において、38,39は、マット分割
されたメモリセルアレイであり、それぞれ複数のメモリ
セルを含んで成る。メモリセルの詳細な構成は図示され
ないが、図1に示されるのと同様に、二つのメモリセル
容量CSが直列接続され、それにNチャンネル型MOS
FET51,52が結合されて成るものが適用される。
また、図面上左側のメモリセルアレイ38をセンスアン
プ部129から切り放すためのシェアードスイッチ80
が設けられ、図面上右側のメモリセルアレイ39をセン
スアンプ部129から切り放すためのシェアードスイッ
チ81が設けられる。このシェアードスイッチ80,8
1はそれぞれビット線18,19に対応する複数のNチ
ャンネル型MOSFETによって形成され、制御部12
5の主要部を形成する論理回路200Aによって生成さ
れるワンショットパルスラッチ信号35,36によって
動作制御される。上記論理回路200Aは以下のように
構成される。
In FIG. 5, reference numerals 38 and 39 denote mat-divided memory cell arrays, each of which includes a plurality of memory cells. Although the detailed structure of the memory cell is not shown, as in the case of FIG. 1, two memory cell capacitors CS are connected in series and an N channel type MOS is connected to the memory cell capacitor CS.
A combination of FETs 51 and 52 is applied.
A shared switch 80 for disconnecting the memory cell array 38 on the left side of the drawing from the sense amplifier unit 129.
Is provided, and a shared switch 81 for disconnecting the memory cell array 39 on the right side of the drawing from the sense amplifier unit 129 is provided. This shared switch 80,8
1 is formed by a plurality of N-channel MOSFETs corresponding to the bit lines 18 and 19, respectively, and the control unit 12
The operation is controlled by the one-shot pulse latch signals 35 and 36 generated by the logic circuit 200A forming the main part of FIG. The logic circuit 200A is configured as follows.

【0050】図1に示されるのと同様に、インバータ6
6が配置され、このインバータ66によってセンスアン
プ起動信号SASが反転されてPチャンネル型MOSF
ET11に伝達される。このMOSFET11は上記セ
ンスアンプSAのNチャンネルコモンソース16と、外
部低電位側電源源VSSとに結合される。また、上記イ
ンバータ66の出力信号はインバータ64によって反転
されてからNチャンネル型MOSFET12に伝達され
る。このMOSFET12は上記センスアンプSAのP
チャンネルコモンソース17と、内部電源VDLに結合
される。上記センスアンプSAのNチャンネルコモンソ
ース16と、外部低電位側電源源VSSとに結合された
Nチャンネル型MOSFET14はフルセンス信号33
によって駆動制御され、上記センスアンプSAのPチャ
ンネルコモンソース17と、内部電源VDLに結合され
たPチャンネル型MOSFET15はフルセンス信号3
4によって駆動制御されるようになっている。
Inverter 6 is similar to that shown in FIG.
6 is arranged, the sense amplifier starting signal SAS is inverted by the inverter 66, and the P channel type MOSF
It is transmitted to ET11. The MOSFET 11 is coupled to the N-channel common source 16 of the sense amplifier SA and the external low potential side power source VSS. The output signal of the inverter 66 is inverted by the inverter 64 and then transmitted to the N-channel MOSFET 12. This MOSFET 12 is the P of the sense amplifier SA.
The channel common source 17 is coupled to the internal power supply VDL. The N-channel MOSFET 14 coupled to the N-channel common source 16 of the sense amplifier SA and the external low potential side power source VSS has a full sense signal 33.
The P-channel common source 17 of the sense amplifier SA and the P-channel MOSFET 15 coupled to the internal power supply VDL are driven and controlled by the full sense signal 3
The drive is controlled by the control unit 4.

【0051】また、センスアンプ起動信号SASを所定
時間遅延するための遅延回路37が設けられ、この遅延
回路37の後段にはその遅延出力を反転して2入力ナン
ドゲート72の一方の入力端子に伝達するためのインバ
ータ71が配置される。このインバータ71の入力側か
ら上記Nチャンネル型MOSFET14を駆動制御する
ためのフルセンス信号33が取り出され、当該インバー
タ71の出力側から上記Pチャンネル型MOSFET1
5を駆動制御するためのフルセンス信号34が取り出さ
れる。上記センスアンプ起動信号SASは上記ナンドゲ
ート72の他方の入力端子へも伝達されるようになって
おり、このセンスアンプ起動信号SASと上記インバー
タ71の出力信号とのナンド論理が得られるようになっ
ている。そしてこのナンド論理は後段のインバータ73
を介して2入力ノアゲート43A,43Bの一方の入力
端子に伝達される。このノアゲート43Aの他方の入力
端子には、シェアードスイッチ選択信号SHRLがイン
バータ74によって反転されてから入力されるようにな
っており、このインバータ74の出力と上記インバータ
73の出力とのノア論理がこのノアゲート43Aで得ら
れるようになっている。このノアゲート43Aの出力
が、上記シェアードスイッチ80を動作制御するための
ワンショットパルスラッチ信号35とされる。また、上
記ノアゲート43Bの他方の入力端子には、シェアード
スイッチ選択信号SHRRがインバータ75によって反
転されてから入力されるようになっており、このインバ
ータ75の出力と上記インバータ73の出力とのノア論
理がこのノアゲート43Bで得られるようになってい
る。このノアゲート43Bの出力が、上記シェアードス
イッチ81を動作制御するためのワンショットパルスラ
ッチ信号36とされる。ここで、上記ノアゲート43
A,43Bの電源電圧VCHは、特に制限されないが、
5Vとされ、それは、VDL+2VTHにほぼ等しい。
Further, a delay circuit 37 for delaying the sense amplifier activation signal SAS by a predetermined time is provided, and the delayed output is inverted at the subsequent stage of the delay circuit 37 and transmitted to one input terminal of a 2-input NAND gate 72. An inverter 71 for performing the operation is arranged. A full sense signal 33 for driving and controlling the N-channel MOSFET 14 is taken out from the input side of the inverter 71, and the P-channel MOSFET 1 is output from the output side of the inverter 71.
A full sense signal 34 for driving and controlling 5 is taken out. The sense amplifier starting signal SAS is also transmitted to the other input terminal of the NAND gate 72, and the NAND logic between the sense amplifier starting signal SAS and the output signal of the inverter 71 is obtained. There is. And this NAND logic is applied to the inverter 73 in the subsequent stage.
Is transmitted to one of the input terminals of the 2-input NOR gates 43A and 43B. The shared switch selection signal SHRL is input to the other input terminal of the NOR gate 43A after being inverted by the inverter 74, and the NOR logic between the output of the inverter 74 and the output of the inverter 73 is It can be obtained by the NOR gate 43A. The output of the NOR gate 43A serves as a one-shot pulse latch signal 35 for controlling the operation of the shared switch 80. The shared switch selection signal SHRR is input to the other input terminal of the NOR gate 43B after being inverted by the inverter 75, and the NOR logic of the output of the inverter 75 and the output of the inverter 73. Are obtained by this NOR gate 43B. The output of the NOR gate 43B serves as a one-shot pulse latch signal 36 for controlling the operation of the shared switch 81. Here, the NOR gate 43
The power supply voltage VCH of A and 43B is not particularly limited,
5V, which is approximately equal to VDL + 2VTH.

【0052】次に、上記構成の主要動作について説明す
る。
Next, the main operation of the above configuration will be described.

【0053】図6にハーフラッチドセンス動作における
主要部の論理状態が示される。
FIG. 6 shows a logical state of a main part in the half-latched sense operation.

【0054】図6に示される論理状態は、シェアードス
イッチ選択信号SHRLがハイレベルにアサートされ、
シェアードスイッチ選択信号SHRRがローレベルにネ
ゲートされ、センスアンプ起動信号SASがハイレベル
にアサートされた場合とされる。ハーフラッチドセンス
動作は、センスアンプ起動信号SAがアサートされるこ
とによってハーフセンス動作が開始され、メモリセルア
レイ38内のメモリセルから読出された微小信号Vsi
gがセンスアンプSAによって増幅され始めた直後、メ
モリアレイ内ビット線41,42の論理状態をラッチす
ることを特徴としている。また、上記微小信号Vsig
より若干大きい振幅に増幅される。そのような信号は、
ワンショットパルスラッチ信号35がローレベルとされ
てシェアードスイッチ80がオフされることによりその
リストアが阻止され、センスアンプSAによりさらにV
DL−VTN1〜VSS+VTP1振幅まで増幅された
後、カラム選択信号20がハイレベルとされることによ
り選択的にコモンI/0線24,25に伝達される。そ
してセンスアンプ起動信号SASが遅延回路37でT2
時間遅延されることによって得られるフルセンス信号3
3,34がアサートされることによってセンスアンプS
Aがフルセンスを開始した後、ワンショットパルス動作
により再びノアゲート43Aから出力されるワンショッ
トパルスラッチ信号35がハイレベルとされてシェアー
ドスイッチ80がオンされることにより、VDL〜VS
Sのフル振幅がメモリセルアレイ内のビット線41,4
2を介してメモリセルにリストアされる。
In the logic state shown in FIG. 6, the shared switch selection signal SHRL is asserted to the high level,
It is assumed that the shared switch selection signal SHRR is negated to the low level and the sense amplifier activation signal SAS is asserted to the high level. The half-latched sense operation is started by the assertion of the sense amplifier activation signal SA, and the minute signal Vsi read from the memory cell in the memory cell array 38 is read.
Immediately after g is started to be amplified by the sense amplifier SA, the logic state of the bit lines 41 and 42 in the memory array is latched. Further, the minute signal Vsig
It is amplified to a slightly larger amplitude. Such a signal is
The one-shot pulse latch signal 35 is set to the low level and the shared switch 80 is turned off to prevent the restore, and the sense amplifier SA further increases the V level.
After being amplified to the amplitudes of DL-VTN1 to VSS + VTP1, the column selection signal 20 is set to the high level, so that the common I / 0 lines 24 and 25 are selectively transmitted. The sense amplifier activation signal SAS is transmitted to the delay circuit 37 at T2.
Full sense signal 3 obtained by time delay
By asserting 3, 34, the sense amplifier S
After A starts full-sense, the one-shot pulse operation causes the one-shot pulse latch signal 35 output from the NOR gate 43A to be set to the high level and the shared switch 80 to be turned on, whereby VDL to VS.
The full amplitude of S depends on the bit lines 41, 4 in the memory cell array.
Restored via 2 to the memory cell.

【0055】上記実施例によれば以下の作用効果が得ら
れる。
According to the above embodiment, the following operational effects can be obtained.

【0056】(1)上記のようにハーフラッチドセンス
動作によれば、センスアンプ起動信号SAがアサートさ
れることによってハーフセンス動作が開始され、メモリ
セルアレイ38内のメモリセルから読出された微小信号
VsigがセンスアンプSAによって増幅され始めた直
後、シェアードスイッチ80がオフされることによりメ
モリアレイ内ビット線41,42の論理状態がラッチさ
れる。そして上記微小信号VsigはセンスアンプSA
によりVDL−VTN1〜VSS+VTP1振幅まで増
幅され、それがコモンI/0線24,25に伝達された
後、シェアードスイッチ80がオンされることによりフ
ルリストアされる。それにより上記微小信号Vsigは
ラッチ動作時のノイズを受けても破損しないレベルにま
で増幅されるので誤動作が排除され、本実施例ダイナミ
ックRAMの信頼性が向上される。
(1) According to the half-latched sense operation as described above, the half-sense operation is started by the assertion of the sense amplifier activation signal SA, and the minute signal read from the memory cell in the memory cell array 38 is started. Immediately after Vsig starts to be amplified by the sense amplifier SA, the shared switch 80 is turned off to latch the logic states of the bit lines 41 and 42 in the memory array. The minute signal Vsig is the sense amplifier SA
Is amplified to VDL-VTN1 to VSS + VTP1 amplitudes, transmitted to the common I / 0 lines 24 and 25, and then fully restored by turning on the shared switch 80. As a result, the minute signal Vsig is amplified to a level at which it is not damaged even if it receives noise during the latch operation, so that malfunction is eliminated and the reliability of the dynamic RAM of this embodiment is improved.

【0057】(2)上記ハーフラッチドセンス動作で
は、シェアードスイッチ80がオフされることによりメ
モリアレイ内ビット線41,42はセンスアンプSAの
負荷とはならないので、センスアンプSAの負荷が軽減
されるという利点がある。
(2) In the half-latched sense operation, since the shared switch 80 is turned off, the bit lines 41 and 42 in the memory array do not become the load of the sense amplifier SA, so the load of the sense amplifier SA is reduced. There is an advantage that

【0058】(3)上記ハーフラッチドセンス動作で
は、VDL−VTN1〜VSS+VTP1振幅までの増
幅、VDL〜VSSリストアの2段センス(リストア)
動作であるから、2段センスタイミングによって、コモ
ンソース電流ピークを分散・低減することができ、電源
ノイズ低減による安定動作が得られるとともに、ラッチ
ドセンスによる高速増幅動作が可能とされる。
(3) In the half-latched sense operation, the two-stage sense (restore) of amplification up to VDL-VTN1 to VSS + VTP1 amplitude and VDL to VSS restore
Since it is an operation, the common source current peak can be dispersed / reduced by the two-stage sense timing, a stable operation can be obtained by reducing the power source noise, and a high-speed amplification operation by the latched sense can be performed.

【0059】図7及び図8には本発明の他の実施例に係
るダイナミックRAMの主要部の構成が示される。
7 and 8 show the structure of the main part of a dynamic RAM according to another embodiment of the present invention.

【0060】例えば、図1,図5においてフルリストア
(センス)に用いられるPチャンネル型MOSFET1
4及びPチャンネル型MOSFET15を省略するよう
にしても、上記のハーフリストア動作は可能とされる。
図7には、そのような実施例における制御部125を形
成する論理回路200Bの主要部が示される。その場合
において、図8に示されるような、VDL−VTN1,
VSS+VTP1レベル変換回路90及び書込回路91
を含んでダイナミックRAMを構成することができる。
For example, in FIG. 1 and FIG. 5, a P-channel MOSFET 1 used for full restore (sense).
Even if the 4 and P-channel MOSFETs 15 are omitted, the above half restore operation is possible.
FIG. 7 shows the main part of the logic circuit 200B forming the control unit 125 in such an embodiment. In that case, VDL-VTN1, as shown in FIG.
VSS + VTP1 level conversion circuit 90 and write circuit 91
It is possible to configure the dynamic RAM including.

【0061】上記VDL−VTN1,VSS+VTP1
レベル変換回路90は、次のように構成される。Pチャ
ンネル型MOSFET95とNチャンネル型MOSFE
T96とを直列接続して成るインバータINV3と、P
チャンネル型MOSFET98とNチャンネル型MOS
FET97とを直列接続して成るインバータINV4と
が結合され、上記Pチャンネル型MOSFET95,9
8がNチャンネル型MOSFET12Aを介して高電位
側内部電源VDLに結合され、上記Nチャンネル型MO
SFET96,97がPチャンネル型MOSFET11
Aを介して低電位側内部電源VSSに結合される。
VDL-VTN1, VSS + VTP1
The level conversion circuit 90 is configured as follows. P-channel type MOSFET 95 and N-channel type MOSFET
An inverter INV3 formed by connecting T96 in series and P
Channel type MOSFET 98 and N channel type MOS
The inverter INV4 formed by connecting the FET 97 in series is coupled, and the P-channel type MOSFETs 95 and 9 are connected.
8 is coupled to the high-potential-side internal power supply VDL via the N-channel MOSFET 12A,
SFETs 96 and 97 are P-channel MOSFETs 11
It is coupled to the low potential side internal power supply VSS via A.

【0062】また、上記書込み回路91は、コモンI/
O線22と上記インバータINV3の出力端子との間に
配置されたNチャンネル型MOSFET93と、コモン
I/O線23と上記インバータINV4との間に配置さ
れたNチャンネル型MOSFET94とを含む。46は
コモンI/O線22,23の信号を増幅するメインアン
プとされる。MOSFET93,94はリード/ライト
信号47によって制御される。すなわち、リード/ライ
ト信号47がハイレベルの場合、MOSFET93,9
4がオンされ、入力データDinがコモンI/O線2
2,23に伝達され、メモリセルへのデータ書き込みが
可能とされる。また、リード/ライト信号47がローレ
ベルの場合、MOSFET93,94はオフされ、メモ
リセルから読出されたデータがコモンI/O線22,2
3を介してメインアンプ46に取り込み可能とされる。
Further, the write circuit 91 has a common I /
It includes an N-channel MOSFET 93 arranged between the O line 22 and the output terminal of the inverter INV3, and an N-channel MOSFET 94 arranged between the common I / O line 23 and the inverter INV4. Reference numeral 46 is a main amplifier that amplifies the signals of the common I / O lines 22 and 23. The MOSFETs 93 and 94 are controlled by the read / write signal 47. That is, when the read / write signal 47 is at high level, the MOSFETs 93, 9
4 is turned on and the input data Din is common I / O line 2
2, 23, and data can be written in the memory cell. Further, when the read / write signal 47 is at the low level, the MOSFETs 93 and 94 are turned off, and the data read from the memory cell is transferred to the common I / O lines 22 and 2.
It can be taken into the main amplifier 46 via

【0063】上記の構成において、メモリセルにリスト
アされる書込、読み出し信号振幅が|(VDL−VTN
1)−(VSS+VTP1)|≧2VTH程度で、十分
なVsig,CB(ビット線容量)/CS(メモリセル
容量)≧12が確保できるメモリセル容量CSを有する
場合に、上記レベル変換回路90において、メモリセル
からメインアンプに至る信号振幅を|(VDL−VTN
1)−(VSS+VTP1)|に抑制することにより、
メモリアレイ内信号振幅が周辺回路電源電圧の約1/2
とされ、メモリセルアレイでの消費電力低下が可能とさ
れる。メモリアレイ内と周辺回路を同一VDL振幅させ
た場合のメモリアレイ内消費電力はチップ全体の約40
〜50%を占めているため、本方式を用いた場合、この
メモリアレイ内消費電力をチップ全体の約20〜30%
低減できる。また、そのように消費電力が低下されるこ
とにより、メモリセルに付随するジャンクションの温度
上昇が小さくなり、それによりメモリセルからの情報保
持電荷のリーク量を低減できる。つまり、チップ温度上
昇に起因する情報保持時間マージン劣化を防止すること
ができ、ダイナミックRAMの信頼性の向上を図ること
ができる。
In the above configuration, the amplitude of the write / read signal restored to the memory cell is | (VDL-VTN
1) − (VSS + VTP1) | ≧ 2VTH, and having a memory cell capacity CS capable of ensuring sufficient Vsig, CB (bit line capacity) / CS (memory cell capacity) ≧ 12, in the level conversion circuit 90, Signal amplitude from memory cell to main amplifier | (VDL-VTN
1)-(VSS + VTP1) |
The signal amplitude in the memory array is about 1/2 of the peripheral circuit power supply voltage
Therefore, the power consumption of the memory cell array can be reduced. The power consumption in the memory array is about 40 of the entire chip when the VDL amplitude is the same in the memory array and the peripheral circuits.
Since this occupies about 50%, the power consumption in this memory array is about 20 to 30% of the whole chip when this method is used.
It can be reduced. Further, such a reduction in power consumption reduces the temperature rise of the junction associated with the memory cell, thereby reducing the amount of leakage of information holding charges from the memory cell. That is, it is possible to prevent the deterioration of the information holding time margin due to the rise in the chip temperature, and to improve the reliability of the dynamic RAM.

【0064】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲におい
て種々変更可能であることは言うまでもない。例えば上
記実施例では、単一のダイナミックRAMにおいて複数
の動作モードが実現されるように説明したが、上記複数
の動作モードのうちの一つを単一のRAMにおいて実現
することは、勿論有効とされる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited thereto, and needless to say, various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Yes. For example, in the above embodiment, it has been described that a plurality of operation modes are realized in a single dynamic RAM, but it is of course effective to realize one of the plurality of operation modes in a single RAM. To be done.

【0065】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるダイナ
ミックRAMについて説明したが、本発明はそれに限定
されるものではなく、疑似スタティックRAM、ビデオ
RAMなどの各種半導体記憶装置、並びにマイクロコン
ピュータなどの半導体集積回路にオンチップされるメモ
リなどにも広く適用することができる。
In the above description, the invention made by the present inventor was mainly described as a dynamic RAM which is a field of application which is the background of the invention, but the present invention is not limited thereto, and a pseudo static RAM, a video RAM, etc. The present invention can be widely applied to various semiconductor memory devices, as well as a memory on-chip in a semiconductor integrated circuit such as a microcomputer.

【0066】本発明は、少なくとも、メモリセルを含む
ことを条件に適用することができる。
The present invention can be applied on condition that at least a memory cell is included.

【0067】[0067]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0068】すなわち、上記素子を制御して上記センス
アンプの出力信号振幅を狭め上記メモリセルの蓄積電荷
量を等価的に減少させることによってテスティングモー
ドが実現されることにより、メモリセル容量のスクリー
ニングや、ソフトエラー率マージン、ビット線間ノイズ
マージンのテスティングを容易に行うことができる。そ
のようなスクリーニング,テスティング行われることに
より、半導体記憶装置の信頼性が向上される。
That is, the testing mode is realized by controlling the elements to narrow the output signal amplitude of the sense amplifier and equivalently reducing the accumulated charge amount of the memory cell, thereby screening the memory cell capacity. Also, it is possible to easily perform the soft error rate margin and the bit line noise margin testing. By performing such screening and testing, the reliability of the semiconductor memory device is improved.

【0069】上記センスアンプのセンス開始時の出力信
号振幅をその後の出力信号振幅よりも狭める動作モード
を実現されることにより、センス動作の安定化が達成さ
れ、それにより、半導体記憶装置の信頼性が向上され
る。
By stabilizing the sense operation by realizing the operation mode in which the output signal amplitude at the start of sensing of the sense amplifier is narrower than the subsequent output signal amplitude, the reliability of the semiconductor memory device is improved. Is improved.

【0070】上記センスアンプのセンス開始時の出力信
号振幅を狭め、且つ、上記カラム選択スイッチがオンさ
れた後に当該出力信号振幅を広げる動作モードが実現さ
れることにより、電源ノイズが低減され、動作の安定化
が達成され、それにより、半導体記憶装置の信頼性が向
上される。
By realizing an operation mode in which the output signal amplitude at the start of sensing of the sense amplifier is narrowed and the output signal amplitude is widened after the column selection switch is turned on, the power supply noise is reduced and the operation is reduced. Of the semiconductor memory device is improved, thereby improving the reliability of the semiconductor memory device.

【0071】メモリセルから読出された微小信号が上記
センスアンプによって増幅され始めた直後に上記スイッ
チをオフすることによって上記メモリセルとセンスアン
プとを切り放すとともに、上記素子を制御して上記セン
スアンプの出力振幅を広げ、その出力が上記コモンI/
O線に伝達された後に、上記スイッチをオンすることに
よって上記センスアンプ出力を上記メモリセルにリスト
アする動作モードが実現されることにより、ラッチドセ
ンス方式におけるラッチ動作時のノイズに起因するVs
igデータ破壊が防止されることにより、半導体記憶装
置の信頼性が向上される。
Immediately after the minute signal read from the memory cell starts to be amplified by the sense amplifier, the switch is turned off to disconnect the memory cell and the sense amplifier and control the element to control the sense amplifier. The output amplitude of the common I /
After being transmitted to the O line, by turning on the switch, an operation mode for restoring the output of the sense amplifier to the memory cell is realized, and Vs caused by noise at the latch operation in the latched sense system is realized.
Since the ig data destruction is prevented, the reliability of the semiconductor memory device is improved.

【0072】上記センスアンプの出力信号振幅が内部電
源電圧よりも狭められ、また、メモリセルへのデータ書
込み時にビット線上の書込みデータの信号振幅が制限さ
れることにより、メモリセルアレイの消費電力が低減さ
れ、チップ温度上昇に起因する情報保持時間マージン劣
化が防止されることにより、半導体記憶装置の信頼性が
向上される。
The output signal amplitude of the sense amplifier is narrower than the internal power supply voltage, and the signal amplitude of the write data on the bit line is limited when writing data to the memory cell, thereby reducing the power consumption of the memory cell array. As a result, the deterioration of the information retention time margin due to the rise in the chip temperature is prevented, and the reliability of the semiconductor memory device is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は本発明の一実施例に係るダイナミックR
AMの主要部の構成が示される回路図である。
FIG. 1 is a dynamic R according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of a main part of AM.

【図2】図2は上記ダイナミックRAMのハーフリスト
ア動作における主要部状態説明図である。
FIG. 2 is an explanatory view of a main part state in a half restore operation of the dynamic RAM.

【図3】図3は上記ダイナミックRAMのフルリストア
動作(フルセンス動作)における主要部状態説明図であ
る。
FIG. 3 is a state explanatory diagram of a main part in a full restore operation (full sense operation) of the dynamic RAM.

【図4】図4は上記ダイナミックRAMの2段センス動
作における主要部状態説明図である。
FIG. 4 is an explanatory view of a main part state in a two-stage sensing operation of the dynamic RAM.

【図5】図5は本発明の他の実施例に係るダイナミック
RAMの主要部の構成が示される回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a main part of a dynamic RAM according to another embodiment of the present invention.

【図6】図6は図5に示されるダイナミックRAMのハ
ーフ・ラッチドセンス動作における主要部状態説明図で
ある。
FIG. 6 is an explanatory view of a state of a main part in a half latched sense operation of the dynamic RAM shown in FIG.

【図7】図7は本発明の他の実施例に係るダイナミック
RAMにおける主要部の構成が示される回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a main part of a dynamic RAM according to another embodiment of the present invention.

【図8】図8は本発明の他の実施例に係るダイナミック
RAMにおける主要部の構成が示される回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a configuration of a main part of a dynamic RAM according to another embodiment of the present invention.

【図9】図9はダイナミックRAMの全体的な構成ブロ
ック図である。
FIG. 9 is an overall configuration block diagram of a dynamic RAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

CS メモリセル容量 QCTEST ハーフリストアテスト信号 REF リフレッシュ信号 SAS センスアンプ起動信号 SHRL シェアードスイッチ選択信号 SHRR シェアードスイッチ選択信号 11 Pチャンネル型MOSFET 12 Nチャンネル型MOSFET 14 Nチャンネル型MOSFET 18 ビット線 19 ビット線 15 Pチャンネル型MOSFET 35 ワンショットパルスラッチ信号 36 ワンショットパルスラッチ信号 120 アドレスバッファ 121 アドレスマルチプレクサ 122 Xアドレスラッチ及びXデコーダ 123 ワードドライバ 124 メモリセルアレイ 125 制御部 126 Yアドレスラッチ及びYデコーダ 127 Y選択スイッチ回路 128 データ入出力回路 129 センスアンプ部 200 論理回路 200A 論理回路 200B 論理回路 CS memory cell capacity QCTEST Half restore test signal REF refresh signal SAS sense amplifier start signal SHRL shared switch selection signal SHRR shared switch selection signal 11 P-channel MOSFET 12 N-channel MOSFET 14 N-channel MOSFET 18 bit line 19 bit line 15 P-channel MOSFET 35 One-shot pulse latch signal 36 One-shot pulse latch signal 120 address buffer 121 address multiplexer 122 X Address Latch and X Decoder 123 word driver 124 memory cell array 125 control unit 126 Y address latch and Y decoder 127 Y selection switch circuit 128 data input / output circuit 129 Sense amplifier section 200 logic circuits 200A logic circuit 200B logic circuit

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メモリセルからの読出し信号を増幅する
センスアンプと、このセンスアンプを駆動制御するため
の制御手段とを含む半導体記憶装置において、上記制御
手段は、上記センスアンプの出力信号振幅を調節可能と
する素子と、この素子を制御して上記センスアンプの出
力信号振幅を狭め上記メモリセルの蓄積電荷量を等価的
に減少させることによってテスティングモードを実現す
る制御論理とを含んで成ることを特徴とする半導体記憶
装置。
1. A semiconductor memory device comprising a sense amplifier for amplifying a read signal from a memory cell and a control means for driving and controlling the sense amplifier, wherein the control means controls the output signal amplitude of the sense amplifier. And a control logic that controls the element to narrow the output signal amplitude of the sense amplifier and equivalently reduce the amount of charge stored in the memory cell to realize a testing mode. A semiconductor memory device characterized by the above.
【請求項2】 メモリセルからの読出し信号を増幅する
センスアンプと、このセンスアンプを駆動制御するため
の制御手段とを含む半導体記憶装置において、上記制御
手段は、上記センスアンプの出力信号振幅を調節可能と
する素子と、この素子を制御して、上記センスアンプの
センス開始時の出力信号振幅をその後の出力信号振幅よ
りも狭める動作モードを実現する制御論理とを含んで成
ることを特徴とする半導体記憶装置。
2. A semiconductor memory device comprising a sense amplifier for amplifying a read signal from a memory cell and a control means for driving and controlling the sense amplifier, wherein the control means controls the output signal amplitude of the sense amplifier. An element that is adjustable, and control logic that controls the element to realize an operation mode in which the output signal amplitude at the start of sensing of the sense amplifier is narrower than the subsequent output signal amplitude. Semiconductor memory device.
【請求項3】 メモリセルからの読出し信号を増幅する
センスアンプと、このセンスアンプを駆動制御するため
の制御手段と、上記センスアンプの増幅出力をコモンI
/O線に伝達するためのカラム選択スイッチと含む半導
体記憶装置において、上記制御手段は、上記センスアン
プの出力信号振幅を調節可能とする素子と、この素子を
制御することにより、上記センスアンプのセンス開始時
の出力信号振幅を狭め、且つ、上記カラム選択スイッチ
がオンされた後に当該出力信号振幅を広げる動作モード
を実現する制御論理とを含んで成ることを特徴とする半
導体記憶装置。
3. A sense amplifier for amplifying a read signal from a memory cell, a control means for driving and controlling the sense amplifier, and an amplified output of the sense amplifier as a common I.
In a semiconductor memory device including a column selection switch for transmitting to the / O line, the control means includes an element capable of adjusting the output signal amplitude of the sense amplifier, and the sense amplifier of the sense amplifier by controlling the element. A semiconductor memory device, comprising: a control logic that narrows an output signal amplitude at the start of sensing and realizes an operation mode in which the output signal amplitude is widened after the column selection switch is turned on.
【請求項4】 メモリセルからの読出し信号を増幅する
センスアンプと、上記メモリセルとセンスアンプとを切
り放すためのスイッチと、このセンスアンプを駆動制御
するための制御手段と、上記センスアンプの増幅出力を
コモンI/O線に伝達するためのカラム選択スイッチと
を含む半導体記憶装置において、上記制御手段は、上記
センスアンプの出力信号振幅を調節可能とする素子と、
メモリセルから読出された微小信号が上記センスアンプ
によって増幅され始めた直後に上記スイッチをオフする
ことによって上記メモリセルとセンスアンプとを切り放
すとともに、上記素子を制御して上記センスアンプの出
力振幅を広げ、その出力が上記コモンI/O線に伝達さ
れた後に、上記スイッチをオンすることによって上記セ
ンスアンプ出力を上記メモリセルにリストアする動作モ
ードを実現する制御論理とを含んで成ることを特徴とす
る半導体記憶装置。
4. A sense amplifier for amplifying a read signal from a memory cell, a switch for disconnecting the memory cell and the sense amplifier, a control means for driving and controlling the sense amplifier, and a sense amplifier of the sense amplifier. In a semiconductor memory device including a column selection switch for transmitting an amplified output to a common I / O line, the control means includes an element capable of adjusting an output signal amplitude of the sense amplifier,
Immediately after the minute signal read from the memory cell starts to be amplified by the sense amplifier, the switch is turned off to disconnect the memory cell and the sense amplifier, and at the same time, control the element to control the output amplitude of the sense amplifier. And a control logic for realizing an operation mode for restoring the output of the sense amplifier to the memory cell by turning on the switch after the output is transmitted to the common I / O line. A characteristic semiconductor memory device.
【請求項5】 メモリセルからの読出し信号を増幅する
センスアンプと、このセンスアンプを駆動制御するため
の制御手段と、上記センスアンプの出力信号振幅を内部
電源電圧よりも狭めるための素子と、上記メモリセルへ
のデータ書込み時にビット線上の書込みデータの信号振
幅を制限するためのレベル変換手段とを含んで成る半導
体記憶装置。
5. A sense amplifier for amplifying a read signal from a memory cell, a control means for driving and controlling the sense amplifier, and an element for narrowing an output signal amplitude of the sense amplifier below an internal power supply voltage. A semiconductor memory device comprising level conversion means for limiting a signal amplitude of write data on a bit line when writing data to the memory cell.
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