JPH0512538U - タイル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 幕掛けによりタイルへ施釉しても、タイルの
裏面側に釉薬が廻り込まないタイルの提供にある。 【構成】 タイル１１の裏面１１ａの周縁部に、釉収容
切欠部１２が設けられている。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

施釉されるタイルの技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】

タイルに施釉する方法の一つとして幕掛けがある。この幕掛けは、図４に示す 如く下端にスリット３が設けられた釉薬缶２に釉薬４を入れ、スリット３から釉 薬４をタイル幅の幕状に垂れ流し、コンベア６で搬送されるタイル１の表面１ｂ に釉薬４を施すものである。 幕掛けによりタイルに施釉した場合には、同図に示す如く、釉薬４はタイル１ の側面１ｃを伝わって下方へ垂れる。側面１ｃへ垂れた過剰の釉薬４のうち、大 部分の釉薬４は、側面１ｃの下端縁から滴下するが、一部の釉薬４は、余剰釉５ としてタイル裏面１ａに廻り込む。この余剰釉５が裏面１ａに付着したままで、 図示しないローラーハースキルン（以下単に、「ＲＨＫ」という。）による焼成 工程に入ると次ぎの問題点が生じていた。 すなわち、釉薬４はＲＨＫの高温焼成域でどろどろの液状であるため、タイル 裏面１ａに付着した余剰釉５は、タイル１が搬送される間にＲＨＫのローラーに 付着することになる。そして、次々に搬送されるタイル１によりローラーの周面 に多量の釉薬がこびりつくことになる。この釉薬のこびりついたローラーをその まま用いてタイルの搬送を行うと、ローラーにこびりついた釉薬が次々に搬送さ れてくるタイルにくっついたり、タイルがローラーから離れにくくなったりして 、タイルは蛇行しながらＲＨＫ内で搬送されることになる。このような蛇行を生 じると、タイルの均一な焼成ができなくなったり、ローラー間にタイルが挟まっ たり、タイルがローラーから落下したりする原因となる。ローラー間にタイルが 挟まると、ローラーの折損事故につながり、またタイルがローラーから落下する と、タイルの歩留まりの低下につながる。従って、ローラーの周面に多量の釉薬 がこびりついているものは、点検をして発見のうえ、これを交換しなければなら なかった。また、タイルの落下は、落下したタイルがＲＨＫ内に溜まり、装置自 体の停止という事故につながることもある。 そこで、従来では、工程中に、タイル１の裏面側１ａに廻り込んだ余剰釉５を 除去する工程をわざわざ設けていた。この除去作業は、スポンジ（図示せず）を 搬送されてくるタイルの両側の裏面周縁部に当接するように設置しておき、この スポンジでタイル裏面１ａの余剰釉５をこすりとっていた。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

しかし、スポンジでの除去作業では、完全に余剰釉５を取り除くことができな いため、余剰釉５がＲＨＫのローラーに付着して、依然としてタイルの蛇行，落 下，ローラーの折損等の事故が発生していた。 また、この除去作業の工程を設けているので、タイルの製造工程数が増えスポ ンジの定期交換を必要とする等により、タイルの製造能率の低下を招いていた。 更に、タイルの製造単価の高騰の原因の一つにもなっていた。

【０００４】

【課題を解決するための手段】

本考案は前記従来の課題に鑑みてこれを改良除去したものであって、釉薬がタ イルの裏面側に廻り込まないタイルを提供せんとするものである。 而して、本考案が採用した手段は、タイルの裏面周縁部に、釉薬の廻り込み分 を収容する釉収容切欠部が設けられているところにある。

【０００５】

【作用】

幕掛けにより本考案に係るタイルに釉薬を施すと、過剰の釉薬がタイルの表面 から側面へと流れ出し、その大部分は側面の下端縁から下方に滴下するが、その 一部は余剰釉として側面の下端縁から面伝いに更に下方に廻り込もうとする。し かし、タイルの裏面周縁部には、釉収容切欠部が設けられているので、この余剰 釉は、釉収容切欠部の上方空間に収容され、それ以上に下方へ垂れることはない 。従って、タイル裏面にまで、余剰釉が廻り込むことはない。つまり、幕掛けに より施釉されたタイルをそのままの状態でＲＨＫに搬入しても、ＲＨＫのローラ ーと接触するタイル裏面に余剰釉の廻り込みがないため、釉薬がローラーに付着 することがなくなる。

【０００６】

【実施例】

以下に図面を用いて実施例の説明をする。なお、従来技術と同一符号は同一部 材を示すものである。 まず、図１を用いて第１実施例を説明する。タイル１１は、平板状であり、Ｒ ＨＫで焼成することのできる寸法のものである。タイル１１の裏面１１ａの四周 縁部には、釉収容切欠部１２が設けられている。釉収容切欠部１２の上面１２ａ は、タイル表面１１ｂと平行に形成されている。釉収容切欠部１２の立面１２ｂ は上面１２ａと直交して形成されている。釉収容切欠部１２は、タイル１１をプ レス成形する際に、一体成形されている。また、タイル裏面１１ａには、裏足１ ３が設けられている。 つぎに、タイル１１へ幕掛けにより施釉した場合の施釉状態を図１の（ｂ）を 用いて説明する。コンベア６に載せられたタイル１１は、釉薬缶２により幕状に 釉薬４が垂れ流される。過剰の釉薬４は側面１１ｃを伝わって下方へ垂れるが、 その大部分は、タイル側面１１ｃの下端縁から下方に滴下する。また、一部の下 垂釉薬はタイル側面１１ｃの下端縁から面伝いに更に下方に廻り込もうとする。 しかし、タイル裏面１１ａの四周縁部には、釉収容切欠部１２が設けられている ので、余剰釉５は釉収容切欠部１２の上面１２ａに沿って若干内方へ入り込むだ けで、それ以上に内方ないし下方へ廻り込むだけの余力を残していない。つまり 、余剰釉５は、釉収容切欠部１２の上方空間に収容されることになる。従って、 ＲＨＫに搬入した際にローラーと接する面であるタイル裏面１１ａにまで、余剰 釉５が、廻り込むことはない。 本考案に係る図１に示すタイル１１によれば、幕掛けにより施釉されたタイル をそのままの状態でＲＨＫに搬入しても、ＲＨＫのローラーに余剰釉５が付着す ることはないので、タイルの蛇行，落下等の事故も発生することがない。従って 、タイルの歩留の向上を図ることができると共に、ローラーの間にタイル１１が 挟まり、ローラーが折損するという事故の発生も防止できる。

【０００７】 つぎに、図２及び図３を用いて別の実施例を説明する。図２に示す実施例は、 平板状のタイル２１の裏面２１ａの周縁部には、釉収容切欠部２２の上面２２ａ がタイル２１の側面２１ｃと鋭角を成している。つまり、上面２２ａが、余剰釉 の返し面になっている。従って、余剰釉は、タイル裏面２１ａに廻り込むことは ない。また、図３に示す実施例は、タイル３１の裏面周縁部に設けられた釉収容 切欠部３２が側面視して湾曲状に形成されており、釉収容部３２の上面３２ａが 、余剰釉の返し面になっている。

【０００８】 本考案に係るタイルは前述の実施例に限定されるものではない。例えば、平板 状のタイルに限ることはなく、役物タイルその他のタイルであっても幕掛け施釉 でき且つＲＨＫにより焼成できる形状及び寸法のものであればよい。また、タイ ルが湿式成形されるものにおいては、成形された後タイルの裏面周縁部を削る等 して釉収容切欠部を形成することができる。以上詳述の如く、本考案に係るタイ ルは実施の態様に応じて適宜変更可能である。

【０００９】

【考案の効果】

本考案に係るタイルによれば、タイルの裏面周縁部に、釉収容切欠部が設けら れているので、タイルに幕掛けで施釉しても、タイルの裏面にまで釉薬が廻り込 むことはない。つまり、施釉したそのままの状態でＲＨＫによる焼成工程に入っ ても、釉薬がローラーに付着することはないので、タイルの蛇行、落下，ローラ ーの折損等の事故の発生を防止することができる。延いては、タイルの歩留りの 向上を図ることができる。また、、余剰釉の除去作業を省略することができるの で、タイルの製造能率の向上をも図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案に係るタイルの実施例を示すものであ
り、（ａ）は、タイルを裏向けた状態の斜視図、（ｂ）
は、（ａ）に示すタイルに幕掛けによって施釉している
状態の側面図である。

【図２】本考案に係るタイルの別の実施例を示すもので
あり、タイルの側面図である。

【図３】本考案に係るタイルのさらに別の実施例を示す
ものであり、タイルの側面図である。

【図４】従来技術を示すものであり、幕掛けによってタ
イルへ施釉している状態の側面図である。

【符号の説明】

１，１１，２１，３１…タイル ２…釉薬缶 ３…スリット ４…釉薬 ５…余剰釉 １２，２２，３２…釉収容切欠部

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 タイルの裏面周縁部に、釉薬の廻り込み
   分を収容する釉収容切欠部が設けられていることを特徴
   とするタイル。