JPH05121863A - Manufacture of printed wiring board - Google Patents
Manufacture of printed wiring boardInfo
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- JPH05121863A JPH05121863A JP18706891A JP18706891A JPH05121863A JP H05121863 A JPH05121863 A JP H05121863A JP 18706891 A JP18706891 A JP 18706891A JP 18706891 A JP18706891 A JP 18706891A JP H05121863 A JPH05121863 A JP H05121863A
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- resin
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Landscapes
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、プリント配線板上にソ
ルダーレジスト皮膜と、その上にソルダーレジストパタ
ーンを形成することからなるプリント配線板の製造方法
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board, which comprises forming a solder resist film on a printed wiring board and a solder resist pattern on the solder resist film.
【0002】[0002]
【従来の技術】プリント配線板に実装された電子部品
は、通常半田によって固定されている。その際、導体回
路等が半田によって短絡することを防止するために、半
田付けに必要な箇所以外は、ソルダーレジストで被覆す
ることが行われている。このソルダーレジストを形成す
る方法として、シルクスクリーン印刷法、ドライフィル
ムフォトソルダーレジスト法、液状フォトソルダーレジ
スト法等の方法が、良く知られ、また広く利用されてい
る。その中でも、シルクスクリーン印刷法は、処理能力
が高く、また、操作が簡単で手軽に行えることから広く
普及さている。2. Description of the Related Art Electronic components mounted on a printed wiring board are usually fixed by soldering. At that time, in order to prevent a conductor circuit or the like from being short-circuited by soldering, a portion other than a portion required for soldering is covered with a solder resist. As a method for forming this solder resist, methods such as a silk screen printing method, a dry film photo solder resist method, and a liquid photo solder resist method are well known and widely used. Among them, the silk screen printing method is widely used because of its high processing capacity and its simple and easy operation.
【0003】しかしながら、最近、プリント配線板の面
実装化に伴い高精度のソルダーレジストパターンが要求
されるようになってきたため、従来行われているシルク
スクリーン印刷法では、この要求を満たすことができな
いばかりでなく、新たな問題が生じてきた。即ち、プリ
ント配線板にソルダーレジストインキを印刷する場合、
銅回路の厚みが、35μm〜100μmあり平滑面印
刷でないこと、被印刷面が、積層板基材と銅の性質が
異なる2種類の素材からなっていること、さらには、
パターン間隔が狭いことなどの要因がネックとなって、
印刷に際して、スクリーンメッシュを変えたり、また、
インキ塗布量を調節して行う等繁雑な操作が必要となる
ばかりでなく、この様な操作を行ったとしても、半田付
部、接続部へのソルダーレジストの滲み、非半田付銅回
路部のスキップなどの問題点は避けることができなかっ
た。However, recently, with the surface mounting of printed wiring boards, a highly accurate solder resist pattern has been required. Therefore, the silk screen printing method conventionally used cannot meet this requirement. Not only that, but new problems arose. That is, when printing the solder resist ink on the printed wiring board,
The thickness of the copper circuit is 35 μm to 100 μm and is not smooth surface printing, the printed surface is made of two kinds of materials having different properties of the laminated plate base material and copper, and further,
Factors such as narrow pattern intervals are a bottleneck,
When printing, change the screen mesh,
Not only is it necessary to perform complicated operations such as adjusting the ink application amount, but even if such operations are performed, solder resist bleeds on the soldered parts and connection parts, and non-soldered copper circuit parts Problems such as skipping were unavoidable.
【0004】そこで、これらの問題点を解決するため
に、2回印刷法、スコッピング法が一部採用されている
が、本質的な解決に至っていない。また、液状フォトソ
ルダーレジスト及びドライフィルムフォトソルダーレジ
スト等写真法による場合は、スクリーン印刷法の1/3
〜1/4程度の処理能力しか得られないため必ずしも満
足のいく方法とはいえない。従って、操作が簡便で扱い
易く、かつ処理能力が優れたスクリーン印刷技術、生産
工程を活かすことができ、かつ液状フォトソルダーレジ
スト及びドライフィルムフォトソルダーレジスト等の写
真法と同様、滲み、スキップ等の発生しない精度の良い
ソルダーレジストパターンを形成するためのプリント配
線板の製法の開発が強く望まれていた。Therefore, in order to solve these problems, the double-printing method and the scooping method are partially adopted, but the essential solution has not been reached. In the case of photographic methods such as liquid photo solder resist and dry film photo solder resist, 1/3 of screen printing method
It is not always a satisfactory method because it can only obtain a processing capacity of about 1/4. Therefore, it is possible to make use of the screen printing technology and the production process, which are easy to handle and easy to handle, and have excellent processing ability, and to prevent bleeding, skipping, etc., like the photographic methods such as liquid photo solder resist and dry film photo solder resist. It has been strongly desired to develop a manufacturing method of a printed wiring board for forming a solder resist pattern with high accuracy that does not occur.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な実状に鑑みてなされたものである。即ち、本発明の目
的は、滲み、スキップ等の発生のない従来のスクリーン
印刷法より高い精度を示し、かつ処理能力においても優
れたソルダーレジストパターンを形成するためのプリン
ト配線板の製造方法を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above situation. That is, an object of the present invention is to provide a method for producing a printed wiring board for forming a solder resist pattern which shows higher accuracy than the conventional screen printing method without causing bleeding, skipping, etc. and has excellent processing ability. The purpose is to do.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意検討
の結果、ソルダーレジストパターンを形成するに当た
り、先ず、ソルダーレジスト皮膜を形成した後、その上
にソルダーレジストパターンを形成することにより、上
記目的を達成することができることを見出だし、本発明
を完成するに至った。即ち、本発明のプリント配線板の
製造方法は、(1)導体回路が形成されたプリント基板
の全面に、第一のソルダーレジストインキを塗布、熱に
より仮乾燥して、アルカリ水溶液または有機溶剤に可溶
性なソルダーレジスト皮膜を形成する工程、(2)形成
されたソルダーレジスト皮膜の上に第二のソルダーレジ
ストインキでパターン印刷を施し、紫外線で硬化する工
程、(3)アルカリ水溶液または有機溶剤で現像処理を
施す工程、および(4)形成されたソルダーレジストパ
ターンを加熱して後硬化する工程からなることを特徴と
し、それによって導体回路上にソルダーレジストパター
ンが形成されたプリント配線板が作製される。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that in forming a solder resist pattern, first, a solder resist film is formed and then a solder resist pattern is formed thereon. The inventors have found that the above object can be achieved and completed the present invention. That is, the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention includes (1) applying the first solder resist ink on the entire surface of the printed circuit board on which the conductor circuit is formed, temporarily drying the ink with heat, and then using an alkaline aqueous solution or an organic solvent. A step of forming a soluble solder resist film, (2) a step of pattern printing with a second solder resist ink on the formed solder resist film, and a step of curing with ultraviolet rays, (3) development with an alkaline aqueous solution or an organic solvent A printed wiring board having a solder resist pattern formed on a conductor circuit, which is characterized by comprising: a step of performing a treatment; and (4) a step of heating and post-curing the formed solder resist pattern. ..
【0007】以下、本発明について詳細に説明する。図
1は、本発明のソルダーレジストパターンを形成するパ
ターン形成工程を示す説明図である。図1において、
(a)は、導体回路が形成された基板を示し、(b)
は、第1工程によりソルダーレジスト皮膜が形成された
状態を示し、(c)は、第2工程によりソルダーレジス
トパターンが形成された状態を示し、(d)は、第3工
程により現像処理された状態を示す。The present invention will be described in detail below. FIG. 1 is an explanatory view showing a pattern forming step of forming a solder resist pattern of the present invention. In FIG.
(A) shows the board | substrate with which the conductor circuit was formed, (b)
Shows the state where the solder resist film was formed in the first step, (c) shows the state where the solder resist pattern was formed in the second step, and (d) was developed in the third step. Indicates the state.
【0008】本発明の方法を、図1によって説明する
と、第1工程において、所定の導体回路2が形成された
プリント基板1の全面に、第1のソルダーレジストイン
キを塗布し、熱により仮乾燥する。それにより、全面に
アルカリ水溶液または溶剤に可溶なソルダーレジスト皮
膜3が形成される。(図1(a)及び(b)参照)この
第1工程における塗布操作は、1度の塗布操作で行って
もよいが、塗布・乾燥を反復して複数回繰返し行っても
よい。塗布は、如何なる方法で行っても良く、例えば、
スクリーン印刷法、オフセット印刷法、スプレー塗布
法、カーテン塗布法等が使用できる。また、仮乾燥は、
加熱することによって行うことができるが、形成される
ソルダーレジスト皮膜が指触乾燥の状態でとどめる必要
がある。ソルダーレジスト皮膜の膜厚は、通常5〜40
μm、特に、5〜20μmの範囲に設定することが好ま
しい。The method of the present invention will be described with reference to FIG. 1. In the first step, the first solder resist ink is applied to the entire surface of the printed circuit board 1 on which a predetermined conductor circuit 2 is formed, and is temporarily dried by heat. To do. As a result, the solder resist film 3 soluble in the alkaline aqueous solution or the solvent is formed on the entire surface. (See FIGS. 1A and 1B.) The coating operation in this first step may be performed once, or may be repeated a plurality of times by repeating coating and drying. The application may be performed by any method, for example,
A screen printing method, an offset printing method, a spray coating method, a curtain coating method and the like can be used. In addition, temporary drying is
It can be performed by heating, but it is necessary that the formed solder resist film is kept dry to the touch. The thickness of the solder resist film is usually 5 to 40
It is preferable to set in the range of 5 μm, particularly 5 to 20 μm.
【0009】第2工程において、上記ソルダーレジスト
皮膜3の上に、第2のソルダーレジストインキを用い
て、所定のパターン印刷を施し、形成されたソルダーレ
ジストパターン4の硬化を行なう(図1(c)参照)。
パターン印刷は、スクリーン印刷法により行われる。ま
た、この硬化は、紫外線を照射することによって行うこ
とができるが、ソルダーレジスト皮膜3のアルカリ水溶
液または溶剤に対する溶解性が保持される程度に実施す
る必要がある。紫外線の照射光源としては、低圧水銀
灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノン
ランプまたはメタルハライドランプ等が使用できる。ま
た、パターン印刷により形成されるレジストパターンの
膜厚は、通常10〜30μm、特に、15〜25μmの
範囲に設定することが好ましい。In the second step, a predetermined pattern is printed on the solder resist film 3 using the second solder resist ink to cure the formed solder resist pattern 4 (see FIG. 1 (c). )reference).
The pattern printing is performed by a screen printing method. Further, this curing can be performed by irradiating with ultraviolet rays, but it is necessary to perform the curing to such an extent that the solubility of the solder resist film 3 in the alkaline aqueous solution or the solvent is maintained. A low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, or the like can be used as the irradiation light source of ultraviolet rays. The film thickness of the resist pattern formed by pattern printing is usually 10 to 30 μm, and preferably 15 to 25 μm.
【0010】次いで、第3工程において、上記のように
第1及び第2のソルダーレジストインキを用いて形成さ
れた皮膜を現像処理する。現像処理は、アルカリ水溶液
または有機溶剤により行われ、それにより、ソルダーレ
ジストパターン4が形成されていない部分が除去される
(図1(d)参照)。Next, in the third step, the film formed using the first and second solder resist inks as described above is developed. The development process is performed with an alkaline aqueous solution or an organic solvent, whereby the portion where the solder resist pattern 4 is not formed is removed (see FIG. 1D).
【0011】最後に、第4工程において、第1及び第2
のソルダーレジストインキで形成されたパターン状のソ
ルダーレジスト皮膜を加熱により後硬化する。加熱手段
としては、特に限定はなく公知のものが使用できる。Finally, in the fourth step, the first and second steps are performed.
The pattern-shaped solder resist film formed with the solder resist ink of (1) is post-cured by heating. The heating means is not particularly limited, and known one can be used.
【0012】次に、上記各工程において使用する材料に
ついて説明する。第1工程において使用する第1のソル
ダーレジストインキは、アルカリまたは溶剤可溶性樹脂
を主成分とし、形成される皮膜が、熱により硬化される
ものであるアルカリまたは溶剤可溶性樹脂は、アルカリ
水溶液または溶剤により溶解、膨潤、剥離のうち少なく
ともいずれかの特性を示し、熱により硬化するものであ
れば、如何なる樹脂成分でも使用することができ、例え
ば、ノボラック樹脂、ロジン樹脂、ロジン変性樹脂、及
びカルボキシル含有重合体などがあげられる。これらの
樹脂は、同時に溶剤可溶性であってもよい。Next, the materials used in the above steps will be described. The first solder resist ink used in the first step has an alkali or solvent-soluble resin as a main component, and the film formed is cured by heat. Any resin component can be used as long as it exhibits at least one of the properties of dissolution, swelling, and peeling and is cured by heat. For example, novolac resin, rosin resin, rosin-modified resin, and carboxyl-containing resin can be used. Examples include coalescing. These resins may simultaneously be solvent soluble.
【0013】ロジン変性樹脂としては、ロジン変性マレ
イン酸樹脂で代表される樹脂で、通常、ロジンに酸やア
ルコールを反応させて変性させたものが使用できる。具
体的には、ハリマックR−80、ハリマック145P
(以上、播磨化成化学工業(株)製)が挙げられる。The rosin-modified resin is a resin represented by a rosin-modified maleic acid resin, and a rosin modified by reacting an acid or an alcohol can be usually used. Specifically, Harimack R-80, Harimack 145P
(These are manufactured by Harima Kasei Chemical Co., Ltd.).
【0014】また、カルボキシル基含有重合体として
は、重合体鎖にカルボキシル基を含有するもので、アク
リル酸、メタクリル酸、マレイン酸などの単量体の単独
重合体またはそれらを、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル等の単量体と共重合させた共重合体等をあ
げることができる。具体的には、SMA−1000、S
MA−2000,SMA−3000(以上、アルコ・ケ
ミカル社製)、ジョンクリル−67(ジョンソンポリマ
ー社製)、CB−MHP、CB−1(新中村化学工業
(株)製)、HOA−MPL(共栄社油脂(株)製)、
ビスコート#2 100(大阪有機化学工業(株)製)
があげられる。The carboxyl group-containing polymer is a polymer containing a carboxyl group in the polymer chain. Homopolymers of monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid or the like, or acrylic acid esters thereof, Examples thereof include copolymers copolymerized with monomers such as methacrylic acid esters. Specifically, SMA-1000, S
MA-2000, SMA-3000 (above, manufactured by Arco Chemical Co., Ltd.), John Cryl-67 (manufactured by Johnson Polymer Co., Ltd.), CB-MHP, CB-1 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), HOA-MPL ( Kyoeisha Yushi Co., Ltd.,
Viscoat # 2 100 (Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)
Can be given.
【0015】さらに、ノボラック樹脂としては、アルカ
リ水溶液に可溶なフェノール樹脂、クレゾール樹脂及び
アルキルフェノール樹脂があげられる。具体的には、フ
ェノールノボラック樹脂には、BRG−556、BRG
−557(昭和高分子社製)、レジンX(三菱油化社
製)が挙げられる。クレゾールノボラック樹脂には、P
SM−2246、PSM−4402(以上、群栄化学社
製)等が挙げられる。また、アルキルフェノール樹脂に
は、MCM−709、MCM−726(以上、昭和高分
子社製)があげられる。Further, examples of the novolak resin include phenol resin, cresol resin and alkylphenol resin which are soluble in an alkaline aqueous solution. Specifically, phenol novolac resin includes BRG-556, BRG
-557 (manufactured by Showa High Polymer Co., Ltd.) and Resin X (manufactured by Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd.). Cresol novolac resin has P
SM-2246, PSM-4402 (above, Gunei Chemical Co., Ltd. make) etc. are mentioned. Further, examples of the alkylphenol resin include MCM-709 and MCM-726 (all manufactured by Showa High Polymer Co., Ltd.).
【0016】溶剤可溶性樹脂としては、フェノール系、
キシレン系、尿素系、メラミン系、エポキシ系、アルキ
ッド系、ビニル系、アクリル系、塩化ゴム系、ポリアミ
ド系、テルペン系、ブチラール系、環化ゴム系、ケトン
系及びセルロース誘導体などをあげられる。その中で
も、ゴム系及びセルロース誘導体などの熱加塑性樹脂
が、特に好ましい。As the solvent-soluble resin, phenol-based resin,
Examples thereof include xylene type, urea type, melamine type, epoxy type, alkyd type, vinyl type, acrylic type, chlorinated rubber type, polyamide type, terpene type, butyral type, cyclized rubber type, ketone type and cellulose derivatives. Among these, heat-plasticizing resins such as rubber-based and cellulose derivatives are particularly preferable.
【0017】フェノール系には、レゾール型フェノール
樹脂と、ノボラック型フェノール樹脂があり、具体的に
は、レゾール型では、スーパーベッカサイト1001、
ノボラック型では、スーパーベッカサイト3011(以
上、大日本インキ化学工業(株)製)があげられる。Phenolic resins include resol-type phenolic resins and novolac-type phenolic resins. Specifically, the resole-type phenolic resins include Super Beckasite 1001,
As the novolac type, Super Beckasite 3011 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) can be mentioned.
【0018】尿素系には、ブチル化尿素樹脂があり、具
体的には、ユーバン10S−60(以上、三井東圧化学
(株)製)があげられる。メラミン系には、ヘキサメト
キシメチロールメラミン、メチル化メラミン等があり、
具体的には、ヘキサメトキシメチロールメラミンとして
は、サイメル300(三井東圧化学(株)製)、ニカラ
ックMW−30(三和ケミカル(株)製)、メチル化メ
ラミンとしては、サイメル301(三井東圧化学(株)
製)があげられる。The urea type includes butylated urea resin, and specific examples thereof include Uban 10S-60 (above, manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.). The melamine system includes hexamethoxymethylol melamine, methylated melamine, etc.,
Specifically, as hexamethoxymethylol melamine, Cymel 300 (manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.), Nikarac MW-30 (manufactured by Sanwa Chemical Co., Ltd.), and as methylated melamine, Cymel 301 (Mitsui East). Pressure Chemical Co., Ltd.
Made).
【0019】アルキッド系には、アルキッド樹脂、変性
アルキッド樹脂等があり、アルキッド樹脂では、ベッコ
ゾールJ−557(大日本インキ化学工業(株)製)、
変性アルキッド樹脂では、ベッコゾールJ−611、ス
チレゾール4440(以上、大日本インキ化学工業
(株)製)があげられる。Alkyd resins include alkyd resins and modified alkyd resins. Among the alkyd resins, Becksol Z-557 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.),
Examples of the modified alkyd resin include Beckosol J-611 and Styresol 4440 (all manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.).
【0020】ブチラール系樹脂には、エスレックBL−
1(積水化学工業(株)製)、デンカブチラール#60
00−C(電気化学工業(株)製)があげられる。ま
た、短時間で硬化し、電気絶縁性、耐熱性、硬さ、密着
性や耐薬品性等が要求されるソルダーレジスト用として
は、特にエポキアクリレート、ウレタンアクリレートが
好ましい。上記、アルカリまたは溶剤可溶性樹脂の含有
量は、インクの固形分に対して10〜50wt%である
ことが好ましい。For butyral resin, S-REC BL-
1 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), Denka Butyral # 60
00-C (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.). Epoxy acrylate and urethane acrylate are particularly preferable for a solder resist which is hardened in a short time and is required to have electric insulation, heat resistance, hardness, adhesion and chemical resistance. The content of the alkali- or solvent-soluble resin is preferably 10 to 50 wt% with respect to the solid content of the ink.
【0021】第1のソルダーレジストインキには、硬化
剤が用いられる。硬化剤は、用いる熱硬化製樹脂に応じ
て適宜選択されるものであり、例えば、エポキシ樹脂で
は、アミン系化合物、酸無水物系化合物、フェノール系
樹脂、ポリアミド系樹脂およびイミダゾール類の中から
1種もしくは2種以上が用いられる。これ等硬化剤の使
用後は、その種類に応じた、また、必要とするゲル化時
間などに応じた通常の使用量でよい。なお、エポキシ樹
脂では、上記硬化剤と共に硬化促進剤を用いる場合があ
るが、その例としては、ジシアンジアミド、イミダゾル
類、アミン類、第3アミン等をあげることができる。A curing agent is used for the first solder resist ink. The curing agent is appropriately selected according to the thermosetting resin to be used. For example, in the case of epoxy resin, 1 is selected from amine compounds, acid anhydride compounds, phenol resins, polyamide resins and imidazoles. One kind or two or more kinds are used. After the use of these curing agents, they may be used in a usual amount depending on the type and required gelling time. In the epoxy resin, a curing accelerator may be used together with the above curing agent, and examples thereof include dicyandiamide, imidazoles, amines, and tertiary amines.
【0022】さらにまた、第1のソルダーレジストイン
キは、充填剤、着色用顔料、消泡剤、過酸化物、チクソ
トロピー剤、レベリング剤或いは密着性付与剤等を添加
しても良い。Furthermore, the first solder resist ink may be added with a filler, a coloring pigment, a defoaming agent, a peroxide, a thixotropic agent, a leveling agent, an adhesion-imparting agent or the like.
【0023】上記の第1のソルダーレジストインキに
は、スクリーン印刷特性を付与するために充填剤とし
て、二酸化ケイ素、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネ
シウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウムなど一般の
樹脂充填剤として使用されているものを含有させること
ができる。その使用量は、アルカリまたは溶剤可溶性樹
脂の合計量に対し、3〜90wt%、望ましくは10〜
30wt%であり、かつその平均粒径は15μ以下のも
のが好ましい。The above first solder resist ink is used as a general resin filler such as silicon dioxide, aluminum silicate, magnesium silicate, aluminum hydroxide and barium sulfate as a filler for imparting screen printing characteristics. What is used can be included. The amount used is 3 to 90 wt% with respect to the total amount of the alkali or solvent-soluble resin, preferably 10 to
It is preferably 30 wt% and the average particle size thereof is 15 μm or less.
【0024】本発明において、第2工程で使用される第
2のソルダーレジストインキは、紫外線および熱により
硬化可能な硬化性樹脂を含有するものであり、公知の光
硬化性樹脂が使用される。より具体的に説明すると、例
えばポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレー
ト、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポ
リエーテルアクリレート、メラミンアクリレート等のア
クリルオリゴマーや光硬化性不飽和ポリエステルなどの
樹脂があげられる。In the present invention, the second solder resist ink used in the second step contains a curable resin curable by ultraviolet rays and heat, and a known photocurable resin is used. More specifically, examples thereof include acrylic acrylate oligomers such as polyol acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, and melamine acrylate, and resins such as photocurable unsaturated polyester.
【0025】第2のソルダーレジストインキは、光感光
性希釈剤および光重合開始剤が使用される。The second solder resist ink contains a photosensitive diluent and a photopolymerization initiator.
【0026】光感光性希釈剤は、樹脂を溶解すると共に
光重合するものであり、使用する樹脂に対応する公知の
光感光性希釈剤が使用される。代表的には、エチレン性
不飽和二重結合を有するビニルモノマーであり、メトキ
シエチルアクリレート(又はメタクリレート)、エトキ
シエチルアクリレート(又はメタクリレート)、ブトキ
シエチルアクリレート(又はメタクリレート)、メトキ
シエトキシエチルアクリレート(又はメタクリレー
ト)、ステアリルアクリレート(又はメタクリレー
ト)、ラウリルアクリレート(又はメタクリレート)、
テトラヒドロフルフリルアクリレート(又はメタクリレ
ート)、ベンジルアクリレート(又はメタクリレー
ト)、フェノキシエチルアクリレート(又はメタクリレ
ート)、2−ヒドロキシエチルアクリロイル(又はメタ
クリロイル)ホスフェート、2−ヒドロキシエチルアク
リレート(又はメタクリレート)、2−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート(又はメタクリレート)、エチレング
リコールジアクリレート(又はジメタクリレート)、ジ
エチレングリコールジアクリレート(又はジメタクリレ
ート)、トリエチレングリコールジアクリレート(又は
メタクリレート)、ポリエチレングリコールジアクリレ
ート(又はジメタクリレート)、プロピレングリコール
ジアクリレート(又はジメタクリレート)、ポリプロピ
レングリコールジアクリレート(又はジメタクリレー
ト)、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(又は
ジメタクリレート)、トリメチロールプロパントリアク
リレート(又はトリメタクリレート)、2−エチルヘキ
シルアクリレート(又はメタクリレート)、1,3−ブ
チレングリコールジアクリレート(又はジメタクリレー
ト)、1,4−ブチレングリコールジアクリレート(又
はジメタクリレート)、ネオベチルグリコールジアクリ
レート(又はジメタクリレート)、ジプロピレングリコ
ールジアクリレート(又はジメタクリレート)、テトラ
メチロールメタントリアクリレート(又はトリメタクリ
レート)、テトラメチロールメタンテトラアクリレート
(又はテトラメタクリレート)、ヒドロキシピバリン酸
ネオペンチルグリコールジアクリレート(又はジメタク
リレート)、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト(又はヘキサメタクリレート)、多塩基酸(又はその
無水物)のヒドロキシアルキルアクリレート(又はメタ
クリレート)半エステル化物等があげられる。これらの
含有量は、特に制限されないが、インクの全固形分に対
して10〜40重量%の範囲が好ましい。The photo-sensitive diluent is one that dissolves the resin and photo-polymerizes, and a known photo-sensitive diluent corresponding to the resin used is used. Typically, a vinyl monomer having an ethylenically unsaturated double bond, methoxyethyl acrylate (or methacrylate), ethoxyethyl acrylate (or methacrylate), butoxyethyl acrylate (or methacrylate), methoxyethoxyethyl acrylate (or methacrylate). ), Stearyl acrylate (or methacrylate), lauryl acrylate (or methacrylate),
Tetrahydrofurfuryl acrylate (or methacrylate), benzyl acrylate (or methacrylate), phenoxyethyl acrylate (or methacrylate), 2-hydroxyethyl acryloyl (or methacryloyl) phosphate, 2-hydroxyethyl acrylate (or methacrylate), 2-hydroxypropyl acrylate (Or methacrylate), ethylene glycol diacrylate (or dimethacrylate), diethylene glycol diacrylate (or dimethacrylate), triethylene glycol diacrylate (or methacrylate), polyethylene glycol diacrylate (or dimethacrylate), propylene glycol diacrylate (or Dimethacrylate), polypropylene glycol diac Rate (or dimethacrylate), 1,6-hexanediol diacrylate (or dimethacrylate), trimethylolpropane triacrylate (or trimethacrylate), 2-ethylhexyl acrylate (or methacrylate), 1,3-butylene glycol diacrylate ( Or dimethacrylate), 1,4-butylene glycol diacrylate (or dimethacrylate), neobetyl glycol diacrylate (or dimethacrylate), dipropylene glycol diacrylate (or dimethacrylate), tetramethylol methane triacrylate (or trimethacrylate). Methacrylate), tetramethylolmethane tetraacrylate (or tetramethacrylate), neopentyl glycol diacrylate hydroxypivalate ( The dimethacrylate), dipentaerythritol hexaacrylate (or hexa methacrylate), hydroxyalkyl acrylates (or methacrylates) semi esterified products of polybasic acids (or their anhydrides) and the like. The content of these is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 40% by weight based on the total solid content of the ink.
【0027】光重合開始剤としては、ベンゾイン、ブナ
ロイン、トリオイン、アセトイン等のα−カルボニルア
ルコール類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベン
ゾインイソブチルエーテル、ピバロインエチルエーテ
ル、アニソインエチルエーテルなどのアシロインエーテ
ル類、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン
等のα−側鎖アシロイン類、9,10−アントラキノ
ン、2−クロルアントラキノン、2−メチルアントラキ
ノン、2−エチルアントラキノン、1,4−ナフトキノ
ン、2,3−ベンゾアントラキノン等の多環キノン類、
ジアセチル、ジベンゾイル、ジフェニルケトン、フェニ
ルグリオキサール、ペンタジオン−2,3、1−フェニ
ルブタンジオン−1,2、オクタジオン−2,3、ジフ
ェニルトリケトン等の置換ポリケトン化合物類、ベンゾ
フェノン、α−プロモアセトフェノン、2−ヒドロキシ
ン−2−メチルプロピオフェノン、4′−イソプロピル
−2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、2,
2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、 p-ter
t- ブチルトリクロロアセトフェノン、p−tert−
ブチルモノクロロアセトフェノン、2,2−ジエトキシ
アセトフェノン、4,4′−ビス−ジアルキルアミノベ
ンゾフェノン類などの芳香族ケトン類などがあげられ
る。Examples of the photopolymerization initiator include α-carbonyl alcohols such as benzoin, bunaroin, trioin and acetoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, pivaloin ethyl ether and anisoinethyl. Acyloin ethers such as ethers, α-methylbenzoin, α-side chain acylosins such as α-phenylbenzoin, 9,10-anthraquinone, 2-chloroanthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 1,4 -Polycyclic quinones such as naphthoquinone and 2,3-benzanthraquinone,
Substituted polyketone compounds such as diacetyl, dibenzoyl, diphenylketone, phenylglyoxal, pentadione-2,3,1-phenylbutanedione-1,2, octadione-2,3, diphenyltriketone, benzophenone, α-promoacetophenone, 2 -Hydroxyne-2-methylpropiophenone, 4'-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 2,
2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, p-ter
t-butyltrichloroacetophenone, p-tert-
Aromatic ketones such as butyl monochloroacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, and 4,4'-bis-dialkylaminobenzophenones are listed.
【0028】また、第2のソルダーレジストインキは、
第1のソルダーレジストインキと同様に、充填剤、着色
用顔料、消泡剤、過酸化物、チキソトロピー剤、レベリ
ング剤或いは密着性付与剤等の添加剤を添加しても良
い。第3工程における現像処理に使用する溶剤として
は、例えば、石油カルビトールアセテート、トリクロロ
エタン等があげられる。また、アルカリ水溶液として
は、苛性ソーダ水溶液、炭酸ソーダ水溶液、メタケイ酸
ソーダ水溶液等が使用できる。The second solder resist ink is
As with the first solder resist ink, additives such as a filler, a coloring pigment, a defoaming agent, a peroxide, a thixotropic agent, a leveling agent or an adhesion-imparting agent may be added. Examples of the solvent used for the developing treatment in the third step include petroleum carbitol acetate and trichloroethane. As the alkaline aqueous solution, a caustic soda aqueous solution, a sodium carbonate aqueous solution, a sodium metasilicate aqueous solution or the like can be used.
【0029】[0029]
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。なお、「部」は、特に断りがない限り「重量部」を
意味する。 実施例1 導体回路が形成されたプリント配線板の全面に、第1の
ソルダーレジストインキ組成物をスクリーン印刷により
塗布、乾燥し、アルカリ可溶性の第一のソルダーレジス
ト皮膜を形成し、80℃、20分乾燥する。ここで使用
した第一ソルダーレジストインキ組成物は、次の組成を
有するものである。 スチレン−マレイン酸樹脂 30部 (SMA−1440、アルコ・ケミカル社製) トリスエポキシプロピルイソシアヌレート 10部 (TEPIC日産化学社製) カルビトールアセテート 20部 (ジュキゾールCA、大阪有機化学工業社製) 硫酸バリウム 28部 石油系ナフサ 12部 (ソルベッソ#150、旭化成工業製)EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples. In addition, "parts" means "parts by weight" unless otherwise specified. Example 1 The first solder resist ink composition was applied by screen printing on the entire surface of a printed wiring board on which a conductor circuit was formed and dried to form an alkali-soluble first solder resist film, and the temperature was kept at 80 ° C., 20 ° C. Dry for minutes. The first solder resist ink composition used here has the following composition. Styrene-maleic acid resin 30 parts (SMA-1440, Alco Chemical Co., Ltd.) Trisepoxypropyl isocyanurate 10 parts (TEPIC Nissan Chemical Co., Ltd.) Carbitol acetate 20 parts (Jukizol CA, Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) Barium sulfate 28 parts Petroleum naphtha 12 parts (Solvesso # 150, Asahi Kasei Corporation)
【0030】次に、上記のソルダーレジスト皮膜上に、
第2のソルダーレジストインキとして、紫外線硬化型ソ
ルダーレジスト(UVR−150G、太陽インキ製造
(株)製)を厚さ15μm〜20μmなるようにスクリ
ーン印刷した。その後、スクリーン印刷で使用されてい
る照射装置を用い、1000mJ/cm2 の光量で塗膜
を硬化した。硬化後、1%の炭酸ソーダ水溶液で30秒
現像し、150℃で30分間熱硬化してソルダーレジス
トパターンを得た。銅箔段差がないため印刷されたソル
ダーパターンには、滲み、エッジ切れがなかった。ま
た、第2のソルダーレジストインキとして、熱硬化性ソ
ルダーレジスト(SGR−100、太陽インキ製造
(株)製)を使用しても同様な効果が得られた。以上述
べたように、本発明の実施例の特徴を従来例と比較して
下記の表1に示す。Next, on the above-mentioned solder resist film,
As the second solder resist ink, an ultraviolet curable solder resist (UVR-150G, manufactured by Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd.) was screen printed to a thickness of 15 μm to 20 μm. Then, the irradiation device used in screen printing was used to cure the coating film with a light amount of 1000 mJ / cm 2 . After curing, it was developed with a 1% aqueous solution of sodium carbonate for 30 seconds and thermally cured at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a solder resist pattern. The printed solder pattern had no bleeding and no edge breakage because there was no copper foil step. The same effect was obtained even when a thermosetting solder resist (SGR-100, manufactured by Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd.) was used as the second solder resist ink. As described above, the characteristics of the embodiment of the present invention are shown in Table 1 below in comparison with the conventional example.
【0031】[0031]
【表1】 [Table 1]
【0032】[0032]
【発明の効果】本発明は、上記表1に示すように、スク
リーン印刷法の場合よりも高い精度を示し、しかも、生
産性は、スクリーン印刷法と同程度で、量産性に優れた
高密度配線板用半田マスクの製造に適している。本発明
によって得られるプリント配線板は、ソルダーレジスト
層が、ソルダーレジスト皮膜とソルダーレジストパター
ンの二層になっているために、電気特性、特に厚み方向
の絶縁性、耐電圧性に非常に優れた特性が得られ、した
がって、電源基板、EMIシールド基板の中間層として
も有用である。さらに、本発明によれば、ソルダーレジ
スト皮膜とソルダーレジストパターンとの選択により、
産業用両面スルーホール基板から民生用片面基板までの
幅広い対応が可能である。As shown in Table 1 above, the present invention exhibits higher accuracy than the screen printing method, and the productivity is the same as that of the screen printing method. Suitable for manufacturing solder masks for wiring boards. The printed wiring board obtained according to the present invention has a solder resist layer having two layers, that is, a solder resist film and a solder resist pattern. Since the characteristics are obtained, it is also useful as an intermediate layer of a power supply board and an EMI shield board. Furthermore, according to the present invention, by selecting the solder resist film and the solder resist pattern,
A wide range of applications from industrial double-sided through-hole boards to consumer single-sided boards are possible.
【図1】本発明のソルダーレジストパターンを形成する
パターン形成過程を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory view showing a pattern forming process for forming a solder resist pattern of the present invention.
1 基板 2 導体回路 3 ソルダーレジスト皮膜 1 substrate 2 conductor circuit 3 solder resist film
Claims (1)
板の全面に、第一のソルダーレジストインキを塗布、熱
により仮乾燥して、アルカリ水溶液または有機溶剤に可
溶性なソルダーレジスト皮膜を形成する工程、(2)形
成されたソルダーレジスト皮膜の上に第二のソルダーレ
ジストインキでパターン印刷を施し、紫外線で硬化する
工程、(3)アルカリ水溶液または有機溶剤で現像処理
を施す工程、および(4)形成されたソルダーレジスト
パターンを加熱して後硬化する工程からなることを特徴
とする導体回路上にソルダーレジストパターンが形成さ
れたプリント配線板の製造方法。(1) A first solder resist ink is applied to the entire surface of a printed circuit board on which a conductor circuit is formed and is temporarily dried by heat to form a solder resist film soluble in an alkaline aqueous solution or an organic solvent. Step (2) pattern printing with a second solder resist ink on the formed solder resist film and curing with ultraviolet rays, (3) developing with an aqueous alkali solution or organic solvent, and (4) ) A method of manufacturing a printed wiring board having a solder resist pattern formed on a conductor circuit, comprising the step of heating the formed solder resist pattern and post-curing the same.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP18706891A JPH05121863A (en) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | Manufacture of printed wiring board |
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-
1991
- 1991-07-02 JP JP18706891A patent/JPH05121863A/en not_active Withdrawn
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