JPH05119282A - Light beam scanning device - Google Patents

Light beam scanning device

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JPH05119282A
JPH05119282A JP3279800A JP27980091A JPH05119282A JP H05119282 A JPH05119282 A JP H05119282A JP 3279800 A JP3279800 A JP 3279800A JP 27980091 A JP27980091 A JP 27980091A JP H05119282 A JPH05119282 A JP H05119282A
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hologram
predetermined angle
rotating plate
scanning device
light
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Shigeo Kayashima
茂生 茅嶌
Shinya Hasegawa
信也 長谷川
Tomoji Maeda
智司 前田
Takakazu Aritake
敬和 有竹
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Fujitsu Ltd
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    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10Scanning systems
    • G02B26/106Scanning systems having diffraction gratings as scanning elements, e.g. holographic scanners

Abstract

PURPOSE:To obtain high diffraction efficiency even in the case of P polarization as well as S polarization and to facilitate peeling at the time of duplication by passing laser light through a hologram twice and making the ratio (lambda/d) of the wavelength lambda of the laser light and the pitch intervals (d) of a hologram diffraction grating small on each-time passage. CONSTITUTION:Although one hologram is conventionally manufactured, two holograms are divisionally manufactured and the lambda/d when the laser light passes them each once is set to 0.4-1.1. On this hologram rotary disk 10, laser light which is made incident on one surface of the substrate is diffracted by the 2nd hologram H2 first, diffracted by the 1st hologram H next, and projected from the other surface of the substrate. Further, the lambda/d of the 1st hologram H1 is, for example, 0.7, so the diffraction efficiency which is almost as high as that of the P polarization is obtained even by the P polarization. Further, the 2nd hologram H2 is so constituted that lambda/d=0.7, so the high diffraction efficiency which is similar to that of the 1st hologram is maintained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光ビーム走査装置、特に
ホログラムを用いてレーザ光を走査する光ビーム走査装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light beam scanning device, and more particularly to a light beam scanning device for scanning a laser beam using a hologram.

【0002】[0002]

【従来の技術】レーザプリンタ、レーザファックスなど
のOA機器、レーザ描画装置、レーザ検査装置等で使用
されるレーザ走査装置としては、従来、回転多面鏡とf
−θレンズとを組み合わせたものが使用されている。し
かし、この方式では、回転多面鏡が高い加工精度を必要
とすること、またf−θレンズは多数のレンズを組み合
わせたものが必要であることから、低価格化が困難であ
る。これに対し、ホログラムを用いたホログラム走査装
置は、複製による大量生産が可能であるため低価格化が
期待できる。
2. Description of the Related Art Laser scanners used in OA equipment such as laser printers and laser fax machines, laser drawing devices, laser inspection devices, etc. have hitherto been known as rotary polygon mirrors and f.
A combination with a -θ lens is used. However, in this method, it is difficult to reduce the cost because the rotary polygon mirror requires high processing accuracy and the f-θ lens requires a combination of many lenses. On the other hand, the hologram scanning device using the hologram can be mass-produced by duplication, and thus the cost reduction can be expected.

【0003】図1は、出願人が先願(特願平3−629
61号)で提案しているホログラム走査装置の一例を示
すものである。図1において、3は感光ドラム、4はそ
の表面の結像面、5はレーザ光の入射波、6及び7は回
折波、10は複数枚のホログラムH(図4)を配置して
成り高速で回転するホログラム回転板、20はホログラ
ム定置板、M1はホログラム回転板10の回転方向、M
2は感光体ドラム20の回転方向、M3はレーザ光によ
る主走査方向、Hはホログラムを示す。このホログラム
走査装置は、図示しない半導体レーザからのレーザ光
(入射波5)が、このレーザ光を走査するためにM1方
向に高速で回転しているホログラム回転板10に入射さ
れ、このホログラム回転板10によって走査されたレー
ザ光(回折波6)を、M3で示すように直線走査を行い
且つ走査速度を一定にするためのホログラム定置板20
を介して、M2方向に回転する感光ドラム3の結像面4
上に収束させる構成を有する。
FIG. 1 shows the applicant's prior application (Japanese Patent Application No. 3-629).
No. 61) shows an example of the hologram scanning device. In FIG. 1, 3 is a photosensitive drum, 4 is an image plane on the surface thereof, 5 is an incident wave of laser light, 6 and 7 are diffracted waves, and 10 is a high speed formed by arranging a plurality of holograms H (FIG. 4). A hologram rotating plate that rotates at 20; a hologram stationary plate 20; M1 a rotating direction of the hologram rotating plate 10;
Reference numeral 2 denotes a rotation direction of the photosensitive drum 20, M3 denotes a main scanning direction by laser light, and H denotes a hologram. In this hologram scanning device, laser light (incident wave 5) from a semiconductor laser (not shown) is incident on a hologram rotating plate 10 rotating at high speed in the M1 direction to scan this laser light, and this hologram rotating plate A hologram stationary plate 20 for linearly scanning the laser beam (diffracted wave 6) scanned by 10 as shown by M3 and keeping the scanning speed constant.
Via the image forming surface 4 of the photosensitive drum 3 which rotates in the direction M2.
It has a configuration that converges upward.

【0004】図2(a)及び(b)はホログラム回転板
10の、基板の平行度による走査線の位置変動を補償す
るための構成を示すものである。図2において、3は感
光ドラム、5は入射波、6及び7は回折波、10はホロ
グラム回転板、20はホログラム定置板、M3は主走査
方向、M4は副走査方向、Hはホログラムを示す。ホロ
グラム回転板10に入射する光ビーム5は、主走査方向
(M3)と直交する方向の副走査方向(M4)で収束す
る光ビームを用いている。この時のレーザ光の波長とホ
ログラム回折格子のピッチ間隔との比率λ/dは1.4
〜1.5である。なお、走査線の位置変動を補償する構
成の詳細については、特願平3−62961号を参照す
べきである。
FIGS. 2A and 2B show a configuration of the hologram rotating plate 10 for compensating for the position variation of the scanning line due to the parallelism of the substrate. In FIG. 2, 3 is a photosensitive drum, 5 is an incident wave, 6 and 7 are diffracted waves, 10 is a hologram rotating plate, 20 is a hologram stationary plate, M3 is a main scanning direction, M4 is a sub scanning direction, and H is a hologram. .. As the light beam 5 incident on the hologram rotating plate 10, a light beam that converges in the sub-scanning direction (M4) orthogonal to the main scanning direction (M3) is used. At this time, the ratio λ / d between the wavelength of the laser light and the pitch interval of the hologram diffraction grating is 1.4.
~ 1.5. Note that Japanese Patent Application No. 3-62961 should be referred to for the details of the configuration for compensating the positional fluctuation of the scanning line.

【0005】図3(a)は、ホログラムとして複製が容
易な表面レリーフ型のものを用いた場合のホログラム回
折効率を示す(APPLIED OPTICSVol. 3, No. 14, 2303-2
310(1984) を参照) 。ホログラム回折効率は、図3
(a)に示すように、λ/dに依存し、その傾向はグレ
ーティング方向と直線偏光の方向が一致する、いわゆる
S偏光と、グレーティング方向と直線偏光の方向が垂直
である、いわゆるP偏光とで異なっていることがわか
る。このため、図3(a)より明らかなように、λ/d
=1.4〜1.5の場合、回折効率を高くするためには
S偏光を用いなければならないことが理解される。な
お、図3(b)はホログラムの断面を示し、dはホログ
ラム回折格子のピッチ間隔、hは回転格子の断面の高さ
を示す。
FIG. 3A shows hologram diffraction efficiency when a surface relief type hologram that is easy to copy is used as a hologram (APPLIED OPTICS Vol. 3, No. 14, 2303-2).
310 (1984)). Figure 3 shows the hologram diffraction efficiency.
As shown in (a), it depends on λ / d, and the tendency is so-called S-polarized light in which the grating direction and the direction of the linearly polarized light coincide, and so-called P-polarized light in which the grating direction and the direction of the linearly polarized light are vertical. You can see that they are different. Therefore, as is clear from FIG. 3A, λ / d
= 1.4 to 1.5, it is understood that S-polarized light must be used to increase the diffraction efficiency. 3 (b) shows the cross section of the hologram, d is the pitch interval of the hologram diffraction grating, and h is the height of the cross section of the rotary grating.

【0006】図4(a)は光源である半導体レーザLの
偏光方向とグレーティングの方向とが平行である場合を
示し、図4(b)は光源である半導体レーザの偏光方向
とグレーティングの方向とが垂直である場合を示す。図
4(a)及び(b)において、10はホログラム回転
板、Lは光源である半導体レーザ、Hはホログラムを示
す。副走査方向で収束するようにビームを照射する場
合、図4(a)では、半導体レーザLは偏光方向での開
口径が短いため、光強度の損失が大きくなる。これに対
し、図4(b)のように入射した場合、開口径が短い方
向、つまり、偏光方向を副走査方向と平行にした方が、
入射する光強度の損失が非常に低下する。しかし、この
場合グレーティング方向と偏光方向とが垂直な、いわゆ
るP偏光となり、図3(a)から理解されるように回折
効率は非常に低下する。
FIG. 4A shows the case where the polarization direction of the semiconductor laser L which is the light source is parallel to the direction of the grating, and FIG. 4B shows the polarization direction and the direction of the grating of the semiconductor laser which is the light source. Is vertical. In FIGS. 4A and 4B, 10 is a hologram rotating plate, L is a semiconductor laser which is a light source, and H is a hologram. In the case of irradiating the beam so as to converge in the sub-scanning direction, in FIG. 4A, the semiconductor laser L has a short aperture diameter in the polarization direction, so that the loss of light intensity increases. On the other hand, when the light enters as shown in FIG. 4B, the direction in which the aperture diameter is short, that is, the polarization direction is parallel to the sub-scanning direction,
The loss of incident light intensity is greatly reduced. However, in this case, so-called P-polarized light, in which the grating direction and the polarization direction are perpendicular to each other, is obtained, and as can be understood from FIG.

【0007】この問題を解決する手段として、半導体レ
ーザLの後方に2分の1波長板(λ/2板)を挿入して
レーザ光の偏光面を90°回転させる方法があるが、こ
の方法ではλ/2板を必要とする分コストが高くなると
いう欠点がある。また、表面レリーフ型ホログラムを複
製する場合、グレーティングの間隔が小さいと、スタン
パと基板との剥離が困難な場合がある。
As a means for solving this problem, there is a method of inserting a half-wave plate (λ / 2 plate) behind the semiconductor laser L and rotating the polarization plane of the laser light by 90 °. However, there is a disadvantage in that the cost becomes high because the λ / 2 plate is required. Also, when replicating a surface relief hologram, if the gap between the gratings is small, it may be difficult to separate the stamper from the substrate.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上記のように、ホログ
ラムを使用した光ビーム走査装置において、ホログラム
回折効率は、レーザ光波長とホログラム回折格子のピッ
チ間隔との比率λ/dに依存し、且つ、いわゆるS偏光
とP偏光とでは大きく異なる。したがって、本発明で
は、レーザ光がホログラムを2回通過するようにして、
1回通過する毎のλ/dを小さくする(例えば0.4≦
λ/d≦1.1程度)ことにより、いわゆるP偏光の場
合でもS偏光の場合と同様の高い回折効率が得られるよ
うにし、更に、複製時の剥離も容易に行えるようにした
光ビーム走査装置を提供することを目的とする。
As described above, in the light beam scanning device using the hologram, the hologram diffraction efficiency depends on the ratio λ / d between the laser light wavelength and the pitch interval of the hologram diffraction grating, and The so-called S-polarized light and P-polarized light are very different. Therefore, in the present invention, the laser light is passed through the hologram twice,
Reduce λ / d for each pass (eg 0.4 ≦
λ / d ≦ 1.1) so that the so-called P-polarized light can obtain the same high diffraction efficiency as that of the S-polarized light, and the light beam scanning can be easily performed at the time of replication. The purpose is to provide a device.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために、請求項1によれば、図7又は図11に示すよ
うに、レーザ光(5)が、透明基板(10)上に作製し
たホログラム(H1、H2)を2回通過するように構成
し、且つ各1回通過する時のレーザ光の波長(λ)とホ
ログラム回折格子のピッチ間隔(d)との比率(λ/
d)を0.4〜1.1の範囲内としたことを特徴とする
光ビーム走査装置が提供される。
In order to solve such problems, according to claim 1, as shown in FIG. 7 or 11, laser light (5) is applied onto a transparent substrate (10). The hologram (H1, H2) thus produced is configured to pass through twice, and the ratio (λ /) between the wavelength (λ) of the laser beam and the pitch interval (d) of the hologram diffraction grating when passing once each time.
There is provided a light beam scanning device characterized in that d) is in the range of 0.4 to 1.1.

【0010】請求項2によれば、図7に示すように、透
明基板(10)の両面にホログラム(H1、H2)を作製
し、レーザ光がそれぞれのホログラムにより1回づつ回
折されるように構成したことを特徴とする請求項1に記
載の光ビーム走査装置が提供される。請求項3によれ
ば、図11に示すように、透明基板(10)の一方の面
にホログラム(H)を作製し、他方の面にミラー(M)
を作製して、ホログラム面(H)で回折したレーザ光が
ミラー(M)で反射し、更に同一のホログラム面(H)
でもう一度回折するように構成したことを特徴とする請
求項1に記載の光ビーム走査装置が提供される。
According to the second aspect, as shown in FIG. 7, holograms (H1, H2) are prepared on both surfaces of the transparent substrate (10) so that the laser beam is diffracted once by each hologram. A light beam scanning device according to claim 1 is provided. According to claim 3, as shown in FIG. 11, the hologram (H) is formed on one surface of the transparent substrate (10) and the mirror (M) is formed on the other surface.
Laser beam diffracted by the hologram surface (H) is reflected by the mirror (M), and the same hologram surface (H) is produced.
The optical beam scanning device according to claim 1, wherein the optical beam scanning device is configured to diffract light again.

【0011】請求項4によれば、ホログラムを作製した
基板をホログラム回転板(10)として用いることを特
徴とする請求項2又は3に記載の光ビーム走査装置が提
供される。請求項5によれば、ホログラムを作製した基
板をホログラム定置板(20)として用いることを特徴
とする請求項2又は3に記載の光ビーム走査装置が提供
される。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the light beam scanning device according to the second or third aspect, wherein the substrate on which the hologram is formed is used as the hologram rotating plate (10). According to claim 5, there is provided the light beam scanning device according to claim 2 or 3, characterized in that a substrate on which a hologram is produced is used as a hologram stationary plate (20).

【0012】請求項6によれば、図1、図7、図11に
示すように、透明基板にホログラムを作製した一方のホ
ログラム板を回転板(10)として構成し、透明基板に
ホログラムを作製した他方のホログラム板を定置板(2
0)として構成し、走査方向(M3)と直交する方向の
副走査方向(M4)で収束するようにレーザ光(5)を
前記ホログラム回転板(10)に入射し、且つ該ホログ
ラム回転板(10)で回折された回折光(6)を前記ホ
ログラム定置板(20)に入射し、その回折光(7)を
結像面(4)に収束させて走査する光ビーム走査装置に
おいて、レーザ光の偏光方向が走査中心のグレーティン
グ方向と垂直となるようにレーザ光(5)を前記ホログ
ラム回転板(10)に入射すると共に、該回転板(1
0)に入射するレーザ光(5)が、該回転板(10)を
構成する透明基板上に作製したホログラム(H1、H2)
を2回通過するように構成し、且つ各1回通過する時の
レーザ光の波長(λ)とホログラム回折格子のピッチ間
隔(d)との比率(λ/d)を0.4〜1.1の範囲内
としたことを特徴とする光ビーム走査装置が提供され
る。
According to claim 6, as shown in FIGS. 1, 7 and 11, one hologram plate having holograms formed on a transparent substrate is constituted as a rotating plate (10), and holograms are produced on the transparent substrate. The other hologram plate that was
0), the laser beam (5) is incident on the hologram rotating plate (10) so as to be converged in the sub-scanning direction (M4) orthogonal to the scanning direction (M3), and the hologram rotating plate (10) is In the light beam scanning device, the diffracted light (6) diffracted by 10) is incident on the hologram stationary plate (20), and the diffracted light (7) is converged on the image plane (4) for scanning. Laser beam (5) is incident on the hologram rotating plate (10) so that the polarization direction of the rotating plate is perpendicular to the grating direction of the scanning center.
Laser light (5) incident on (0) is a hologram (H1, H2) produced on a transparent substrate constituting the rotating plate (10).
Is passed twice, and the ratio (λ / d) between the wavelength (λ) of the laser beam and the pitch interval (d) of the hologram diffraction grating when passing once each is 0.4 to 1. There is provided a light beam scanning device characterized by being within the range of 1.

【0013】請求項7によれば、図6に示すように、回
転板(10)の一方の面上のホログラム(H1)を基板
と垂直な平面波と第1の所定角度(θ1)からなる収差
を持った波とで作製し、該回転板の他方の面上のホログ
ラム(H2)を基板と垂直な平面波と第1の所定角度
(θ1)とは異なる第2の所定角度(θ2)からなる収
差をもった波とで作製することを特徴とする請求項6に
記載の光ビーム走査装置が提供される。
According to claim 7, as shown in FIG. 6, the hologram (H1) on one surface of the rotating plate (10) is an aberration formed by a plane wave perpendicular to the substrate and a first predetermined angle (θ1). And a hologram (H2) on the other surface of the rotating plate is composed of a plane wave perpendicular to the substrate and a second predetermined angle (θ2) different from the first predetermined angle (θ1). The light beam scanning device according to claim 6, wherein the light beam scanning device is manufactured by using a wave having an aberration.

【0014】請求項8によれば、図8に示すように、回
転板(10)の一方の面上のホログラム(H1)を第3
の所定角度(θ3)からなる平面波と第1の所定角度
(θ1)からなる収差を持った波とで作製し、該回転板
の他方の面上のホログラム(H2)を前記第3の所定角
度(θ3)からなる平面波と第1の所定角度(θ1)と
は異なる第2の所定角度(θ2)からなる平面波とで作
製することを特徴とする請求項6に記載の光ビーム走査
装置が提供される。
According to the eighth aspect, as shown in FIG. 8, the hologram (H1) on one surface of the rotating plate (10) is provided with a third hologram.
Of the plane wave having the predetermined angle (θ3) and the wave having the aberration having the first predetermined angle (θ1), and the hologram (H2) on the other surface of the rotating plate is formed by the third predetermined angle. 7. The light beam scanning device according to claim 6, wherein the light beam scanning device is made of a plane wave composed of (θ3) and a plane wave composed of a second predetermined angle (θ2) different from the first predetermined angle (θ1). To be done.

【0015】請求項9によれば、図9に示すように、回
転板(10)の一方の面上のホログラム(H1)を第4
の所定角度(θ4)及び所定の焦点距離(F)からなる
発散球面波と第1の所定角度(θ1)からなる収差を持
った波とで作製し、該回転板の他方の面上のホログラム
(H2)を第3の所定角度(θ3)及び所定の焦点距離
(F)からなる収束球面波と第1の所定角度(θ1)と
は異なる第2の所定角度(θ2)からなる平面波とで作
製することを特徴とする請求項6に記載の光ビーム走査
装置が提供される。
According to the ninth aspect, as shown in FIG. 9, the hologram (H1) on one surface of the rotating plate (10) is formed into a fourth hologram.
Of a diverging spherical wave having a predetermined angle (θ4) and a predetermined focal length (F) and a wave having an aberration having a first predetermined angle (θ1), and a hologram on the other surface of the rotating plate. (H2) is a convergent spherical wave having a third predetermined angle (θ3) and a predetermined focal length (F) and a plane wave having a second predetermined angle (θ2) different from the first predetermined angle (θ1). A light beam scanning device according to claim 6, which is manufactured.

【0016】請求項10によれば、図10に示すよう
に、回転板(10)を構成する透明基板の一方の面にホ
ログラム(H)を作製し、他方の面にミラー(M)を作
製して、ホログラム面(H)で回折したレーザ光がミラ
ー(M)で反射し、更に同一のホログラム面(H)でも
う一度回折するように構成したことを特徴とする請求項
6に記載の光ビーム走査装置が提供される。
According to the tenth aspect, as shown in FIG. 10, the hologram (H) is formed on one surface of the transparent substrate constituting the rotating plate (10) and the mirror (M) is formed on the other surface. 7. The light according to claim 6, wherein the laser light diffracted by the hologram surface (H) is reflected by the mirror (M) and further diffracted again by the same hologram surface (H). A beam scanning device is provided.

【0017】[0017]

【作用】本発明によれば、レーザ光がホログラムを2回
通過し、1回通過する毎のλ/dを小さくする(例えば
0.4≦λ/d≦1.1程度)ことができるので、いわ
ゆるP偏光の場合でもS偏光と同様の高い回折効率を維
持でき、結像面での光量の低下を防止することが可能と
なる。また、ホログラムの空間周波数を大幅に低減する
ことができるので、ホログラムを複製する際のスタンパ
と基板との剥離を容易にすることができる。
According to the present invention, the laser beam passes through the hologram twice, and λ / d can be reduced each time it passes once (for example, 0.4 ≦ λ / d ≦ 1.1). Even in the case of so-called P-polarized light, it is possible to maintain the same high diffraction efficiency as that of S-polarized light, and it is possible to prevent a decrease in the amount of light on the image plane. Further, since the spatial frequency of the hologram can be significantly reduced, it is possible to easily separate the stamper and the substrate when the hologram is duplicated.

【0018】[0018]

【実施例】まず最初、図5において、従来のホログラム
作製方法を示す。図5において、10はホログラム回転
板、12はシリンドリカルレンズ、Oはホログラム回転
板10の回転中心である。この例では、物体波に副走査
方向だけ発散する収差をもった波、参照波に平面波を用
いるものとし、物体波及び参照波の入射角度をそれぞれ
θ1、θ2とする。また、物体波はシリンドリカルレン
ズ12を介して基板上に露光するものとする。
EXAMPLE First, FIG. 5 shows a conventional hologram manufacturing method. In FIG. 5, 10 is a hologram rotating plate, 12 is a cylindrical lens, and O is the rotation center of the hologram rotating plate 10. In this example, a wave having an aberration that diverges in the sub-scanning direction is used as the object wave, and a plane wave is used as the reference wave, and the incident angles of the object wave and the reference wave are θ1 and θ2, respectively. The object wave is exposed on the substrate through the cylindrical lens 12.

【0019】上記公知例では、例えばθ1=24.76 °、
θ2=23.44 °、作製波長λ1=441.6nm 、再生波長λ
1=785.0nm とした場合、ホログラム回転板上のホログ
ラムのλ/d は1.4 となる。この場合、図3から明らか
なようにいわゆるP偏光では高い回折効率が得られない
ことがわかる。P偏光でも高い回折効率を得るためには
λ/dを0.8 程度まで小さくすればよい。
In the above known example, for example, θ1 = 24.76 °,
θ2 = 23.44 °, fabrication wavelength λ1 = 441.6nm, reproduction wavelength λ
When 1 = 785.0 nm, the λ / d of the hologram on the hologram rotating plate is 1.4. In this case, it is clear from FIG. 3 that high diffraction efficiency cannot be obtained with so-called P-polarized light. In order to obtain a high diffraction efficiency even with P-polarized light, it is sufficient to reduce λ / d to about 0.8.

【0020】その1つの手段として、図6に本発明の第
1実施例に係るホログラムの作製方法を示す。図6にお
いて、10はホログラム回転板、12はシリンドリカル
レンズ、Oはホログラム回転板10の回転中心、H1,
H2はホログラムである。この実施例では、従来1枚の
ホログラムであったものを2枚に別けて作製する。第1
のホログラムを、ホログラム透明基板の一方の面上に、
該基板に垂直な平面波(参照波1)と、角度θ1で入射
する収差をもった波(物体波1)とで干渉縞を形成す
る。次に第2のホログラムを、ホログラム透明基板面の
他方の面上に、該基板に垂直な平面波(参照波2)と、
角度θ1とは異なる角度θ2で入射する収差をもった波
(物体波2)とで干渉縞を形成する。これら2枚のホロ
グラムを上記のようにガラス等の透明基板の両面に作製
することで、図7に示すように、1枚のホログラムHの
みが作製されていた従来のホログラム回転板と同じ機能
を持つホログラム回転板を作製することができる。
As one of the means, FIG. 6 shows a hologram manufacturing method according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 6, 10 is a hologram rotating plate, 12 is a cylindrical lens, O is the center of rotation of the hologram rotating plate 10, and H1,
H2 is a hologram. In this embodiment, the hologram which was conventionally one sheet is separately produced into two pieces. First
On one side of the hologram transparent substrate,
An interference fringe is formed by a plane wave (reference wave 1) perpendicular to the substrate and a wave having an aberration (object wave 1) incident at an angle θ1. Next, a second hologram is provided on the other surface of the hologram transparent substrate surface with a plane wave (reference wave 2) perpendicular to the substrate,
An interference fringe is formed by a wave (object wave 2) having an aberration that is incident at an angle θ2 different from the angle θ1. By producing these two holograms on both surfaces of a transparent substrate such as glass as described above, as shown in FIG. 7, the same function as that of a conventional hologram rotating plate in which only one hologram H is produced is obtained. It is possible to manufacture a hologram rotating plate having the same.

【0021】即ち、この実施例のホログラム回転板で
は、基板の一方の面から入射したレーザ光が最初第2の
ホログラム(H2)で回折され、次に第1のホログラム
(H1)で回折されて基板の他方の面から出射される。
しかも、第1のホログラム(H1)のλ/dは0.7で
あるため、図3から明らかなように、P偏光でもS偏光
でも同程度の高い回折効率を得ることができ、更に、第
2のホログラム(H2)もλ/d=0.7であるため、
第1のホログラムと同様の高い回折効率を維持すること
ができる。以上のことから、図7に示すように、従来の
ホログラム回転板と同じ機能を持ち、いわゆるP偏光で
も高い回折効率を得ることができる。また、この実施例
のホログラム回転板は、ガラス等の透明基板の両面から
容易に複製できることから、大量生産に向いており、コ
ストの低減が期待できる。
That is, in the hologram rotating plate of this embodiment, the laser light incident from one surface of the substrate is first diffracted by the second hologram (H2) and then by the first hologram (H1). The light is emitted from the other surface of the substrate.
Moreover, since λ / d of the first hologram (H1) is 0.7, as is clear from FIG. 3, it is possible to obtain the same high diffraction efficiency for both P-polarized light and S-polarized light. Since the hologram (H2) of 2 also has λ / d = 0.7,
It is possible to maintain the same high diffraction efficiency as that of the first hologram. From the above, as shown in FIG. 7, it has the same function as a conventional hologram rotating plate, and it is possible to obtain high diffraction efficiency even with so-called P-polarized light. Further, since the hologram rotating plate of this embodiment can be easily duplicated from both sides of a transparent substrate such as glass, it is suitable for mass production and cost reduction can be expected.

【0022】図8に本発明の第2実施例に係るホログラ
ム作製方法を示す。ホログラムの作製方法は第1実施例
と同様であるが、平面波である参照波(1)及び(2)
を同じ角度(θ3)だけ傾けて露光を行う点のみ第1実
施例と相違する。この第2実施例では、参照波(1)及
び(2)の入射角度(θ3)を変えることにより、ホロ
グラム露光の際に、光学部品のアライメントを容易にす
ることができる。
FIG. 8 shows a hologram manufacturing method according to the second embodiment of the present invention. The hologram manufacturing method is the same as that of the first embodiment, but the reference waves (1) and (2) that are plane waves are used.
Is different from the first embodiment only in that the exposure is performed by inclining by the same angle (θ3). In the second embodiment, by changing the incident angle (θ3) of the reference waves (1) and (2), the alignment of the optical components can be facilitated during hologram exposure.

【0023】図9に本発明の第3実施例に係るホログラ
ム作製方法を示す。この実施例では、参照波(1)は焦
点距離F、所定の角度(θ4)で入射する発散球面波で
ある。参照波(2)は同じ焦点距離F、前記所定の角度
(θ4)で入射する収束球面波である。この第3実施例
では、焦点距離(F)或いは入射角度(θ4)を適当に
変えることにより、ホログラム露光の際に、光学部品の
アライメントを容易にすることができる。
FIG. 9 shows a hologram manufacturing method according to the third embodiment of the present invention. In this embodiment, the reference wave (1) is a divergent spherical wave that is incident at a focal length F and a predetermined angle (θ4). The reference wave (2) is a convergent spherical wave that is incident at the same focal length F and at the predetermined angle (θ4). In the third embodiment, by appropriately changing the focal length (F) or the incident angle (θ4), it is possible to easily align the optical components during hologram exposure.

【0024】図10に第4実施例に係るホログラム作製
方法を示す。これは上記実施例と異なり、1つのホログ
ラムを光が2回通過するものである。即ち、ホログラム
透明基板の一方の面には、第1実施例で述べた第1のホ
ログラムH1と同様、該基板に垂直な平面波(参照波)
と、角度θ1で入射する収差をもった波(物体波)とで
干渉縞を形成してなるホログラムHを形成し、その反対
側面には、ホログラムを作製せずに、アルミニウム蒸着
等でミラーMを形成する。このホログラム回転板ではホ
ログラムHでのλ/dは0.7であるため、P偏光でも
S偏光と同程度の回折効率を得ることができる。
FIG. 10 shows a hologram manufacturing method according to the fourth embodiment. This is different from the above embodiment in that light passes through one hologram twice. That is, as with the first hologram H1 described in the first embodiment, a plane wave (reference wave) perpendicular to the substrate is formed on one surface of the hologram transparent substrate.
And a wave (object wave) having an aberration that is incident at an angle θ1 form a hologram H, and on the opposite side thereof, a mirror M is formed by aluminum vapor deposition or the like without forming a hologram. To form. Since λ / d in the hologram H is 0.7 in this hologram rotating plate, it is possible to obtain a diffraction efficiency similar to that of S-polarized light even with P-polarized light.

【0025】図11(a)及び(b)は図10に示した
第4実施例のホログラム板の作用を従来のホログラム板
と比較して説明する図である。図11(b)に示すよう
に、基板の一方の面のホログラムHで回折した光は基板
の他方の面に形成したミラーMで反射されもう一度同じ
ホログラムHで回折されるため、λ/d=0.7であ
り、高い回折効率を得ることができる。
11 (a) and 11 (b) are views for explaining the action of the hologram plate of the fourth embodiment shown in FIG. 10 in comparison with a conventional hologram plate. As shown in FIG. 11B, the light diffracted by the hologram H on one surface of the substrate is reflected by the mirror M formed on the other surface of the substrate and diffracted again by the same hologram H, so that λ / d = It is 0.7, and high diffraction efficiency can be obtained.

【0026】図12(a)及び(b)に第5実施例に係
るホログラム作製方法を示す。図12(a)のように、
ホログラム定置板20の空間周波数が高い場合は、基板
が長いため、複製するときに、スタンパと基板との剥離
が困難な場合がある。このとき、図12(b)に示すよ
うに、新たな参照波(例えば基板面に直交する平面波)
を加えて、上記実施例と同様にホログラムを作製し、λ
/dを小さくすることで、スタンパと基板との剥離を容
易にすることができる。
FIGS. 12A and 12B show a hologram manufacturing method according to the fifth embodiment. As shown in FIG.
When the spatial frequency of the hologram stationary plate 20 is high, the substrate is long, and thus it may be difficult to separate the stamper and the substrate when copying. At this time, as shown in FIG. 12B, a new reference wave (for example, a plane wave orthogonal to the substrate surface)
Then, a hologram was prepared in the same manner as in the above example, and λ
By reducing / d, the stamper and the substrate can be easily separated.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、いわゆ
るP偏光の場合でもS偏光と同様の高い回折効率を維持
でき、結像面での光量の低下を防止することができる。
また、λ/2板が不要となるので、コストを低減するこ
とが可能となる。更に、ホログラムの空間周波数を約半
分にすることができ、複製時にスタンパと基板との剥離
を容易にすることができる。
As described above, according to the present invention, even in the case of so-called P-polarized light, it is possible to maintain the same high diffraction efficiency as that of S-polarized light, and it is possible to prevent a decrease in the amount of light on the image plane.
Further, since the λ / 2 plate is unnecessary, the cost can be reduced. Further, the spatial frequency of the hologram can be reduced to about half, and the stamper and the substrate can be easily separated from each other during copying.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】出願人が先願(特願平3−62961号)で提
案しているホログラム走査装置の一例を示すものであ
る。
FIG. 1 shows an example of a hologram scanning device proposed by the applicant in a prior application (Japanese Patent Application No. 3-62961).

【図2】(a)及び(b)はホログラム回転板10の、
基板の平行度による走査線の位置変動を補償するための
構成を示すものである。
2A and 2B are diagrams of a hologram rotating plate 10, FIG.
6 illustrates a configuration for compensating for a position variation of a scanning line due to parallelism of a substrate.

【図3】(a)はホログラムとして複製が容易な表面レ
リーフ型のものを用いた場合のホログラム回折効率を示
し、(b)はホログラムの断面を示す。
FIG. 3A shows a hologram diffraction efficiency when a surface relief type hologram that is easy to duplicate is used as a hologram, and FIG. 3B shows a cross section of the hologram.

【図4】(a)は光源である半導体レーザLの偏光方向
とグレーティングの方向とが平行である場合を示し、
(b)は光源である半導体レーザの偏光方向とグレーテ
ィングの方向とが直交する場合を示す。
FIG. 4A shows a case where the polarization direction of a semiconductor laser L, which is a light source, is parallel to the grating direction,
(B) shows the case where the polarization direction of the semiconductor laser as the light source and the direction of the grating are orthogonal to each other.

【図5】従来のホログラム作製方法を示す。FIG. 5 shows a conventional hologram manufacturing method.

【図6】本発明の第1実施例に係るホログラムの作製方
法を示す。
FIG. 6 shows a method of manufacturing a hologram according to the first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第1実施例に係るホログラムの作用を
従来のホログラムと比較して示すもので、(a)は従来
例、(b)は本発明の第1実施例の場合をそれぞれ示
す。
7A and 7B show the operation of the hologram according to the first embodiment of the present invention in comparison with a conventional hologram, FIG. 7A showing a conventional example, and FIG. 7B showing the case of the first embodiment of the present invention. Show.

【図8】本発明の第2実施例に係るホログラム作製方法
を示す。
FIG. 8 shows a hologram manufacturing method according to a second embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第3実施例に係るホログラム作製方法
を示す。
FIG. 9 shows a hologram manufacturing method according to a third embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第4実施例に係るホログラム作製方
法を示す。
FIG. 10 shows a hologram manufacturing method according to a fourth embodiment of the present invention.

【図11】(a)及び(b)は図10に示した第4実施
例のホログラム板の作用を従来のホログラム板と比較し
て説明する図である。
11A and 11B are views for explaining the action of the hologram plate of the fourth embodiment shown in FIG. 10 in comparison with a conventional hologram plate.

【図12】(a)及び(b)に第5実施例に係るホログ
ラム作製方法を示す。
12A and 12B show a hologram manufacturing method according to a fifth embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3…感光ドラム 4…結像面 5…入射波 6,7…回折波 10…ホログラム回転板 12…シリンドリカルレンズ 20…ホログラム定置板 O…ホログラム回転板の回転中心 H,H1,H2…ホログラム M…ミラー 3 ... Photosensitive drum 4 ... Image plane 5 ... Incident wave 6, 7 ... Diffraction wave 10 ... Hologram rotation plate 12 ... Cylindrical lens 20 ... Hologram stationary plate O ... Rotation center of hologram rotation plate H, H1, H2 ... Hologram M ... mirror

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 有竹 敬和 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Keikazu Aritake 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Fujitsu Limited

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザ光(5)が、透明基板(10)上
に作製したホログラム(H1、H2)を2回通過するよう
に構成し、且つ各1回通過する時のレーザ光の波長
(λ)とホログラム回折格子のピッチ間隔(d)との比
率(λ/d)を0.4〜1.1の範囲内としたことを特
徴とする光ビーム走査装置。
1. A laser beam (5) is configured to pass through a hologram (H1, H2) formed on a transparent substrate (10) twice, and the wavelength of the laser beam when passing once each ( A light beam scanning device, characterized in that a ratio (λ / d) between the λ) and the pitch interval (d) of the hologram diffraction grating is within a range of 0.4 to 1.1.
【請求項2】 透明基板(10)の両面にホログラム
(H1、H2)を作製し、レーザ光がそれぞれのホログラ
ムにより1回づつ回折されるように構成したことを特徴
とする請求項1に記載の光ビーム走査装置。
2. The hologram (H1, H2) is produced on both surfaces of the transparent substrate (10), and the laser light is diffracted once by each hologram. Light beam scanning device.
【請求項3】 透明基板(10)の一方の面にホログラ
ム(H)を作製し、他方の面にミラー(M)を作製し
て、ホログラム面(H)で回折したレーザ光がミラー
(M)で反射し、更に同一のホログラム面(H)でもう
一度回折するように構成したことを特徴とする請求項1
に記載の光ビーム走査装置。
3. A hologram (H) is formed on one surface of a transparent substrate (10), a mirror (M) is formed on the other surface, and laser light diffracted by the hologram surface (H) is reflected by the mirror (M). ), And further diffracts again on the same hologram surface (H).
The light beam scanning device according to.
【請求項4】 ホログラムを作製した基板をホログラム
回転板(10)として用いることを特徴とする請求項2
又は3に記載の光ビーム走査装置。
4. The hologram-made substrate is used as a hologram rotating plate (10).
Alternatively, the light beam scanning device according to item 3.
【請求項5】 ホログラムを作製した基板をホログラム
定置板(20)として用いることを特徴とする請求項2
又は3に記載の光ビーム走査装置。
5. A substrate on which a hologram is produced is used as a hologram stationary plate (20).
Alternatively, the light beam scanning device according to item 3.
【請求項6】 透明基板にホログラムを作製した一方の
ホログラム板を回転板(10)として構成し、透明基板
にホログラムを作製した他方のホログラム板を定置板
(20)として構成し、走査方向(M3)と直交する方
向の副走査方向(M4)で収束するようにレーザ光
(5)を前記ホログラム回転板(10)に入射し、且つ
該ホログラム回転板(10)で回折された回折光(6)
を前記ホログラム定置板(20)に入射し、その回折光
(7)を結像面(4)に収束させて走査する光ビーム走
査装置において、レーザ光の偏光方向が走査中心のグレ
ーティング方向と垂直となるようにレーザ光(5)を前
記ホログラム回転板(10)に入射すると共に、該回転
板(10)に入射するレーザ光(5)が、該回転板(1
0)を構成する透明基板上に作製したホログラム(H1、
H2)を2回通過するように構成し、且つ各1回通過す
る時のレーザ光の波長(λ)とホログラム回折格子のピ
ッチ間隔(d)との比率(λ/d)を0.4〜1.1の
範囲内としたことを特徴とする光ビーム走査装置。
6. A hologram plate formed on a transparent substrate is configured as one hologram plate as a rotating plate (10), and another hologram plate formed on a transparent substrate is configured as a stationary plate (20) in the scanning direction ( The laser beam (5) is incident on the hologram rotating plate (10) so as to be converged in the sub-scanning direction (M4) orthogonal to the direction M3), and the diffracted light (diffracted by the hologram rotating plate (10) ( 6)
In the hologram stationary plate (20), the diffracted light (7) is converged on the image plane (4) and scanned, and the polarization direction of the laser light is perpendicular to the grating direction of the scanning center. Laser beam (5) is incident on the hologram rotating plate (10) so that the laser beam (5) is incident on the rotating plate (10).
0) holograms (H1,
H2) is passed twice, and the ratio (λ / d) between the wavelength (λ) of the laser light and the pitch interval (d) of the hologram diffraction grating when passing once each is 0.4 to. 1. A light beam scanning device characterized in that it is within the range of 1.1.
【請求項7】 回転板(10)の一方の面上のホログラ
ム(H1)を、基板と垂直な平面波と第1の所定角度
(θ1)からなる収差を持った波とで作製し、又は第3
の所定角度(θ3)からなる平面波と第1の所定角度
(θ1)からなる収差を持った波とで作製し、該回転板
の他方の面上のホログラム(H2)を、基板と垂直な平
面波と第1の所定角度(θ1)とは異なる第2の所定角
度(θ2)からなる収差をもった波とで作製し、又は前
記第3の所定角度(θ3)からなる平面波と第1の所定
角度(θ1)とは異なる第2の所定角度(θ2)からな
る平面波とで作製することを特徴とする請求項6に記載
の光ビーム走査装置。
7. A hologram (H1) on one surface of a rotating plate (10) is made of a plane wave perpendicular to a substrate and a wave having an aberration of a first predetermined angle (θ1), or Three
Of a plane wave having a predetermined angle (θ3) and a wave having an aberration having a first predetermined angle (θ1), and a hologram (H2) on the other surface of the rotating plate is a plane wave perpendicular to the substrate. And a wave having an aberration of a second predetermined angle (θ2) different from the first predetermined angle (θ1), or a plane wave having the third predetermined angle (θ3) and a first predetermined angle (θ3). 7. The light beam scanning device according to claim 6, wherein the light beam scanning device is manufactured with a plane wave having a second predetermined angle (θ2) different from the angle (θ1).
【請求項8】 回転板(10)の一方の面上のホログラ
ム(H1)を第4の所定角度(θ4)及び所定の焦点距
離(F)からなる発散球面波と第1の所定角度(θ1)
からなる収差を持った波とで作製し、該回転板の他方の
面上のホログラム(H2)を第3の所定角度(θ3)及
び所定の焦点距離(F)からなる収束球面波と第1の所
定角度(θ1)とは異なる第2の所定角度(θ2)から
なる平面波とで作製することを特徴とする請求項6に記
載の光ビーム走査装置。
8. A hologram (H1) on one surface of a rotating plate (10) is provided with a diverging spherical wave having a fourth predetermined angle (θ4) and a predetermined focal length (F) and a first predetermined angle (θ1). )
And a convergent spherical wave having a third predetermined angle (θ3) and a predetermined focal length (F), and a hologram (H2) on the other surface of the rotating plate. 7. The light beam scanning device according to claim 6, wherein the light beam scanning device is manufactured with a plane wave having a second predetermined angle (θ2) different from the predetermined angle (θ1).
【請求項9】 回転板(10)を構成する透明基板の一
方の面にホログラム(H)を作製し、他方の面にミラー
(M)を作製して、ホログラム面(H)で回折したレー
ザ光がミラー(M)で反射し、更に同一のホログラム面
(H)でもう一度回折するように構成したことを特徴と
する請求項6に記載の光ビーム走査装置。
9. A laser diffracted on a hologram surface (H) by forming a hologram (H) on one surface of a transparent substrate constituting a rotating plate (10) and a mirror (M) on the other surface. 7. The light beam scanning device according to claim 6, wherein the light is reflected by the mirror (M) and is diffracted again by the same hologram surface (H).
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