JPH05113415A - Controlling apparatus for x-ray spectroscope - Google Patents
Controlling apparatus for x-ray spectroscopeInfo
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- JPH05113415A JPH05113415A JP3169635A JP16963591A JPH05113415A JP H05113415 A JPH05113415 A JP H05113415A JP 3169635 A JP3169635 A JP 3169635A JP 16963591 A JP16963591 A JP 16963591A JP H05113415 A JPH05113415 A JP H05113415A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、結晶板の回折現象を利
用したX線分光器の制御装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a controller for an X-ray spectroscope utilizing the diffraction phenomenon of a crystal plate.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、X線を使用した測定装置等におい
て、X線分光器を構成する結晶の方位を調節して分光X
線の光軸および波長を所望の値にしても、その測定装置
等の動作中に、分光結晶板上のX線が照射される部分が
高温になるため、その部分が熱膨張して分光結晶板が歪
み、そのため、X線の光軸が変動することがあり、常
時、分光結晶を微調整して光軸を復帰させる作業を余儀
なくされ、分光結晶板を微調整して光軸を正常位置に復
帰させると、X線の波長がずれてしまうという問題があ
った。2. Description of the Related Art Conventionally, in a measuring device or the like using X-rays, the X-ray spectroscope is controlled by adjusting the orientation of the crystals to form a spectroscopic X-ray.
Even if the optical axis and wavelength of the rays are set to desired values, the portion of the dispersive crystal plate irradiated with the X-rays becomes hot during the operation of the measuring device, so that the portion is thermally expanded and the dispersive crystal is dissipated. Since the plate is distorted, the optical axis of the X-ray may fluctuate, and it is always necessary to fine-tune the dispersive crystal to restore the optical axis. However, there was a problem that the wavelength of the X-rays would be shifted when it was returned to.
【0003】また、逆に、X線分光器の分光結晶板の方
位を変えてX線の波長を連続的に掃引すると、各波長ご
とに分光結晶板上にX線が照射される位置が変わるた
め、分光結晶の熱的歪み等により光軸が変動してしまう
という問題もあった。従来、波長や光軸の調整は手動で
行っており、常時調整することはきわめて困難であるた
め、ある程度まで調整した後のずれは容認するのが実情
であった。On the contrary, when the X-ray wavelength is continuously swept by changing the orientation of the X-ray spectroscope crystal plate, the X-ray irradiation position on the X-ray crystal plate changes for each wavelength. Therefore, there is also a problem that the optical axis changes due to thermal distortion of the dispersive crystal. Conventionally, the wavelength and the optical axis are manually adjusted, and it is extremely difficult to always adjust them. Therefore, the actual condition is to allow the deviation after the adjustment to some extent.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
半導体技術等において精度の高い測定を行うことが必要
になったため、X線の波長あるいは光軸を自動的に制御
することができる手段の実現が強く望まれていた。本発
明は、X線の波長と光軸の一方あるいは双方を自動的に
遂次制御し、測定中にX線の波長や光軸がずれる恐れを
なくすることによって、各種の測定において測定結果の
信頼性を向上する手段を提供することを目的とする。However, in recent years,
Since it has become necessary to perform highly accurate measurement in semiconductor technology and the like, realization of means capable of automatically controlling the wavelength or optical axis of X-rays has been strongly desired. The present invention automatically and sequentially controls one or both of the X-ray wavelength and the optical axis to eliminate the risk of the X-ray wavelength and the optical axis being displaced during measurement, and The purpose is to provide means for improving reliability.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明にかかるX線分光
器制御装置においては、結晶板の回折現象によりX線を
分光するX線分光器と、該X線分光器の下流に設置され
たスリットを有するスリット板と、該スリット板の上流
に設置され入射X線の強度を測定する入射X線検出器
と、該スリット板の下流に設置され出射X線の強度を測
定する出射X線検出器と、該X線分光器と入射X線検出
器と出射X線検出器の相互間を接続する制御器とを含む
構成を採用した。In an X-ray spectroscope control device according to the present invention, an X-ray spectroscope that disperses X-rays by a diffraction phenomenon of a crystal plate, and is installed downstream of the X-ray spectroscope. A slit plate having a slit, an incident X-ray detector installed upstream of the slit plate for measuring the intensity of incident X-rays, and an outgoing X-ray detection installed downstream of the slit plate for measuring the intensity of outgoing X-rays. And a controller for connecting the X-ray spectroscope, the incident X-ray detector, and the outgoing X-ray detector to each other.
【0006】上記の場合、入射X線検出器と出射X線検
出器の少なくとも一方を、電離箱、半導体X線検出器、
あるいは、光電子検出器にすることができる。そして、
制御系によって、スリット板から出射される出射X線強
度が最大になるよう、あるいは一定になるように遂次X
線分光器の光軸を制御することができる。そしてまた、
X線分光器としてX線の波長を検出することができるX
線検出器を採用し、このX線検出器の検出信号によって
遂次X線分光器の結晶板の方位を制御して出射されるX
線の波長と光軸を制御することができる。In the above case, at least one of the incident X-ray detector and the outgoing X-ray detector is connected to an ionization chamber, a semiconductor X-ray detector,
Alternatively, it can be a photoelectron detector. And
By the control system, the intensity of the emitted X-ray emitted from the slit plate is gradually increased so that the intensity of the emitted X-ray becomes constant or constant.
The optical axis of the line spectrometer can be controlled. and again,
X that can detect the wavelength of X-rays as an X-ray spectrometer
The X-ray detector is adopted, and the X-ray emitted by controlling the orientation of the crystal plate of the successive X-ray spectrometer by the detection signal of the X-ray detector.
The wavelength of the line and the optical axis can be controlled.
【0007】[0007]
【作用】本発明のように、結晶板の回折現象によりX線
を分光するX線分光器から放出されるX線を、スリット
板のスリットを通過させることによって整形する場合、
このスリット板の上流と下流に設置されたX線検出器に
よってX線の強度を測定し、その測定値によってX線分
光器を制御して光軸を調節すると、装置の動作中に発生
する分光結晶の熱歪みの影響を除去して、常時最大強
度、あるいは、一定強度のX線を得ることができる。When the X-ray emitted from the X-ray spectroscope that disperses the X-ray by the diffraction phenomenon of the crystal plate is shaped by passing through the slit of the slit plate as in the present invention,
The intensity of X-rays is measured by the X-ray detectors installed upstream and downstream of this slit plate, and the X-ray spectroscope is controlled by the measured values to adjust the optical axis. By removing the influence of thermal strain of the crystal, it is possible to always obtain X-rays of maximum intensity or constant intensity.
【0008】また、装置内にX線のフォトンエネルギー
検出器を設置し、その測定値によってX線分光器の結晶
板の方位を制御することによって、X線の波長を一定に
維持することができる。そしてまた、上記のX線強度と
X線の光軸の調整を同時に行うことによって、X線の強
度と光軸を常時一定にすることがき、X線を使用した種
々の測定の信頼性を向上することができる。Further, by installing an X-ray photon energy detector in the apparatus and controlling the orientation of the crystal plate of the X-ray spectrometer by the measured value, the wavelength of X-ray can be kept constant. .. Further, by simultaneously adjusting the X-ray intensity and the optical axis of the X-ray, the intensity of the X-ray and the optical axis can be made constant at all times, and the reliability of various measurements using the X-ray is improved. can do.
【0009】[0009]
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below.
【0010】(第1実施例)図1は、本発明の第1実施
例のX線分光器制御装置の説明図である。この図におい
て、1は電子蓄積リング、2は放射光、3はX線分光
器、4は第1分光結晶板、5は第2分光結晶板、6はX
線、7はスリット板、8はフォトンエネルギー検出器、
9は励起X線、10は電離箱、11は制御器である。(First Embodiment) FIG. 1 is an explanatory diagram of an X-ray spectroscope control apparatus according to the first embodiment of the present invention. In this figure, 1 is an electron storage ring, 2 is synchrotron radiation, 3 is an X-ray spectroscope, 4 is a first dispersive crystal plate, 5 is a second dispersive crystal plate, and 6 is X.
Line, 7 slit plate, 8 photon energy detector,
Reference numeral 9 is an excited X-ray, 10 is an ionization chamber, and 11 is a controller.
【0011】この本発明のX線分光器制御装置におい
て、電子蓄積リング1から放射されるX線から紫外線ま
での波長の電磁波を含む放射光2は、X線分光器3の第
1分光結晶板4と第2分光結晶板5によって回折されて
波長選択され、特定の測定に適する波長のX線6が取り
出される。In the X-ray spectroscope control device of the present invention, the radiated light 2 including the electromagnetic waves having wavelengths from the X-rays to the ultraviolet rays radiated from the electron storage ring 1 is the first dispersive crystal plate of the X-ray spectroscope 3. 4 and the second dispersive crystal plate 5 to diffract and select a wavelength, and an X-ray 6 having a wavelength suitable for a specific measurement is extracted.
【0012】この波長選択されたX線6は、可変スリッ
ト板7のスリットによって適当な大きさの断面に整形さ
れて励起X線9となる。この励起X線9はその下流に設
置された電離箱10を通過して例えば蛍光分析を行う被
測定試料に向かって出射する。The wavelength-selected X-ray 6 is shaped into a cross section of an appropriate size by the slit of the variable slit plate 7 and becomes an excited X-ray 9. The excited X-rays 9 pass through an ionization chamber 10 installed downstream of the excited X-rays 9 and are emitted toward, for example, a sample to be measured for fluorescence analysis.
【0013】可変スリット板8のスリットを通過した励
起X線が、電離箱10を通過する際、電離箱10内の気
体を電離して励起X線9の強度を表す信号を発生し、こ
の信号は制御器11に導かれ、制御信号11から出力さ
れる制御信号によってX線分光器3の光軸を制御して、
出射X線の強度を最大、あるいは、一定に維持すること
ができる。When the excited X-rays that have passed through the slits of the variable slit plate 8 pass through the ionization chamber 10, the gas in the ionization chamber 10 is ionized to generate a signal representing the intensity of the excited X-rays 9, and this signal is generated. Is guided to the controller 11, and controls the optical axis of the X-ray spectrometer 3 by the control signal output from the control signal 11,
The intensity of the emitted X-ray can be maintained at the maximum or constant.
【0014】前記の可変スリット板7のスリットの近傍
には、分光されたX線のフォトンエネルギーを検出する
ことができる半導体検出器等のフォトンエネルギー検出
器8が設置されており、分光されたX線のフォトンエネ
ルギーが常時検出されるようになっている。そして、制
御器11によってこのフォトンエネルギーを波長に換算
し、X線分光器3の第1分光結晶板4と第2分光結晶板
5を制御することによって、X線の波長を一定に保ち、
あるいは、測定の目的に応じてX線の波長を掃引するこ
とができる。なお、X線検出器として光電子放出現象を
利用した光電子検出器を用いることができる。In the vicinity of the slit of the variable slit plate 7, a photon energy detector 8 such as a semiconductor detector capable of detecting the photon energy of dispersed X-rays is installed, and the separated X-rays are separated. The photon energy of the line is always detected. Then, the controller 11 converts the photon energy into a wavelength and controls the first dispersive crystal plate 4 and the second dispersive crystal plate 5 of the X-ray spectroscope 3 to keep the X-ray wavelength constant.
Alternatively, the wavelength of X-ray can be swept according to the purpose of measurement. A photoelectron detector utilizing the photoelectron emission phenomenon can be used as the X-ray detector.
【0015】可変スリット板7のスリットを通過したX
線の光軸を電離箱10によって制御する方法を以下の実
施例で具体的に説明する。X passing through the slit of the variable slit plate 7
A method of controlling the optical axis of the line by the ionization chamber 10 will be specifically described in the following examples.
【0016】(第2実施例)図2は、本発明の第2実施
例のX線分光器制御装置の説明図である。この図におい
て、21は電離箱、22は入射側電離箱、23は出射側
電離箱、24は可変スリット板、25は入射X線、26
は出射X線、27、29は増幅器、28、30はV/F
変換器、31と可変スリットコントローラ、32はX線
分光器、33はフォトンエネルギー検出器、34は制御
器である。(Second Embodiment) FIG. 2 is an explanatory diagram of an X-ray spectroscope control apparatus according to a second embodiment of the present invention. In this figure, 21 is an ionization chamber, 22 is an incident side ionization chamber, 23 is an emission side ionization chamber, 24 is a variable slit plate, 25 is an incident X-ray, 26
Is output X-ray, 27 and 29 are amplifiers, 28 and 30 are V / F
A converter, 31 and a variable slit controller, 32 is an X-ray spectroscope, 33 is a photon energy detector, and 34 is a controller.
【0017】本実施例の構成は図示のとおりであるが、
原理箱21は、入射側電離箱22と出射側電離箱23か
らなり、その間に調整可能なスリットを有する可変スリ
ット板24を具えている。そして、入射側電離箱22に
入射X線25を入射し、可変スリット板24のスリット
を通過させて出射側電離箱23に導き、出射X線26と
して被測定試料面に向けて出射させるようになってい
る。The configuration of this embodiment is as shown in the figure,
The principle box 21 includes an incident side ionization chamber 22 and an emission side ionization chamber 23, and a variable slit plate 24 having an adjustable slit between them. Then, the incident X-ray 25 is made incident on the incident side ionization chamber 22, passes through the slit of the variable slit plate 24, is guided to the emission side ionization chamber 23, and is emitted as the emitted X-ray 26 toward the measured sample surface. Is becoming
【0018】これを制御系についてみると、入射側電離
箱22によって検出された入射X線25のX線強度信号
は増幅器27によって増幅され、V/F変換器28によ
って周波数信号に変換されて制御器34に導かれる。一
方、出射側電離箱23によって検出された出射X線26
の強度信号は増幅器29によって増幅され、V/F変換
器30によって周波数信号に変換されて制御器34に導
かれる。As for the control system, the X-ray intensity signal of the incident X-ray 25 detected by the incident side ionization chamber 22 is amplified by the amplifier 27, converted into a frequency signal by the V / F converter 28, and controlled. To the vessel 34. On the other hand, the emission X-ray 26 detected by the emission side ionization chamber 23
Is amplified by the amplifier 29, converted into a frequency signal by the V / F converter 30, and guided to the controller 34.
【0019】また適宜の場所に設置されたフォトンエネ
ルギー検出器33によって検出されたX線のフォトンエ
ネルギーを表す信号も制御器34に導かれる。A signal representing the photon energy of the X-ray detected by the photon energy detector 33 installed at an appropriate place is also introduced to the controller 34.
【0020】そして、制御器34において、入射側電離
箱22によって検出された入射X線25の強度信号と出
射側電離箱23によって検出された出射X線26の強度
信号を比較処理した制御信号によってX線分光器32の
光軸を制御して、出射X線26が最大になるように制御
する。なお、この場合、測定の態様によっては、出射X
線26を最大にするのではなく、一定にすることもでき
る。The controller 34 compares the intensity signal of the incident X-ray 25 detected by the incident side ionization chamber 22 and the intensity signal of the emitted X-ray 26 detected by the emission side ionization chamber 23 with a control signal. The optical axis of the X-ray spectroscope 32 is controlled so that the emitted X-rays 26 are maximized. In this case, depending on the measurement mode, the output X
Rather than maximizing line 26, it can be constant.
【0021】また、フォトンエネルギー検出器33によ
って検出されたX線のフォトンエネルギーを表す信号に
よってX線分光器32の分光結晶板の方位を制御してX
線の波長を一定にすることができる。なお、この場合、
X線の波長を一定にするのではなく、波長を掃引するよ
うに動作させることもできる。そしてまた、前記のよう
に入射X線25の強度信号と出射X線26の強度信号を
比較処理した制御信号によってX線分光器32の光軸を
制御する際、可変スリット板24のスリットの位置や形
状をも制御することができる。Further, the direction of the dispersive crystal plate of the X-ray spectroscope 32 is controlled by a signal representing the photon energy of the X-rays detected by the photon energy detector 33, and the X-ray spectroscope 32 is controlled.
The wavelength of the line can be constant. In this case,
Instead of keeping the X-ray wavelength constant, it is possible to operate so as to sweep the wavelength. Further, when the optical axis of the X-ray spectroscope 32 is controlled by the control signal obtained by comparing the intensity signal of the incident X-ray 25 and the intensity signal of the outgoing X-ray 26 as described above, the position of the slit of the variable slit plate 24 is controlled. The shape and shape can also be controlled.
【0022】上記のX線強度の制御と波長の制御は、別
々に行うことなく両制御を同時に行うこともできる。The above-mentioned control of the X-ray intensity and control of the wavelength can be performed simultaneously without separately performing them.
【0023】(第3実施例)図3は、本発明の第3実施
例のX線分光器制御装置の説明図である。この図におい
て、41は電離箱、42は可変スリット板、43は二次
元X線検出器、44は入射X線、45は出射X線、46
は可変スリット制御器、47、49はV/F変換器、4
8は増幅器、50はX線分光器、51はフォトンエネル
ギー検出器、52は制御器である。(Third Embodiment) FIG. 3 is an explanatory diagram of an X-ray spectrometer controller according to a third embodiment of the present invention. In this figure, 41 is an ionization chamber, 42 is a variable slit plate, 43 is a two-dimensional X-ray detector, 44 is an incident X-ray, 45 is an outgoing X-ray, and 46.
Is a variable slit controller, 47 and 49 are V / F converters, 4
8 is an amplifier, 50 is an X-ray spectroscope, 51 is a photon energy detector, and 52 is a controller.
【0024】本実施例のX線照射装置が第1実施例のX
線照射装置と異なる主な点は、入射X線を検出する手段
として、電離箱ではなく二次元X線検出器43を用いた
ことである。The X-ray irradiation apparatus of this embodiment is the X-ray irradiation apparatus of the first embodiment.
The main difference from the radiation irradiator is that a two-dimensional X-ray detector 43 is used instead of the ionization chamber as a means for detecting incident X-rays.
【0025】その構成は図示のとおりであるが、電離箱
41のX線入射側に可変スリット板42が配置され、こ
の可変スリット板42の入射側に二次元X線検出器また
は複数個のフォトダイオード素子を二次元的に配列した
X線検出器43が形成されており、スリット板42のス
リットより大きい断面をもつ入射X線44が入射され、
その一部がスリット板42のスリットを通過して電離箱
41を通って出射X線45として被測定試料に向けて出
射されるようになっている。The structure is as shown in the figure, but a variable slit plate 42 is arranged on the X-ray incident side of the ionization chamber 41, and a two-dimensional X-ray detector or a plurality of photo detectors are arranged on the incident side of the variable slit plate 42. An X-ray detector 43 in which diode elements are arranged two-dimensionally is formed, and an incident X-ray 44 having a cross section larger than the slit of the slit plate 42 is incident,
A part thereof passes through the slit of the slit plate 42, passes through the ionization chamber 41, and is emitted as an emitted X-ray 45 toward the sample to be measured.
【0026】そして、可変スリット板42の入射側に形
成された二次元X線検出器43によって検出されたX線
強度を表す信号はV/F変換器47によって周波数信号
に変換され制御器52に導かれる。また、電離箱41に
よって検出された通過X線強度を表す信号は増幅器48
によって増幅され、V/F変換器49によって周波数信
号に変換されて制御器52に導かれる。なお、V/F変
換器49に代えてA/D変換器を使用し、デジタル信号
によって処理することもできる。Then, the signal representing the X-ray intensity detected by the two-dimensional X-ray detector 43 formed on the incident side of the variable slit plate 42 is converted into a frequency signal by the V / F converter 47 and is then sent to the controller 52. Be guided. Further, the signal representing the passing X-ray intensity detected by the ionization chamber 41 is the amplifier 48.
Is amplified, converted into a frequency signal by the V / F converter 49, and guided to the controller 52. It is also possible to use an A / D converter instead of the V / F converter 49 and process it with a digital signal.
【0027】また、X線の照射を受ける適宜の場所に設
置したフォトンエネルギー検出器51によって検出され
た信号も制御器52に導かれる。なお、このフォトンエ
ネルギー検出器51は、可変スリット板42の入射側に
形成された二次元X線検出器43であってもよい。そし
て、制御器52において、前記二次元X線検出器43の
信号と電離箱41の信号を処理し、可変スリット板42
のスリットを通過したX線が出射X線45となって出射
する強度を最大にするようにX線分光器50の光軸を制
御する。A signal detected by the photon energy detector 51 installed at an appropriate location for receiving X-ray irradiation is also guided to the controller 52. The photon energy detector 51 may be the two-dimensional X-ray detector 43 formed on the incident side of the variable slit plate 42. Then, in the controller 52, the signal of the two-dimensional X-ray detector 43 and the signal of the ionization chamber 41 are processed, and the variable slit plate 42 is processed.
The optical axis of the X-ray spectroscope 50 is controlled so that the X-rays that have passed through the slits become the emission X-rays 45 and the intensity of emission is maximized.
【0028】また、フォトンエネルギー検出器51から
の信号を処理し、X線分光器50の分光結晶板の方位を
制御して出射X線45のフォトンエネルギー、すなわ
ち、波長が変動するのを防ぎ、あるいは、このフォトン
エネルギー検出器51によって波長をモニターしながら
出射X線45の波長を掃引することができる。本実施例
においては、電離箱41のX線入射側に2次元X線検出
器43を形成したため、入射X線の正確な位置を検出す
ることができ、より正確なX線の光軸の制御ができる。Further, by processing the signal from the photon energy detector 51 and controlling the orientation of the dispersive crystal plate of the X-ray spectroscope 50, it is possible to prevent the photon energy of the emitted X-rays 45, that is, the wavelength from varying. Alternatively, the wavelength of the emitted X-ray 45 can be swept while monitoring the wavelength by the photon energy detector 51. In the present embodiment, since the two-dimensional X-ray detector 43 is formed on the X-ray incident side of the ionization chamber 41, it is possible to detect the exact position of the incident X-ray and control the optical axis of the X-ray more accurately. You can
【0029】なお、本実施例においては、可変スリット
板42のX線入射側に2次元X線検出器43が形成され
ているため、X線が大気中を通って入射され、大気中の
分子によって散乱され周辺のX線強度が低下するような
強度分布を生じても、この2次元X線検出素子43によ
ってその強度分布を検出し、X線分光器の光軸を制御し
て、最大強度分布のX線が常に可変スリット板42のス
リットを通過するように制御することができる。In this embodiment, since the two-dimensional X-ray detector 43 is formed on the X-ray incident side of the variable slit plate 42, the X-rays are incident through the atmosphere and the molecules in the atmosphere are incident. Even if an intensity distribution is generated which is scattered by the X-rays and the intensity of the surrounding X-rays is reduced, the intensity distribution is detected by the two-dimensional X-ray detection element 43 and the optical axis of the X-ray spectroscope is controlled to obtain the maximum intensity. It is possible to control so that the distributed X-rays always pass through the slits of the variable slit plate 42.
【0030】なお、可変スリット板42のX線入射側に
形成した2次元X線検出器43の信号によって、可変ス
リット制御器46を介して、所望の強度のX線が可変ス
リット板42のスリットを通過するように、可変スリッ
ト板42のスリットの形状と面積を制御することもでき
る。上記の各実施例において、可変スリット板42を使
用しているが、固定スリット板であっても、その構成に
見合う効果を奏することはいうまでもない。An X-ray of a desired intensity is slit by the variable slit controller 46 by the signal of the two-dimensional X-ray detector 43 formed on the X-ray incident side of the variable slit plate 42. It is also possible to control the shape and area of the slit of the variable slit plate 42 so as to pass through. In each of the above embodiments, the variable slit plate 42 is used, but it goes without saying that even a fixed slit plate has an effect commensurate with its configuration.
【0031】[0031]
【発明の効果】本発明によると、励起X線の波長と光軸
を各別に、あるいは、両者共、しかも、自動的に遂次制
御できるから、X線を、常に最大あるいは一定強度で、
または、一定波長、あるいは、波長を掃引して、被測定
試料上の特定の狭い領域に照射することができ、蛍光X
線分析において被測定試料の面内分布測定を容易に行う
ことができ、しかも分光結晶の熱歪みによる強度あるい
は波長のずれを防ぐことができるため測定結果の信頼性
が向上する。According to the present invention, since the wavelength and the optical axis of the excited X-ray can be controlled separately or both of them, and the automatic control can be successively performed, the X-ray is always kept at the maximum or constant intensity.
Alternatively, it is possible to irradiate a specific narrow region on the sample to be measured with a constant wavelength or by sweeping the wavelength, and the fluorescence X
In the line analysis, the in-plane distribution of the sample to be measured can be easily measured, and the intensity or wavelength shift due to the thermal strain of the dispersive crystal can be prevented, so that the reliability of the measurement result is improved.
【0032】また、波長を掃引した場合でも、励起X線
の光軸を一定に保つことができるため、吸収原子周辺の
原子構造を直接的に反映する蛍光EXAFS(Exte
nded X−ray Absorption Fin
e Structure)等の測定においても試料の面
内分布の正確な測定ができる。Further, even when the wavelength is swept, the optical axis of the excitation X-ray can be kept constant, so that the fluorescence EXAFS (ExteX) which directly reflects the atomic structure around the absorbing atom.
Nded X-ray Absorption Fin
The in-plane distribution of the sample can be accurately measured even in measurement such as e Structure).
【図1】本発明の第1実施例のX線分光器制御装置の説
明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of an X-ray spectrometer controller according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第2実施例のX線分光器制御装置の説
明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of an X-ray spectrometer controller according to a second embodiment of the present invention.
【図3】本発明の第3実施例のX線分光器制御装置の説
明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of an X-ray spectrometer controller according to a third embodiment of the present invention.
1 電子蓄積リング 2 放射光 3 X線分光器 4 第1分光結晶板 5 第2分光結晶板 6 X線 7 スリット板 8 フォトンエネルギー検出器 9 励起X線 10 電離箱 11 制御器 1 electron storage ring 2 synchrotron radiation 3 X-ray spectroscope 4 first dispersive crystal plate 5 second dispersive crystal plate 6 X-ray 7 slit plate 8 photon energy detector 9 excited X-ray 10 ionization chamber 11 controller
Claims (6)
X線分光器と、該X線分光器の下流に設置されたスリッ
トを有するスリット板と、該スリット板の上流に設置さ
れ入射X線の強度を測定する入射X線検出器と、該スリ
ット板の下流に設置され出射X線の強度を測定する出射
X線検出器と、該X線分光器と入射X線検出器と出射X
線検出器の相互間を接続する制御系とを有することを特
徴とするX線分光器制御装置。1. An X-ray spectroscope that disperses X-rays by a diffraction phenomenon of a crystal plate, a slit plate having a slit installed downstream of the X-ray spectroscope, and an incident X-axis installed upstream of the slit plate. Incident X-ray detector for measuring the intensity of X-rays, outgoing X-ray detector installed downstream of the slit plate for measuring the intensity of outgoing X-rays, the X-ray spectroscope, incident X-ray detector and outgoing X-rays
An X-ray spectrometer control device, comprising: a control system that connects the line detectors to each other.
くとも一方が電離箱であることを特徴とする請求項1記
載のX線分光器制御装置。2. The X-ray spectroscope control apparatus according to claim 1, wherein at least one of the incident X-ray detector and the outgoing X-ray detector is an ionization chamber.
くとも一方が半導体X線検出器であることを特徴とする
請求項1記載のX線分光器制御装置。3. The X-ray spectroscope control apparatus according to claim 1, wherein at least one of the incident X-ray detector and the outgoing X-ray detector is a semiconductor X-ray detector.
くとも一方が光電子検出器であることを特徴とする請求
項1記載のX線分光器制御装置。4. The X-ray spectrometer controller according to claim 1, wherein at least one of the incident X-ray detector and the outgoing X-ray detector is a photoelectron detector.
から出射される出射X線強度が最大になるように遂次X
線分光器の光軸を制御することを特徴とする請求項1記
載のX線分光器制御装置。5. The control system controls the X-ray so as to maximize the intensity of the emitted X-ray emitted from the slit of the slit plate.
The X-ray spectroscope control device according to claim 1, wherein the optical axis of the line spectroscope is controlled.
X線分光器と、該X線分光器によって分光されたX線の
波長を検出することができるX線検出器を有し、該X線
検出器の検出信号によって遂次X線分光器の結晶板の方
位を制御して出射されるX線の波長と光軸を制御するこ
とを特徴とするX線分光器制御装置。6. An X-ray spectroscope that disperses X-rays by a diffraction phenomenon of a crystal plate, and an X-ray detector that can detect the wavelength of the X-rays dispersed by the X-ray spectroscope, An X-ray spectroscope control device characterized by controlling the orientation of a crystal plate of a successive X-ray spectroscope by a detection signal of the X-ray detector to control the wavelength and optical axis of the emitted X-ray.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3169635A JPH05113415A (en) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | Controlling apparatus for x-ray spectroscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3169635A JPH05113415A (en) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | Controlling apparatus for x-ray spectroscope |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05113415A true JPH05113415A (en) | 1993-05-07 |
Family
ID=15890153
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3169635A Withdrawn JPH05113415A (en) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | Controlling apparatus for x-ray spectroscope |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05113415A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010230481A (en) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Fujitsu Ltd | Sample analyzer and sample analysis method |
-
1991
- 1991-07-10 JP JP3169635A patent/JPH05113415A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010230481A (en) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Fujitsu Ltd | Sample analyzer and sample analysis method |
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