JPH05109115A - Optical information recording medium - Google Patents

Optical information recording medium

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JPH05109115A
JPH05109115A JP3296418A JP29641891A JPH05109115A JP H05109115 A JPH05109115 A JP H05109115A JP 3296418 A JP3296418 A JP 3296418A JP 29641891 A JP29641891 A JP 29641891A JP H05109115 A JPH05109115 A JP H05109115A
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JP
Japan
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recording medium
information recording
optical information
protective layer
resistant protective
Prior art date
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Pending
Application number
JP3296418A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Tsumura
昌弘 津村
Etsuji Akimoto
悦二 秋本
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Daicel Corp
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Sumitomo Chemical Co Ltd
Daicel Chemical Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd, Sumitomo Chemical Co Ltd, Daicel Chemical Industries Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve durability by forming heat resistant protective layers of a mixture composed of elements having >=1600K p. and low-alkalinity glass. CONSTITUTION:This optical information recording medium is constituted successively of the heat resistant protective layer 2, an optically active layer 3, the 2nd heat resistant protective layer 2, and an org. resin protective layer 5 on a substrate 1. The heat resistant protective layers are formed of the low- alkaline glass dispersed with Nb, Mo, Ta, etc. The recording medium having a high CN and small deterioration in characteristics is obtd. and the durability is good. the low-alkaline glass consists essentially of SiO2, BaO, B2O3, Al2O3, etc. The alkaline metal content thereof is <1% in terms of an alkaline metal oxide and the compsn. thereof is 30 to 70% SiO2, 10 to 40% BaO, 5 to 25% B2O3 and 5 to 15% Al2O3.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光情報記録媒体に関す
る。より詳細には、本発明は、その光学活性層に対して
レーザ光を照射することにより任意の情報を書込みある
いは再生し、さらに、記録した情報を消去することもで
きる形式の光情報記録媒体の新規な構成に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical information recording medium. More specifically, the present invention relates to an optical information recording medium of a type capable of writing or reproducing arbitrary information by irradiating the optically active layer with a laser beam and further erasing recorded information. Regarding new configuration.

【0002】[0002]

【従来の技術】大容量且つ高密度な情報記録媒体として
の用途が期待されている光情報記録媒体は、その記録方
式や形状等の違いにより多種のものが開発されている。
中でもレーザー光の照射による記録層の可逆的な相変化
を利用して記録を行う方式は、最も先進的な記録方式と
して実用化に向けた種々の改良が提案されている。
2. Description of the Related Art Various types of optical information recording media, which are expected to be used as large-capacity and high-density information recording media, have been developed depending on differences in their recording systems and shapes.
Among them, the method of recording by utilizing the reversible phase change of the recording layer due to the irradiation of the laser beam, various improvements for practical use have been proposed as the most advanced recording method.

【0003】記録情報の書換えが可能な非破壊方式の光
ディスクにおいては、ポリカーボネイト等の種々の透明
樹脂基板やガラス基板等が用いられているが、特に、廉
価で加工性に優れていることから、透明樹脂基板が広範
に利用されている。
In a non-destructive type optical disc in which recorded information can be rewritten, various transparent resin substrates such as polycarbonate and glass substrates are used, but in particular, they are inexpensive and excellent in processability, Transparent resin substrates are widely used.

【0004】但し、透明樹脂基板は、光情報記録媒体と
しての使用時に照射されるレーザ光によって熱的に損傷
を受ける場合があり、この損傷を防止するために光学活
性層の直上または直下に、酸化物等により形成された耐
熱保護層を設けることが提案されている。具体的には、
SiO2 や窒化シリコン等が耐熱保護層の材料として有効
であるとの報告がある。
However, the transparent resin substrate may be thermally damaged by the laser beam applied when it is used as an optical information recording medium. In order to prevent this damage, the transparent resin substrate may be directly above or directly below the optically active layer. It has been proposed to provide a heat-resistant protective layer made of oxide or the like. In particular,
It has been reported that SiO 2 and silicon nitride are effective materials for the heat-resistant protective layer.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような材料で形成した耐熱保護層を設けた光情報記録媒
体においても、記録情報の書換え回数の増加につれてC
/N比が劣化したり、耐久試験を行うと膜に亀裂が生じ
る等の問題を残している。
However, even in the optical information recording medium provided with the heat-resistant protective layer made of the above-mentioned material, C increases as the number of times of rewriting the recorded information increases.
There are problems such as deterioration of the / N ratio and cracking of the film when a durability test is performed.

【0006】そこで、本発明は、上記従来技術の問題点
を解決し、物理的にも光学的にも耐久性の高い新規な光
情報記録媒体を提供することをその目的としている。
Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art and to provide a novel optical information recording medium having a high physical and optical durability.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】即ち、本発明に従うと、
基板、該基板上に装荷された耐熱保護層と、該耐熱保護
層よりも上層に装荷された光学活性層と、該光学活性層
よりも上層に装荷された物理保護層とを備え、該光学活
性層にレーザ光を照射することにより該光学活性層の光
学定数を変化させて情報を記録する方式の光情報記録媒
体において、該耐熱保護層が、1600K以上の融点をもつ
高融点元素と低アルカリガラスとの混合物により形成さ
れていることを特徴とする光情報記録媒体が提供され
る。
That is, according to the present invention,
A substrate, a heat-resistant protective layer loaded on the substrate, an optically active layer loaded above the heat-resistant protective layer, and a physical protection layer loaded above the optically active layer. In an optical information recording medium of a method of recording information by irradiating the active layer with a laser beam to change the optical constant of the optically active layer, the heat resistant protective layer comprises a high melting point element having a melting point of 1600 K or more and a low melting point element. Provided is an optical information recording medium characterized by being formed of a mixture with an alkali glass.

【0008】[0008]

【作用】本発明に係る光情報記録媒体は、基板の劣化を
防止するために装荷される耐熱保護層が、特定の元素と
低アルカリガラスとの混合物により形成されている点に
その主要な特徴がある。
The main feature of the optical information recording medium according to the present invention is that the heat-resistant protective layer loaded to prevent the deterioration of the substrate is formed of a mixture of a specific element and a low alkali glass. There is.

【0009】即ち、記録用ビームを照射することにより
光学活性層の光学定数を変化させて情報を記録または消
去する方式の光情報記録媒体において、透明樹脂基板と
光学活性層との間、または、光学活性層の直上に設ける
耐熱保護層は、従来酸化物薄膜等により形成されてい
た。しかしながら、このような耐熱保護層を具備した光
情報記録媒体は、情報の書込みと消去とを繰り返すうち
に特性が劣化してしまうことが知られており、実用的な
情報記録媒体としての耐久性が満足されていなかった。
That is, in the optical information recording medium of the type in which the optical constant of the optically active layer is changed by irradiating the recording beam to record or erase information, between the transparent resin substrate and the optically active layer, or The heat-resistant protective layer provided directly on the optically active layer has heretofore been formed of an oxide thin film or the like. However, it is known that the characteristics of an optical information recording medium provided with such a heat-resistant protective layer deteriorates during repeated writing and erasing of information, and durability as a practical information recording medium. Was not satisfied.

【0010】これに対して、本発明に係る光情報記録媒
体では、その耐熱保護層は、融点が1600K以上の高融点
元素と低アルカリガラスとの混合物により形成されてい
る。ここで、融点が1600K以上の元素とは、具体的には
Nb、Mo、Ta、Ti、Cr、Zr、Si等を例示することができる
がこれらに限定されるわけではない。
On the other hand, in the optical information recording medium according to the present invention, the heat resistant protective layer is formed of a mixture of a high melting point element having a melting point of 1600K or more and a low alkali glass. Here, the element having a melting point of 1600 K or more specifically means
Examples thereof include Nb, Mo, Ta, Ti, Cr, Zr, and Si, but are not limited to these.

【0011】即ち、融点が高い元素を分散させた低アル
カリガラスにより形成された耐熱保護層を具備えた光情
報記録媒体はC/N比が高く、また、情報の書込み/消
去を繰り返しても特性の劣化が少ない。更に、具体的に
後述するように、耐久試験によっても、保護層の物理的
な欠陥が生じることがない。
That is, an optical information recording medium equipped with a heat-resistant protective layer formed of a low alkali glass in which an element having a high melting point is dispersed has a high C / N ratio, and even when writing / erasing of information is repeated. Little deterioration in characteristics. Further, as will be specifically described later, the durability test does not cause physical defects in the protective layer.

【0012】上記本発明に係る光情報記録媒体の耐熱保
護層に添加する元素の融点が1600K未満の場合は所期の
効果が得られない。
If the melting point of the element added to the heat-resistant protective layer of the optical information recording medium according to the present invention is less than 1600K, the desired effect cannot be obtained.

【0013】また、低融点ガラスと高融点元素との混合
比は90:10〜30:70(wt%)の範囲内が好ましい。即
ち、混合比が上記範囲を外れた場合は所期の効果が得ら
れない。
The mixing ratio of the low melting point glass and the high melting point element is preferably in the range of 90:10 to 30:70 (wt%). That is, when the mixing ratio is out of the above range, the desired effect cannot be obtained.

【0014】尚、上記本発明に係る光情報記録媒体の耐
熱保護層材料として用いられる低アルカリガラスは、Si
2 、BaO、B2 3 、Al2 3 等を主成分として、ア
ルカリ金属含有率が、アルカリ金属酸化物に換算して1
%未満のものを意味し、その組成はSiO2 が30〜70%、
BaOが10〜40%、B2 3 が5〜25%、Al2 3 が5〜
15%である。
The low alkali glass used as the heat-resistant protective layer material of the optical information recording medium according to the present invention is Si
The main component is O 2 , BaO, B 2 O 3 , Al 2 O 3, etc., and the alkali metal content is 1 in terms of alkali metal oxide.
%, Meaning that the composition of SiO 2 is 30-70%,
BaO is 10~40%, B 2 O 3 is 5~25%, Al 2 O 3 is 5
15%.

【0015】以下、実施例を挙げて本発明をより具体的
に説明するが、以下の開示は本発明の一実施例に過ぎ
ず、本発明の技術的範囲を何ら限定するものではない。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the following disclosure is merely an example of the present invention and does not limit the technical scope of the present invention.

【0016】[0016]

【実施例】【Example】

〔実施例〕図1は、本発明に係る光情報記録媒体の基本
的な構成を示す断面図である。
[Embodiment] FIG. 1 is a sectional view showing the basic structure of an optical information recording medium according to the present invention.

【0017】同図に示すように、この光情報記録媒体
は、基板1上に順次形成された耐熱保護層2、光学活性
層3、第2の耐熱保護層2および有機樹脂保護層5から
構成されている。
As shown in the figure, this optical information recording medium comprises a heat-resistant protective layer 2, an optically active layer 3, a second heat-resistant protective layer 2 and an organic resin protective layer 5 which are sequentially formed on a substrate 1. Has been done.

【0018】ここで、基板1は、一般にディスク状であ
るが、カード状やドラム状であってもよい。基板1を構
成する材料としては、ポリカーボネイト樹脂、ポリメチ
ルメタクリレート樹脂、エポキシ樹脂およびアモルファ
スポリオレフィン樹脂等の透明樹脂材料を好ましく用い
ることができる。また、光学活性層3は、相変化によ屈
折率あるいは消衰係数が大きく変化しかつ相変化が可逆
的で記録消去可能な材料が用いられる。より具体的には
TeGeSb、TeGeSn、TeSb、TeSeSn等のTe系媒体、InSe、In
SbTe、InSb、InSbSe等のIn系媒体等ををげることが出来
る。
Here, the substrate 1 is generally disk-shaped, but may be card-shaped or drum-shaped. As a material for forming the substrate 1, a transparent resin material such as a polycarbonate resin, a polymethylmethacrylate resin, an epoxy resin and an amorphous polyolefin resin can be preferably used. The optically active layer 3 is made of a material that has a large change in refractive index or extinction coefficient due to a phase change and is reversible in the phase change and capable of recording and erasing. More specifically
Te-based media such as TeGeSb, TeGeSn, TeSb, TeSeSn, InSe, In
In-based media such as SbTe, InSb and InSbSe can be used.

【0019】尚、図1に示した構成において第2の耐熱
保護層2を省略する場合もある。
The second heat-resistant protective layer 2 may be omitted in the structure shown in FIG.

【0020】図2は、本発明を適用することができる光
情報記録媒体の他の構成を示す断面図である。同図に示
すように、この光情報記録媒体は、図1に示した光情報
記録媒体の第2の耐熱保護層2と有機樹脂保護層5との
間に反射層4を付加したものである。尚、図2におい
て、図1と共通の構成要素には共通の参照番号を付して
いる。
FIG. 2 is a sectional view showing another structure of the optical information recording medium to which the present invention can be applied. As shown in the figure, this optical information recording medium is one in which a reflective layer 4 is added between the second heat-resistant protective layer 2 and the organic resin protective layer 5 of the optical information recording medium shown in FIG. .. Note that in FIG. 2, common reference numerals are given to constituent elements common to FIG.

【0021】ここで、反射層4の材料としては、Au、A
l、Ag、NiCr等を主成分とした高反射率金属を好適に使
用することができる。
Here, as the material of the reflective layer 4, Au, A
A high-reflectance metal containing l, Ag, NiCr or the like as a main component can be preferably used.

【0022】〔作製例1〕直径130mm のポリカーボネイ
ト樹脂製スパイラル溝付きディスク基板を使用して、図
1に示した構造の光情報記録媒体を実際に光情報記録媒
体を作製した。
[Manufacturing Example 1] An optical information recording medium having the structure shown in FIG. 1 was actually manufactured by using a disk substrate with a spiral groove made of polycarbonate resin having a diameter of 130 mm.

【0023】耐熱保護層を形成するための低アルカリガ
ラスとしては、コーニング社製の#7059を使用した。こ
の製品は下記の組成を含んでいる。 SiO2 :49.2%、 BaO :25.0%、 B2 3 :14.5%、 Al2 3 :10.9%: Na2 O : 0.2%未満、 K2 O : 0.1%未満 このような組成を含む低アルカリガラスとNbとをターゲ
ットとして、2元同時スパッタリング法により基板上に
耐熱保護層を形成した。成膜は4mTorrのアルゴンガス
の存在下で行った。得られた耐熱保護膜は、混合比80:
20wt%の低アルカリガラスとNbとの混合物で、その厚さ
は1000Åであった。
Corning # 7059 was used as the low alkali glass for forming the heat-resistant protective layer. This product contains the following composition: SiO 2: 49.2%, BaO: 25.0%, B 2 O 3: 14.5%, Al 2 O 3: 10.9%: Na 2 O: less than 0.2%, K 2 O: low alkali containing such a composition less than 0.1% A heat-resistant protective layer was formed on the substrate by a binary simultaneous sputtering method using glass and Nb as targets. The film formation was performed in the presence of 4 mTorr of argon gas. The heat-resistant protective film obtained had a mixing ratio of 80:
It was a mixture of 20 wt% low alkali glass and Nb, and its thickness was 1000Å.

【0024】続いて、上述のようにして作製した耐熱保
護層上に、光学活性層として、TeGeSb薄膜(組成比55:
15:30原子%)を、DCスパッタリング法によりにより
成膜した。光学活性層の厚さは 800Åとした。
Then, a TeGeSb thin film (composition ratio 55:
15:30 at.%) Was deposited by the DC sputtering method. The thickness of the optically active layer was 800Å.

【0025】更に、前記した耐熱保護層の成膜と同じ材
料および方法で、上記光学活性層上にも、厚さ1000Åの
第2の耐熱保護層を成膜した後、最後に、紫外線硬化性
樹脂(大日本インキ製SD−301 )をスピンコート法に
よって10μm塗布し、紫外線によりこれを硬化させて保
護層を形成した。
Further, after the second heat-resistant protective layer having a thickness of 1000Å is formed on the optically active layer by using the same material and method as the above-mentioned film formation of the heat-resistant protective layer, finally, the ultraviolet curability is set. A resin (SD-301 manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) was applied to a thickness of 10 μm by a spin coating method, and this was cured by ultraviolet rays to form a protective layer.

【0026】以上のようにして作製した光情報記録媒体
に対して、1800rpm で回転する媒体の回転の中心から60
mmの位置に、波長 830nmの半導体レーザで周波数 3.7M
Hz、duty22%の反復信号を記録した後、この信号の再生
および消去を行う操作を繰り返して実行した。尚、情報
の書込み時の記録パワーは14mW、消去パワーは8mw
とした。このような操作において、再生信号のC/N比
を測定した結果を、初期値と共に表1に示す。
With respect to the optical information recording medium manufactured as described above, 60 ° from the center of rotation of the medium rotating at 1800 rpm
The frequency is 3.7M with a semiconductor laser of wavelength 830nm at the position of mm.
After recording the repetitive signal of Hz and duty22%, the operation of reproducing and erasing this signal was repeated. The recording power when writing information is 14 mW, and the erasing power is 8 mw.
And Table 1 shows the result of measuring the C / N ratio of the reproduced signal in such an operation together with the initial value.

【0027】更に、この光情報記録媒体を、JIS C 0
028 に規定されたZ/ADサイクルテストに付した後、
媒体上に発生しているクラックを計数した。計数結果を
表2に示す。
Further, this optical information recording medium is provided with JIS C 0
After the Z / AD cycle test specified in 028,
The number of cracks generated on the medium was counted. The counting results are shown in Table 2.

【0028】〔比較例1〕作製例1で使用したものと同
じ仕様のディスク基板を使用して、基本的には図1に示
したものと同じ構造の光情報記録媒体を作製した。但
し、耐熱保護層の材料は異なるものを用いた。
Comparative Example 1 An optical information recording medium basically having the same structure as that shown in FIG. 1 was manufactured by using a disk substrate having the same specifications as those used in Manufacturing Example 1. However, different materials were used for the heat-resistant protective layer.

【0029】即ち、本比較例では、4mTorrのArおよび
窒素の混合ガスの存在下で、シリコンターゲットを使用
したRF反応性スパッタリング法を実施することにより
形成した窒化シリコン薄膜を耐熱保護層とした。尚、耐
熱保護層の厚さは1000Åとした。
That is, in this comparative example, a silicon nitride thin film formed by carrying out an RF reactive sputtering method using a silicon target in the presence of a mixed gas of 4 mTorr of Ar and nitrogen was used as a heat resistant protective layer. The heat-resistant protective layer had a thickness of 1000Å.

【0030】続いて、DCスパッタリング法により、作
製例1と同じ仕様の光学活性層を形成した後、再びシリ
コンターゲットを使用して第2の耐熱保護層を成膜し
た。最後に、保護膜として紫外線硬化性樹脂(大日本イ
ンキ製SD−301 )をスピンコート法で10μm塗布した
後紫外線を照射して硬化させ、光情報記録媒体を完成し
た。
Then, an optically active layer having the same specifications as those in Preparation Example 1 was formed by the DC sputtering method, and then a second heat resistant protective layer was formed again using a silicon target. Finally, an ultraviolet curable resin (SD-301 manufactured by Dainippon Ink & Co., Inc.) was applied as a protective film by a spin coating method to a thickness of 10 μm and then irradiated with ultraviolet rays to be cured to complete an optical information recording medium.

【0031】以上のようにして作製した光情報記録媒体
に対して、作製例1と同じ方法で特性および耐久性の評
価を行った。評価結果は、表1および表2に併せて示
す。
The optical information recording medium manufactured as described above was evaluated for characteristics and durability in the same manner as in Manufacturing Example 1. The evaluation results are also shown in Tables 1 and 2.

【0032】〔作製例2〕作製例1および比較例1と同
じ仕様のディスク基板を使用して光情報記録媒体を作製
した。
[Manufacturing Example 2] An optical information recording medium was manufactured using a disk substrate having the same specifications as those in Manufacturing Example 1 and Comparative Example 1.

【0033】SiO2 とNbとをターゲットとして、4mto
rrのアルゴンガスの存在下で、2元同時スパッタ法によ
りSiO2 とNbとの混合物の薄膜(混合比80:20重量%)
により耐熱保護層を形成した。耐熱保護層の厚さは1000
Åとした。
Targeting SiO 2 and Nb, 4 mto
Thin film of mixture of SiO 2 and Nb by binary co-sputtering method in the presence of Ar gas of rr (mixing ratio 80:20 wt%)
To form a heat resistant protective layer. The thickness of the heat-resistant protective layer is 1000
Å

【0034】続いて、DCスパッタ法により、TeGeSb
(組成比55:15:30原子%)からなる耐熱保護層を1000
Å成膜し、最後に、紫外線硬化性樹脂(大日本インキ製
SD−301)をスピンコート法で10μm塗布した後、紫外
線照射により硬化させて保護層とした。
Then, TeGeSb is formed by DC sputtering.
1000 heat resistant protective layer consisting of (composition ratio 55:15:30 atom%)
Å A film was formed, and finally, an ultraviolet curable resin (SD-301 manufactured by Dainippon Ink & Co., Ltd.) was applied in a thickness of 10 μm by a spin coating method, and then cured by ultraviolet irradiation to form a protective layer.

【0035】以上のようにして作製した光情報記録媒体
に対して、作製例1と同じ方法で特性および耐久性の評
価を行った。評価結果は、表1および表2に併せて示
す。
With respect to the optical information recording medium manufactured as described above, the characteristics and durability were evaluated by the same method as in Manufacturing Example 1. The evaluation results are also shown in Tables 1 and 2.

【0036】〔比較例2〕φ130mm ポリカーボネイト樹
脂製スパイラル溝付きディスク基板にSiO2 ターゲット
を用いて4mtorrのアルゴンガス圧力でRFスパッタ法
によりSiO2 からなる耐熱保護層1000Åを成膜し、
[0036] Comparative Example 2 The heat-resistant protective layer 1000Å of SiO 2 was formed by RF sputtering φ130mm polycarbonate resin spiral grooved disc substrate in an argon gas pressure of 4mtorr using SiO 2 target,

【0037】続いてDCスパッタ法によりTeGeSb(組成
比55:15:30原子%)からなる光学活性層を 800Å成膜
した後、再びRFスパッタ法でSiO2 からなる耐熱保護
層を1000Å成膜した。最後に、紫外線硬化性樹脂(大日
本インキ製SD−301 )をスピンコート法で10μm塗布
した後、紫外線照射によりこれを硬化させて保護層とし
た。
Subsequently, 800 Å of an optically active layer of TeGeSb (composition ratio 55:15:30 atom%) was formed by DC sputtering, and then 1000 Å of a heat-resistant protective layer of SiO 2 was formed again by RF sputtering. .. Finally, an ultraviolet curable resin (SD-301 manufactured by Dainippon Ink & Co., Ltd.) was applied by a spin coating method to a thickness of 10 μm and then cured by irradiation with ultraviolet rays to form a protective layer.

【0038】以上のようにして作製した光情報記録媒体
に対して、作製例1と同じ方法で特性および耐久性の評
価を行った。評価結果は、表1および表2に併せて示
す。
The optical information recording medium manufactured as described above was evaluated for characteristics and durability in the same manner as in Manufacturing Example 1. The evaluation results are also shown in Tables 1 and 2.

【0039】〔作製例3〕作製例1および比較例1と同
じ仕様のディスク基板を使用して、図2に示した構造の
光情報記録媒体を作製した。
[Manufacturing Example 3] An optical information recording medium having the structure shown in FIG. 2 was manufactured using a disk substrate having the same specifications as those in Manufacturing Example 1 and Comparative Example 1.

【0040】低アルカリガラス(コーニング社製#705
9)とZrとをターゲットとして、4mtorrのアルゴンガ
スの存在下で2元同時スパッタリング法により、耐熱保
護層となる混合物薄膜(混合比80:20重量%)を成膜し
た。耐熱保護層の厚さは1500Åとした。
Low-alkali glass (Corning # 705
Using 9) and Zr as targets, a mixture thin film (mixing ratio 80: 20% by weight) to be a heat resistant protective layer was formed by a binary simultaneous sputtering method in the presence of 4 mtorr of argon gas. The thickness of the heat-resistant protective layer was 1500Å.

【0041】続いて、DCスパッタ法で、TeGeSb (組成
比55:15:30原子%)からなる厚さ400 Åの光学活性層
を成膜した後、再び2元同時スパッタ法で低アルカリガ
ラスとZrとの混合物薄膜(混合比80:20重量%)により
第2耐熱保護層を成膜した。第2の耐熱保護層の厚さは
400Åとした。
Subsequently, a 400 Å-thick optically active layer of TeGeSb (composition ratio 55:15:30 atom%) was formed by DC sputtering, and then low alkali glass was formed again by binary simultaneous sputtering. The second heat-resistant protective layer was formed from a thin film of a mixture with Zr (mixing ratio 80: 20% by weight). The thickness of the second heat-resistant protective layer is
It was 400Å.

【0042】次に、DCスパッタ法でAlからなる厚さ 3
00Åの反射層を成膜した。最後に、スピンコート法によ
り紫外線硬化性樹脂(大日本インキ製SD−17)を5μ
mの厚さに塗布した後、紫外線照射により硬化させて保
護層とした。
Next, the thickness of Al formed by DC sputtering is 3
A 00Å reflective layer was deposited. Finally, 5 μm of UV curable resin (SD-17 made by Dainippon Ink) was applied by spin coating.
After being applied to a thickness of m, it was cured by ultraviolet irradiation to form a protective layer.

【0043】以上のようにして作製した光情報記録媒体
に対して、作製例1と同じ方法で特性および耐久性の評
価を行った。評価結果は、表1および表2に併せて示
す。
The optical information recording medium manufactured as described above was evaluated for characteristics and durability in the same manner as in Manufacturing Example 1. The evaluation results are also shown in Tables 1 and 2.

【0044】〔比較例3〕作製例3と同じ仕様のディス
ク基板を使用して、図2に示した構造の光情報記録媒体
を作製した。
Comparative Example 3 An optical information recording medium having the structure shown in FIG. 2 was produced using the disk substrate having the same specifications as in Production Example 3.

【0045】シリコンターゲットを用いて、4mtorrの
アルゴンおよび窒素の混合ガスの存在下で、RF反応ス
パッタリング法により、窒化シリコンからなる厚さ1500
Åの耐熱保護層を基板上に成膜した。
Using a silicon target in the presence of a mixed gas of 4 mtorr of argon and nitrogen, RF reactive sputtering was performed to form a silicon nitride film having a thickness of 1500.
A heat resistant protective layer of Å was formed on the substrate.

【0046】続いて、DCスパッタリング法により、Te
GeSb(組成比55:15:30原子%)からなる厚さ 400Åの
光学活性層を成膜した後、再びRF反応スパッタ法で窒
化シリコンからなる第2の耐熱保護層を成膜した。第2
の耐熱保護層の厚さは 400Åとした。
Then, Te is formed by DC sputtering.
After forming a 400 Å-thick optically active layer made of GeSb (composition ratio 55:15:30 atom%), a second heat-resistant protective layer made of silicon nitride was again formed by RF reactive sputtering. Second
The thickness of the heat-resistant protective layer was 400 Å.

【0047】次に、DCスパッタリング法で、Alからな
る厚さ 300Åの反射層を成膜した。最後に、スピンコー
ト法で、厚さ5μmの紫外線硬化性樹脂を(大日本イン
キ製SD−17)を塗布した後、紫外線照射によりこれを
硬化させて保護層とした。
Next, a reflective layer of Al having a thickness of 300Å was formed by DC sputtering. Finally, a 5 μm-thick UV curable resin (SD-17 manufactured by Dainippon Ink & Co., Ltd.) was applied by a spin coating method, and this was cured by UV irradiation to form a protective layer.

【0048】以上のようにして作製した光情報記録媒体
に対して、作製例1と同じ方法で特性および耐久性の評
価を行った。評価結果は、表1および表2に併せて示
す。
The optical information recording medium manufactured as described above was evaluated for characteristics and durability in the same manner as in Manufacturing Example 1. The evaluation results are also shown in Tables 1 and 2.

【0049】[0049]

【表1】 [Table 1]

【0050】[0050]

【表2】 [Table 2]

【0051】[0051]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に従う光情
報記録媒体は、その記録特性に優れていると同時に、耐
久性も優れている。
As described above, the optical information recording medium according to the present invention is excellent not only in its recording characteristics but also in its durability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明が適用可能な光情報記録媒体の典型的な
構造を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a typical structure of an optical information recording medium to which the present invention is applicable.

【図2】本発明が適用可能な光情報記録媒体の他の構造
を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing another structure of the optical information recording medium to which the present invention can be applied.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板、 2 耐熱保護層、3 光
学活性層、 4 反射層、5 有機樹脂保護膜
1 substrate, 2 heat resistant protective layer, 3 optically active layer, 4 reflective layer, 5 organic resin protective film

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板、該基板上に装荷された耐熱保護層
と、該耐熱保護層よりも上層に装荷された光学活性層
と、該光学活性層よりも上層に装荷された物理保護層と
を備え、該光学活性層にレーザ光を照射することにより
該光学活性層の光学定数を変化させて情報を記録する方
式の光情報記録媒体において、 該耐熱保護層が、1600K以上の融点をもつ高融点元素と
低アルカリガラスとの混合物により形成されていること
を特徴とする光情報記録媒体。
1. A substrate, a heat-resistant protective layer loaded on the substrate, an optically active layer loaded above the heat-resistant protective layer, and a physical protection layer loaded above the optically active layer. In the optical information recording medium of the type which records information by changing the optical constant of the optically active layer by irradiating the optically active layer with laser light, the heat resistant protective layer has a melting point of 1600K or more. An optical information recording medium, which is formed of a mixture of a high melting point element and a low alkali glass.
【請求項2】請求項1に記載された光情報記録媒体にお
いて、更に、前記光学活性層と前記物理保護層との間に
第2の耐熱保護層を具備し、該第2の耐熱保護層が、16
00K以上の融点をもつ高融点元素と低アルカリガラスと
の混合物により形成されていることを特徴とする光情報
記録媒体。
2. The optical information recording medium according to claim 1, further comprising a second heat-resistant protective layer between the optically active layer and the physical protective layer, the second heat-resistant protective layer. But 16
An optical information recording medium comprising a mixture of a high melting point element having a melting point of 00K or more and a low alkali glass.
【請求項3】請求項1または請求項2に記載された光情
報記録媒体において、前記光学活性層または前記第2の
耐熱保護層よりも上層に反射層を具備することを特徴と
する光情報記録媒体。
3. The optical information recording medium according to claim 1, further comprising a reflective layer above the optically active layer or the second heat-resistant protective layer. recoding media.
【請求項4】請求項1から請求項3までのいずれか1項
に記載された光情報記録媒体において、前記低アルカリ
ガラスと前記高融点元素との混合比が、重量で90:10〜
30:70の範囲内であることを特徴とする光情報記録媒
体。
4. The optical information recording medium according to any one of claims 1 to 3, wherein a mixing ratio of the low alkali glass and the high melting point element is 90:10 by weight or more.
An optical information recording medium characterized by being in the range of 30:70.
【請求項5】請求項1から請求項4までのいずれか1項
に記載された光情報記録媒体において、前記高融点元素
が、Nb、Mo、Ta、Ti、Cr、Zr、Siからなる群より選ばれ
た元素のうちの少なくとも1種を含むことを特徴とする
光情報記録媒体。
5. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the refractory element is Nb, Mo, Ta, Ti, Cr, Zr or Si. An optical information recording medium comprising at least one element selected from the more selected elements.
【請求項6】請求項1から請求項5までのいずれか1項
に記載された光情報記録媒体において、前記低アルカリ
ガラスのアルカリ金属含有率が、アルカリ金属酸化物に
換算して1%未満であることを特徴とする光情報記録媒
体。
6. The optical information recording medium according to any one of claims 1 to 5, wherein the low alkali glass has an alkali metal content of less than 1% in terms of alkali metal oxide. An optical information recording medium characterized by:
【請求項7】請求項1から請求項6までのいずれか1項
に記載された光情報記録媒体において、前記低アルカリ
ガラスが、SiO2 、BaO、B2 3 またはAl2 3 を主
成分としていることを特徴とする光情報記録媒体。
7. The optical information recording medium according to any one of claims 1 to 6, wherein the low alkali glass is mainly SiO 2 , BaO, B 2 O 3 or Al 2 O 3 . An optical information recording medium characterized by being used as a component.
【請求項8】請求項1から請求項7までのいずれか1項
に記載された光情報記録媒体において、前記低アルカリ
ガラスが、 SiO2 :30〜70%、 BaO :10〜40%、 B2 3 :5〜25%、 Al2 3 :5〜15% を含む組成物を主成分としていることを特徴とする光情
報記録媒体。
8. The optical information recording medium according to any one of claims 1 to 7, wherein the low alkali glass is SiO 2 : 30 to 70%, BaO: 10 to 40%, B An optical information recording medium comprising a composition containing 2 O 3 : 5 to 25% and Al 2 O 3 : 5 to 15% as a main component.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6841217B2 (en) 2002-03-20 2005-01-11 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical information recording medium and method for manufacturing the same
US6858278B2 (en) 2001-12-18 2005-02-22 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Information recording medium and method for producing the same
US6881466B2 (en) 2002-03-19 2005-04-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Information recording medium and method for producing the same

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Effective date: 19990525