JPH05102591A - 狭帯域レ−ザ装置 - Google Patents
狭帯域レ−ザ装置Info
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- JPH05102591A JPH05102591A JP3261885A JP26188591A JPH05102591A JP H05102591 A JPH05102591 A JP H05102591A JP 3261885 A JP3261885 A JP 3261885A JP 26188591 A JP26188591 A JP 26188591A JP H05102591 A JPH05102591 A JP H05102591A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】この発明は、異なるスペクトル幅のレ−ザ光を
選択的に出力させることができるようにした狭帯域レ−
ザ装置を提供することを目的とする。 【構成】気密容器１２の一端側に配設された高反射ミラ
−１９と、複数の分割面を有し気密容器１２の他端側に
おいて高反射ミラ−１９で反射して進行するレ−ザ光の
ビ−ム断面の一部にその分割面を挿入して配設された多
角形プリズム２０と、この多角形プリズム２０の各分割
面で分割されたレ−ザ光の光路にそれぞれ配設され分割
された各レ−ザ光を異なるスペクトル幅で狭帯域化する
複数のエタロン２１、２２と、各エタロンによって狭帯
域化されたレ−ザ光をそれぞれ気密容器１２へ戻す複数
の高反射折返しミラ−２４、２６と、気密容器１２で発
生したレ−ザ光を複数のエタロンのうちの１つだけに入
射させ他のエタロンへ入射するのを阻止するシャッタ２
８とを具備したことを特徴とする。
選択的に出力させることができるようにした狭帯域レ−
ザ装置を提供することを目的とする。 【構成】気密容器１２の一端側に配設された高反射ミラ
−１９と、複数の分割面を有し気密容器１２の他端側に
おいて高反射ミラ−１９で反射して進行するレ−ザ光の
ビ−ム断面の一部にその分割面を挿入して配設された多
角形プリズム２０と、この多角形プリズム２０の各分割
面で分割されたレ−ザ光の光路にそれぞれ配設され分割
された各レ−ザ光を異なるスペクトル幅で狭帯域化する
複数のエタロン２１、２２と、各エタロンによって狭帯
域化されたレ−ザ光をそれぞれ気密容器１２へ戻す複数
の高反射折返しミラ−２４、２６と、気密容器１２で発
生したレ−ザ光を複数のエタロンのうちの１つだけに入
射させ他のエタロンへ入射するのを阻止するシャッタ２
８とを具備したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はレ−ザ光のスペクトル
幅を狭帯域化するための狭帯域レ−ザ装置に関する。
幅を狭帯域化するための狭帯域レ−ザ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レ−ザ光を用いて露光を行う場合、１μ
ｍ程度の微細パタ−ンを精度よく露光するために、たと
えばＫｒＦエキシマレ−ザから出力される短波長（248n
m)のレ−ザ光を用いることが試みられている。
ｍ程度の微細パタ−ンを精度よく露光するために、たと
えばＫｒＦエキシマレ−ザから出力される短波長（248n
m)のレ−ザ光を用いることが試みられている。
【０００３】レ−ザ光の波長が短くなると、いろいろな
材料のレンズを組合わせて色収差補正を行うことが難し
い。そこで、レ−ザ光のスペクトル幅を狭帯域化して取
出し、露光精度の向上を計るようにしている。
材料のレンズを組合わせて色収差補正を行うことが難し
い。そこで、レ−ザ光のスペクトル幅を狭帯域化して取
出し、露光精度の向上を計るようにしている。
【０００４】図４に一般的な狭帯域レ−ザ装置を示す。
同図中１は両端に窓１ａ、１ｂが形成された気密容器で
ある。この気密容器１内にはＮｅ（ネオン）、Ｆ2 （弗
素）およびＫｒ（クリプトン）を所定の割合で混合して
なるガスレ−ザ媒質が充填されている。また、気密容器
１内には一対の主電極２が離間対向して配設されてい
る。これら主電極２に電気エネルギを供給して主放電を
発生させると、上記ガスレ−ザ媒質が励起されてレ−ザ
光Ｌが発生するようになっている。
同図中１は両端に窓１ａ、１ｂが形成された気密容器で
ある。この気密容器１内にはＮｅ（ネオン）、Ｆ2 （弗
素）およびＫｒ（クリプトン）を所定の割合で混合して
なるガスレ−ザ媒質が充填されている。また、気密容器
１内には一対の主電極２が離間対向して配設されてい
る。これら主電極２に電気エネルギを供給して主放電を
発生させると、上記ガスレ−ザ媒質が励起されてレ−ザ
光Ｌが発生するようになっている。
【０００５】上記気密容器１の光軸方向一端側には、レ
−ザ光Ｌを所定のスペクトル幅に狭帯域化する一対のエ
タロン３およびこのエタロン３で狭帯域化されたレ−ザ
光Ｌを上記気密容器１へ戻す高反射ミラ−４とが順次配
設されている。
−ザ光Ｌを所定のスペクトル幅に狭帯域化する一対のエ
タロン３およびこのエタロン３で狭帯域化されたレ−ザ
光Ｌを上記気密容器１へ戻す高反射ミラ−４とが順次配
設されている。
【０００６】上記気密容器１の他端側には出力ミラ−５
が配設されている。この出力ミラ−５からは、上記エタ
ロン３で狭帯域化されて上記高反射ミラ−４によって気
密容器１に戻されることで増幅されたレ−ザ光Ｌが発振
出力されるようになっている。
が配設されている。この出力ミラ−５からは、上記エタ
ロン３で狭帯域化されて上記高反射ミラ−４によって気
密容器１に戻されることで増幅されたレ−ザ光Ｌが発振
出力されるようになっている。
【０００７】このような構成の狭帯域レ−ザ装置におい
て、出力されるレ−ザ光Ｌのスペクトル幅はエタロン３
の特性によって決定される。一方、半導体プロセスにお
ける露光用の光源として上記レ−ザ光Ｌを使用する場
合、ウエハ上に描かれるパタ−ンの線幅によってレ−ザ
光のスペクトル幅が決められる。
て、出力されるレ−ザ光Ｌのスペクトル幅はエタロン３
の特性によって決定される。一方、半導体プロセスにお
ける露光用の光源として上記レ−ザ光Ｌを使用する場
合、ウエハ上に描かれるパタ−ンの線幅によってレ−ザ
光のスペクトル幅が決められる。
【０００８】ところで、上記狭帯域レ−ザ装置において
は、出力されるレ−ザ光Ｌのスペクトル幅を可変とする
ことができない。そのため、レ−ザ光Ｌのスペクトル幅
は、最も狭いパタ−ンを描くために要求される最小のス
ペクトル幅に設定されることになる。
は、出力されるレ−ザ光Ｌのスペクトル幅を可変とする
ことができない。そのため、レ−ザ光Ｌのスペクトル幅
は、最も狭いパタ−ンを描くために要求される最小のス
ペクトル幅に設定されることになる。
【０００９】しかしながら、レ−ザ光Ｌのスペクトル幅
と出力パワ−とはほぼ比例関係にあり、最小のスペクト
ル幅とすると、出力パワ−も低下する。そのため、最小
のスペクトル幅のレ−ザ光Ｌで露光を行うようにする
と、数百ショットを積算しなければならいから、露光時
間が長くなり、生産性の低下を招くことになる。レ−ザ
光Ｌのスペクトル幅を最小よりも大きくすれば、最小の
スペクトル幅のレ−ザ光Ｌで露光を行う場合に比べて積
算ショット数を少なくし、生産性の向上を計ることがで
きるが、その場合には半導体プロセスで要求される最も
狭い幅のパタ−ンを刻むことができなくなる。
と出力パワ−とはほぼ比例関係にあり、最小のスペクト
ル幅とすると、出力パワ−も低下する。そのため、最小
のスペクトル幅のレ−ザ光Ｌで露光を行うようにする
と、数百ショットを積算しなければならいから、露光時
間が長くなり、生産性の低下を招くことになる。レ−ザ
光Ｌのスペクトル幅を最小よりも大きくすれば、最小の
スペクトル幅のレ−ザ光Ｌで露光を行う場合に比べて積
算ショット数を少なくし、生産性の向上を計ることがで
きるが、その場合には半導体プロセスで要求される最も
狭い幅のパタ−ンを刻むことができなくなる。
【００１０】一方、半導体プロセス上、最小スペクトル
幅のレ−ザ光Ｌが必要とされるプロセスは、全体のごく
一部である。したがって、各プロセスで要求されるスペ
クトル幅に応じてレ−ザ光Ｌのスペクトル幅を制御する
ことができれば、生産性を大幅に向上させることが可能
となる。
幅のレ−ザ光Ｌが必要とされるプロセスは、全体のごく
一部である。したがって、各プロセスで要求されるスペ
クトル幅に応じてレ−ザ光Ｌのスペクトル幅を制御する
ことができれば、生産性を大幅に向上させることが可能
となる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の狭
帯域レ−ザ装置は、一定のスペクトル幅のレ−ザ光だけ
しか出力させることができなかったので、露光精度の向
上と生産性の向上との両者を満足することができなかっ
た。
帯域レ−ザ装置は、一定のスペクトル幅のレ−ザ光だけ
しか出力させることができなかったので、露光精度の向
上と生産性の向上との両者を満足することができなかっ
た。
【００１２】この発明は上記事情にもとずきなされたも
ので、その目的とするところは、レ−ザ光のスペクトル
幅を使用条件に応じて変えることができるようにした狭
帯域レ−ザ装置を提供することにある。
ので、その目的とするところは、レ−ザ光のスペクトル
幅を使用条件に応じて変えることができるようにした狭
帯域レ−ザ装置を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
にこの発明は、ガスレ−ザ媒質が封入された気密容器
と、上記ガスレ−ザ媒質を励起してレ−ザ光を発生させ
る励起手段と、上記気密容器で発生するレ−ザ光の光軸
上で上記気密容器の一端側に配設された高反射ミラ−
と、複数の分割面を有し上記気密容器の他端側において
上記高反射ミラ−で反射して進行するレ−ザ光のビ−ム
断面の一部に上記複数の分割面を挿入して配設された多
角形プリズムと、この多角形プリズムの各分割面で分割
されたレ−ザ光の光路にそれぞれ配設され分割された各
レ−ザ光を異なるスペクトル幅で狭帯域化する複数の狭
帯域化手段と、各狭帯域化手段に対向して配設されこれ
ら狭帯域化手段によって狭帯域化されたレ−ザ光をそれ
ぞれ上記気密容器へ戻す複数の高反射折返しミラ−と、
上記気密容器で発生したレ−ザ光を上記複数の狭帯域化
手段のうちの１つだけに入射させ他の狭帯域化手段へ入
射するのを阻止する選択手段とを具備したことを特徴と
する。
にこの発明は、ガスレ−ザ媒質が封入された気密容器
と、上記ガスレ−ザ媒質を励起してレ−ザ光を発生させ
る励起手段と、上記気密容器で発生するレ−ザ光の光軸
上で上記気密容器の一端側に配設された高反射ミラ−
と、複数の分割面を有し上記気密容器の他端側において
上記高反射ミラ−で反射して進行するレ−ザ光のビ−ム
断面の一部に上記複数の分割面を挿入して配設された多
角形プリズムと、この多角形プリズムの各分割面で分割
されたレ−ザ光の光路にそれぞれ配設され分割された各
レ−ザ光を異なるスペクトル幅で狭帯域化する複数の狭
帯域化手段と、各狭帯域化手段に対向して配設されこれ
ら狭帯域化手段によって狭帯域化されたレ−ザ光をそれ
ぞれ上記気密容器へ戻す複数の高反射折返しミラ−と、
上記気密容器で発生したレ−ザ光を上記複数の狭帯域化
手段のうちの１つだけに入射させ他の狭帯域化手段へ入
射するのを阻止する選択手段とを具備したことを特徴と
する。
【００１４】
【作用】上記構成によれば、選択手段によって狭帯域化
されるレ−ザ光が入射する狭帯域化手段を選択すれば、
その狭帯域化手段のもつ特性に応じたスペクトル幅のレ
−ザ光を出力させることができる。
されるレ−ザ光が入射する狭帯域化手段を選択すれば、
その狭帯域化手段のもつ特性に応じたスペクトル幅のレ
−ザ光を出力させることができる。
【００１５】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図１と図２を参
照して説明する。図２は露光用光源として用いられる狭
帯域レ−ザ装置の概略的構成を示し、同図中１１は装置
本体である。この装置本体１１には内部にＮｅ、Ｆ2 お
よびＫｒを所定の割合で混合したガスレ−ザ媒質が充填
された気密容器１２が設けられている。この気密容器１
２の軸方向両端にはそれぞれ窓１３ａ、１３ｂが形成さ
れている。また、気密容器１２の内部には一対の主電極
１４が離間対向して配設されている。これら主電極１４
には、装置本体１１に設けられた高圧電源部１５から電
気エネルギが供給される。それによって、一対の主電極
１４間の放電空間部１６には主放電が点弧され、その主
放電によってガスレ−ザ媒質が励起されてビ−ム断面が
矩形をなしたレ−ザ光Ｌを発生させることができるよう
になっている。
照して説明する。図２は露光用光源として用いられる狭
帯域レ−ザ装置の概略的構成を示し、同図中１１は装置
本体である。この装置本体１１には内部にＮｅ、Ｆ2 お
よびＫｒを所定の割合で混合したガスレ−ザ媒質が充填
された気密容器１２が設けられている。この気密容器１
２の軸方向両端にはそれぞれ窓１３ａ、１３ｂが形成さ
れている。また、気密容器１２の内部には一対の主電極
１４が離間対向して配設されている。これら主電極１４
には、装置本体１１に設けられた高圧電源部１５から電
気エネルギが供給される。それによって、一対の主電極
１４間の放電空間部１６には主放電が点弧され、その主
放電によってガスレ−ザ媒質が励起されてビ−ム断面が
矩形をなしたレ−ザ光Ｌを発生させることができるよう
になっている。
【００１６】また、上記装置本体１１には上記気密容器
１２にガスレ−ザ媒質を供給および排出する給排気部１
７、この給排気部１７や上記高圧電源部１５などを制御
する制御装置１８が設けられている。
１２にガスレ−ザ媒質を供給および排出する給排気部１
７、この給排気部１７や上記高圧電源部１５などを制御
する制御装置１８が設けられている。
【００１７】上記気密容器１２の一方の窓１３ａに対向
する部位には高反射ミラ−１９が配設され、他方の窓１
３ｂに対向する部位には断面五角形をなした多角形プリ
ズム２０が配設されている。つまり、この多角形プリズ
ム２０は、一側が平面２０ａに形成され、他側には第１
の分割面２０ｂと第２の分割面２０ｃとが所定の角度で
屈曲して形成されている。そして、この多角形プリズム
２０は、その第１の分割面２０ｂと第２の分割面２０ｃ
とをレ−ザ光Ｌの矩形ビ−ムの断面内の一部に挿入して
配設されている。つまり、上記気密容器１２からのレ−
ザ光Ｌの一部は上記第１の分割面２０ｂと第２の分割面
２０ｃとに入射して分割され、それぞれ別の光路をとる
ようになっている。
する部位には高反射ミラ−１９が配設され、他方の窓１
３ｂに対向する部位には断面五角形をなした多角形プリ
ズム２０が配設されている。つまり、この多角形プリズ
ム２０は、一側が平面２０ａに形成され、他側には第１
の分割面２０ｂと第２の分割面２０ｃとが所定の角度で
屈曲して形成されている。そして、この多角形プリズム
２０は、その第１の分割面２０ｂと第２の分割面２０ｃ
とをレ−ザ光Ｌの矩形ビ−ムの断面内の一部に挿入して
配設されている。つまり、上記気密容器１２からのレ−
ザ光Ｌの一部は上記第１の分割面２０ｂと第２の分割面
２０ｃとに入射して分割され、それぞれ別の光路をとる
ようになっている。
【００１８】上記第１の分割面２０ｂで分割された第１
の分割レ−ザ光Ｌ1の光路には狭帯域化手段としての第
１のエタロン２１が配設され、上記第２の分割面２０ｃ
で分割された第２の分割レ−ザ光Ｌ2 の光路には同じく
狭帯域化手段としての第２のエタロン２２が配設されて
いる。
の分割レ−ザ光Ｌ1の光路には狭帯域化手段としての第
１のエタロン２１が配設され、上記第２の分割面２０ｃ
で分割された第２の分割レ−ザ光Ｌ2 の光路には同じく
狭帯域化手段としての第２のエタロン２２が配設されて
いる。
【００１９】上記第１のエタロン２１は、たとえば第１
の分割レ−ザ光Ｌ1を６pmのスペクトル幅にする性能を
有し、上記第２のエタロン２２は第２の分割レ−ザ光Ｌ
2 を３pmのスペクトル幅にする性能を備えている。
の分割レ−ザ光Ｌ1を６pmのスペクトル幅にする性能を
有し、上記第２のエタロン２２は第２の分割レ−ザ光Ｌ
2 を３pmのスペクトル幅にする性能を備えている。
【００２０】６pmに狭帯域化された第１の分割レ−ザ光
Ｌ1 の出力パワ−は、たとえば４ｗであり、３pmに狭帯
域化された第２の分割レ−ザ光Ｌ2 の出力パワ−は２ｗ
となる。したがって、第１の分割レ−ザ光Ｌ1 で露光を
行う場合、約５０回のショットの積算で必要な露光量に
達するとすれば、第２の分割レ−ザ光Ｌ2 の場合は約１
００回のショットの積算で必要な露光に達することにな
る。
Ｌ1 の出力パワ−は、たとえば４ｗであり、３pmに狭帯
域化された第２の分割レ−ザ光Ｌ2 の出力パワ−は２ｗ
となる。したがって、第１の分割レ−ザ光Ｌ1 で露光を
行う場合、約５０回のショットの積算で必要な露光量に
達するとすれば、第２の分割レ−ザ光Ｌ2 の場合は約１
００回のショットの積算で必要な露光に達することにな
る。
【００２１】上記第１のエタロン２１で狭帯域化された
第１の分割レ−ザ光Ｌ1 は、上記高反射ミラ−１９とで
第１の光共振器２３を形成する第１の高反射折返しミラ
−２４で反射して上記気密容器１２へ戻るようになって
いる。上記第２のエタロン２２で狭帯域化された第２の
分割レ−ザ光Ｌ2 は、上記高反射ミラ−１９とで第２の
光共振器２５を形成する第２の高反射折返しミラ−２６
で反射して上記気密容器１２へ戻るようになっている。
第１の分割レ−ザ光Ｌ1 は、上記高反射ミラ−１９とで
第１の光共振器２３を形成する第１の高反射折返しミラ
−２４で反射して上記気密容器１２へ戻るようになって
いる。上記第２のエタロン２２で狭帯域化された第２の
分割レ−ザ光Ｌ2 は、上記高反射ミラ−１９とで第２の
光共振器２５を形成する第２の高反射折返しミラ−２６
で反射して上記気密容器１２へ戻るようになっている。
【００２２】上記気密容器１２へ戻った第１の分割レ−
ザ光Ｌ1 あるいは第２の分割レ−ザ光Ｌ2 は、上記気密
容器１２を通って増幅され、さらに高反射ミラ−１９で
反射して再度、気密容器１２内で増幅されて上記第１の
エタロン２１あるいは上記第２のエタロン２２によって
定まるスペクトル幅のレ−ザ光Ｌ´として出力される。
このレ−ザ光Ｌ´は露光装置２７に導かれ、ここで図示
しないウエハに所定の線幅でパタ−ンを刻むことにな
る。上記露光装置２７は上記制御装置１８によってレ−
ザ装置からのレ−ザ光Ｌ´の発振と同期して制御される
ようになっている。
ザ光Ｌ1 あるいは第２の分割レ−ザ光Ｌ2 は、上記気密
容器１２を通って増幅され、さらに高反射ミラ−１９で
反射して再度、気密容器１２内で増幅されて上記第１の
エタロン２１あるいは上記第２のエタロン２２によって
定まるスペクトル幅のレ−ザ光Ｌ´として出力される。
このレ−ザ光Ｌ´は露光装置２７に導かれ、ここで図示
しないウエハに所定の線幅でパタ−ンを刻むことにな
る。上記露光装置２７は上記制御装置１８によってレ−
ザ装置からのレ−ザ光Ｌ´の発振と同期して制御される
ようになっている。
【００２３】上記多角形プリズム２０と第１、第２のエ
タロン２１、２２との間には選択手段としてのシャッタ
２８が設けられている。このシャッタ２８は駆動装置２
９によって図１に矢印で示すように駆動されるようにな
っている。つまり、シャッタ２８は、上記多角形プリズ
ム２０で分割された第１の分割レ−ザ光Ｌ1 あるいは第
２の分割レ−ザ光Ｌ2 のどちらか一方の光路に選択的に
侵入し、その光路を遮断するようになっている。
タロン２１、２２との間には選択手段としてのシャッタ
２８が設けられている。このシャッタ２８は駆動装置２
９によって図１に矢印で示すように駆動されるようにな
っている。つまり、シャッタ２８は、上記多角形プリズ
ム２０で分割された第１の分割レ−ザ光Ｌ1 あるいは第
２の分割レ−ザ光Ｌ2 のどちらか一方の光路に選択的に
侵入し、その光路を遮断するようになっている。
【００２４】上記シャッタ２８が第２の分割レ−ザ光Ｌ
2 の光路に侵入すれば、この第２の分割レ−ザ光Ｌ2 が
遮断されて第１の分割レ−ザ光Ｌ1 だけが狭帯域化され
て気密容器１２へ戻り、逆に第１の分割レ−ザ光Ｌ1 の
光路へ侵入すれば、第１の分割レ−ザ光Ｌ1 が遮断され
て第２の分割レ−ザ光Ｌ2 だけが狭帯域化されて気密容
器１２へ戻るようになっている。
2 の光路に侵入すれば、この第２の分割レ−ザ光Ｌ2 が
遮断されて第１の分割レ−ザ光Ｌ1 だけが狭帯域化され
て気密容器１２へ戻り、逆に第１の分割レ−ザ光Ｌ1 の
光路へ侵入すれば、第１の分割レ−ザ光Ｌ1 が遮断され
て第２の分割レ−ザ光Ｌ2 だけが狭帯域化されて気密容
器１２へ戻るようになっている。
【００２５】上記構成の狭帯域レ−ザ装置においては、
露光装置２７からのスペクトル幅の指示にしたがって制
御装置１８が駆動装置２９を駆動制御する。スペクトル
幅が６pmのレ−ザ光Ｌ´が必要な場合、シャッタ２８は
駆動装置２９によって図２に実線で示すように駆動され
て第２の分割レ−ザ光Ｌ2 の光路に侵入し、この第２の
分割レ−ザ光Ｌ2 が第２のエタロン２２に入射するのを
阻止する。それによって、第１の分割レ−ザ光Ｌ1 だけ
が第１のエタロン２１に入射してスペクトル幅が６pmに
狭帯域化され、第１の高反射折返しミラ−２４で反射し
て気密容器１２へ戻って増幅される。
露光装置２７からのスペクトル幅の指示にしたがって制
御装置１８が駆動装置２９を駆動制御する。スペクトル
幅が６pmのレ−ザ光Ｌ´が必要な場合、シャッタ２８は
駆動装置２９によって図２に実線で示すように駆動され
て第２の分割レ−ザ光Ｌ2 の光路に侵入し、この第２の
分割レ−ザ光Ｌ2 が第２のエタロン２２に入射するのを
阻止する。それによって、第１の分割レ−ザ光Ｌ1 だけ
が第１のエタロン２１に入射してスペクトル幅が６pmに
狭帯域化され、第１の高反射折返しミラ−２４で反射し
て気密容器１２へ戻って増幅される。
【００２６】気密容器１２へ戻った第１の分割レ−ザ光
Ｌ1 は、高反射ミラ−１９で折返して再び気密容器１２
で増幅されてから出力され、露光装置２７へ入射する。
したがって、露光装置２７では、ウエハに第１の分割レ
−ザ光Ｌ1 のスペクトル幅に応じた線幅でパタ−ンを刻
む。
Ｌ1 は、高反射ミラ−１９で折返して再び気密容器１２
で増幅されてから出力され、露光装置２７へ入射する。
したがって、露光装置２７では、ウエハに第１の分割レ
−ザ光Ｌ1 のスペクトル幅に応じた線幅でパタ−ンを刻
む。
【００２７】一方、スペクトル幅の狭い３pmのレ−ザ光
Ｌ´が必要な場合には、露光装置２７からの指示によっ
て駆動装置２９が駆動され、シャッタ２８が第１の分割
レ−ザ光Ｌ1 の光路に侵入させられる。それによって、
第１の分割レ−ザ光Ｌ1 が遮断され、第２の分割レ−ザ
光Ｌ2 が第２のエタロン２２によって３pmのスペクトル
幅に狭帯域化される。この第２の分割レ−ザ光Ｌ2 は第
２の高反射折返しミラ−２６で反射して気密容器１２へ
戻される。そして、高反射ミラ−１９で折返して気密容
器１２で増幅されてから、出力され、露光装置２７へ入
射する。それによって、第２の分割レ−ザ光Ｌ2 はウエ
ハに３pmのスペクトル幅でパタ−ンを刻むことになる。
Ｌ´が必要な場合には、露光装置２７からの指示によっ
て駆動装置２９が駆動され、シャッタ２８が第１の分割
レ−ザ光Ｌ1 の光路に侵入させられる。それによって、
第１の分割レ−ザ光Ｌ1 が遮断され、第２の分割レ−ザ
光Ｌ2 が第２のエタロン２２によって３pmのスペクトル
幅に狭帯域化される。この第２の分割レ−ザ光Ｌ2 は第
２の高反射折返しミラ−２６で反射して気密容器１２へ
戻される。そして、高反射ミラ−１９で折返して気密容
器１２で増幅されてから、出力され、露光装置２７へ入
射する。それによって、第２の分割レ−ザ光Ｌ2 はウエ
ハに３pmのスペクトル幅でパタ−ンを刻むことになる。
【００２８】すなわち、上記構成によれば、通常は出力
パワ−の大きな６pmのスペクトル幅の第１の分割レ−ザ
光Ｌ1 を出力することができ、微細なパタ−ンを刻むと
きにだけ出力パワ−の小さな３pmのスペクトル幅の第２
の分割レ−ザ光Ｌ2 を出力することができる。
パワ−の大きな６pmのスペクトル幅の第１の分割レ−ザ
光Ｌ1 を出力することができ、微細なパタ−ンを刻むと
きにだけ出力パワ−の小さな３pmのスペクトル幅の第２
の分割レ−ザ光Ｌ2 を出力することができる。
【００２９】半導体プロセスにおいて、３pmのスペクト
ル幅の第２の分割レ−ザ光Ｌ2 が必要なのはごく一部で
ある。そのため、第２の分割レ−ザ光Ｌ2 によって繰返
しショット数を多くして露光しなければならないプロセ
スもごく一部となり、それ以外のプロセスではレ−ザ出
力の大きな第１の分割レ−ザ光Ｌ1 によって少ないショ
ット数で露光することができる。したがって、必要とさ
れる最小のスペクトル幅のレ−ザ光でプロセス全体の露
光を行う場合に比較して露光時間をほぼ半分にすること
が可能となり、しかも露光精度を低下させるようなこと
もない。
ル幅の第２の分割レ−ザ光Ｌ2 が必要なのはごく一部で
ある。そのため、第２の分割レ−ザ光Ｌ2 によって繰返
しショット数を多くして露光しなければならないプロセ
スもごく一部となり、それ以外のプロセスではレ−ザ出
力の大きな第１の分割レ−ザ光Ｌ1 によって少ないショ
ット数で露光することができる。したがって、必要とさ
れる最小のスペクトル幅のレ−ザ光でプロセス全体の露
光を行う場合に比較して露光時間をほぼ半分にすること
が可能となり、しかも露光精度を低下させるようなこと
もない。
【００３０】図３はこの発明の他の実施例を示す。この
実施例は選択手段としてのシャッタ２８ａを多角形プリ
ズム２０の第１、第２の分割面２０ｂ、２０ｃ側に配設
し、このシャッタ２８ａは、駆動装置２９によって図に
矢印で示すレ−ザ光Ｌの光路に対して垂直方向に駆動さ
れるようになっている。
実施例は選択手段としてのシャッタ２８ａを多角形プリ
ズム２０の第１、第２の分割面２０ｂ、２０ｃ側に配設
し、このシャッタ２８ａは、駆動装置２９によって図に
矢印で示すレ−ザ光Ｌの光路に対して垂直方向に駆動さ
れるようになっている。
【００３１】上記シャッタ２８ａが同図に示すように第
１の分割面２０ｂに対向する位置にあれば、レ−ザ光Ｌ
が第１の分割面２０ｂに入射するのが阻止されるから、
第１の分割レ−ザ光Ｌ1 が発生することがなく、第２の
分割面２０ｃによって分割された第２の分割レ−ザ光Ｌ
2 だけが第２のエタロン２２によって狭帯域化されて出
力されることになる。
１の分割面２０ｂに対向する位置にあれば、レ−ザ光Ｌ
が第１の分割面２０ｂに入射するのが阻止されるから、
第１の分割レ−ザ光Ｌ1 が発生することがなく、第２の
分割面２０ｃによって分割された第２の分割レ−ザ光Ｌ
2 だけが第２のエタロン２２によって狭帯域化されて出
力されることになる。
【００３２】上記シャッタ２８ａが第１の分割面２０ｂ
に対向する位置から同図に鎖線で示す第２の分割面２０
ｃに対向する位置に駆動されると、レ−ザ光Ｌが第２の
分割面２０ｃに入射するのが阻止され、第１の分割面２
０ｂによって分割された第１の分割レ−ザ光Ｌ1 だけが
第１のエタロン２１で狭帯域化されて出力されることに
なる。したがって、上記シャッタ２８ａの駆動を制御す
れば、上記一実施例と同様、プロセスに応じたスペクト
ル幅のレ−ザ光で露光することができる。
に対向する位置から同図に鎖線で示す第２の分割面２０
ｃに対向する位置に駆動されると、レ−ザ光Ｌが第２の
分割面２０ｃに入射するのが阻止され、第１の分割面２
０ｂによって分割された第１の分割レ−ザ光Ｌ1 だけが
第１のエタロン２１で狭帯域化されて出力されることに
なる。したがって、上記シャッタ２８ａの駆動を制御す
れば、上記一実施例と同様、プロセスに応じたスペクト
ル幅のレ−ザ光で露光することができる。
【００３３】なお、この発明は上記各実施例に限定され
ず、その要旨を逸脱しない範囲で種々変形可能である。
たとえば、多角形プリズムは五角形に限定されず、六角
形以上の多角形で、分割面を３つ以上有する形状のもの
であってもよい。その多角形プリズムの分割面の数をｎ
とした場合、その数に応じた光共振器を形成する必要が
あり、またシャッタは（ｎ−１）の光共振器の光路を同
時に遮断できるようにすればよい。このような構成によ
れば、ｎ種類の異なるスペクトル幅のレ−ザ光を選択的
に得ることができる。
ず、その要旨を逸脱しない範囲で種々変形可能である。
たとえば、多角形プリズムは五角形に限定されず、六角
形以上の多角形で、分割面を３つ以上有する形状のもの
であってもよい。その多角形プリズムの分割面の数をｎ
とした場合、その数に応じた光共振器を形成する必要が
あり、またシャッタは（ｎ−１）の光共振器の光路を同
時に遮断できるようにすればよい。このような構成によ
れば、ｎ種類の異なるスペクトル幅のレ−ザ光を選択的
に得ることができる。
【００３４】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明は、多角形プ
リズムで複数に分割された各レ−ザ光の光路にそれぞれ
のレ−ザ光を異なるスペクトル幅で狭帯域化する狭帯域
化手段を設けるとともに、各狭帯域化手段によって狭帯
域化されたレ−ザ光を選択的に出力させることができる
ようにした。
リズムで複数に分割された各レ−ザ光の光路にそれぞれ
のレ−ザ光を異なるスペクトル幅で狭帯域化する狭帯域
化手段を設けるとともに、各狭帯域化手段によって狭帯
域化されたレ−ザ光を選択的に出力させることができる
ようにした。
【００３５】そのため、たとえば半導体プロセスにおい
て、各プロセスで要求されるスペクトル幅に応じたレ−
ザ光を出力させることで、露光精度の低下を招かずに露
光時間を短縮することができる。
て、各プロセスで要求されるスペクトル幅に応じたレ−
ザ光を出力させることで、露光精度の低下を招かずに露
光時間を短縮することができる。
【図１】この発明の一実施例を示す要部の構成図。
【図２】同じく露光用光源として用いた狭帯域レ−ザ装
置の概略図。
置の概略図。
【図３】この発明の他の実施例を示す要部の構成図。
【図４】従来の狭帯域レ−ザ装置の説明図。
１２…気密容器、１４…主電極（励起手段）、１９…高
反射ミラ−、２０…多角形プリズム、２０ｂ…第１の分
割面、２０ｃ…第２の分割面、２１…第１のエタロン
（狭帯域化手段）、２２…第２のエタロン（狭帯域化手
段）、２４…第１の高反射折返しミラ−、２６…第２の
高反射折返しミラ−、２８…シャッタ（選択手段）。
反射ミラ−、２０…多角形プリズム、２０ｂ…第１の分
割面、２０ｃ…第２の分割面、２１…第１のエタロン
（狭帯域化手段）、２２…第２のエタロン（狭帯域化手
段）、２４…第１の高反射折返しミラ−、２６…第２の
高反射折返しミラ−、２８…シャッタ（選択手段）。
Claims (1)
- 【請求項１】 ガスレ−ザ媒質が封入された気密容器
と、上記ガスレ−ザ媒質を励起してレ−ザ光を発生させ
る励起手段と、上記気密容器で発生するレ−ザ光の光軸
上で上記気密容器の一端側に配設された高反射ミラ−
と、複数の分割面を有し上記気密容器の他端側において
上記高反射ミラ−で反射して進行するレ−ザ光のビ−ム
断面の一部に上記複数の分割面を挿入して配設された多
角形プリズムと、この多角形プリズムの各分割面で分割
されたレ−ザ光の光路にそれぞれ配設され分割された各
レ−ザ光を異なるスペクトル幅で狭帯域化する複数の狭
帯域化手段と、各狭帯域化手段に対向して配設されこれ
ら狭帯域化手段によって狭帯域化されたレ−ザ光をそれ
ぞれ上記気密容器へ戻す複数の高反射折返しミラ−と、
上記気密容器で発生したレ−ザ光を上記複数の狭帯域化
手段のうちの１つだけに入射させ他の狭帯域化手段へ入
射するのを阻止する選択手段とを具備したことを特徴と
する狭帯域レ−ザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3261885A JPH05102591A (ja) | 1991-10-09 | 1991-10-09 | 狭帯域レ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3261885A JPH05102591A (ja) | 1991-10-09 | 1991-10-09 | 狭帯域レ−ザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05102591A true JPH05102591A (ja) | 1993-04-23 |
Family
ID=17368119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3261885A Pending JPH05102591A (ja) | 1991-10-09 | 1991-10-09 | 狭帯域レ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05102591A (ja) |
-
1991
- 1991-10-09 JP JP3261885A patent/JPH05102591A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |