JPH0490512A - 液晶表示パネルおよびその製造法 - Google Patents
液晶表示パネルおよびその製造法Info
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- JPH0490512A JPH0490512A JP20389290A JP20389290A JPH0490512A JP H0490512 A JPH0490512 A JP H0490512A JP 20389290 A JP20389290 A JP 20389290A JP 20389290 A JP20389290 A JP 20389290A JP H0490512 A JPH0490512 A JP H0490512A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
し産業上の利用分野コ
本発明は、液晶表示パネルおよびその製造法に関する。
詳しくは、高品位の画像表示に適した液晶表示パネルお
よびそれを歩留まりよく製造する方法に関する。
よびそれを歩留まりよく製造する方法に関する。
[従来の技術及び発明が解決しようとする課題]近年、
ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ等への液晶
表示装置の使用が進む中、その表示部である液晶表示パ
ネルの表示面積を大型化する要求か高まっている。この
ような表示面積が大きい液晶表示パネルの製造において
は、パネル内への瑣雑粒子の混入を制御することが特に
重要となる。
ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ等への液晶
表示装置の使用が進む中、その表示部である液晶表示パ
ネルの表示面積を大型化する要求か高まっている。この
ような表示面積が大きい液晶表示パネルの製造において
は、パネル内への瑣雑粒子の混入を制御することが特に
重要となる。
液晶表示パネルの製造は、ガラス基板の表面に電極層及
び配向膜を形成した電極基板2枚を、スペーサー粒子を
介し該電極層を内側にして積層し、電極基板間に液晶を
封入することによって行われるか、上記電極基板を積層
する際、該電極基板の電極層上の配向膜表面に不可避的
に付着する瑣雑粒子か液晶パネルの画像表示に悪影響を
及ぼすことが知られている。例えば、スペーサー粒子よ
り大きな瑣雑粒子は、液晶パネルにおける画像の欠損部
として現れて、大きな円状の色ムラを生じ、またスペー
サー粒子より小さい瑣雑粒子(山 液晶の配向欠陥の核
となり画像表示に悪影響を及ぼす場合があり、特に階調
表示のような高品位の画像表示においては欠陥画素を形
成する。
び配向膜を形成した電極基板2枚を、スペーサー粒子を
介し該電極層を内側にして積層し、電極基板間に液晶を
封入することによって行われるか、上記電極基板を積層
する際、該電極基板の電極層上の配向膜表面に不可避的
に付着する瑣雑粒子か液晶パネルの画像表示に悪影響を
及ぼすことが知られている。例えば、スペーサー粒子よ
り大きな瑣雑粒子は、液晶パネルにおける画像の欠損部
として現れて、大きな円状の色ムラを生じ、またスペー
サー粒子より小さい瑣雑粒子(山 液晶の配向欠陥の核
となり画像表示に悪影響を及ぼす場合があり、特に階調
表示のような高品位の画像表示においては欠陥画素を形
成する。
従来、液晶表示素子の製造方法において瑣雑粒子の付着
を防止する方法として、積層前の電極基板表面に窒素ガ
ス、空気等の該電極基板に対する不活性ガスを吹き付け
て瑣雑粒子を除去する方法、ガラス棒等に静電的に瑣雑
粒子を吸着させて除去する方法などが一般に実施されて
い?=しかしながら、これらの方法では、瑣雑粒子を十
分に除去することが困難であり、高品位画像の液晶表示
パネルの製造を目的とする場合においては、得られる液
晶表示パネルの歩留まりが極めて悪くなるという改善す
べき問題点を有する。また、これらの方法では、スペー
サー粒子として無機粒子を使用する場合、該スペーサー
粒子を電極基板表面に散布した後、多数の該スペーサー
粒子の間に存在する瑣雑粒子を選択的に除去することは
極めて困難である。そのため、特に無機粒子の散布時及
びそれ以後に付着する瑣雑粒子は、殆と除去することが
できす、高品位画像の液晶表示パネルの製造において大
きな問題となってい總これらの問題を解決するための別
法として、上記製造工程を、高度なりリーンルーム中で
実施する方法が考えられるが、液晶表示パネルの製造工
程には、その他電極基板の配向膜を形成するためのラビ
ング工程、スペーサー粒子を散布する工程等のような瑣
雑粒子が大量に発生する工程を含むため、高度なりリー
ンルーム中での製造による効果が十分に発揮されない。
を防止する方法として、積層前の電極基板表面に窒素ガ
ス、空気等の該電極基板に対する不活性ガスを吹き付け
て瑣雑粒子を除去する方法、ガラス棒等に静電的に瑣雑
粒子を吸着させて除去する方法などが一般に実施されて
い?=しかしながら、これらの方法では、瑣雑粒子を十
分に除去することが困難であり、高品位画像の液晶表示
パネルの製造を目的とする場合においては、得られる液
晶表示パネルの歩留まりが極めて悪くなるという改善す
べき問題点を有する。また、これらの方法では、スペー
サー粒子として無機粒子を使用する場合、該スペーサー
粒子を電極基板表面に散布した後、多数の該スペーサー
粒子の間に存在する瑣雑粒子を選択的に除去することは
極めて困難である。そのため、特に無機粒子の散布時及
びそれ以後に付着する瑣雑粒子は、殆と除去することが
できす、高品位画像の液晶表示パネルの製造において大
きな問題となってい總これらの問題を解決するための別
法として、上記製造工程を、高度なりリーンルーム中で
実施する方法が考えられるが、液晶表示パネルの製造工
程には、その他電極基板の配向膜を形成するためのラビ
ング工程、スペーサー粒子を散布する工程等のような瑣
雑粒子が大量に発生する工程を含むため、高度なりリー
ンルーム中での製造による効果が十分に発揮されない。
特開平2−115823号公報には、スペーサー粒子を
一方の板状体の表面に接着させたのち、該表面にスペー
サー粒子を剥離する力を作用させ、それによって接着力
の弱いスペーサー粒子を剥離させて除去する方法、具体
的には純水を用いた超音波洗浄を行なう方法が開示され
ている。
一方の板状体の表面に接着させたのち、該表面にスペー
サー粒子を剥離する力を作用させ、それによって接着力
の弱いスペーサー粒子を剥離させて除去する方法、具体
的には純水を用いた超音波洗浄を行なう方法が開示され
ている。
この方法は上記のとおり接着力の弱いスペーサー粒子を
積極的に剥離させて除去する点に特徴を有する。他方、
この方法では例えば皮膚の剥離断片の如き親油性瑣雑物
を除去するには不充分である。
積極的に剥離させて除去する点に特徴を有する。他方、
この方法では例えば皮膚の剥離断片の如き親油性瑣雑物
を除去するには不充分である。
従って、液晶表示パネルの製造において、電極基板の積
層時における該電極基板のあらゆる瑣雑粒子の付着を効
果的に防止(7うる方法の開発か望まれてい九 [課題を解決するための手段] 本発明の目的は、高品位の画像表示に悪影響を及ぼす上
記の如き瑣雑粒子の混入が加及的に除去された液晶表示
パネルを提供することにある。
層時における該電極基板のあらゆる瑣雑粒子の付着を効
果的に防止(7うる方法の開発か望まれてい九 [課題を解決するための手段] 本発明の目的は、高品位の画像表示に悪影響を及ぼす上
記の如き瑣雑粒子の混入が加及的に除去された液晶表示
パネルを提供することにある。
本発明の他の目的は、特に大型の液晶表示パネルにおい
て、高品位の画像表示を与える新規な液晶表示パネルを
提供することにある。
て、高品位の画像表示を与える新規な液晶表示パネルを
提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、本発明の上記液晶表示パネ
ルを工業的に有利に歩留りよく製造する方法を提供する
ことにある。
ルを工業的に有利に歩留りよく製造する方法を提供する
ことにある。
本発明のさらに他の目的は、液晶パネルを製造するに際
し表示画面の品位に悪影響を及ぼすことなく極めて高精
度で種々の瑣雑粒子の除去を行なうことができる方法を
提供することにある。
し表示画面の品位に悪影響を及ぼすことなく極めて高精
度で種々の瑣雑粒子の除去を行なうことができる方法を
提供することにある。
本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明から明
らかとなろう。
らかとなろう。
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は
(a)2枚の対面する電極基板、ここで該電極基板はい
ずれも対面する側の面上に電極層および該電極層の上に
さらに配向膜を備えている、(b)2枚の該電極基板の
間に存在する多数のスペーサー粒子および (c)2枚の該電極基板の間に封入された液晶からなる
液晶表示パネルであって、 該多数のスペーサー粒子は2枚の該電極基板の一方の電
極基板の該配向膜上に固着されており、そして 該電極基板に固着された該多数のスペーサー粒子と異な
り、該電極基板に固着されていない粒径2μm以上の粒
子が高々30個/mm’しか存在せず、且つ該スペーサ
粒子と異なり、該スペーサー粒子の粒径よりも大きい粒
径の粒子は存在しないことを特徴とする液晶表示パネル
によって達成される。
ずれも対面する側の面上に電極層および該電極層の上に
さらに配向膜を備えている、(b)2枚の該電極基板の
間に存在する多数のスペーサー粒子および (c)2枚の該電極基板の間に封入された液晶からなる
液晶表示パネルであって、 該多数のスペーサー粒子は2枚の該電極基板の一方の電
極基板の該配向膜上に固着されており、そして 該電極基板に固着された該多数のスペーサー粒子と異な
り、該電極基板に固着されていない粒径2μm以上の粒
子が高々30個/mm’しか存在せず、且つ該スペーサ
粒子と異なり、該スペーサー粒子の粒径よりも大きい粒
径の粒子は存在しないことを特徴とする液晶表示パネル
によって達成される。
本発明によれば、本発明の上記液晶表示パネルは
(1)電極層およびその上に位置する配向膜を備えた電
極基板を2枚準備し。
極基板を2枚準備し。
(2)該電極基板の一方の該配向膜上にスペーサー粒子
を固着せしめ。
を固着せしめ。
(3)該電極基板の該スペーサー粒子の固着した面を親
油性洗浄液で湿式洗浄し、 (4)湿式洗浄した該電極基板の該スペーサー粒子の固
着した面側に、他方の電極基板を配向膜面側で対面させ
て積層せしめ、そして(5)2枚の対面した電極基板の
間に液晶を封入せしめる ことを特徴とする方法によって製造される。
油性洗浄液で湿式洗浄し、 (4)湿式洗浄した該電極基板の該スペーサー粒子の固
着した面側に、他方の電極基板を配向膜面側で対面させ
て積層せしめ、そして(5)2枚の対面した電極基板の
間に液晶を封入せしめる ことを特徴とする方法によって製造される。
本発明において、電極基板としては、公知の構造のもの
が何ら制限なく採用される。一般には、透明基板の表面
に電極層を形成し、更に該電極層の表面に配向膜を形成
した構造が採用される。上記透明基板としては、ガラス
基板、プラスチック基板等公知の透明な絶縁性基板が使
用される。また、電極層も特に制限されない。例えば、
一対の電極、基板について、一方の電極層として信号線
配線パターンを他方の電極層として走査線配線パターン
をそれぞれ形成するのが一般的である。また、電極層の
材質は、透明で且つ導電性を有するものであれば、公知
のものが何ら制限なく採用される。
が何ら制限なく採用される。一般には、透明基板の表面
に電極層を形成し、更に該電極層の表面に配向膜を形成
した構造が採用される。上記透明基板としては、ガラス
基板、プラスチック基板等公知の透明な絶縁性基板が使
用される。また、電極層も特に制限されない。例えば、
一対の電極、基板について、一方の電極層として信号線
配線パターンを他方の電極層として走査線配線パターン
をそれぞれ形成するのが一般的である。また、電極層の
材質は、透明で且つ導電性を有するものであれば、公知
のものが何ら制限なく採用される。
例えば、I T O(Indium Tin 0xid
e)、S n 02、In、03等の材質が挙げられる
。 更に、上記電極層の表面に形成する配向層として
も公知のものが何ら制限なく使用される。例えば、ポリ
イミド樹脂等の耐熱性樹脂よりなる薄膜の表面をラビン
グ布により配向させたものが使用される。
e)、S n 02、In、03等の材質が挙げられる
。 更に、上記電極層の表面に形成する配向層として
も公知のものが何ら制限なく使用される。例えば、ポリ
イミド樹脂等の耐熱性樹脂よりなる薄膜の表面をラビン
グ布により配向させたものが使用される。
本発明方法の工程(2)において、かかる構造の電極基
板の一方の電極基板に、スペーサー粒子を固着する。ス
ペーサー粒子を固着することにより、従来の製造工程で
はほとんと考えられなかったスペーサー粒子の散布後に
おける湿式洗浄が可能となり、電極基板からの瑣雑粒子
の除去効率を飛躍的に向上することが可能となっ總 本発明において、スペーサー粒子としては、公知のもの
か何ら制限なく使用される。代表的なものを例示すれば
、シリカ粒子、ガラス粒子等の無機スペーサー粒子、ポ
リスチレンジビニルベンゼン等の有機スペーサー粒子が
挙げられる。これらのスペーサー粒子の粒径は、目的と
する液晶表示パネルに応じて適宜決定される。一般には
、5TN(スーパーツィステッドネマティック)液晶の
場合5〜7μm、強誘電液晶の場合2〜3μmが好適で
ある。上記スペーサー粒子のうち、非弾性体である無機
スペーサー粒子が、一方の電極基板と他方の電極基板と
の積層において、その間隙を確実に維持することができ
るため、好適に使用される。特に、シリカ粒子は、フッ
化水素でその表面を処理することにより、液晶の配向不
良を防止することができる。本発明の方法の実施により
達成される、液晶表示パネル内の瑣雑粒子の量の飛躍的
な減少は、液晶の配向不良防止効果と相乗的に作用し、
該液晶表示パネルの表示不良を効果的に防止できる。上
記フッ化水素による処理は、シリカ粒子表面のシリカを
フッ素と反応させることにより、その表面をフッ素化す
る。以下かかるシリカ粒子をF処理シリカという。F処
理シリカの製造方法は、特に限定されないか、代表的な
製造方法を例示すれば、シリカ粒子をメタノール等の有
機極性溶媒に分散させてスラリー化し、これをフッ化水
素を有機極性溶媒に溶解した溶液と混合して反応させた
後、洗浄、乾燥を行う方法が挙げられる。上記反応時間
は、フッ化水素の濃度、その他の反応条件により異なる
か、一般に30分〜20時間にある。また、洗浄は、有
機極性溶媒で行えばよい。更に、乾燥は、50〜250
’Cで、30分〜5時間行い、有機極性溶媒を十分除去
することか好ましい。
板の一方の電極基板に、スペーサー粒子を固着する。ス
ペーサー粒子を固着することにより、従来の製造工程で
はほとんと考えられなかったスペーサー粒子の散布後に
おける湿式洗浄が可能となり、電極基板からの瑣雑粒子
の除去効率を飛躍的に向上することが可能となっ總 本発明において、スペーサー粒子としては、公知のもの
か何ら制限なく使用される。代表的なものを例示すれば
、シリカ粒子、ガラス粒子等の無機スペーサー粒子、ポ
リスチレンジビニルベンゼン等の有機スペーサー粒子が
挙げられる。これらのスペーサー粒子の粒径は、目的と
する液晶表示パネルに応じて適宜決定される。一般には
、5TN(スーパーツィステッドネマティック)液晶の
場合5〜7μm、強誘電液晶の場合2〜3μmが好適で
ある。上記スペーサー粒子のうち、非弾性体である無機
スペーサー粒子が、一方の電極基板と他方の電極基板と
の積層において、その間隙を確実に維持することができ
るため、好適に使用される。特に、シリカ粒子は、フッ
化水素でその表面を処理することにより、液晶の配向不
良を防止することができる。本発明の方法の実施により
達成される、液晶表示パネル内の瑣雑粒子の量の飛躍的
な減少は、液晶の配向不良防止効果と相乗的に作用し、
該液晶表示パネルの表示不良を効果的に防止できる。上
記フッ化水素による処理は、シリカ粒子表面のシリカを
フッ素と反応させることにより、その表面をフッ素化す
る。以下かかるシリカ粒子をF処理シリカという。F処
理シリカの製造方法は、特に限定されないか、代表的な
製造方法を例示すれば、シリカ粒子をメタノール等の有
機極性溶媒に分散させてスラリー化し、これをフッ化水
素を有機極性溶媒に溶解した溶液と混合して反応させた
後、洗浄、乾燥を行う方法が挙げられる。上記反応時間
は、フッ化水素の濃度、その他の反応条件により異なる
か、一般に30分〜20時間にある。また、洗浄は、有
機極性溶媒で行えばよい。更に、乾燥は、50〜250
’Cで、30分〜5時間行い、有機極性溶媒を十分除去
することか好ましい。
また、前記シリカ粒子は、その表面を表面張力が30
dyn/am以下の樹脂により被覆することによっても
液晶の配向不良を防止することができる。
dyn/am以下の樹脂により被覆することによっても
液晶の配向不良を防止することができる。
上記樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート
樹脂(PMMA樹脂); 4フツ化エチレン樹脂等のフ
ッ素樹脂;などの熱可塑性樹脂が好適に使用される。
樹脂(PMMA樹脂); 4フツ化エチレン樹脂等のフ
ッ素樹脂;などの熱可塑性樹脂が好適に使用される。
本発明において、スペーサー粒子を電極基板の表面に固
着させる手段としては、次工程(3)の湿式洗浄により
離脱しない程度に該スペーサー粒子を付着させる方法で
あればよく、好適な方法を例示すれば、スペーサー粒子
の表面に低融点の熱可塑性樹脂を付着させ、該スペーサ
ー粒子を公知の方法により電極基板の表面に散布した後
、加熱して低融点の熱可塑性樹脂を溶融し流下させるこ
とにより、該熱可塑性樹脂によりスペーサー粒子の下部
と電極基板表面を接着する方法が挙げられる。
着させる手段としては、次工程(3)の湿式洗浄により
離脱しない程度に該スペーサー粒子を付着させる方法で
あればよく、好適な方法を例示すれば、スペーサー粒子
の表面に低融点の熱可塑性樹脂を付着させ、該スペーサ
ー粒子を公知の方法により電極基板の表面に散布した後
、加熱して低融点の熱可塑性樹脂を溶融し流下させるこ
とにより、該熱可塑性樹脂によりスペーサー粒子の下部
と電極基板表面を接着する方法が挙げられる。
添付図面の第2図を用いて具体的に説明すれば、第2図
(a)において粒子表面に低融点の熱可塑性樹脂4aを
付着されたスペーサー粒子4が配向膜3B1 電極層2
Bおよび電極基板IBからなる積層の該配向膜3Bの表
面に散布され該表面上に存在している。第2図(b)の
状態は加熱して熱可塑性樹脂4aを流下させてスペーサ
ー粒子4と配向膜3Bか接触する部位にまで移動させ固
定した状態を示す。第2図の(a)における如くスペー
サー粒子の低融点の熱可塑性樹脂による被覆は、好まし
くはスペーサー粒子の表面積の約50%以下、より好ま
しくは、約30%以下とすることが望ましい。
(a)において粒子表面に低融点の熱可塑性樹脂4aを
付着されたスペーサー粒子4が配向膜3B1 電極層2
Bおよび電極基板IBからなる積層の該配向膜3Bの表
面に散布され該表面上に存在している。第2図(b)の
状態は加熱して熱可塑性樹脂4aを流下させてスペーサ
ー粒子4と配向膜3Bか接触する部位にまで移動させ固
定した状態を示す。第2図の(a)における如くスペー
サー粒子の低融点の熱可塑性樹脂による被覆は、好まし
くはスペーサー粒子の表面積の約50%以下、より好ま
しくは、約30%以下とすることが望ましい。
使用しうる低融点の熱可塑性樹脂としては、該樹脂の融
点において、電極基板及びスペーサー粒子が悪影響を受
けないものであれば何ら制限されない。例えば、スペー
サ粒子として融点130℃のPMMA樹脂により表面被
覆されたシリカ粒子を使用する場合、低融点の熱可塑性
樹脂としては、融点が好ましくは90’C以下、より好
ましくは65°C以下の熱可塑性樹脂が好適に使用され
る。
点において、電極基板及びスペーサー粒子が悪影響を受
けないものであれば何ら制限されない。例えば、スペー
サ粒子として融点130℃のPMMA樹脂により表面被
覆されたシリカ粒子を使用する場合、低融点の熱可塑性
樹脂としては、融点が好ましくは90’C以下、より好
ましくは65°C以下の熱可塑性樹脂が好適に使用され
る。
本発明において、スペーサー粒子を固着させた電極基板
は工程(3)において湿式洗浄される。湿式洗浄により
、従来の瑣雑粒子の除去に採用されていた不活性ガスの
吹き付けによる方法や静電的除去による方法に比べ 第
1に瑣雑粒子の除去効率を著しく向上させることができ
、第2に瑣雑粒子による表示画像のムラ、液晶の配向不
良などの悪影響のない高品位の優れた画像表示を行うこ
とかできる。しかも該スペーサー粒子は、電極基板表面
に固着されているため洗浄におけるスペーサー粒子の流
失や移動もなく、液晶を封入する間隙を有利に確保する
ことができ、スペーサー粒子ノ流失や移動による画像表
示のムラを生じることもない。
は工程(3)において湿式洗浄される。湿式洗浄により
、従来の瑣雑粒子の除去に採用されていた不活性ガスの
吹き付けによる方法や静電的除去による方法に比べ 第
1に瑣雑粒子の除去効率を著しく向上させることができ
、第2に瑣雑粒子による表示画像のムラ、液晶の配向不
良などの悪影響のない高品位の優れた画像表示を行うこ
とかできる。しかも該スペーサー粒子は、電極基板表面
に固着されているため洗浄におけるスペーサー粒子の流
失や移動もなく、液晶を封入する間隙を有利に確保する
ことができ、スペーサー粒子ノ流失や移動による画像表
示のムラを生じることもない。
本発明の工程(3)において、湿式洗浄に使用する洗浄
液は、電極基板、スペーサー粒子及び該スペーサー粒子
を固着するための樹脂に対して、不活性であり、且つ電
極基板における洗浄面と親和性を有するものが好適に使
用される。
液は、電極基板、スペーサー粒子及び該スペーサー粒子
を固着するための樹脂に対して、不活性であり、且つ電
極基板における洗浄面と親和性を有するものが好適に使
用される。
洗浄液としては親油性の洗浄液が用いられる。
親油性の洗浄液としては、例えば脂肪族、脂環族あるい
は芳香族の炭化水素、ハロゲン化炭化水素、脂肪族アル
コールあるいは界面活性剤を溶解した水溶液等を挙げる
ことができる。かかる洗浄液の例としては、例えば石油
エーテル、リグロリン、ヘキサス へブタンの如き脂肪
族炭化水素; シクロヘキサンの如き脂環族炭化水素;
ベンゼス トルエン、キシレンの如き芳香族炭化水素;
メチレンクロライド、クロロホルム、フロンの如きハ
ロゲン化炭化水素; イソフロビルアルコール、ブチル
アルコールの如き脂肪族アルコールあるいは陽イオン、
陰イオンもしくは非イオン性の界面活性剤を含む水溶液
を挙げることができる。
は芳香族の炭化水素、ハロゲン化炭化水素、脂肪族アル
コールあるいは界面活性剤を溶解した水溶液等を挙げる
ことができる。かかる洗浄液の例としては、例えば石油
エーテル、リグロリン、ヘキサス へブタンの如き脂肪
族炭化水素; シクロヘキサンの如き脂環族炭化水素;
ベンゼス トルエン、キシレンの如き芳香族炭化水素;
メチレンクロライド、クロロホルム、フロンの如きハ
ロゲン化炭化水素; イソフロビルアルコール、ブチル
アルコールの如き脂肪族アルコールあるいは陽イオン、
陰イオンもしくは非イオン性の界面活性剤を含む水溶液
を挙げることができる。
これらの洗浄液は、電極基板上の瑣雑粒子を可及的に減
少させるため、含有される0、 5μm以上の大きさ
の瑣雑粒子の量が好ましくは100個/CC以下、より
好ましくは、 10個/cc以下に精製されたものを使
用することが好ましい。
少させるため、含有される0、 5μm以上の大きさ
の瑣雑粒子の量が好ましくは100個/CC以下、より
好ましくは、 10個/cc以下に精製されたものを使
用することが好ましい。
また、本発明において、洗浄方法としては、公知の方法
が何ら制限なく適用できる。例えば、浸漬洗浄、カスケ
ード・オーバーフロー スプレー洗浄、超音波洗浄、蒸
気洗浄(被洗浄面における蒸気の凝縮による洗浄)等の
方法を単独で或は組み合わせて採用することができる。
が何ら制限なく適用できる。例えば、浸漬洗浄、カスケ
ード・オーバーフロー スプレー洗浄、超音波洗浄、蒸
気洗浄(被洗浄面における蒸気の凝縮による洗浄)等の
方法を単独で或は組み合わせて採用することができる。
上記した湿式洗浄は、スペーサー粒子を固着した電極基
板について行えば十分効果はあるか、スペーサー粒子を
固着していない他方の電極基板に化 ついて藷行うことは本発明の効果をより高度に発揮する
ために好ましい。
板について行えば十分効果はあるか、スペーサー粒子を
固着していない他方の電極基板に化 ついて藷行うことは本発明の効果をより高度に発揮する
ために好ましい。
また、上記した湿式洗浄に際し、予め、不活性ガスの吹
き付は等を行って、一部の瑣雑粒子を除去することは、
湿式洗浄における洗浄液の洗浄能力を長期間維持するこ
ととなり好ましい。
き付は等を行って、一部の瑣雑粒子を除去することは、
湿式洗浄における洗浄液の洗浄能力を長期間維持するこ
ととなり好ましい。
本発明において、湿式洗浄は、電極基板表面にスベー”
X子より大きい瑣雑粒子が存在せず、且つ2μm以上の
瑣雑粒子の量が好ましくは30個/mm”以下、より好
ましくは、10個/mm’以下となる程度まで行うこと
か好ましい。
X子より大きい瑣雑粒子が存在せず、且つ2μm以上の
瑣雑粒子の量が好ましくは30個/mm”以下、より好
ましくは、10個/mm’以下となる程度まで行うこと
か好ましい。
また、洗浄後の電極基板は、必要に応じて乾燥される。
本発明の工程(4)において、湿式洗浄された電極基板
のスペーサー粒子の固着した面側に、他方の電極基板を
配向膜面側で対面させて積層させる。
のスペーサー粒子の固着した面側に、他方の電極基板を
配向膜面側で対面させて積層させる。
積層する方法としては公知の方法か採用できる。
例えば、積層は、いずれか一方の電極基板の電極層側表
面の周辺に、液晶注入口となる部分を除いて所定の厚み
でシール材を塗布した後、一方の電極基板と他方の電極
基板をそれぞれ電極層を内側にし且つスペーサー粒子を
挟んで対面させ該シール材を硬化することにより行なう
ことかできる。
面の周辺に、液晶注入口となる部分を除いて所定の厚み
でシール材を塗布した後、一方の電極基板と他方の電極
基板をそれぞれ電極層を内側にし且つスペーサー粒子を
挟んで対面させ該シール材を硬化することにより行なう
ことかできる。
シール材としては、エポキシ樹脂系シール材等の公知の
絶縁性を有するシール材が特に好適に使用される。
絶縁性を有するシール材が特に好適に使用される。
本発明方法では、さらに工程(5)において、積層され
た2枚の上記対面した電極基板の間に液晶を封入せしめ
る。積層した電極基板間への液晶の封入は、該電極基板
間の空間を真空にした後、液晶注入口を液晶に浸漬して
該空間に液晶を吸入させ、樹脂により注入口を封止する
方法が一般的である。
た2枚の上記対面した電極基板の間に液晶を封入せしめ
る。積層した電極基板間への液晶の封入は、該電極基板
間の空間を真空にした後、液晶注入口を液晶に浸漬して
該空間に液晶を吸入させ、樹脂により注入口を封止する
方法が一般的である。
液晶としては公知の液晶が制限なく使用される。
かくして本発明によれば、上記の如く、多数のスペーサ
ー粒子が2枚の電極基板の少くともいずれか一方の電極
基板の配向膜上に固着されておりそして電極基板に固着
された該多数のスペーサー粒子と異なり、該電極基板に
固着されていない粒径2μm以上の粒子か高々30個/
mm’シか存在せず、且つ該スペーサー粒子と異なり、
該スペーサー粒子の粒径よりも大きい粒径の粒子は存在
しないことによって特徴づけられる本発明の液晶表示パ
ネルが提供される。
ー粒子が2枚の電極基板の少くともいずれか一方の電極
基板の配向膜上に固着されておりそして電極基板に固着
された該多数のスペーサー粒子と異なり、該電極基板に
固着されていない粒径2μm以上の粒子か高々30個/
mm’シか存在せず、且つ該スペーサー粒子と異なり、
該スペーサー粒子の粒径よりも大きい粒径の粒子は存在
しないことによって特徴づけられる本発明の液晶表示パ
ネルが提供される。
本発明の好ましい液晶表示パネルにおいて、上記の粒径
2μm以上の粒子は高々10個/l2しか存在せず、ま
たスペーサー粒子はフッ化水素で表面処理されたシリカ
粒子である。
2μm以上の粒子は高々10個/l2しか存在せず、ま
たスペーサー粒子はフッ化水素で表面処理されたシリカ
粒子である。
本発明の液晶表示パネルは、例えばその両面に偏光板(
アナライザ、ポラライザ)を積層し、必要に応じて複屈
折透明フィルムを偏光板と液晶表示パネルとの間に介在
させて画像表示に使用することができる。
アナライザ、ポラライザ)を積層し、必要に応じて複屈
折透明フィルムを偏光板と液晶表示パネルとの間に介在
させて画像表示に使用することができる。
「効果コ
以上の説明より理解されるように、本発明の方法によれ
ば、電極基板の積層する前工程として、スペーサー粒子
散布後、電極基板を親油性洗浄液で湿式洗浄することに
より、積層する工程の直前の工程で、該電極基板の表面
を最大限に清浄化することがでる。それ故得られる本発
明の液晶表示パネルにおける瑣雑粒子の混入を極めて微
量に抑えることができる。
ば、電極基板の積層する前工程として、スペーサー粒子
散布後、電極基板を親油性洗浄液で湿式洗浄することに
より、積層する工程の直前の工程で、該電極基板の表面
を最大限に清浄化することがでる。それ故得られる本発
明の液晶表示パネルにおける瑣雑粒子の混入を極めて微
量に抑えることができる。
従って、本発明によれば瑣雑粒子の影響による画像表示
におけるコントラストのムラの発生、更には、高品位の
画像表示における欠損画素の発生がほとんどなく、極め
て高い歩留まりで本発明の液晶表示パネルを製造するこ
とが可能である。
におけるコントラストのムラの発生、更には、高品位の
画像表示における欠損画素の発生がほとんどなく、極め
て高い歩留まりで本発明の液晶表示パネルを製造するこ
とが可能である。
[実施例]
以下、本発明を更に具体的に説明するため、実施例を示
すが、本発明は、これらの実施例に限定されるものでは
ない。
すが、本発明は、これらの実施例に限定されるものでは
ない。
なお、実施例において、液晶表示パネルの試験は、以下
の方法に準じて行ツ總 ■液晶表示パネルの歩留まり: 下記■及び■の試験項目について欠陥のない液晶表示パ
ネルの割合を示しf。
の方法に準じて行ツ總 ■液晶表示パネルの歩留まり: 下記■及び■の試験項目について欠陥のない液晶表示パ
ネルの割合を示しf。
■画像表示におけるコントラストのムラ:液晶表示パネ
ルにおいて、一定の階調における明るさムラの発生をチ
エツクし、ムラの発生している液晶表示尋パネルの枚数
を数え瓢■画像表示部に於ける液晶の誤動作: 液晶表示パネルにおいて、ストライプトドメイン及びリ
バースドメインの発生をチエツクし、これらの不良が発
生している液晶表示のパネルの数を数え總 液晶表示パネル内の瑣雑粒子の量: 画像読み取り装置により、表面を清浄にした液晶表示パ
ネルの画像を得、この画像を100倍に拡大し、得られ
た画像をコンピューターにより画像処理して、スペーサ
ー粒子径より大きい瑣雑粒子(X)及び2μm以上の粒
子径を有するスペーサー粒子以外の瑣雑粒子(Y)の数
をそれぞれ数え、その平均値で表しf。
ルにおいて、一定の階調における明るさムラの発生をチ
エツクし、ムラの発生している液晶表示尋パネルの枚数
を数え瓢■画像表示部に於ける液晶の誤動作: 液晶表示パネルにおいて、ストライプトドメイン及びリ
バースドメインの発生をチエツクし、これらの不良が発
生している液晶表示のパネルの数を数え總 液晶表示パネル内の瑣雑粒子の量: 画像読み取り装置により、表面を清浄にした液晶表示パ
ネルの画像を得、この画像を100倍に拡大し、得られ
た画像をコンピューターにより画像処理して、スペーサ
ー粒子径より大きい瑣雑粒子(X)及び2μm以上の粒
子径を有するスペーサー粒子以外の瑣雑粒子(Y)の数
をそれぞれ数え、その平均値で表しf。
実施例1
添付部図面の第1図に示した構造を持つ液晶表示パネル
を製造しtも 透明基板として、青板ガラス(ソーダガラス)からなる
厚さ約1mm、外形寸法約150mmx約230mmの
基板を使用し、該透明基板の表面にITOの真空スパッ
タ膜を形成し、これをフォトエツチングし、電極層(2
A)としてITOよりなる640本の信号線を有する電
極基板(IA)を製造しtう上記と同様にして、透明基
板上に、電極層(2B)としてITOよりなる480本
の走査線を有する電極基板(IB)を製造しt島 上記の各電極基板(IA、IB)には、電極層形成後、
表面に約500Aの厚さでポリイミド膜を形成し、該ポ
リイミド膜の表面をラビングしてて配向膜(3A、3B
)を形成しt為 スペーサー粒子として、下記の方法により得られたF処
理シリカを使用し總 即ち、粒子径が60〜61μmの
間に揃えられたシリカ粒子をメタノールにスラリー濃度
が20重量%となる割合で懸濁させ、この懸濁液にフッ
化水素のメタノール溶液(0,5モル/1)をシリカ粒
子に対して10モル%となる割合で滴下して12時間攪
拌後、メタノールで洗浄し、200℃で3時間加熱する
ことにより、表面をフッ素処理し九 次いで、該F処理
シリカ粒子表面に融点80℃のPMMAを粒子表面の約
25%を覆うよう斑状に付着させtラシリカ粒子へのP
MMAの付着は、シリカ粒子と粒径的01μmのPMM
A球とをメカノヒユージョンシステムを用いてF処理シ
リカの表面にPMMAを斑状に付着させることにより行
っt島このようにして得られたF処理シリカ粒子(4)
を前記の電極基板(IB)の表面に、散布密度が約30
個/mm”となるように散布した後、130℃で5分間
加熱し總 この処理により、F処理シリカ粒子の表面に
存在するPMMAは、溶融すると共に、重力により粒子
下方に流下し、該シリカ粒子と基板表面との接点に滞留
した状態で固化する結果、シリカ粒子は、電極基板(I
B)の配向膜(3B)上に固着される。
を製造しtも 透明基板として、青板ガラス(ソーダガラス)からなる
厚さ約1mm、外形寸法約150mmx約230mmの
基板を使用し、該透明基板の表面にITOの真空スパッ
タ膜を形成し、これをフォトエツチングし、電極層(2
A)としてITOよりなる640本の信号線を有する電
極基板(IA)を製造しtう上記と同様にして、透明基
板上に、電極層(2B)としてITOよりなる480本
の走査線を有する電極基板(IB)を製造しt島 上記の各電極基板(IA、IB)には、電極層形成後、
表面に約500Aの厚さでポリイミド膜を形成し、該ポ
リイミド膜の表面をラビングしてて配向膜(3A、3B
)を形成しt為 スペーサー粒子として、下記の方法により得られたF処
理シリカを使用し總 即ち、粒子径が60〜61μmの
間に揃えられたシリカ粒子をメタノールにスラリー濃度
が20重量%となる割合で懸濁させ、この懸濁液にフッ
化水素のメタノール溶液(0,5モル/1)をシリカ粒
子に対して10モル%となる割合で滴下して12時間攪
拌後、メタノールで洗浄し、200℃で3時間加熱する
ことにより、表面をフッ素処理し九 次いで、該F処理
シリカ粒子表面に融点80℃のPMMAを粒子表面の約
25%を覆うよう斑状に付着させtラシリカ粒子へのP
MMAの付着は、シリカ粒子と粒径的01μmのPMM
A球とをメカノヒユージョンシステムを用いてF処理シ
リカの表面にPMMAを斑状に付着させることにより行
っt島このようにして得られたF処理シリカ粒子(4)
を前記の電極基板(IB)の表面に、散布密度が約30
個/mm”となるように散布した後、130℃で5分間
加熱し總 この処理により、F処理シリカ粒子の表面に
存在するPMMAは、溶融すると共に、重力により粒子
下方に流下し、該シリカ粒子と基板表面との接点に滞留
した状態で固化する結果、シリカ粒子は、電極基板(I
B)の配向膜(3B)上に固着される。
次いで、電極基板(IA)及び電極基板(IB)の表面
をエアブロ−して簡単に取れる瑣雑粒子を除去した後、
0.5μm以上の粒子の量が10個/cc以下のイソプ
ロピルアルコール(IPA)に浸漬し、1.5KWの出
力で超音波洗浄を10分間行った後、120℃のクリー
ンオーブン内で乾燥した結果、電極基板表面の2μm以
上の大きさの粒子の量は皆無であっ九 このようにして清浄化された電極基板(IB)の配向膜
側の面の周辺に、液晶の注入口となる部分を除いてエポ
キシ樹脂系のシール材(5)を印刷し、電極基板(IA
)と電極基板(IB)とをそれぞれ配向膜を対向させ、
走査線と信号線とが交差するように積層し、シール材を
硬化させtミ 次いで、電極基板間の空間を真空とし、液晶の注入口よ
り液晶(6)を注入した後、光硬化性のシール材により
該注入口を塞ぎ、硬化させることにより液晶表示パネル
を得總 以上の方法により、液晶表示パネルを50枚作製した。
をエアブロ−して簡単に取れる瑣雑粒子を除去した後、
0.5μm以上の粒子の量が10個/cc以下のイソプ
ロピルアルコール(IPA)に浸漬し、1.5KWの出
力で超音波洗浄を10分間行った後、120℃のクリー
ンオーブン内で乾燥した結果、電極基板表面の2μm以
上の大きさの粒子の量は皆無であっ九 このようにして清浄化された電極基板(IB)の配向膜
側の面の周辺に、液晶の注入口となる部分を除いてエポ
キシ樹脂系のシール材(5)を印刷し、電極基板(IA
)と電極基板(IB)とをそれぞれ配向膜を対向させ、
走査線と信号線とが交差するように積層し、シール材を
硬化させtミ 次いで、電極基板間の空間を真空とし、液晶の注入口よ
り液晶(6)を注入した後、光硬化性のシール材により
該注入口を塞ぎ、硬化させることにより液晶表示パネル
を得總 以上の方法により、液晶表示パネルを50枚作製した。
得られた液晶表示パネルの試験結果は、次の通りであっ
た。
た。
■液晶表示パネルの歩留まり 80%■画像表示に
おけるコントラストのムラ10枚 ■画像表示部における液晶の誤動作 4枚 ■液晶表示パネル内の瑣雑粒子の量 X: o個/mm’ Y:1.O個/mmご 実施例2 実施例1において、電極基板の洗浄を、浸漬洗浄に次い
でフロントによる蒸気洗浄を、行なった以外は同様にし
て液晶表示パネルを得を島 得られた液晶表示パネル
の試験結果は、次の通りであった。
おけるコントラストのムラ10枚 ■画像表示部における液晶の誤動作 4枚 ■液晶表示パネル内の瑣雑粒子の量 X: o個/mm’ Y:1.O個/mmご 実施例2 実施例1において、電極基板の洗浄を、浸漬洗浄に次い
でフロントによる蒸気洗浄を、行なった以外は同様にし
て液晶表示パネルを得を島 得られた液晶表示パネル
の試験結果は、次の通りであった。
■液晶表示パネルの歩留まり 84%■画像表示に
おけるコントラストのムラ8枚 ■画像表示部における液晶の誤動作 3枚 ■液晶表示パネル内の瑣雑粒子の量 X: 0個/mm” Y: 5個/mm” 比較例 1 実施例1において、湿式洗浄を行わなかった以外は同様
にして液晶表示パネルを作製し九得られた液晶表示パネ
ルの試験結果は、次の通りであった。
おけるコントラストのムラ8枚 ■画像表示部における液晶の誤動作 3枚 ■液晶表示パネル内の瑣雑粒子の量 X: 0個/mm” Y: 5個/mm” 比較例 1 実施例1において、湿式洗浄を行わなかった以外は同様
にして液晶表示パネルを作製し九得られた液晶表示パネ
ルの試験結果は、次の通りであった。
■液晶表示パネルの歩留まり 50%■画像表示に
おけるコントラストのムラ25枚 ■画像表示部における液晶の誤動作 10枚 ■液晶表示パネル内の瑣雑粒子の量 X: 10個/mm2 Y: 100個/mm2以上 比較例 2 比較例1において、純水による超音波洗浄をとり入れ同
様にして液晶表示パネルの試験をおこなっ總 結果は、
次の通りであっ九 ■液晶表示パネルの歩留まり 60%■画像表示に
おけるコントラストのムラ25枚 ■画像表示部における液晶の誤動作 5枚 ■液晶表示パネル内の瑣雑粒子の量 X: 7個/m+c’ Y: 80個/rnm2以上 この結果は、パネルキャップを大きくするほとの(スペ
ーサー粒子の粒径以上の粒子が存在する場合)付着力の
弱い無機系の瑣雑粒子は純水による超音波洗浄でも脱落
し除去できるが、偏平状の例えば、フケ、皮脂等からな
る有機瑣雑粒子はパネルギャップを大きくすることはな
いが純水では除去できず、画素に付着して残り透過を疎
害することを示していると思われる。
おけるコントラストのムラ25枚 ■画像表示部における液晶の誤動作 10枚 ■液晶表示パネル内の瑣雑粒子の量 X: 10個/mm2 Y: 100個/mm2以上 比較例 2 比較例1において、純水による超音波洗浄をとり入れ同
様にして液晶表示パネルの試験をおこなっ總 結果は、
次の通りであっ九 ■液晶表示パネルの歩留まり 60%■画像表示に
おけるコントラストのムラ25枚 ■画像表示部における液晶の誤動作 5枚 ■液晶表示パネル内の瑣雑粒子の量 X: 7個/m+c’ Y: 80個/rnm2以上 この結果は、パネルキャップを大きくするほとの(スペ
ーサー粒子の粒径以上の粒子が存在する場合)付着力の
弱い無機系の瑣雑粒子は純水による超音波洗浄でも脱落
し除去できるが、偏平状の例えば、フケ、皮脂等からな
る有機瑣雑粒子はパネルギャップを大きくすることはな
いが純水では除去できず、画素に付着して残り透過を疎
害することを示していると思われる。
第1図は本発明の液晶表示パネルの一例の概略スペーサ
ー粒子を電極基板に固着させる手順を示す説明図である
。 IA IB 電極基板、2A 2B3A 3
B 配向膜、 4 スペーサー粒子 4a 低融点の熱可塑性樹脂、 5 シール材 6液晶、 電極層
ー粒子を電極基板に固着させる手順を示す説明図である
。 IA IB 電極基板、2A 2B3A 3
B 配向膜、 4 スペーサー粒子 4a 低融点の熱可塑性樹脂、 5 シール材 6液晶、 電極層
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)2枚の対面する電極基板、ここで該電極基板
はいずれも対面する側の面上に電極層および該電極層の
上にさらに配向膜を備えている、 (b)2枚の該電極基板の間に存在する多数のスペーサ
ー粒子および (c)2枚の該電極基板の間に封入された液晶、 から成る液晶表示パネルであって、 該多数のスペーサー粒子は2枚の該電極基板の一方の電
極基板の該配向膜上に固着されており、そして 該電極基板に固着された該多数のスペーサー粒子と異な
り該電極基板に固着されていない粒径2μm以上の粒子
が高々30個/mm^2しか存在せず、且つスペーサー
粒子と異なり、該スペーサー粒子の粒径よりも大きい粒
径の粒子は存在しないことを特徴とする液晶表示パネル
。 2、スペーサー粒子がフッ化水素で表面処理されたシリ
カ粒子である請求項第1項に記載の液晶表示パネル。 3、(1)電極層およびその上に位置する配向膜を備え
た電極基板を2枚準備し、 (2)該電極基板一方の該配向膜上にスペーサー粒子を
固着せしめ、 (3)該電極基板の該スペーサー粒子の固着した面を親
油性洗浄液で湿式洗浄し、 (4)湿式洗浄した該電極基板の該スペーサー粒子の固
着した面側に、他方の電極基板を配向膜面側で対面させ
て積層せしめ、 そして (5)2枚の対面した上記電極基板の間に液晶を封入せ
しめる ことを特徴とする液晶表示パネルの製造法。 4、上記行程(3)の湿式洗浄を粒径0.5μm以上の
大きさの粒子を高々100個/CCでしか含まない洗浄
液で行なう請求項第3項に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20389290A JPH0490512A (ja) | 1990-08-02 | 1990-08-02 | 液晶表示パネルおよびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20389290A JPH0490512A (ja) | 1990-08-02 | 1990-08-02 | 液晶表示パネルおよびその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0490512A true JPH0490512A (ja) | 1992-03-24 |
Family
ID=16481448
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20389290A Pending JPH0490512A (ja) | 1990-08-02 | 1990-08-02 | 液晶表示パネルおよびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0490512A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001044865A1 (en) * | 1999-12-17 | 2001-06-21 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Improved encapsulation for organic led device |
US6888308B1 (en) | 1999-12-17 | 2005-05-03 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Organic LED device |
US7166007B2 (en) | 1999-12-17 | 2007-01-23 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Encapsulation of electronic devices |
US8344360B2 (en) | 1999-12-17 | 2013-01-01 | Osram Opto Semiconductor Gmbh | Organic electronic devices with an encapsulation |
-
1990
- 1990-08-02 JP JP20389290A patent/JPH0490512A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001044865A1 (en) * | 1999-12-17 | 2001-06-21 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Improved encapsulation for organic led device |
US6888308B1 (en) | 1999-12-17 | 2005-05-03 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Organic LED device |
US6952078B1 (en) | 1999-12-17 | 2005-10-04 | Osram Opto Semiconductord Gmbh | Encapsulation for organic LED device |
US7166007B2 (en) | 1999-12-17 | 2007-01-23 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Encapsulation of electronic devices |
US7394153B2 (en) | 1999-12-17 | 2008-07-01 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Encapsulation of electronic devices |
US7419842B2 (en) | 1999-12-17 | 2008-09-02 | Osram Gmbh | Encapsulation of electroluminescent devices with shaped spacers |
US7432533B2 (en) | 1999-12-17 | 2008-10-07 | Osram Gmbh | Encapsulation of electronic devices with shaped spacers |
US8344360B2 (en) | 1999-12-17 | 2013-01-01 | Osram Opto Semiconductor Gmbh | Organic electronic devices with an encapsulation |
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