JPH0489553A - 複屈折測定装置 - Google Patents
複屈折測定装置Info
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- JPH0489553A JPH0489553A JP20445490A JP20445490A JPH0489553A JP H0489553 A JPH0489553 A JP H0489553A JP 20445490 A JP20445490 A JP 20445490A JP 20445490 A JP20445490 A JP 20445490A JP H0489553 A JPH0489553 A JP H0489553A
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000004904 shortening Methods 0.000 abstract 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
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- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は複屈折を起す異方性試料の複屈折を測定する装
置に関する。
置に関する。
(従来の技術)
材料は内部歪とか延伸加工により複屈折を起すようにな
る。逆に複屈折の測定によって材料の内部歪とか材料の
延伸の度合を調べることができる。複屈折の測定は試料
に直線偏光を入射させ、その直交2成分偏光の試料透過
時の位相差(レターデーション)を検出することにより
行われる。
る。逆に複屈折の測定によって材料の内部歪とか材料の
延伸の度合を調べることができる。複屈折の測定は試料
に直線偏光を入射させ、その直交2成分偏光の試料透過
時の位相差(レターデーション)を検出することにより
行われる。
今試料は薄板或はシート状物で、光学軸が試料面と平行
である場合を考えて、試料の厚さをd、光学軸方向と、
それと直角の方向の各偏光に対する屈折率をnl、n2
とし、使用する光の波長をλとすると、直線偏光を入射
させた場合、その光学軸と光学軸に直角な二方向の偏光
成分の試料出射時の位相差δは である。こ\でδはレダー デージョンと呼ばれる。試
料の厚さdが予め分っているときはδの測定から’n
1− n 2が求まり、nl−n2が予め分っていると
きはδから厚さdを求めることができる。レターデーシ
ョンの測定は次のようにして行われる。偏光子と検光子
を平行に配置し、その間に試料を挿入して回転させ、波
長λの光を通して、試料の回転角と透過光強度との関係
グラフを求める。試料の光学軸が偏光子、検光子と平行
或はそれらと直交しているときは試料に入射した直線偏
光はそのま\M線線光光して試料を出射するから、試料
が2色性を有しないときはこの二方向では透過光の強さ
は同じになり、今これを光強度の基準値にする。試料の
光学軸が偏光子、検光子と平行或は直角でないときは、
一般に試料透過光は楕円偏光となっていて、測定される
のはこの楕円偏光の検光子方向の成分だけとなる。今試
料の光学軸が偏光子、検光子と45°の方向である場合
を考えると、試料への入射光の光学軸方向とそれと直角
の方向の両成分の振幅は等しい。偏光子出射光の振幅を
1とすると、これら両成分の振幅はl/’J2であり、
これら両成分の夫々の検光子方向の成分が検光子を通過
することになるが、試料出射時上記両成分間にはδなる
位相差があるので表わされる。上式は となり、検光子透過光強度は振幅の2乗で与えら上の関
係はグラフで画くと第3図のように十字孔る。
である場合を考えて、試料の厚さをd、光学軸方向と、
それと直角の方向の各偏光に対する屈折率をnl、n2
とし、使用する光の波長をλとすると、直線偏光を入射
させた場合、その光学軸と光学軸に直角な二方向の偏光
成分の試料出射時の位相差δは である。こ\でδはレダー デージョンと呼ばれる。試
料の厚さdが予め分っているときはδの測定から’n
1− n 2が求まり、nl−n2が予め分っていると
きはδから厚さdを求めることができる。レターデーシ
ョンの測定は次のようにして行われる。偏光子と検光子
を平行に配置し、その間に試料を挿入して回転させ、波
長λの光を通して、試料の回転角と透過光強度との関係
グラフを求める。試料の光学軸が偏光子、検光子と平行
或はそれらと直交しているときは試料に入射した直線偏
光はそのま\M線線光光して試料を出射するから、試料
が2色性を有しないときはこの二方向では透過光の強さ
は同じになり、今これを光強度の基準値にする。試料の
光学軸が偏光子、検光子と平行或は直角でないときは、
一般に試料透過光は楕円偏光となっていて、測定される
のはこの楕円偏光の検光子方向の成分だけとなる。今試
料の光学軸が偏光子、検光子と45°の方向である場合
を考えると、試料への入射光の光学軸方向とそれと直角
の方向の両成分の振幅は等しい。偏光子出射光の振幅を
1とすると、これら両成分の振幅はl/’J2であり、
これら両成分の夫々の検光子方向の成分が検光子を通過
することになるが、試料出射時上記両成分間にはδなる
位相差があるので表わされる。上式は となり、検光子透過光強度は振幅の2乗で与えら上の関
係はグラフで画くと第3図のように十字孔る。
上述した方法を装置化して長尺のシート類で長さ方向に
連続的に測定を行う場合、試料の方を回転させるのは困
難であるから、試料の上下に位置している偏光子、検光
子を一体的に回転させる。
連続的に測定を行う場合、試料の方を回転させるのは困
難であるから、試料の上下に位置している偏光子、検光
子を一体的に回転させる。
試料上の一点の測定所要時間は偏光子、検光子を少くと
も半回転させる時間によって決まり、偏光子、検光子の
回転速度を上げれば、−点の測定の所要時間は短縮され
るが、測定回路の応答速度やS/N比の関係で任意に早
くすることは困難である。一方試料の方の送り速度を大
にすると、偏光子、検光子半回転の間の送り距離の範囲
の平均的な複屈折しか測定できず、従って、試料上に細
かく測定点を設定して測定しようとするとき甚だ非能率
であった。
も半回転させる時間によって決まり、偏光子、検光子の
回転速度を上げれば、−点の測定の所要時間は短縮され
るが、測定回路の応答速度やS/N比の関係で任意に早
くすることは困難である。一方試料の方の送り速度を大
にすると、偏光子、検光子半回転の間の送り距離の範囲
の平均的な複屈折しか測定できず、従って、試料上に細
かく測定点を設定して測定しようとするとき甚だ非能率
であった。
(発明が解決しようとする課M)
本発明は試料或は偏光子および電光子を回転させる必要
をなくシ、試料上の一個所の複屈折の測定所要時間を短
縮させようとするものである。
をなくシ、試料上の一個所の複屈折の測定所要時間を短
縮させようとするものである。
〈課題を解決するための手段)
複数の小偏光素子を互いに少しずつ方位角を変えて一平
面上に集合配置して一つの偏光子とし、同様の構成で偏
光子の各偏光素子に対応する部分の偏光素子の方位が偏
光子の偏光素子と平行であるようにした検光子を対向配
置し、その間に試料を配置するようにし、検光子の各偏
光素子毎に受光素子を対応配置し、これら各受光素子の
出力と、対応する偏光素子の方位角とから偏光子、試料
、検光子三者透過光の強度と偏光素子の方位角との関係
式を算定し、この関係式から透過光強度の最大最小を検
出して試料のレターデーションを求めるデータ処理装置
を備えた複屈折測定装置を提供する。
面上に集合配置して一つの偏光子とし、同様の構成で偏
光子の各偏光素子に対応する部分の偏光素子の方位が偏
光子の偏光素子と平行であるようにした検光子を対向配
置し、その間に試料を配置するようにし、検光子の各偏
光素子毎に受光素子を対応配置し、これら各受光素子の
出力と、対応する偏光素子の方位角とから偏光子、試料
、検光子三者透過光の強度と偏光素子の方位角との関係
式を算定し、この関係式から透過光強度の最大最小を検
出して試料のレターデーションを求めるデータ処理装置
を備えた複屈折測定装置を提供する。
(作用)
本発明では偏光子、検光子ともモザイク状になっていて
、各小部分で偏光素子の方位角が異っているので、それ
ら各部に対応する受光素子の出力は偏光子、検光子を回
転させて飛び飛びの角位置で透過光強度を測定したのと
同じであり、試料中の偏光子、検光子全体の面積に相当
する部分の平均偏光特性のデータが一度の測定で得られ
ることになる。従って偏光子、検光子を回転させるのに
比し、試料上の一個所の測定の所要時間が著しく短縮さ
れる。
、各小部分で偏光素子の方位角が異っているので、それ
ら各部に対応する受光素子の出力は偏光子、検光子を回
転させて飛び飛びの角位置で透過光強度を測定したのと
同じであり、試料中の偏光子、検光子全体の面積に相当
する部分の平均偏光特性のデータが一度の測定で得られ
ることになる。従って偏光子、検光子を回転させるのに
比し、試料上の一個所の測定の所要時間が著しく短縮さ
れる。
(実施例)
第1図に本発明の一実施例の全体を示す。第2図はこの
実施例における偏光子、検光子の構成を示す。第1図で
1が偏光子、2が検光子で、これらは各々が第2図に示
すように多数の偏光素子が一平面上にモザイク状に集合
したものとなっておリ、同一軸線上に上下に配置されて
いる。Sは試料で偏光子1と検光子2との間を移送され
る。偏光子1の上方で3はフィルタであり特定の波長の
光を透過する。4は光源のハロゲンランプでその出射光
は光ファイバー5を通してフィルタ3上に導かれ、フィ
ルタ透過光が偏光子1.試料S、検光子2を透過して下
方の多数の受光素子6によって検出されるようになって
いる。光ファイバー5を出射した光はレンズ7により偏
光子1.検光子2を含む太さの平行光束となって偏光子
1に入射せしめられる。
実施例における偏光子、検光子の構成を示す。第1図で
1が偏光子、2が検光子で、これらは各々が第2図に示
すように多数の偏光素子が一平面上にモザイク状に集合
したものとなっておリ、同一軸線上に上下に配置されて
いる。Sは試料で偏光子1と検光子2との間を移送され
る。偏光子1の上方で3はフィルタであり特定の波長の
光を透過する。4は光源のハロゲンランプでその出射光
は光ファイバー5を通してフィルタ3上に導かれ、フィ
ルタ透過光が偏光子1.試料S、検光子2を透過して下
方の多数の受光素子6によって検出されるようになって
いる。光ファイバー5を出射した光はレンズ7により偏
光子1.検光子2を含む太さの平行光束となって偏光子
1に入射せしめられる。
偏光子1および検光子2は同じ構造で第2図に示すよう
に多数の区画この実施例では17区画a、b、c・・・
に分割され、各区画毎に偏光素子が嵌めである。偏光素
子としてはポラロイド或はグイクロームを用いる。各区
画は中央のaを中心にその周囲に16区画が配置され、
3区両の偏光素子の方位を基準にして、b、c、・・・
の各区画はaより右回りに10” 、20” 、・・・
と10°ずつ方位角が増加しており、最後のq区画は方
位角がa区画と170°の角をなすようになっている。
に多数の区画この実施例では17区画a、b、c・・・
に分割され、各区画毎に偏光素子が嵌めである。偏光素
子としてはポラロイド或はグイクロームを用いる。各区
画は中央のaを中心にその周囲に16区画が配置され、
3区両の偏光素子の方位を基準にして、b、c、・・・
の各区画はaより右回りに10” 、20” 、・・・
と10°ずつ方位角が増加しており、最後のq区画は方
位角がa区画と170°の角をなすようになっている。
偏光子1と検光子2は対応する区画a、b、c・・・q
が互いに上下位置関係になるように配置しであるので、
偏光子lと検光子2とはどの部分をとってみても偏光の
方向は平行である。受光素子6は17個あって、検光子
2の上述した各区画a、b。
が互いに上下位置関係になるように配置しであるので、
偏光子lと検光子2とはどの部分をとってみても偏光の
方向は平行である。受光素子6は17個あって、検光子
2の上述した各区画a、b。
・・・の直下に一個ずつ配置されている。これら各区画
に対応する受光素子には6a、6b、・・・の符号を付
けである。
に対応する受光素子には6a、6b、・・・の符号を付
けである。
各受光素子6a、6b、・・・の出力は夫々積分回路8
a、8b・・・を介してデータ処理装置9に取込まれる
。データ処理装置は各受光素子の出力を一定時間積分し
、その積分出力を取込む。この積分時間は受光素子6の
露光時間に相当し、受光素子出力のS/N比を考慮して
設定される。各積分回路の入力抵抗rは偏光子1.検光
子2間に試料がない状態で各積分回路出力が同一値にな
るように予め調整される。これは偏光子検光子の各区画
の透過率のばらつき、各受光素子の感度のばらつき、光
束内の各部の光強度の不動を合せてM慣するためである
。
a、8b・・・を介してデータ処理装置9に取込まれる
。データ処理装置は各受光素子の出力を一定時間積分し
、その積分出力を取込む。この積分時間は受光素子6の
露光時間に相当し、受光素子出力のS/N比を考慮して
設定される。各積分回路の入力抵抗rは偏光子1.検光
子2間に試料がない状態で各積分回路出力が同一値にな
るように予め調整される。これは偏光子検光子の各区画
の透過率のばらつき、各受光素子の感度のばらつき、光
束内の各部の光強度の不動を合せてM慣するためである
。
測定動作は次のように行われる。試料の帯状シートSが
偏光子1検光子2の間を走行せしめられる。データ処理
装置は一定時間間隔で所定時間幅だけスイッチS w
1を閉じ、S w 1を開いた直後の各積分回路8a、
8b・・・の出力を取込み、その後S w 2を閉じて
各積分回路をクリヤし、次回の測定に備えると云う動作
を綬返す。毎回の積分回路出力つまり測定データはメモ
リに格納しておく。このようにして、帯状シートS上で
一定間隔毎に測定が行われる。−回の測定は偏光子1.
検光子2の面積をスイッチS w lが閉じている時間
幅部ち露光時間の間の試料の走行距離だけ移動させたと
きの掃過面積の平均的な測定となる。
偏光子1検光子2の間を走行せしめられる。データ処理
装置は一定時間間隔で所定時間幅だけスイッチS w
1を閉じ、S w 1を開いた直後の各積分回路8a、
8b・・・の出力を取込み、その後S w 2を閉じて
各積分回路をクリヤし、次回の測定に備えると云う動作
を綬返す。毎回の積分回路出力つまり測定データはメモ
リに格納しておく。このようにして、帯状シートS上で
一定間隔毎に測定が行われる。−回の測定は偏光子1.
検光子2の面積をスイッチS w lが閉じている時間
幅部ち露光時間の間の試料の走行距離だけ移動させたと
きの掃過面積の平均的な測定となる。
データ処理装置9は上述のようにして取込んだだ測定デ
ータについて次のようなデータ処理を行う。各回の測定
において、積分回路8a、8b・・の出力は偏光子の1
0°とびの角位置での測定データで、これは下式 %式% Oの実測値である。こ\でM、A、αを最小自乗法で決
定する。即ち積分回路8a、8b・・・の出力をPa、
Pb・・・とすると、 △] =Pa−Po=Pa −M−Acos (0°
+α)△2=Pb−Po=Pb−M−Acos (20
°十α)上記17個の式の△1.△2.・・・の2乗の
総f11つ=△12+△22+・・・・・・△172が
最小になるようにM、A、αを決定する。例えば △12=Pa’ +EM +Acos(0−+a)レ
ーzpa(%でM、A、αを色々変えてDが最小になる
所を見出すのであるから、その条件は であり、M、A、αについて三つの式が得られるから、
それを解いてM、A、αが決定される。このようにして
Aが求まると、このAは第3図の花形の最大値と最小値
の1/2であり、 る。
ータについて次のようなデータ処理を行う。各回の測定
において、積分回路8a、8b・・の出力は偏光子の1
0°とびの角位置での測定データで、これは下式 %式% Oの実測値である。こ\でM、A、αを最小自乗法で決
定する。即ち積分回路8a、8b・・・の出力をPa、
Pb・・・とすると、 △] =Pa−Po=Pa −M−Acos (0°
+α)△2=Pb−Po=Pb−M−Acos (20
°十α)上記17個の式の△1.△2.・・・の2乗の
総f11つ=△12+△22+・・・・・・△172が
最小になるようにM、A、αを決定する。例えば △12=Pa’ +EM +Acos(0−+a)レ
ーzpa(%でM、A、αを色々変えてDが最小になる
所を見出すのであるから、その条件は であり、M、A、αについて三つの式が得られるから、
それを解いてM、A、αが決定される。このようにして
Aが求まると、このAは第3図の花形の最大値と最小値
の1/2であり、 る。
1・・・偏光子、2・・・検光子、3・・・フィルタ、
4・・・光源、5・・・光ファイバー、6・・・受光素
子、7・・・レンズ、8a、8B・・・積分回路、9・
・・データ処理装置。
4・・・光源、5・・・光ファイバー、6・・・受光素
子、7・・・レンズ、8a、8B・・・積分回路、9・
・・データ処理装置。
で試料の一つの測定部分についてのレターデーションが
与えられる。
与えられる。
(発明の効果〉
本発明によれば試料の一個所での測定時間は測定回路の
S/N比を考慮して決められる一露光時間であり、偏光
子等を自転させて各角位置で測定値を採取するのに比し
、試料の偏光特性の測定所要時間が著しく短縮され、走
行している帯状材料の事実上の連1!+111定も可能
となる。
S/N比を考慮して決められる一露光時間であり、偏光
子等を自転させて各角位置で測定値を採取するのに比し
、試料の偏光特性の測定所要時間が著しく短縮され、走
行している帯状材料の事実上の連1!+111定も可能
となる。
第1図は本発明の一実施例の全体図、第2図は同実施例
で用いられる偏光子および検光子の平面図、第3図は測
定出力の極座標によるグラフてあ代理人 弁理士 縣
浩 介
で用いられる偏光子および検光子の平面図、第3図は測
定出力の極座標によるグラフてあ代理人 弁理士 縣
浩 介
Claims (1)
- 複数の小偏光素子を互いに少しずつ方位角を変えて一平
面上に集合配置して一つの偏光子とし、同様の構成で上
記偏光子の各偏光素子に対応する部分の偏光素子の方位
が上記偏光子の各偏光素子と平行であるようにした検光
子を対向配置し、その間に試料を配置するようにし、検
光子の各偏光素子毎に受光素子を対応配置し、これら各
受光素子の出力と対応する偏光素子の方位角とから、偏
光子、試料、検光子三者を透過した透過光強度と偏光素
子の方位角との関係式を算定し、この関係式から上記透
過光強度の最大値、最小値を検出して、試料のレターデ
ーションを求めるデータ処理装置を備えたことを特徴と
する複屈折測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20445490A JP2791506B2 (ja) | 1990-07-31 | 1990-07-31 | 複屈折測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20445490A JP2791506B2 (ja) | 1990-07-31 | 1990-07-31 | 複屈折測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0489553A true JPH0489553A (ja) | 1992-03-23 |
JP2791506B2 JP2791506B2 (ja) | 1998-08-27 |
Family
ID=16490802
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20445490A Expired - Fee Related JP2791506B2 (ja) | 1990-07-31 | 1990-07-31 | 複屈折測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2791506B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05209823A (ja) * | 1991-12-02 | 1993-08-20 | Kanzaki Paper Mfg Co Ltd | 複屈折測定装置 |
JP2009276079A (ja) * | 2008-05-12 | 2009-11-26 | Oji Keisoku Kiki Kk | オンライン位相差測定装置 |
JP2009281787A (ja) * | 2008-05-20 | 2009-12-03 | Oji Keisoku Kiki Kk | 位相差分布測定装置 |
JP2013238849A (ja) * | 2012-04-16 | 2013-11-28 | Hoya Corp | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
-
1990
- 1990-07-31 JP JP20445490A patent/JP2791506B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05209823A (ja) * | 1991-12-02 | 1993-08-20 | Kanzaki Paper Mfg Co Ltd | 複屈折測定装置 |
JP2009276079A (ja) * | 2008-05-12 | 2009-11-26 | Oji Keisoku Kiki Kk | オンライン位相差測定装置 |
JP2009281787A (ja) * | 2008-05-20 | 2009-12-03 | Oji Keisoku Kiki Kk | 位相差分布測定装置 |
JP2013238849A (ja) * | 2012-04-16 | 2013-11-28 | Hoya Corp | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2791506B2 (ja) | 1998-08-27 |
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