JPH0486742A - Apparatus for manufacturing thermomagnetic recording medium - Google Patents

Apparatus for manufacturing thermomagnetic recording medium

Info

Publication number
JPH0486742A
JPH0486742A JP20117690A JP20117690A JPH0486742A JP H0486742 A JPH0486742 A JP H0486742A JP 20117690 A JP20117690 A JP 20117690A JP 20117690 A JP20117690 A JP 20117690A JP H0486742 A JPH0486742 A JP H0486742A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
target
substrate
film
shutter
recording medium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20117690A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Haruoki Yamane
治起 山根
Masanobu Kobayashi
小林 政信
Kiminori Maeno
仁典 前野
Kayoko Oishi
大石 佳代子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oki Electric Industry Co Ltd filed Critical Oki Electric Industry Co Ltd
Priority to JP20117690A priority Critical patent/JPH0486742A/en
Publication of JPH0486742A publication Critical patent/JPH0486742A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To form a multilayer film having several kinds of structures in a short time by providing a shutter rotatably held between a target and a substrate and having plural openings capable of opposing both in the peripheral direction and partitioning plates set at each opening and different from other in shielding position and shielding area. CONSTITUTION:The target 14 arranged opposite to the substrate 11 is formed by electrically connecting and joining a Co part 14a and a Pt part 14b into a circular form. As a rotary plate 12 rotates, a Co/Pt or Co/Pd synthetic lattice film is formed on the substrate 11. The part of the first shutter 21 corresponding to the substrate 11 and the target 14 is provided with the opening 24 through which sputtering is executed in the step of forming said lattice film on the substrate 11. On the other hand, the 4 parts of the second shutter 22 corresponding to the substrate 11 and the target 14 in the peripheral direction are provided with the openings 25 - 28, and the partitioning plates 31 - 34 are arranged for these openings 25 - 28, thus permitting the multilayer film having multiple structures to be formed only by manually rotating the shutter without opening the sputtering device.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、磁気潜像を形成するのに適した熱磁気記録媒
体の製造装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to an apparatus for manufacturing a thermomagnetic recording medium suitable for forming a magnetic latent image.

(従来の技術) 従来、磁気プリンタドラム材料は、例えば熱磁気プリン
タに用いられており、その場合磁気プリンタドラムに磁
気潜像が形成され、これを磁気的に現像して可視像を得
るようにしている(「マグネトグラフィプリンタ」今村
舜仁著、大野信編集、CMCrノンインパクトプリンテ
ィング」第15章P、 159〜P、168.1986
参照)。
BACKGROUND OF THE INVENTION Traditionally, magnetic printer drum materials have been used, for example, in thermomagnetic printers, where a magnetic latent image is formed on the magnetic printer drum and this is magnetically developed to obtain a visible image. (“Magnetography Printer” by Shunjin Imamura, edited by Makoto Ohno, CMCr Non-Impact Printing, Chapter 15 P, 159-P, 168.1986
reference).

第4図は従来の熱磁気プリンタの印刷プロセス図である
FIG. 4 is a printing process diagram of a conventional thermomagnetic printer.

図において、記録用磁気ドラム1は矢印A方向に回転す
る。該記録用磁気ドラム1面上には磁気潜像を形成する
ための熱磁気記録媒体であるCry2薄膜等が設けられ
ている。
In the figure, a recording magnetic drum 1 rotates in the direction of arrow A. A Cry2 thin film, etc., which is a thermomagnetic recording medium for forming a magnetic latent image, is provided on the surface of the recording magnetic drum.

印刷プロセスにおいて、まず消磁手段2が熱磁気記録媒
体を一定方向に磁化する。次に、磁気記録手段3が所定
の磁気潜像を形成し、現像手段4が磁気潜像上にトナー
を付着させることにより、磁気潜像は可視像化される。
In the printing process, first, the demagnetizing means 2 magnetizes the thermomagnetic recording medium in a certain direction. Next, the magnetic recording means 3 forms a predetermined magnetic latent image, and the developing means 4 deposits toner on the magnetic latent image, thereby making the magnetic latent image visible.

ここで、トナーは熱磁気記録媒体面上の漏れ磁界による
磁力線と熱磁気記録媒体面とが交差する部分に付着し、
その結果、磁気潜像は可視像化される。
Here, the toner adheres to the area where the lines of magnetic force due to the leakage magnetic field on the surface of the thermomagnetic recording medium intersect with the surface of the thermomagnetic recording medium,
As a result, the magnetic latent image becomes a visible image.

その後、転写手段5及び定着手段6は、可視像を用紙上
に転写、定着する。最後にクリーニング手段7は熱磁気
記録媒体上の残留トナーを除去し、印刷プロセスを終了
する。
Thereafter, the transfer means 5 and the fixing means 6 transfer and fix the visible image onto the paper. Finally, the cleaning means 7 removes the residual toner on the thermomagnetic recording medium and ends the printing process.

ところで、上記熱磁気記録媒体上に磁気潜像を記録する
方法としてはサーマルヘッドを用いる方法やレーザビー
ム光照射により加熱する方法がある。また、熱磁気記録
媒体の磁化方向は、主として記録媒体面に沿う方向(面
内記録法)と記録媒体の面に対し垂直である方向く垂直
記録法)とがあり、高解像度を必要とする場合には垂直
記録法が用いられる。垂直記録用紙の磁気記録媒体は、
希土類元素と鉄族元素との合金膜、すなわちRE−7M
合金膜又はCo−Cr合金膜で形成される。RE−7M
合金膜は熱磁気記録法を用いた光磁気ディスクに、また
Co−Cr合金膜は磁気へ、ド記録法を用いた磁気ディ
スクに多く用いられている。
By the way, methods for recording a magnetic latent image on the thermomagnetic recording medium include a method using a thermal head and a method of heating by laser beam irradiation. In addition, the magnetization direction of thermomagnetic recording media is mainly divided into two directions: along the recording medium surface (in-plane recording method) and perpendicular to the recording medium surface (perpendicular recording method), which require high resolution. In some cases, perpendicular recording is used. The magnetic recording medium of perpendicular recording paper is
Alloy film of rare earth elements and iron group elements, i.e. RE-7M
It is formed of an alloy film or a Co-Cr alloy film. RE-7M
Alloy films are often used in magneto-optical disks using a thermomagnetic recording method, and Co--Cr alloy films are often used in magnetic disks using a magnetic recording method.

また、Co/Pt人工格子やCo/Pd人工格子等の薄
膜も垂直磁化膜となり熱磁気記録を行うことが可能であ
る。
Furthermore, thin films such as Co/Pt superlattice and Co/Pd superlattice can also be used as perpendicularly magnetized films to perform thermomagnetic recording.

ところが、Co−Cr合金膜は、キューリ点が高いため
熱磁気記録が困難である。さらに、RE−7M合金膜は
残留磁束密度が小さいため、トナーの付着力が不十分で
ある。また、Co/Pt人工格子膜やCo/Pd人工格
子膜の場合、全膜厚が数百人であるような極薄状態にお
いては磁気ヒステリノス曲線の角形比はlであるが、全
膜厚が数千人となると角形比は1以下となり熱磁気記録
に必要な残留磁束密度が得られず、更に保磁力も500
0e程度と小さい。
However, Co--Cr alloy films have a high Curie point, making thermomagnetic recording difficult. Furthermore, since the RE-7M alloy film has a low residual magnetic flux density, the adhesion of toner is insufficient. In addition, in the case of a Co/Pt superlattice film or a Co/Pd superlattice film, the squareness ratio of the magnetic hysterinos curve is l in an extremely thin state where the total film thickness is several hundred nanometers, but when the total film thickness is If there are several thousand people, the squareness ratio will be less than 1, making it impossible to obtain the residual magnetic flux density necessary for thermomagnetic recording, and the coercive force will also be 500.
It is small, about 0e.

このように、垂直記録用の垂直磁化膜を用いた熱磁気プ
リンタは原理的には記録の安定性が高く、高解像度を得
ることができ、低消費電力で作動するなどの特徴がある
ものの、垂直磁化膜として適当な材料がないという問題
があった。
As described above, although thermomagnetic printers using perpendicular magnetization films for perpendicular recording have high recording stability in principle, can obtain high resolution, and operate with low power consumption, There was a problem in that there was no suitable material for the perpendicular magnetization film.

そこで、基板の上に人工格子膜と薄膜を交互に積層して
垂直磁化膜を形成した熱磁気記録媒体が提供されている
Therefore, a thermomagnetic recording medium is provided in which a perpendicular magnetization film is formed by alternately laminating artificial lattice films and thin films on a substrate.

第5図は従来の多重構造多層膜の熱磁気記録媒体の断面
図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a conventional thermomagnetic recording medium with a multilayered structure.

この場合人工格子膜が、Co層とptNを交互に積層し
たCo/Pt人工格子膜又は00層とPd層を交互に積
層したCo/Pd人工格子膜で形成され、また上記薄膜
がpt薄膜又はPd薄膜としである。
In this case, the superlattice film is formed of a Co/Pt superlattice film in which Co layers and ptN layers are alternately laminated, or a Co/Pd superlattice film in which 00 layers and Pd layers are alternately laminated; This is a Pd thin film.

この熱磁気記録媒体の場合、残留磁束密度は高く、磁性
体であるトナーの吸着に必要とされる十分な磁気力を発
生するとともに、保磁力も高(なり、キューり温度は低
くなる。
In the case of this thermomagnetic recording medium, the residual magnetic flux density is high, and it generates sufficient magnetic force required to attract toner, which is a magnetic substance, and also has a high coercive force (and a low cue temperature).

第6図は従来の熱磁気記録媒体のスパッタ装置を示ず図
、第6図(A)はスパッタ装!の正面図、第6図(B)
はターゲット配置図、第6図(C)はシ島ツタ配置図で
ある。
Fig. 6 does not show a conventional sputtering apparatus for thermomagnetic recording media, and Fig. 6(A) shows a sputtering apparatus! Front view, Figure 6 (B)
is a target layout diagram, and FIG. 6(C) is a Shishima ivy layout diagram.

図において、11は回転板12の上に配設されスパッタ
リングによって多重構造多層膜が形成される基板である
。上記回転板12はアースに接続されている。
In the figure, reference numeral 11 is a substrate placed on a rotary plate 12 and on which a multilayer film with a multilayer structure is formed by sputtering. The rotating plate 12 is connected to ground.

14は上記基板11に対向して配設されるターゲットで
あり、Co部分14aとPt (又はPd)部分14b
が半円形状を有していて、両者が電気的に接触させられ
て接合されて円形になっている。ターゲ7)14には、
Co部分14a とPt (又はPd)部分14bの共
通のスパッタ用電源15が接続される。
Reference numeral 14 denotes a target disposed opposite to the substrate 11, which includes a Co portion 14a and a Pt (or Pd) portion 14b.
has a semicircular shape, and the two are electrically contacted and joined to form a circular shape. Target 7) 14 includes:
A common sputtering power source 15 is connected to the Co portion 14a and the Pt (or Pd) portion 14b.

上記構成のスパッタ装置においては、回転板12が回転
するのに伴い、ターゲット14の二つの部分14a、 
14b上を基板11が回転することになり、該基板11
の上にCo/Pt人工格子膜又はCo/Pd人工格子膜
が形成される。
In the sputtering apparatus having the above configuration, as the rotary plate 12 rotates, the two parts 14a of the target 14,
The substrate 11 rotates on the substrate 14b, and the substrate 11 rotates on the substrate 14b.
A Co/Pt superlattice film or a Co/Pd superlattice film is formed thereon.

続いて、スパッタ装置が開放され、pt又はPdの薄膜
が上記Co/Pt人工格子膜又はCo/Pd人工格子膜
上に積層される。
Subsequently, the sputtering apparatus is opened, and a thin film of PT or Pd is deposited on the Co/Pt superlattice film or the Co/Pd superlattice film.

そのため、上記基板11とターデフ14間に円形のシャ
ッタ16が配設される。該シャッタ16の基板11及び
ターゲノ目4に対向する部分には円形の開口17が形成
されていて、基板11の上にCo/Pt人工格子膜又は
Co/Pd人工格子膜を形成する工程においては、上記
開口17は開放される。
Therefore, a circular shutter 16 is provided between the substrate 11 and the TARDEF 14. A circular opening 17 is formed in the portion of the shutter 16 facing the substrate 11 and the target eye 4, and in the step of forming a Co/Pt superlattice film or a Co/Pd superlattice film on the substrate 11, , the opening 17 is opened.

また、上記Co/Pt人工格子膜又はCo/Pd人工格
子膜の上にPt又はPdの薄膜を形成する場合には、上
記開口17のターゲットCOに対向する部分が図示しな
いしきり仮によって遮蔽される。
In addition, when forming a Pt or Pd thin film on the Co/Pt superlattice film or the Co/Pd superlattice film, the portion of the opening 17 facing the target CO is shielded by an unillustrated partition. .

そして、このCo/Pt人工格子膜又はCo/Pd人工
格子膜の形成と、pt又はPdの薄膜の形成とが繰り返
されて多重構造多層膜が形成される。
Then, the formation of the Co/Pt superlattice film or the Co/Pd superlattice film and the formation of the pt or Pd thin film are repeated to form a multilayer film with a multilayer structure.

上記ツヤツタ16は手動で回転させることができ、基板
11の表面を予備的に処理するに当たって逆スバンタを
行う場合にはターゲラ目4が汚れないよう 180°回
転させられる。
The gloss 16 can be manually rotated, and when performing a reverse svanta during preliminary treatment of the surface of the substrate 11, it is rotated 180 degrees to avoid staining the target grain 4.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記従来の熱磁気記録媒体の製造装置に
おいては、多重構造多層膜が形成されるため、熱磁気記
録媒体のキューり点、残留磁束密度などの磁気特性を向
上させることはできるが、それを製造するためにスパッ
タ装置が必要となり、装置が大型化、複雑化してしまう
。また、pt又はPdの薄膜を形成する場合、−度装置
を開放しターゲットの半分を遮蔽するなどの作業が必要
であり、製造方法が複雑化するとともに、製造時間が長
くなってしまう。さらに、装置の開放時に基板の酸化が
起こる。
(Problems to be Solved by the Invention) However, in the conventional thermomagnetic recording medium manufacturing apparatus described above, since a multilayer film with a multilayer structure is formed, the magnetic properties such as the cue point and residual magnetic flux density of the thermomagnetic recording medium are However, a sputtering device is required to manufacture it, which increases the size and complexity of the device. In addition, when forming a thin film of PT or Pd, it is necessary to open the -degree apparatus and shield half of the target, which complicates the manufacturing method and lengthens the manufacturing time. Furthermore, oxidation of the substrate occurs when the device is opened.

(課題を解決するための手段) そのために、本発明の熱磁気記録媒体の製造装置におい
ては、別の成分かみなる二つの部分を電気的に接触させ
て接合し、かつ共通のスパッタ用電源に接続したターゲ
ットと、該ターゲットに対向して配設され、周期的に移
動させられる基板が設けられている。
(Means for Solving the Problems) For this purpose, in the thermomagnetic recording medium manufacturing apparatus of the present invention, two parts made of different components are electrically contacted and joined together, and connected to a common sputtering power source. A connected target and a substrate disposed opposite the target and periodically moved are provided.

上記ターゲットと基板間には、回転自在に支持され手動
で回転させることができるようにンヤ。
Between the target and the substrate is a rotatable support so that it can be rotated manually.

夕が配設されている。該シャッタには、円周方向におい
て両者を対向させる位置に複数の開口が設けられている
Evening is arranged. The shutter is provided with a plurality of openings at positions facing each other in the circumferential direction.

そして、上記各開口には、遮蔽位置及び遮蔽面積がそれ
ぞれ異なるしきり板が設けられている。
Each of the openings is provided with a partition plate having a different shielding position and a different shielding area.

(作用) 本発明によれば、上記のように別の成分からなる二つの
部分を電気的に接触させて接合し、かつ共通のスパッタ
用電源に接続したターゲットを設け、これに対向するよ
うに基板を配設し、該基板を周期的に移動させる。
(Function) According to the present invention, as described above, two parts made of different components are joined by electrically contacting each other, and a target connected to a common sputtering power supply is provided, and the target is opposed to the target. A substrate is disposed and the substrate is moved periodically.

上記ターゲットの二つの成分ををスパッタリングによっ
て交互に積層して人工格子膜を形成し、該人工格子膜と
、上記口つの成分の一方の薄膜を更に交互に積層して多
重構造多層膜を形成する。
The two components of the target are alternately laminated by sputtering to form an artificial lattice film, and the artificial lattice film and a thin film of one of the mouth components are further alternately laminated to form a multilayered film. .

この場合、人工格子膜を形成する時は二つの成分をスパ
ッタリングする必要があり、薄膜を形成する時は一方の
成分のみをスパッタリングする。
In this case, when forming a superlattice film, it is necessary to sputter two components, and when forming a thin film, only one component is sputtered.

したがって、一方の成分のみをスパッタリングする場合
には、他方の成分を遮蔽すればい。
Therefore, when sputtering only one component, it is sufficient to shield the other component.

そのため、上記ターゲットと基板間に、両者を対向させ
るように複数の開口を形成したツヤツタを回転自在に配
設し、上記各開口にしきり板を配設しておき、スパッタ
リングの各工程間で遮蔽位置及び遮蔽面積を可変とする
Therefore, a sputtering plate with a plurality of openings is rotatably arranged between the target and the substrate so that they face each other, and a partition plate is placed in each opening to provide shielding between each sputtering process. The position and shielding area are variable.

上記シャッタを回転させ遮蔽位置を変えることによって
成分を選択することができ、遮蔽面積を変えることによ
って層の厚さを変更することができる。
The component can be selected by rotating the shutter and changing the shielding position, and the thickness of the layer can be changed by changing the shielding area.

(実施例) 以下、本発明の実施例について凹面を参照しながら詳細
に説明する。
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to a concave surface.

第1回は本発明の熱磁気記録媒体の製造装置を実施する
ためのスパッタ装置を示す圀、第1図(A)はスパッタ
装置の正面図、第1[1J(B)はターゲットの平面図
、第2図は第1図のスバ、り装置の第一シャッタの平面
図、第3図は第1図のスパッタ装置の第二シャッタの平
面図である。
The first part shows a sputtering apparatus for implementing the thermomagnetic recording medium manufacturing apparatus of the present invention, FIG. 1(A) is a front view of the sputtering apparatus, and Part 1(B) is a plan view of a target. 2 is a plan view of the first shutter of the sputtering apparatus shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a plan view of the second shutter of the sputtering apparatus shown in FIG.

図において、11は回転Fi12の上に配設され、スパ
ッタリングによって多重構造多層膜が形成される基板で
ある。上記回転板12はアースに接続されている。
In the figure, reference numeral 11 is a substrate disposed on a rotating Fi 12, on which a multilayer film with a multilayer structure is formed by sputtering. The rotating plate 12 is connected to ground.

14は上記基Fi11に対向して配設されるターゲット
であり、00部分14a とPt (又はPd)部分1
4bが半円形状を有していて、両者を電気的に接触させ
て接合し、円形としている。該ターゲット14には、単
元の、すなわちCo部分14a とPt (又はPd)
部分14bに共通のスパッタ用電源15が接続される。
14 is a target disposed opposite to the group Fi11, which includes a 00 portion 14a and a Pt (or Pd) portion 1.
4b has a semicircular shape, and they are electrically contacted and joined to form a circular shape. The target 14 includes a unitary Co portion 14a and a Pt (or Pd) portion.
A common sputtering power source 15 is connected to the portion 14b.

上記構成のスパッタ装置においては、回転板12が回転
するのに伴い、ターゲノ目4の二つの部分14a、 1
4b上を基板11が回転することになり、該基板11の
上2こCo/Pt人工格子膜又はCo/Pd人工格子膜
が形成される。
In the sputtering apparatus having the above configuration, as the rotating plate 12 rotates, the two portions 14a, 1 of the target eye 4
The substrate 11 rotates on the substrate 4b, and a Co/Pt superlattice film or a Co/Pd superlattice film is formed on the top two parts of the substrate 11.

上記回転板12とターゲノ日4間には、それぞれ円形で
、独立に回転自在に支持された第一ンヤソタ21及び第
二シャッタ22が配設される。
A first shutter 21 and a second shutter 22 each having a circular shape and independently rotatably supported are disposed between the rotary plate 12 and the target shutter 4.

上記第一シャッタ21の基板11及びターゲット14に
対応する部分には円形の開口24が形成されていて、基
板11の上にCo/Pt人工格子膜又はCo/Pd人工
格子膜を形成する工程においては、上記開口24を介し
てスパッタリングが行われるようになっている。
A circular opening 24 is formed in a portion of the first shutter 21 corresponding to the substrate 11 and the target 14, and is used in the step of forming a Co/Pt superlattice film or a Co/Pd superlattice film on the substrate 11. Sputtering is performed through the opening 24.

一方、第二シャッタ22には、基板11及びターゲノ目
4に対応する円周方向4箇所に、開口25〜28が形成
される。そして、第3図に示すように上記開口25〜2
8には各種形状の第一しきり板31〜第四しきり板34
が架設される。各しきり板31〜34は、開口25〜2
8を貫通して下方に延びる垂下部35と、各開口25〜
28の縁部に係止されるとともに開口25〜28の所定
部分を遮蔽する遮蔽部36からなる。
On the other hand, openings 25 to 28 are formed in the second shutter 22 at four locations in the circumferential direction corresponding to the substrate 11 and the target eyes 4. Then, as shown in FIG. 3, the openings 25 to 2
8 includes first to fourth partition plates 31 to 34 of various shapes.
will be erected. Each of the partition plates 31 to 34 has openings 25 to 2
8 and a hanging portion 35 extending downward through the openings 25 to 8.
It consists of a shielding part 36 that is locked to the edge of the opening 28 and that shields a predetermined portion of the openings 25 to 28.

上記垂下部35は、ターゲット14の各部分14a、1
4bの各成分を分離した状態でスパッタリングさせると
ともに、一方が遮蔽された場合にその遮蔽を完全にする
ために形成され、両成分の合金化を防止する。
The hanging portion 35 includes each portion 14a, 1 of the target 14.
Each component of 4b is sputtered in a separated state, and is formed to completely shield when one is shielded, and prevents alloying of both components.

また、上記遮蔽部36は第3図のハツチングで示す形状
を有する。すなわち、上記第一しきりFi31の遮蔽部
36は細い帯状を呈しており、ターゲット14のCo部
分14a及びPt (又はPd)部分14bのいずれを
も基板11に対向させる。
Further, the shielding portion 36 has a shape shown by hatching in FIG. 3. That is, the shielding portion 36 of the first barrier Fi 31 has a thin strip shape, and both the Co portion 14a and the Pt (or Pd) portion 14b of the target 14 are opposed to the substrate 11.

また、上記第二しきり板32の遮蔽部36は開口26の
半分を覆う長方形の形状を有しており、ターゲット14
のCo部分14aのみを覆う。
Further, the shielding portion 36 of the second partition plate 32 has a rectangular shape that covers half of the opening 26, and has a rectangular shape that covers half of the opening 26.
It covers only the Co portion 14a.

上記第三しきり板33の遮蔽部36は開口27の半分弱
を覆う長方形の形状を有しており、ターゲット14の0
0部分14aの大部分を覆うとともに、Pt (又はP
d)部分14bに対向する部分を開放して基板11に対
向させる。
The shielding part 36 of the third partition plate 33 has a rectangular shape that covers slightly less than half of the opening 27, and has a rectangular shape that covers a little less than half of the opening 27.
Pt (or P
d) Open the part facing the part 14b to face the substrate 11.

そして、上記第四しきり板34の遮蔽部36は開口28
の半分を覆う長方形の形状を有しており、ターゲ7・目
4のPt (又はPd)部分14bのみを覆う。
The shielding portion 36 of the fourth partition plate 34 is connected to the opening 28.
It has a rectangular shape that covers half of the target 7 and the Pt (or Pd) portion 14b of the eye 4.

上記構成のスパッタ装置において、人工格子膜を形成す
る場合、第二シャッタ22を開口25とターゲノ目4が
対向する位Wに回転し、この上方で基板11を回転させ
る。各層厚の比率を変える場合には、第三しきり板33
のように遮蔽面積の異なるものを用いる。そして、Pt
薄膜又はpafflllを形成する場合には、第二しき
り板32によりCo部分14aを隠すように第二シャッ
タ22を回転させてスパッタする。また、第四しきり板
34を使用すること一二よりCO薄膜を用いた多重構造
多層膜を形成することができる。
In the sputtering apparatus having the above configuration, when forming an artificial lattice film, the second shutter 22 is rotated to a position W such that the opening 25 and the target eye 4 face each other, and the substrate 11 is rotated above this. When changing the ratio of each layer thickness, the third partition plate 33
Use different shielding areas, such as And Pt
When forming a thin film or a paffllll, the second shutter 22 is rotated so that the Co part 14a is hidden by the second partition plate 32, and sputtering is performed. Further, by using the fourth partition plate 34, it is possible to form a multi-layered film using a CO thin film.

上述しなように本発明の熱磁気記録媒体の製造装置によ
れば、第一、第二シャッタ21.22の内、第2シヤツ
タ22に予めしきり板を配設しておくことによってスバ
7・夕装置内を開放することなく、第2ンセノタ22を
手動回転するだけで多重構造多層膜を形成することがで
きる。この場合、数種の構造を持つ多層膜を連続的り:
酸化させることなく短時間に形成することができる。
As described above, according to the thermomagnetic recording medium manufacturing apparatus of the present invention, the second shutter 22 of the first and second shutters 21 and 22 is provided with a partition plate in advance, so that the sub-bar 7 and A multilayer film with a multilayer structure can be formed simply by manually rotating the second sensor 22 without opening the inside of the apparatus. In this case, a multilayer film with several types of structures is sequentially formed:
It can be formed in a short time without oxidation.

このように形成された多重構造多層膜の磁気特性を評価
したところ、Arガス圧50mTorr 、基板回転数
5rpm、ターゲット投入電力500wの条件下でC。
When the magnetic properties of the multilayer film thus formed were evaluated, it was found to be C under the conditions of Ar gas pressure of 50 mTorr, substrate rotation speed of 5 rpm, and target input power of 500 W.

層厚が2人、pt又はPd層厚が5人で全体の膜厚15
0人の人工格子膜と、膜厚150人のpt又はPdの薄
膜からなる多重構造多層膜において、残留磁束密度10
00Guss以上、キューり温度200°C以下、保磁
力30000e程度となる。
The total film thickness is 15 when the layer thickness is 2 people and the PT or Pd layer thickness is 5 people.
In a multi-structure multilayer film consisting of an artificial lattice film with a thickness of 0 and a thin film of PT or Pd with a film thickness of 150, the residual magnetic flux density is 10.
00 Guss or more, the cue temperature is 200°C or less, and the coercive force is about 30,000e.

従来の方法で同様の膜を形成した場合にも、同程度の磁
気特性を得ることができるが、製造のための時間が数倍
〜数十倍程度かかる。
If a similar film is formed using a conventional method, similar magnetic properties can be obtained, but the manufacturing time will be several times to several tens of times longer.

なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない。
Note that the present invention is not limited to the above embodiments,
Various modifications are possible based on the spirit of the present invention, and these are not excluded from the scope of the present invention.

例えば、上記実施例においては、多重構造多層膜として
Co/Pt又はCo/Pd人工格子膜とpt又はPd薄
膜を用い、人工格子膜の積層周期及び膜厚、pt又はP
d薄膜の膜厚は一定としているが、これらの厚さはしき
り板31〜34の大きさ、位置を変えることにより簡単
に変更することができ、複雑な構造を有する、例えばフ
ラクタル的な多層膜を容易に形成することが可能である
For example, in the above embodiment, a Co/Pt or Co/Pd artificial lattice film and a pt or Pd thin film are used as the multi-structure multilayer film, and the stacking period and film thickness of the artificial lattice film are changed to pt or Pd.
d The film thickness of the thin film is fixed, but these thicknesses can be easily changed by changing the size and position of the partition plates 31 to 34, and can be easily changed when the film has a complex structure, such as a fractal multilayer film. can be easily formed.

(発明の効果) 以上詳細に説明したように、本発明によれば、熱磁気記
録媒体はキューリ点が低くかつ残留磁束密度の高い垂直
磁化膜であるCo/Pt又はCo/Pdの人工格子膜と
pt又はPdの薄膜とを交互に積層した多層膜により形
成される。
(Effects of the Invention) As described above in detail, according to the present invention, the thermomagnetic recording medium is a Co/Pt or Co/Pd superlattice film which is a perpendicularly magnetized film with a low Curie point and high residual magnetic flux density. It is formed by a multilayer film in which thin films of PT and Pd are alternately laminated.

したがって、垂直記録を行う磁気記録密度を得ることが
できる。そして、例えば熱磁気プリンタにこれを用いた
場合、解像度を高くし消費電力を低減することができる
Therefore, a magnetic recording density for perpendicular recording can be obtained. For example, when this is used in a thermomagnetic printer, resolution can be increased and power consumption can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の熱磁気記録媒体の製造装置を実施する
ためのスパッタ装置を示す図、第1図(A)はスバ、り
装置の正面図、第1図(B)はターゲットの平面図、第
2図は第1図のスパッタ装置の第一シャッタの平面図、
第3図は第1図のスパッタ装置の第二シャッタの平面図
、第4図は従来の熱磁気プリンタの印刷プロセス図、第
5図は従来の多重構造多層膜の熱磁気記録媒体の断面図
、第6図は従来の熱磁気記録媒体のスパッタ装置を示す
図、第6図(A)はスパッタ装置の正面図、第6図(B
)はターゲット配置図、第6図(C)はシャッタ配置図
である。 11・・・基板、12・・・回転板、14・・・ターゲ
ット、21・第一シャッタ、22・・・第二シャッタ、
31〜34・・・しきり板、36・・・遮蔽部。 特許出願人 沖電気工業株式会社 代理人 弁理士 川 合  誠(外1名)第一ンインタ
の平面図 第2図 スパッタ駿1[示fs 第1図 Yニジ褌ツタのイ胎図 第3図 手続手甫正書(自発) 明   細   書 平成2年12月27日
FIG. 1 is a diagram showing a sputtering apparatus for implementing the thermomagnetic recording medium manufacturing apparatus of the present invention, FIG. 1(A) is a front view of the sputtering apparatus, and FIG. 1(B) is a plan view of the target. 2 is a plan view of the first shutter of the sputtering apparatus shown in FIG.
Fig. 3 is a plan view of the second shutter of the sputtering device shown in Fig. 1, Fig. 4 is a printing process diagram of a conventional thermomagnetic printer, and Fig. 5 is a sectional view of a conventional thermomagnetic recording medium with a multilayer structure. , FIG. 6 is a diagram showing a conventional sputtering device for thermomagnetic recording media, FIG. 6(A) is a front view of the sputtering device, and FIG. 6(B)
) is a target arrangement diagram, and FIG. 6(C) is a shutter arrangement diagram. DESCRIPTION OF SYMBOLS 11... Substrate, 12... Rotating plate, 14... Target, 21... First shutter, 22... Second shutter,
31-34... Shikiri board, 36... Shielding part. Patent applicant: Oki Electric Industry Co., Ltd. Agent, Patent attorney Makoto Kawai (1 other person) Plan view of the first interface Figure 2 Spatter 1 [fs Figure 1 Y rainbow loincloth ivy diagram Figure 3 Procedures Teho Seisho (self-initiated) Specification December 27, 1990

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (a)別の成分からなる二つの部分を電気的に接触させ
て接合し、かつ共通のスパッタ用電源に接続したターゲ
ットと、 (b)該ターゲットに対向して配設され、周期的に移動
させられる基板と、 (c)上記ターゲットと基板間にあって回転自在に支持
されるとともに、円周方向において両者を対向させる位
置に複数の開口を形成したシャッタと、(d)上記各開
口に配設され、遮蔽位置及び遮蔽面積がそれぞれ異なる
しきり板を有することを特徴とする熱磁気記録媒体の製
造装置。
[Scope of Claims] (a) A target in which two parts made of different components are joined in electrical contact and connected to a common sputtering power source; (b) A target disposed opposite to the target. (c) a shutter that is rotatably supported between the target and the substrate and has a plurality of openings formed at positions where the two face each other in the circumferential direction; (d) An apparatus for manufacturing a thermomagnetic recording medium, comprising a partition plate disposed in each of the openings and having a different shielding position and a different shielding area.
JP20117690A 1990-07-31 1990-07-31 Apparatus for manufacturing thermomagnetic recording medium Pending JPH0486742A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20117690A JPH0486742A (en) 1990-07-31 1990-07-31 Apparatus for manufacturing thermomagnetic recording medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20117690A JPH0486742A (en) 1990-07-31 1990-07-31 Apparatus for manufacturing thermomagnetic recording medium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0486742A true JPH0486742A (en) 1992-03-19

Family

ID=16436618

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20117690A Pending JPH0486742A (en) 1990-07-31 1990-07-31 Apparatus for manufacturing thermomagnetic recording medium

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0486742A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6881497B2 (en) 2001-06-04 2005-04-19 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. ‘Thermal spring’ magnetic recording media for writing using magnetic and thermal gradients

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6881497B2 (en) 2001-06-04 2005-04-19 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. ‘Thermal spring’ magnetic recording media for writing using magnetic and thermal gradients

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0459413B1 (en) Method for fabricating a magnetic recording medium
CN106257585A (en) It is coupled with the near field transducer of adhesion layer
JPH0535153A (en) Magnetic recorder and magnetic recording medium
JPH0486742A (en) Apparatus for manufacturing thermomagnetic recording medium
JP2007026514A (en) Perpendicular magnetic recording medium and its manufacturing method
JP2004528666A (en) Disk-shaped magnetic storage device and method of manufacturing the same
JPS58166531A (en) Vertical magnetic recording medium
EP0459411B1 (en) Magnetic recording medium
JP2002170216A (en) Perpendicular magnetic recording medium and method of manufacture
JPH0785442A (en) Vertical magnetic recording medium
JPH0432051A (en) Apparatus for producing thermomagnetic recording medium
JP2706172B2 (en) Manufacturing method of magnetic recording medium
JPH0580575A (en) Magnetic recording medium
JPH0486269A (en) Magnetic recording medium and its manufacturing device
JPH0431871A (en) Thermomagnetic recording medium
JP3065335B2 (en) Thermomagnetic recording medium
JPS62128019A (en) Magnetic recording medium
JPH04317068A (en) Magnetic recording medium
JP2699312B2 (en) Magnetic recording medium and method of manufacturing the same
JPH0318859A (en) Thermomagnetic recording medium
JPH04317067A (en) Magnetic recording medium
JPH0431872A (en) Thermomagnetic recording medium
JPH05150537A (en) Magnetic recording medium
JPS59221821A (en) Thin film magnetic head
JP2006059453A (en) Manufacturing method of perpendicular magnetic recording medium