JPH0485974A - Thermoelectric device - Google Patents

Thermoelectric device

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JPH0485974A
JPH0485974A JP2201859A JP20185990A JPH0485974A JP H0485974 A JPH0485974 A JP H0485974A JP 2201859 A JP2201859 A JP 2201859A JP 20185990 A JP20185990 A JP 20185990A JP H0485974 A JPH0485974 A JP H0485974A
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JP
Japan
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heat exchange
thermoelectric device
expansion coefficient
thermoelectric
low
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JP2201859A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasutada Kobayashi
木林 靖忠
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Sumco Techxiv Corp
Original Assignee
Sumco Techxiv Corp
Komatsu Electronic Metals Co Ltd
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Publication date
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Priority to JP2201859A priority Critical patent/JPH0485974A/en
Publication of JPH0485974A publication Critical patent/JPH0485974A/en
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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To maintain excellent characteristic without damage and removal even if a temperature difference between a low temperature section and a high temperature section is large by composing a heat exchanging board of a material having low thermal expansion coefficient. CONSTITUTION:Copper tungsten electrodes 4, 5 are formed on a heat exchanging board formed of a material having 4X10<-6>/ deg.C or below of linear expansion coefficient such as low expansion glass boards (Vycor of 96% quartz) 1, 2 through a nickel metallized layer M by a thick film method, and a thermoelectric element 3 is secured thereto to complete it. Since the boards 1, 2 are formed of the material having low thermal expansion coefficient, even if a temperature difference between a low temperature section and a high temperature section is large, excellent characteristics are maintained, and high reliability is provided.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、熱電装置に係り、特にその低温部と高温部と
の温度差が大きい熱電装置の実装構造に関するものであ
る。
[Detailed Description of the Invention] [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a thermoelectric device, and particularly relates to a mounting structure for a thermoelectric device that has a large temperature difference between a low-temperature part and a high-temperature part. .

〔従来の技術〕[Conventional technology]

P型半導体とN型半導体とを、金属を介して接合してP
N素子対を形成し、この接合部を流れる電流の方向によ
って一方の端部が発熱せしめられると共に他方の端部が
冷却せしめられるいわゆるベルチェ効果を利用した熱電
素子は、小型で構造が簡単なことから、携帯用クーラ等
いろいろなデバイスに幅広い利用が期待されている。
A P-type semiconductor and an N-type semiconductor are bonded via metal to form a P-type semiconductor.
Thermoelectric elements that utilize the so-called Beltier effect, in which N element pairs are formed and one end is heated and the other end is cooled depending on the direction of current flowing through the junction, are small and simple in structure. Therefore, it is expected to be widely used in various devices such as portable coolers.

このような熱電素子を多数個集めて形成したサーモモジ
ュールは、例えば、第5図に示すように、アルミナセラ
ミックス基板等の熱伝導性の良好な絶縁性基板からなる
第1および第2の熱交換基板11、.12間にこれに対
して良好な熱接触性をもつように多数個のPN素子対1
3が挟持せしめられると共に、各素子対13間を夫々第
1および第2の電極14.15によって直列接続せしめ
られて構成されている。
A thermo module formed by collecting a large number of such thermoelectric elements has first and second heat exchangers made of insulating substrates with good thermal conductivity such as alumina ceramic substrates, as shown in FIG. Substrate 11, . A large number of PN element pairs 1 are connected to each other so as to have good thermal contact between the 12
3 are sandwiched between each other, and each element pair 13 is connected in series by first and second electrodes 14 and 15, respectively.

そして、この第1および第2の電極14.15は大電流
にも耐え得るように通常銅板からなり、熱交換基板1.
1.12表面に形成された導電体層パターン上に半田等
の溶着層を介して固着されている。
The first and second electrodes 14.15 are usually made of copper plates so as to withstand large currents, and the heat exchanger substrate 1.
1.12 It is fixed on the conductor layer pattern formed on the surface via a welding layer such as solder.

更にこの第1および第2の電極上には、半田層を介して
P型熱電素子1.3 a又はN型熱電素子13bが交互
に夫々1対ずつ固着せしめられ、PN素子対13を構成
すると共に各素子月間は直列接続されている。
Furthermore, pairs of P-type thermoelectric elements 1.3a or N-type thermoelectric elements 13b are alternately fixed onto the first and second electrodes via solder layers, thereby forming a PN element pair 13. In addition, each element is connected in series.

ところで、このような熱電装置構造において、電極の熱
交換基板への位置決めおよび固着に際し、組み立て作業
性の向上をはかるため、電極を、熱交換基板表面に形成
した厚膜導体層パターンで構成したものが提案されてい
る。
By the way, in such a thermoelectric device structure, in order to improve assembly workability when positioning and fixing the electrodes to the heat exchange substrate, the electrodes are constructed with a thick film conductor layer pattern formed on the surface of the heat exchange substrate. is proposed.

かかる構造の熱電装置によれば、熱交換基板上の導体パ
ターンに電極板を位置決めする工程と固着工程とが不要
となり、工程の大幅な簡略化をはかることができると共
に、導体パターンと電極との位置ずれか生しることもな
く、信頼性を高めることができる。
According to a thermoelectric device having such a structure, the step of positioning the electrode plate to the conductor pattern on the heat exchange board and the step of fixing it are not necessary, and the process can be greatly simplified, and the connection between the conductor pattern and the electrodes can be greatly simplified. No positional deviation occurs, and reliability can be improved.

ところで、熱交換効率の増大をはかるには、熱交換基板
を良好な熱伝導性を有する絶縁性の材料で構成する必要
があり、また熱歪による劣化を防止するため、熱膨張率
が小さいものでなければならない。
By the way, in order to increase the heat exchange efficiency, the heat exchange board must be made of an insulating material with good thermal conductivity, and in order to prevent deterioration due to thermal distortion, it must be made of a material with a small coefficient of thermal expansion. Must.

しかしながら、熱交換基板材料として、従来から用いら
れているアルミナセラミックス基板やベリリアセラミッ
クス基板は、線膨脹係数が7×10−’/”Cと大きく
、これに線膨脹係数が16.5xlCM’/”Cの銅電
極を形成しているため、熱応力により、熱電半導体が破
損したりするという問題があった。
However, alumina ceramic substrates and beryllia ceramic substrates, which have been conventionally used as heat exchange substrate materials, have a large coefficient of linear expansion of 7×10-'/"C, and a coefficient of linear expansion of 16.5xlCM'/"C. ``Since the copper electrode of C was formed, there was a problem that the thermoelectric semiconductor could be damaged due to thermal stress.

そこで応力を緩和するため、基板を分割構造としたり、
基板を用いることなく電極のみて構成するスケルトン構
造としたりするという方法かとられているが、構造が複
雑となるという問題があった。
Therefore, in order to alleviate stress, the board has a divided structure,
A method has been proposed in which a skeleton structure consisting only of electrodes without using a substrate is used, but this method has the problem of making the structure complicated.

また、高温部と低温部との温度差Δtが40〜50℃程
度で用いられていたのに対し、最近では、ヒータや冷媒
を併用することによって温度差Δtが60以上100℃
に達するものまで提案されてきており、分割構造とした
場合、熱の伝達効率が悪く熱交換効率を高めることがで
きない上、強度的にも問題かあり、従来の材料および構
造では、対応できなくなってきている。
In addition, while the temperature difference Δt between the high-temperature part and the low-temperature part used to be about 40 to 50°C, recently, the temperature difference Δt between the high-temperature part and the low-temperature part has been increased to 60 to 100°C by using heaters and refrigerants in combination.
A split structure has been proposed, and if it is a split structure, the heat transfer efficiency is poor and it is not possible to increase the heat exchange efficiency, and there are also problems with strength, and conventional materials and structures cannot cope with it. It's coming.

(発明が解決しようとする課題) このように従来の熱電装置の基板材料及び電極は熱膨張
係数が大きいものが用いられているため、低温側と高温
側の差か大きくなるに従い、熱電半導体が破損したり、
脱落したりするという問題があった。
(Problem to be Solved by the Invention) As described above, since the substrate materials and electrodes of conventional thermoelectric devices have a large coefficient of thermal expansion, as the difference between the low temperature side and the high temperature side increases, the thermoelectric semiconductor Damaged or
There was a problem with it falling off.

本発明は前記実情に鑑みてなされたもので、高温部と低
温部との温度差Δtか大きい場合にも適用可能であり、
熱電半導体が破損したり、脱落したりすることなく信頼
性の高い熱電装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and is applicable even when the temperature difference Δt between the high temperature part and the low temperature part is large.
The purpose is to provide a highly reliable thermoelectric device without the thermoelectric semiconductor being damaged or falling off.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

(課題を解決するための手段) そこで本発明では、熱交換基板を、線膨張係数4X10
−6/℃以下の材料で構成するようにしている。
(Means for Solving the Problems) Therefore, in the present invention, the heat exchange substrate has a linear expansion coefficient of 4×10
It is made of materials with a temperature of -6/℃ or less.

望ましくは、熱交換基板材料との線膨張係数の差が小さ
い電極材料を用いるようにしている。
Desirably, an electrode material having a small difference in linear expansion coefficient from the heat exchange substrate material is used.

望ましくは電極を線膨張係数8X10−6/℃以下、体
積抵抗率10−6Ωel以下の材料からなる電極パター
ンで構成するようにしている。
Preferably, the electrodes are made of an electrode pattern made of a material having a linear expansion coefficient of 8×10 −6 /° C. or less and a volume resistivity of 10 −6 Ωel or less.

望ましくは、熱交換基板は石英ガラス、低膨脹ガラス、
アンバー合金のうちのいずれかで構成するようにしてい
る。
Preferably, the heat exchange substrate is made of quartz glass, low expansion glass,
It is made of one of the amber alloys.

さらに、アンバー合金、モリブデン、タングステン、タ
ンタルなどの高融点金属あるいはこれらと銅との合金で
電極を構成するようにしている。
Further, the electrodes are made of high melting point metals such as amber alloy, molybdenum, tungsten, and tantalum, or alloys of these and copper.

(作用) 上記構成によれば、熱交換基板を熱膨張率の小さい材料
で構成しているため、低温部と高温部との温度差が大き
い場合にも、破損や脱落が生しることなく、良好な特性
を維持することができる。
(Function) According to the above configuration, since the heat exchange board is made of a material with a small coefficient of thermal expansion, even if there is a large temperature difference between the low temperature part and the high temperature part, it will not be damaged or fall off. , good characteristics can be maintained.

また、電極材料として熱交換基板と線膨張係数の差が小
さい材料を用いているため、上下基板の温度差が大きい
場合でも、熱電半導体が熱応力により破損することかな
い。
Furthermore, since a material with a small difference in linear expansion coefficient from that of the heat exchange substrate is used as the electrode material, even if the temperature difference between the upper and lower substrates is large, the thermoelectric semiconductor will not be damaged by thermal stress.

(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照しつつ詳細に
説明する。
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

実施例1 この熱電装置は、第1図に示すように、低膨脹ガラス基
板(96%石英のバイコール)1.2表面に膜厚5μ−
のニッケルメタライズ層N1を介して膜厚120μ−の
銅タングステン電極4,5を厚膜法で形成し、これに熱
電素子3を固着したものである。
Example 1 As shown in FIG. 1, this thermoelectric device was constructed by forming a film with a thickness of 5 μm on the surface of a low expansion glass substrate (96% quartz Vycor) 1.2.
Copper-tungsten electrodes 4 and 5 with a film thickness of 120 .mu.m are formed by a thick film method via a nickel metallized layer N1, and a thermoelectric element 3 is fixed thereto.

この熱電装置に対し、高温側温度を60℃、低温側温度
を0℃とする動作を、5分オン15分オフで繰り返し、
このときの1000サイクル後、10000サイクル後
、30000サイクル後の内部抵抗変化率を測定した結
果を第1表に示す。
For this thermoelectric device, the operation of setting the high temperature side to 60°C and the low temperature side temperature to 0°C was repeated for 5 minutes on and 15 minutes off.
Table 1 shows the results of measuring the internal resistance change rate after 1000 cycles, 10000 cycles, and 30000 cycles.

第1表 2.0% 1.5% 3、0% サイクルl      zoo。Table 1 2.0% 1.5% 3.0% Cycle l     zoo.

号ンブルN0.1  2.  0  %サンプルNO,
21,0% サンプルNO,31,5% 3、5% 4、0 % 5、5% 第1表から明らかなように、本発明の熱電装置によれば
、30000サイクル経過後も内部抵抗変化率は小さく
維持されていることが判る。
No. N0.1 2. 0% sample no.
21,0% Sample No. 31,5% 3,5% 4,0% 5,5% As is clear from Table 1, according to the thermoelectric device of the present invention, the internal resistance change rate remains constant even after 30,000 cycles. It can be seen that is kept small.

また、破損も脱落もなく極めて信頼性の高いものとなっ
ている。なお第5図に示した従来例の熱電装置では3個
中2個の装置が破損した。
Furthermore, it is extremely reliable with no damage or falling off. In the conventional thermoelectric device shown in FIG. 5, two out of three devices were damaged.

比較のために、第5図に示した従来例の熱電装置に同様
のテストを行った結果を第2表に示す。
For comparison, Table 2 shows the results of a similar test conducted on the conventional thermoelectric device shown in FIG.

ラス、電極として銅タングステンを用いたが、これに限
定されることなく、他の材料の組み合わせを用いても良
い。他の材料の組み合わせ例を第3表に示す。
Although copper tungsten is used for the lath and electrodes, the present invention is not limited thereto, and combinations of other materials may be used. Table 3 shows examples of combinations of other materials.

第3表 基板材料    石英ガラス   低重トラス  表面
絶縁アンバー合金メタライズ層  Ni       
Cu−W     Ni   Mn−No   Ti電
HRアンバ合金   モリブデン   銅タングステン
合金 タンタル第2表 5.5% 3.5% 4.0% サイクルl      1000 啼ンブルNO,11,5% サンプルNO,22,5% +7プルNO,32。  0 % 55% 第1表と第2表との比較から、本発明によれば内部抵抗
の変化率を大幅に小さく抑えることができることがわか
る。
Table 3 Substrate material Silica glass Low-heavy truss Surface insulation amber alloy metallized layer Ni
Cu-W Ni Mn-No Ti Electric HR Amber Alloy Molybdenum Copper Tungsten Alloy Tantalum Table 2 5.5% 3.5% 4.0% Cycle 1000 Sample No. 11.5% Sample No. 22.5% +7 pull NO, 32. 0% 55% A comparison between Tables 1 and 2 shows that according to the present invention, the rate of change in internal resistance can be suppressed significantly.

なお、前記実施例1では、基板として低重脹ガ実施例2 次に、本発明の第2の実施例について図面を参照しつつ
詳細に説明する。
In the first embodiment, a low-heavy bulge is used as the substrate.Next, a second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

この熱電装置は、第2図に示すように第1および第2の
熱交換基板21.22として導電性のアンバー合金から
なる基板を用いたものである。
As shown in FIG. 2, this thermoelectric device uses substrates made of conductive amber alloy as the first and second heat exchange substrates 21 and 22.

そして、この熱交換基板上にプラズマ溶射法によって膜
厚100μ■の酸化シリコン膜26を形成した後、Wメ
タライズ層を形成し、この上にアンバー合金からなる電
極チップをPb−5n半田によってハンダ付けしたもの
である。
After forming a silicon oxide film 26 with a thickness of 100 μm on this heat exchange substrate by plasma spraying, a W metallized layer is formed, and an electrode chip made of an amber alloy is soldered onto this using Pb-5n solder. This is what I did.

そして、熱電素子3は、同様にPb−5n半田を介して
電極4,5に固着されている。
The thermoelectric element 3 is similarly fixed to the electrodes 4 and 5 via Pb-5n solder.

この熱電装置に対し、高温側温度を60℃、低温側温度
を0℃とする動作を、実施例1の場合と同様に5分オン
15分オフで繰り返し、このときの1000サイクル後
、10000サイクル後、30000サイクル後の内部
抵抗変化率を測定した結果を第4表に示す。
For this thermoelectric device, the operation of setting the high temperature side to 60°C and the low temperature side temperature to 0°C was repeated with 5 minutes on and 15 minutes off as in Example 1, and after 1000 cycles at this time, 10000 cycles Table 4 shows the results of measuring the internal resistance change rate after 30,000 cycles.

第4表 1、0000 2.8% 1.9% 3.3% サイクルl      1000 サンプルNO,l   1 サンプルN0.2  0.  5  %寸ンブルNO,
31,2% 0 % 3、4% 3、7% 4、2% 第4表から明らかなように、本発明の熱電装置によれば
、30000サイクル経過後も内部抵抗変化率は小さく
維持されていることが判る。
Table 4 1, 0000 2.8% 1.9% 3.3% Cycle l 1000 Sample No. l 1 Sample No. 0.2 0. 5% size no.
31,2% 0% 3,4% 3,7% 4,2% As is clear from Table 4, according to the thermoelectric device of the present invention, the internal resistance change rate remains small even after 30,000 cycles. I know that there is.

実施例3 次に本発明の第3の実施例について説明する。Example 3 Next, a third embodiment of the present invention will be described.

この熱雷装置は、第3図に示すように、第1および第2
の熱交換基板31.32として低膨脹ガラスを用い、厚
膜法によってタンクステン電極パターン34’、35を
形成したものである。
As shown in Fig. 3, this thermal lightning device has first and second
Low expansion glass is used as the heat exchange substrates 31 and 32, and the tank stencil electrode patterns 34' and 35 are formed by a thick film method.

そして、熱電素子3は、第4図に拡大図を示すように、
P型およびN型B1−Te半導体33a33bの両側面
にニッケルめっき層37および。
The thermoelectric element 3 is, as shown in an enlarged view in FIG.
A nickel plating layer 37 is formed on both sides of the P-type and N-type B1-Te semiconductors 33a33b.

Pb−3n半田めっき層38を形成してなるものである
A Pb-3n solder plating layer 38 is formed.

また、第2の熱交換基板32表面上には、膜厚150μ
mのタングステン層39と、膜厚10μmのPb−3n
半田めっき層38との2層構造の電極パターン35か形
成され、このの上にP型熱電素子33aおよびN型熱電
素子33bが固着される。一方、他方の面側にも同様に
2層構造の電極パターンが形成されている。
Further, on the surface of the second heat exchange substrate 32, a film with a thickness of 150 μm is provided.
m tungsten layer 39 and a 10 μm thick Pb-3n layer 39
An electrode pattern 35 having a two-layer structure with a solder plating layer 38 is formed, and a P-type thermoelectric element 33a and an N-type thermoelectric element 33b are fixed thereon. On the other hand, a two-layer electrode pattern is similarly formed on the other side.

なお、要部拡大図は示さないが第1の熱交換基板31も
、第2の熱交換基板と同様の構造をなしている。
Although an enlarged view of the main parts is not shown, the first heat exchange board 31 also has the same structure as the second heat exchange board.

このようにして第1の熱交換基板上の電極パターンおよ
び第2の熱交換基板31.32上の電極パターンによっ
て隣接するP型熱電素子33aおよびN型熱電素子33
bか半田溶融法によって接続されPN素子対33が構成
されると共にこれらのPN素子対1が互いに直列に接続
され、回路の両端に位置する電極パターンに夫々第1の
電極リード7および第2の電極リード8が配設される。
In this way, the adjacent P-type thermoelectric element 33a and N-type thermoelectric element 33 are
b) are connected by the solder melting method to form a PN element pair 33, and these PN element pairs 1 are connected in series with each other, and a first electrode lead 7 and a second electrode lead 7 are connected to electrode patterns located at both ends of the circuit, respectively. Electrode leads 8 are provided.

この第1および第2の電極リードに通電が行なわれるこ
とにより、例えば第1の熱交換基板の側か低温部となり
、第2の熱交換基板の側か高温部となる。
By energizing the first and second electrode leads, for example, the first heat exchange board side becomes a low temperature part, and the second heat exchange board side becomes a high temperature part.

二〇熱電装置に対し、高温側温度を60℃、低温側温度
を0℃とする動作を、実施例1の場合と同様に5分オン
15分オフで繰り返し、このときの1000サイクル後
、10000サイクル後、30000サイクル後の内部
抵抗変化率を測定した結果を第5表に示す。
20 For the thermoelectric device, repeat the operation of setting the high temperature side temperature to 60 °C and the low temperature side temperature to 0 °C with 5 minutes on and 15 minutes off, as in Example 1, and after 1000 cycles at this time, 10000 Table 5 shows the results of measuring the internal resistance change rate after 30,000 cycles.

サイクル数 サンプルNO,1 サンプルN0.2 サンプルNO,3 第5表 1、1%  3.0% 1.5% 2.2% 0.8% 2.0% 4、6% 3、7% 2、9% 第5表から明らかなように、本発明の熱電装置によれば
、30000サイクル経過後も内部抵抗変化率は小さく
維持されていることか判る。
Number of cycles Sample No. 1 Sample No. 0.2 Sample No. 3 Table 5 1, 1% 3.0% 1.5% 2.2% 0.8% 2.0% 4, 6% 3, 7% 2 , 9% As is clear from Table 5, it can be seen that according to the thermoelectric device of the present invention, the internal resistance change rate is maintained small even after 30,000 cycles.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明してきたように、本発明の熱電装置によれば、
熱交換基板を熱膨張率の小さい材料で構成しているため
、低温部と高温部との温度差が大きい場合にも、良好な
特性を維持し信頼性の高いものとなる。
As explained above, according to the thermoelectric device of the present invention,
Since the heat exchange board is made of a material with a small coefficient of thermal expansion, it maintains good characteristics and is highly reliable even when there is a large temperature difference between the low-temperature part and the high-temperature part.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第1の実施例の熱電装置を示す図、第
2図は本発明の第2の実施例の熱電装置を示す図、第3
図および第4図は本発明の第3の実施例の熱電装置を示
す図、第5図は従来例の熱電装置を示す図である。 1.2・・・熱交換基板、4,5・・・銅タングステン
電極、11.12・・・熱交換基板、13・・P型およ
びN型B1−Te半導体、1.4.15−・銅タングス
テン電極、21.22・・・熱交換基板、26・・酸化
シリコン膜、33a、33b・・・P型およびN型B1
−Te半導体、34.35−電極パターン、37・・・
ニッケルめっき層、38・・・Pb−3n半田めっき層
、39・・・タングステン層。 第 図 第2図 第5
FIG. 1 is a diagram showing a thermoelectric device according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing a thermoelectric device according to a second embodiment of the present invention, and FIG.
4 and 4 are diagrams showing a thermoelectric device according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a diagram showing a conventional thermoelectric device. 1.2... Heat exchange board, 4,5... Copper tungsten electrode, 11.12... Heat exchange board, 13... P type and N type B1-Te semiconductor, 1.4.15-... Copper tungsten electrode, 21.22... Heat exchange substrate, 26... Silicon oxide film, 33a, 33b... P type and N type B1
-Te semiconductor, 34.35-electrode pattern, 37...
Nickel plating layer, 38... Pb-3n solder plating layer, 39... tungsten layer. Figure 2 Figure 5

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)熱交換基板上に電極を介して少なくとも1対の熱
電素子対を配設した熱電装置において、熱交換基板が、
線膨脹係数4×10^−^6/℃以下の材料から構成さ
れていることを特徴とする熱電装置。
(1) In a thermoelectric device in which at least one pair of thermoelectric elements is arranged on a heat exchange substrate via electrodes, the heat exchange substrate
A thermoelectric device comprising a material having a linear expansion coefficient of 4×10^-^6/°C or less.
(2)前記熱交換基板は、絶縁性材料から構成されてお
り、 前記電極は、前記熱交換基板表面にメタライズ層を介し
て形成された線膨脹係数8×10^−^6/℃以下、体
積抵抗率10^−^6Ωcm以下の材料から構成されて
いることを特徴とする請求項第(1)に記載の熱電装置
(2) The heat exchange board is made of an insulating material, and the electrode is formed on the surface of the heat exchange board via a metallized layer, and has a linear expansion coefficient of 8 x 10^-^6/°C or less; The thermoelectric device according to claim 1, wherein the thermoelectric device is made of a material having a volume resistivity of 10^-^6 Ωcm or less.
(3)前記熱交換基板は、導電性材料から構成されてお
り、 前記電極は、前記熱交換基板表面全体を覆う絶縁層上に
メタライズ層を介して形成された線膨脹係数8×10^
−^6/℃以下、体積抵抗率10^−^6Ωcm以下の
材料から構成されていることを特徴とする請求項第(1
)に記載の熱電装置。
(3) The heat exchange substrate is made of a conductive material, and the electrodes are formed on an insulating layer covering the entire surface of the heat exchange substrate via a metallized layer, and have a linear expansion coefficient of 8×10^.
Claim No. 1, characterized in that it is made of a material having a volume resistivity of -^6/℃ or less and a volume resistivity of 10^-^6 Ωcm or less.
Thermoelectric device described in ).
(4)前記熱交換基板は石英ガラス、低膨脹ガラス、ア
ンバー合金のうちのいずれかであることを特徴とする請
求項第(1)乃至第(3)項のいずれかに記載の熱電装
置。
(4) The thermoelectric device according to any one of claims (1) to (3), wherein the heat exchange substrate is made of quartz glass, low expansion glass, or an amber alloy.
(5)前記電極は、アンバー合金、モリブデン、タング
ステン、タンタルなどの高融点金属あるいはこれらと銅
との合金からなることを特徴とする請求項第(1)乃至
第(3)項のいずれかに記載の熱電装置。
(5) The electrode is made of a high melting point metal such as an amber alloy, molybdenum, tungsten, tantalum, or an alloy of these and copper. The thermoelectric device described.
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