JPH0483370A - Semiconductor device and manufacture thereof - Google Patents

Semiconductor device and manufacture thereof

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JPH0483370A
JPH0483370A JP2197045A JP19704590A JPH0483370A JP H0483370 A JPH0483370 A JP H0483370A JP 2197045 A JP2197045 A JP 2197045A JP 19704590 A JP19704590 A JP 19704590A JP H0483370 A JPH0483370 A JP H0483370A
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JP
Japan
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base
glass
group
melting point
cap
Prior art date
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Pending
Application number
JP2197045A
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Japanese (ja)
Inventor
Tomio Yamada
富男 山田
Kazuo Yamazaki
和夫 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2197045A priority Critical patent/JPH0483370A/en
Publication of JPH0483370A publication Critical patent/JPH0483370A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
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    • HELECTRICITY
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    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
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    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16152Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap

Abstract

PURPOSE:To prevent positional accuracy of a lead from decreasing by allowing a protrusion to protrude from a glass sealing part of at least one of a base and a cap toward the other opposed surface, and supporting a lead group in contact with the protrusion. CONSTITUTION:A group of inner parts 9a is bridged between both protrusions 16a and 16b to be mechanically secured in a unit lead frame 2 on a low melting point glass layer 15. Since the protrusions 16a, 16b have a mechanical strength, a group of leads 9 by the protrusions 16a, 16b is effectively supported from below. In this case, if a superposed part 20 is placed on a multistage lead frame 1 to apply a suitable load thereto, the group of the leads 8 is forcibly sunk when the glass 15 is melted. Thus, the group of the leads 9 is effectively brought into contact with the protrusions 16a, 16b. Therefore, the positional accuracy of the group 9 to a base 11 accurately coincides with a predetermined size by the protrusions 16a, 16b.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体装置の製造技術、特に、低融点ガラス
による気密封止パッケージの形成技術に関し、例えば、
低融点ガラスにより封着される気密封止パッケージを備
えている半導体集積回路装置(以下、ICという、)の
製造に利用して有効な技術に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a technology for manufacturing semiconductor devices, particularly a technology for forming a hermetically sealed package using low-melting glass.
The present invention relates to a technique that is effective for use in manufacturing semiconductor integrated circuit devices (hereinafter referred to as ICs) that are equipped with a hermetically sealed package sealed with low melting point glass.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

気密封止パッケージを備えているICの製造方法として
、セラミックから形成されたベースまたはキャップに低
融点ガラスをスクリーン印刷により塗布するとともに、
これをガラスの軟化温度付近(約400℃)にて仮焼付
けすることにより、低融点ガラス層を予め形成しておき
、ベースに半導体ベレット(以下、ベレットという、)
やリードフレーム等を組み付けた後、ベースとキャップ
とを合わせるとともに、合わせ面間にリードフレームを
挟み込んだ状態で、高温度(440°C以上)に加熱処
理することにより、前記低融点ガラス層を溶融固化させ
て封着部を形成し、この封着部によりベースとキャップ
との接合面間を封着させるようにした方法、がある。
As a method for manufacturing an IC having a hermetically sealed package, a low melting point glass is applied to a base or cap made of ceramic by screen printing, and
By pre-baking this at around the softening temperature of glass (approximately 400°C), a low melting point glass layer is formed in advance, and a semiconductor pellet (hereinafter referred to as "bellet") is formed on the base.
After assembling the lead frame, etc., the base and cap are combined, and the low melting point glass layer is heated to a high temperature (440°C or higher) with the lead frame sandwiched between the mating surfaces. There is a method in which a sealing portion is formed by melting and solidifying, and the bonding surfaces of the base and the cap are sealed by the sealing portion.

なお、低融点ガラスを用いたリード線のガラス気密封止
方法を述べである例として、特開昭53−90867号
公報がある。
An example of a method for hermetically sealing a lead wire using low melting point glass is JP-A-53-90867.

また、気密封止パッケージを備えているICを述べであ
る例としては、株式会社工業調査会発行「電子材料19
87年11月号別冊」昭和62年11月発行 PL38
〜P145、がある。
In addition, as an example that describes an IC equipped with a hermetically sealed package, see "Electronic Materials 19" published by Kogyo Chosenkai Co., Ltd.
“November 1987 special issue” published November 1987 PL38
~P145, there is.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

このような低融点ガラスを用いた気密封止パッケージを
備えている半導体装置の製造方法においては、封着材料
として低融点ガラスが使用されているため、リードフレ
ーム取り付は工程や、ベレットポンディング工程および
パッケージ成形工程等の各工程を経る毎に、低融点ガラ
スが熔融ないしは軟化することにより、リードが沈み込
んだり、位置ずれを起こし、その結果、リードの高さ方
向およびピッチ方向についての位置精度が低下するとい
う問題点があることが、本発明者によって明らかにされ
た。
In manufacturing methods for semiconductor devices equipped with hermetically sealed packages using such low-melting-point glass, since low-melting-point glass is used as the sealing material, lead frame attachment is difficult due to the process or bullet bonding. As the low-melting glass melts or softens during each process, such as the manufacturing process and package molding process, the leads sink or become misaligned.As a result, the positions of the leads in the height and pitch directions change. The inventor of the present invention has revealed that there is a problem in that the accuracy decreases.

本発明の第1の目的は、リードの位置精度の低下を防止
することができる半導体装置の製造技術を提供すること
にある。
A first object of the present invention is to provide a semiconductor device manufacturing technique that can prevent a decrease in lead position accuracy.

ところで、ガラス封着部が形成される原、低融点ガラス
が溶融し、キャビティー内と外部雰囲気とが遮断された
後も、パッケージ全体は加熱されるため、キャビティー
内に残留する気体が加熱により膨張することにより、溶
融したガラスの一部を押しのけて気体が外部へ逃げ、所
謂ブローホールが形成されてしまう。
By the way, even after the low-melting glass, which forms the glass seal, is melted and the inside of the cavity is cut off from the outside atmosphere, the entire package is still heated, so the gas remaining inside the cavity is heated. As a result of the expansion, gas escapes to the outside by displacing a portion of the molten glass, resulting in the formation of a so-called blowhole.

本発明の第2の目的は、このブローホールの発生を防止
することができる半導体装置の製造技術を提供すること
にある。
A second object of the present invention is to provide a semiconductor device manufacturing technique that can prevent the occurrence of blowholes.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、次の通りである。
An overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、電子回路が作り込まれている半導体ペレット
と、この半導体ペレットに電気的に接続され、前記電子
回路を外部に取り出す複数本のリードと、半導体ペレッ
トおよびリードのインナ部群を気密封止するパッケージ
とを備えており、このパッケージは前記半導体ペレット
が組み付けられているベースと、このベースに半導体ペ
レットを被覆するように被せられているキャップと、低
融点ガラスが用いられてベースとキャップとの合わせ面
間に形成され、ベースとキャップとを封着しており、前
記リード群が貫通されているガラス封着部とを備えてい
る半導体装置において、前記ベースおよびキャップのう
ち少な(とも−方における前記ガラス封着部に凸部が他
方の対向面に向けて突設されており、この凸部に前記リ
ード群が当接されて支持されていることを特徴とする。
That is, a semiconductor pellet in which an electronic circuit is built, a plurality of leads that are electrically connected to this semiconductor pellet and take out the electronic circuit to the outside, and an inner group of the semiconductor pellet and the leads are hermetically sealed. The package includes a base on which the semiconductor pellet is assembled, a cap placed on the base so as to cover the semiconductor pellet, and a base and cap made of low melting point glass. In a semiconductor device, the semiconductor device includes a glass sealing portion formed between mating surfaces, sealing the base and the cap, and having the lead group passed through the glass sealing portion. A convex portion is provided on the glass sealing portion to protrude toward the other opposing surface, and the lead group is abutted and supported by the convex portion.

また、前記半導体装置についての製造方法であって・ ベースおよびキャップの少なくとも一方におけるガラス
封着部に対応する領域に凸部が突設される工程と、 ベースおよびキャップの両方におけるガラス封着部に対
応する領域に低融点ガラスがそれぞれ塗布される工程と
、 ベースとキャップとが前記リード群を挟み込むように配
されて合わされるとともに、低融点ガラス以上の温度に
加熱され、ガラス封着部が形成されるとともに、前記凸
部に前記リード群が当接される工程と、 を備えているこ、とを特徴とする。
The method for manufacturing the semiconductor device further includes: providing a protruding portion in a region corresponding to the glass sealing portion of at least one of the base and the cap; A process in which low-melting point glass is applied to corresponding areas, and the base and cap are arranged and put together so as to sandwich the lead group, and are heated to a temperature higher than the low-melting point glass to form a glass sealing part. and the step of abutting the lead group against the convex portion.

〔作用〕[Effect]

前記した手段によれば、ガラス封着部形成工程において
、ベースおよびキャップの少なくとも一方に凸部が突設
されているため、低融点ガラスが溶融した状態において
、リード群は凸部上に支えられた状態になる。したがっ
て、リード群は凸部により位置規制された状態になるた
め、気密封止パッケージに対して適正な位置精度を維持
することになる。
According to the above-mentioned means, in the step of forming the glass sealing part, since the protruding part is provided on at least one of the base and the cap, the lead group is supported on the protruding part when the low melting point glass is melted. state. Therefore, the position of the lead group is regulated by the convex portion, so that proper positional accuracy with respect to the hermetically sealed package is maintained.

他方、ガラス封着部は低融点ガラスが溶融固化すること
により、適正に成形されるため、品質および信頼性の良
好な気密封止パッケージが製造されることになる。
On the other hand, since the glass sealing portion is properly formed by melting and solidifying the low melting point glass, a hermetically sealed package with good quality and reliability is manufactured.

また、ガラス封着部の内部に凸部が突設されることによ
り、ガラス封着部の厚みが部分的に狭くなるように構成
されていると、ブローホールの突き抜けが直接的に阻止
されるとともに、低融点ガラスの表面張力が高められる
ため、ブローホールの封着部への深い進入が防止される
ことになる。
In addition, if the thickness of the glass sealing part is partially narrowed by protruding protrusions inside the glass sealing part, penetration of the blowhole can be directly prevented. At the same time, since the surface tension of the low melting point glass is increased, deep penetration of the blowhole into the sealed portion is prevented.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明の一実施例である気密封止パッケージを
備えている1cを示す縦断面図、第2図以降は本発明の
一実施例であるそのICの製造方法を示す各説明図であ
る。
FIG. 1 is a longitudinal cross-sectional view showing an IC equipped with a hermetically sealed package which is an embodiment of the present invention, and FIG. 2 and subsequent figures are explanatory diagrams showing a method for manufacturing the IC which is an embodiment of the present invention. It is.

本実施例において、本発明に係る半導体装置1表面実装
形の気密封止パッケージを備えているICの一例である
フラット・パッケージ・オプ・ガラスIC(以下、FP
G・ICという、)として構成されている。
In this embodiment, the semiconductor device 1 according to the present invention is a flat package op glass IC (hereinafter referred to as FP
It is structured as G.IC (G.IC).

このFPG・IC26における気密封止パッケージ25
は、半導体ペレット(以下、ペレットという、)22が
金−シリコン共晶層からなるボンディング層21により
接合されたベース11と、ベースに被着されるキャップ
17とがその合わせ面間に低融点ガラスからなる封着部
24により封着されることにより構成されている。気密
封止パッケージ25の内部にはリード9群がベースとキ
ャップとの合わせ面間のガラス封着部24を貫通するよ
うにして挿入されており、このリード群は後述するよう
に多連リードフレームが用いられて形成されている。パ
ッケージ25の内部において、各リードとペレットの各
電極との間にはワイヤ23がその両端部をボンディング
されて橋絡されており、パッケージ25の外部において
、リード群は同一長さの直線形状に成形されている。
Hermetically sealed package 25 in this FPG/IC 26
A base 11 in which semiconductor pellets (hereinafter referred to as pellets) 22 are bonded by a bonding layer 21 made of a gold-silicon eutectic layer, and a cap 17 attached to the base are bonded together with a low melting point glass between the mating surfaces. It is configured by being sealed by a sealing part 24 consisting of. A group of nine leads is inserted into the hermetically sealed package 25 so as to pass through the glass sealing portion 24 between the mating surfaces of the base and the cap, and this group of leads is connected to a multiple lead frame as described later. is formed using. Inside the package 25, wires 23 are bridged by bonding both ends between each lead and each electrode of the pellet, and outside the package 25, the leads are arranged in a straight line shape with the same length. Molded.

そして、このガラス封着部24におけるベース11の合
わせ面には正方形枠形状の凸部16がキャップ17側に
向けて突設されており、この凸部16上にリード9群が
当接されて下側から支持された状態になっている。この
ように構成されているFPG・IC26は、次のような
製造方法により製造されている。
A square frame-shaped convex portion 16 is provided on the mating surface of the base 11 in the glass sealing portion 24 to protrude toward the cap 17 side, and the nine groups of leads are abutted on this convex portion 16. It is supported from below. The FPG/IC 26 configured as described above is manufactured by the following manufacturing method.

以下、本発明の一実施例であるこのFPG・ICの製造
方法を説明する。この説明により、前記FPG・ICに
ついての構成の詳細が明らかにされる。
Hereinafter, a method for manufacturing this FPG/IC, which is an embodiment of the present invention, will be explained. This explanation clarifies the details of the configuration of the FPG/IC.

本実施例において、FPG−ICの製造方法には、第2
図に示されている多連リードフレーム1が使用されてい
る。この多連リードフレーム1は4270イ等のような
鉄系(鉄またはその合金)材料からなる薄板が用いられ
て、打ち抜きプレス加工またはエツチング加工等のよう
な適当な手段により一体成形されており、この多連リー
ドフレームlには複数の単位リードフレーム2が横方向
に1列に並設されている。但し、図面では一単位のみが
図示されている(以下、同じ、)。
In this example, the FPG-IC manufacturing method includes a second
A multi-lead frame 1 shown in the figure is used. This multiple lead frame 1 is made of a thin plate made of iron-based (iron or its alloy) material such as 4270I, and is integrally formed by a suitable method such as punching press processing or etching processing. In this multi-lead frame l, a plurality of unit lead frames 2 are arranged side by side in one row in the lateral direction. However, in the drawing, only one unit is illustrated (the same applies hereinafter).

単位リードフレーム2は位置決め孔3aが開設されてい
る外枠3を一対備えており、両外枠3は所定の間隔で平
行にそれぞれ延設されている。隣り合う単位リードフレ
ーム2.2間には一対のセクション枠4が両外枠3.3
間に互いに平行で外枠に直行するように配されて一体的
に架設されており、これら外枠、セクション枠により形
成される略正方形の枠体内に単位リードフレーム2が構
成されている。
The unit lead frame 2 includes a pair of outer frames 3 each having a positioning hole 3a, and both outer frames 3 extend in parallel at a predetermined interval. Between the adjacent unit lead frames 2.2, a pair of section frames 4 are connected to both outer frames 3.3.
The unit lead frames 2 are arranged in parallel to each other and perpendicular to the outer frame and integrally constructed between them, and a unit lead frame 2 is constructed within a substantially square frame body formed by these outer frames and section frames.

各単位リードフレーム2において、外枠3およびセクシ
ョン枠4の各接続部には略正方形形状に形成されている
タイバー支持部5が、それぞれ径方向内向きに配されて
一体的に突設されており、各タイバー支持部5は内側角
部が略45度に切り欠かれている。各タイバー支持部5
にはスリット6が切欠部の傾斜面に沿うように配されて
それぞれ1験されており、このスリット6によりその内
側にはタイバー吊り部材7がアーチ形状に形成されてい
る。各タイバー吊り部材7の内側には4本のタイバー8
が、前記外枠3とセフシロン枠4とにより形成される枠
体と同心的な略正方形の枠形状になるようにそれぞれ配
設されており、これらタイバー8はその両端においてタ
イバー吊り部材7に略45度の角度で接続されることに
より、これらに吊持されている。そして、隣り合うタイ
バー8.8は略90度の角度で交差するようになってい
る。
In each unit lead frame 2, tie bar support portions 5 formed in a substantially square shape are integrally protruded from each connection portion of the outer frame 3 and section frame 4 and are arranged radially inward. Each tie bar support portion 5 has an inner corner cut out at approximately 45 degrees. Each tie bar support part 5
A slit 6 is disposed along the slope of the notch, and a tie bar hanging member 7 is formed in an arch shape inside the slit 6. There are four tie bars 8 inside each tie bar hanging member 7.
are arranged in a substantially square frame shape concentric with the frame formed by the outer frame 3 and the Cefsilon frame 4, and these tie bars 8 are approximately connected to the tie bar hanging members 7 at both ends thereof. It is suspended from these by being connected at a 45 degree angle. Adjacent tie bars 8.8 intersect at an angle of approximately 90 degrees.

これらタイバー8には複数本のり一ド9が長手方向に等
間隔に配されて、互いに平行で、タイバー8と直交する
ように一体的にそれぞれ突設されている。各リード9の
内側端部は先端が正方形形状に整列するように配設され
ることにより、インナ部9aをそれぞれ構成しており、
インナ部9aの先端部表面には後述するワイヤポンディ
ングのボンダビリティ−を高めるためのアルミニュウム
被膜(図示せず)が蒸着等のような適当な手段により被
着されている。他方、各リード9のアウタ部9bをそれ
ぞれ構成する外側端部は、外枠3およびセクション枠4
がら離間されて切り離されている。
A plurality of ties 9 are disposed on these tie bars 8 at equal intervals in the longitudinal direction, and project integrally so as to be parallel to each other and orthogonal to the tie bars 8. The inner ends of each lead 9 are arranged so that the tips are aligned in a square shape, thereby forming an inner part 9a,
An aluminum coating (not shown) is deposited on the surface of the tip end of the inner part 9a by a suitable means such as vapor deposition to improve the bondability of wire bonding, which will be described later. On the other hand, the outer end portions constituting the outer portions 9b of each lead 9 are connected to the outer frame 3 and the section frame 4.
They are separated and separated.

本実施例において、前記FPG・■cについての製造方
法には、第3図および第4図に示されているベース11
が使用されており、ベース11は後記するキャップと協
働して気密封止パッケージを形成し得るように構成され
ている。このベース11は本体12を備えており、本体
12はアルミナ(A 1 * Ox )を主成分とする
セラミックが用いられて、平面形状が略正方形の平盤形
状に形成されている。本体12のキャップとの合わせ面
になる一平面(以下、合わせ面または上面ということが
ある。)上にはキャビティー凹所13aが同心的に配さ
れて、平面形状が正方形の富み形状で、かつ、一定深さ
になるように一体的に形成されている。キャビティー凹
所13aの底面にはポンディング床1−4が中央部に配
されて、ペレットよりも若干大きめの形状になるように
被着されており、このポンディング床14は金(Au)
等が用いられて蒸着法等のような適当な手段によりメタ
ライズされている。
In this embodiment, the manufacturing method for the FPG・■c includes the base 11 shown in FIGS. 3 and 4.
The base 11 is configured to form a hermetically sealed package in cooperation with a cap to be described later. The base 11 includes a main body 12, which is made of ceramic whose main component is alumina (A 1 *Ox) and is formed into a substantially square planar shape. A cavity recess 13a is arranged concentrically on one plane (hereinafter sometimes referred to as a mating surface or upper surface) that is a mating surface with the cap of the main body 12, and has a square rich shape in plan view. Moreover, it is integrally formed to have a constant depth. A pounding bed 1-4 is placed in the center of the bottom of the cavity recess 13a and is adhered so as to have a shape slightly larger than that of the pellet, and this pounding bed 14 is made of gold (Au).
etc., and metallization is performed by an appropriate means such as a vapor deposition method.

ベース本体12の上面におけるキャビティー凹所13a
の外方には、一対の凸部16a、16bが一体的にそれ
ぞれ突設されている0両凸部16a、16bは大小径の
正方形枠形状にそれぞれ形成されており、互いに適当な
間隔を置いてキャビティー凹所13aに同心的にそれぞ
れ配設されている。また、両凸部16a、16bは断面
形状が略正三角形形状に形成されており、その−辺がベ
ース本体12の上面に接するように、がっ、同一高さに
なるように配されて突設されている。
Cavity recess 13a in the upper surface of the base body 12
A pair of protrusions 16a and 16b are integrally protruded outward from each other.The protrusions 16a and 16b are each formed in the shape of a square frame with large and small diameters, and are spaced at appropriate intervals from each other. and are respectively disposed concentrically in the cavity recess 13a. The cross-sections of both convex portions 16a and 16b are formed into a substantially equilateral triangular shape, and the convex portions 16a and 16b are disposed at the same height so that their negative sides touch the upper surface of the base body 12. It is set up.

ベース本体120合わせ面におけるキャビティー凹所1
3aの外方には、低融点ガラス層15が凸部16a、1
6bの高さ以上になる厚さで、がっ、250〜300u
m程度の厚さをもって均一に被着されており、この低融
点ガラス層15は正方形枠形状に形成されることにより
キャビティー凹所13aを完全に取り囲むようになって
いる。
Cavity recess 1 in base body 120 mating surface
3a, the low melting point glass layer 15 has convex portions 16a, 1
The thickness is more than the height of 6b, 250~300u
The low melting point glass layer 15 is formed into a square frame shape so as to completely surround the cavity recess 13a.

低融点ガラス層15は、約400 ’Cの融点で、がつ
、約435℃の作業温度を有し、次のような組成を有す
る非結晶ガラスが使用されて構成されている。すなわち
、重量比で、PbOが約51%、SnO,が約22%、
Sin、が約5%、ZnOが約12%、の非結晶ガラス
、である、また、低融点ガラス層15はこのような非結
晶ガラス材料が使用されているペーストがベース本体1
2の合わせ面上にスクリーン印刷等のような適当な手段
により塗布された後、加熱炉において440℃以上に加
熱されて焼成されることにより、ベース本体12上に被
着されている。このように、低融点ガラス層I5は予め
440℃以上の温度で焼成されることにより、ベース本
体12のセラミック表面と完全にかつ強力に接着した状
態になっている。
The low melting point glass layer 15 is made of amorphous glass having a melting point of about 400'C, a working temperature of about 435C, and the following composition. That is, in terms of weight ratio, PbO is about 51%, SnO is about 22%,
The base body 1 is made of an amorphous glass containing about 5% Sin and about 12% ZnO.
It is coated on the base body 12 by being coated on the mating surfaces of the base body 12 by a suitable means such as screen printing, and then heated and baked at 440° C. or higher in a heating furnace. In this way, the low melting point glass layer I5 is preliminarily fired at a temperature of 440° C. or higher, so that it is completely and strongly bonded to the ceramic surface of the base body 12.

他方、第5図および第6図に示されているように、ベー
ス11と協働して気密封止パッケージを形成するキャッ
プ17は本体1日を備えており、このキャップ本体18
はベース本体12と路間−の正方形平盤形状に形成され
ている。キャップ本体18におけるベース11との合わ
せ面(以下、下面ということがある。)上には、キャビ
ティー凹所13bが同心的に配されて、ベース側のキャ
ビティー凹所13aに対して大きめの相似形状の窪み形
状で、一定深さになるように一体的に形成されている。
On the other hand, as shown in FIGS. 5 and 6, the cap 17, which cooperates with the base 11 to form a hermetically sealed package, has a main body 18.
is formed into a square flat plate shape between the base body 12 and the groove. A cavity recess 13b is arranged concentrically on the surface of the cap body 18 that is mated with the base 11 (hereinafter sometimes referred to as the lower surface), and is larger than the cavity recess 13a on the base side. The depressions have similar shapes and are integrally formed to a constant depth.

キャップ本体18の合わせ面におけるキャビティー凹所
13bの外方には、低融点ガラス層19が、ベース側の
低融点ガラス層15と同一の材料が用いられるとともに
、予め、焼成されることにより被着されている。すなわ
ち、このキャップ側低融点ガラス層19は、前記ベース
側低融点ガラス層15と同質の非結晶ガラス材料が使用
されているペーストがキャップ本体18の合わせ面上に
スクリーン印刷等のような適当な手段により塗布された
後、加熱炉において、440’C以上に加熱されて焼成
されることにより、予め、キャップ本体18上に被着さ
れている。
On the outside of the cavity recess 13b on the mating surface of the cap body 18, a low melting point glass layer 19 is made of the same material as the low melting point glass layer 15 on the base side, and is coated by being fired in advance. It is worn. That is, the cap side low melting point glass layer 19 is formed by applying a paste made of the same amorphous glass material as the base side low melting point glass layer 15 onto the mating surface of the cap body 18 by a suitable process such as screen printing. After being coated by means of means, it is heated to 440'C or higher and baked in a heating furnace, so that it is coated on the cap body 18 in advance.

前記のように構成されたベース11は前記構成に係る多
連リードフレーム1に各単位リードフレーム2毎に、第
7図および第8図に示されているようにそれぞれ組み付
けられる。すなわち、各ベース11はその低融点ガラス
層15が、単位リードフレーム2におけるアルミニウム
被膜が被着されていない側の平面(以下、下面というこ
とがある。)に当接するように向けられるとともに、キ
ャビティー凹所13aの開口縁がリードのインナ部9a
の先端群と整合するように配されてそれぞれセットされ
る。
The base 11 configured as described above is assembled to the multiple lead frame 1 having the above configuration for each unit lead frame 2 as shown in FIGS. 7 and 8, respectively. That is, each base 11 is oriented so that its low melting point glass layer 15 is in contact with the flat surface (hereinafter sometimes referred to as the lower surface) of the unit lead frame 2 on which the aluminum coating is not applied, and the cavity The opening edge of the tee recess 13a is a reed inner part 9a.
are arranged and set so as to match the tip group of.

このベース11群のセット状態が維持されながら、多連
リードフレーム1が低融点ガラスの作業温度である約4
35℃の温度下の加熱炉を通されることにより、低融点
ガラス層15が溶融された後、固化される。これに伴っ
て、低融点ガラス層15上には単位リードフレーム2に
おけるインナ部9a群が両凸部16a、16b間に架橋
されて機械的に固定された状態になる。この両凸部16
a、16bによるリード9群の固定状態は、凸部16a
、16bが機械的強度を有するため、下から確実に支え
られた状態になっている。
While the set state of the base 11 group is maintained, the multi-lead frame 1 is heated to a temperature of approximately 4°C, which is the working temperature of low-melting glass.
By passing through a heating furnace at a temperature of 35° C., the low melting point glass layer 15 is melted and then solidified. Accordingly, the inner portions 9a of the unit lead frame 2 are bridged between the convex portions 16a and 16b on the low melting point glass layer 15, and are mechanically fixed. This double convex portion 16
When the nine groups of leads are fixed by a and 16b, the convex portion 16a
, 16b have mechanical strength, so that they are reliably supported from below.

このとき、第8図に示されているように、多連リードフ
レーム1上に重なり20が裁置されることにより、適当
な荷重が加えられると、低融点ガラス層15が溶融した
時に、リード9群が強制的に沈み込まれるため、リード
9群は凸部16a、16bに確実に当接されることにな
る。リード9群が凸部16a、16bに確実に当接され
ると、リード群9のベース11に対する位置精度は凸部
16a、、16bにより予め規定された寸法に正確に合
致されることになる。
At this time, as shown in FIG. 8, by placing the stack 20 on the multi-lead frame 1, when an appropriate load is applied, when the low melting point glass layer 15 melts, the lead Since the 9th group is forcibly sunk, the 9th lead group is reliably brought into contact with the convex portions 16a and 16b. When the lead group 9 is reliably brought into contact with the protrusions 16a, 16b, the positional accuracy of the lead group 9 with respect to the base 11 will accurately match the dimensions predefined by the protrusions 16a, 16b.

このようにして、各単位リードフレーム2毎にベース1
1が組み付けられた多連リードフレーム1には各単位リ
ードフレーム2毎にペレット・ボンディング作業、続い
て、ワイヤ・ボンディング作業が実施される。このボン
ディング作業は多連リードフレーム1が横方向にピッチ
送りされることにより、各単位リードフレーム2毎に順
次実施される。
In this way, for each unit lead frame 2, 1 base
A pellet bonding operation and a wire bonding operation are performed for each unit lead frame 2 on the multiple lead frame 1 in which the lead frame 1 is assembled. This bonding work is sequentially performed for each unit lead frame 2 by pitch-feeding the multiple lead frames 1 in the lateral direction.

このボンディング作業により、第9図および第10図に
示されているように、前工程においてバイポーラ形の集
積回路等の電子回路が作り込まれた半導体集積回路素子
としてのベレット22は、各単位リードフレーム2にお
けるベース11のボンディング床14に金箔を介して当
接されるとともに、420℃〜430 ”Cの作業温度
下でこすり付けられることにより形成される金−シリコ
ン共晶ホンディング層21によって固着される。このと
き、単位リードフレーム2におけるリード9群は凸部1
6a、16bによって機械的に支持されているため、低
融点ガラス層15が溶融しても沈み込むことがない、し
たがって、リード9群しよベース本体12に対して初期
の位置精度力(維持されることになる。
Through this bonding process, as shown in FIGS. 9 and 10, the pellet 22, which serves as a semiconductor integrated circuit element into which an electronic circuit such as a bipolar integrated circuit has been built in the previous process, is bonded to each unit lead. It is brought into contact with the bonding floor 14 of the base 11 in the frame 2 via gold foil, and is fixed by a gold-silicon eutectic bonding layer 21 formed by rubbing at a working temperature of 420° C. to 430 ”C. At this time, the lead 9 groups in the unit lead frame 2 are connected to the convex portion 1.
6a and 16b, it will not sink even if the low melting point glass layer 15 melts. That will happen.

そして、ベース11にボンディングされたペレット22
の電極パッドと、各単位リードフレーム2におけるリー
ド9のインナ部9aとの間に番よアルミニウム系材料か
らなるワイヤ23力く、ボンディング工具としてウェッ
ジが使用されて0る超音波式ワイヤボンディング装置(
所謂、USポンダ)が使用されることにより、その両端
部をそれぞれボンディングされて橋絡される。このとき
も、リード9群の初期の精度は維持される。これにより
、ペレット22に作り込まれている集積回路器よ、電極
パッド、ワイヤ23、リード9のインナ部9aおよびア
ウタ部9bを介して電気的に外部に弓1き出されること
になる。
Then, the pellet 22 bonded to the base 11
An ultrasonic wire bonding apparatus (0) in which a wire 23 made of an aluminum-based material is connected between the electrode pad of the unit lead frame 2 and the inner part 9a of the lead 9 in each unit lead frame 2, and a wedge is used as a bonding tool.
By using a so-called US bonder, both ends are bonded and bridged. At this time as well, the initial accuracy of the nine groups of leads is maintained. As a result, the integrated circuit built into the pellet 22 is electrically exposed to the outside via the electrode pads, the wires 23, and the inner and outer portions 9a and 9b of the leads 9.

このようにして、各単位リードフレーム2毎番こベース
11が組み付けられ、かつ、ペレットボンディング作業
およびワイヤボンディング作業が順次実施された多連り
Jドフレーム1には、第11図および第12図に示され
ている気密封止)<ツケージ25を形成するための封着
処理作業が実施される。
In this way, the multiple J-type frame 1 is assembled with each unit lead frame 2 and the block base 11, and the pellet bonding work and the wire bonding work are sequentially performed, as shown in FIGS. 11 and 12. A sealing operation is performed to form the hermetic sealing cage 25 shown in FIG.

すなわち、第11図および第12図に示されているよう
に、キャップ17はその低融点ガラス層19が単位リー
ドフレーム2におけるベース11とは反対側の上面に当
接するように向けられて(するとともに、当該ベース1
1と整合するように被せられてセットされる。このセ・
ント状態が維持されつつ、ベース11とキャップ17と
の間に適度な合わせ力を加えられながら、多連リードフ
レーム1が低融点ガラス層15および19の作業温度で
ある約435°Cの加熱炉を通されると、ベース11と
キャップ17との低融点ガラス層15.19が溶融され
ることによって低融点ガラス層からなる封着部24が形
成される。その結果、ベース11とキャップ17との合
わせ面同士がガラス封着部24により封着され、キャビ
ティー13内を気密封止するパッケージ25が形成され
る。
That is, as shown in FIG. 11 and FIG. In addition, the base 1
It is covered and set to match 1. This center
The multi-lead frame 1 is heated in a heating furnace at approximately 435°C, which is the working temperature of the low-melting glass layers 15 and 19, while maintaining the same state and applying an appropriate joining force between the base 11 and the cap 17. When passed through, the low melting point glass layers 15, 19 of the base 11 and cap 17 are melted, thereby forming a sealing portion 24 made of the low melting point glass layer. As a result, the mating surfaces of the base 11 and the cap 17 are sealed together by the glass sealing portion 24, forming a package 25 that hermetically seals the inside of the cavity 13.

このとき、ガラス封着部24を形成するための加熱温度
は、低融点ガラス層15および19が軟化する温度、す
なわち、435℃以下に設定されている。したがって、
気密封止パッケージ25のベース11に既に組み付けら
れているペレット22およびワイヤ23等の内部構成部
分に加わる熱ストレスによる悪影響は抑制されることに
なる。
At this time, the heating temperature for forming the glass sealing portion 24 is set to a temperature at which the low melting point glass layers 15 and 19 soften, that is, 435° C. or lower. therefore,
The adverse effects of thermal stress on internal components such as the pellet 22 and wire 23 that have already been assembled to the base 11 of the hermetically sealed package 25 are suppressed.

また、凸部16a、16bは軟化することはないため、
リード9群はこの凸部16a、16bによって初期の位
置精度を維持したまま支持されることになる。
In addition, since the convex portions 16a and 16b do not soften,
The group of leads 9 is supported by the convex portions 16a and 16b while maintaining the initial positional accuracy.

他方、低融点ガラス層15および19同士においては、
それが軟化温度程度に達することにより、確実なガラス
封着部24が安定的に形成されることになる。このとき
、ガラス封着部24の内部に凸部16a、16bが突設
されることにより、ガラス封着部24の厚みが部分的に
狭くなるように構成されていると、ブローホールの突き
抜けが直接的に阻止されるとともに、溶融した低融点ガ
ラスの表面張力が高められるため、ブローホールのガラ
ス封着部24への深い進入が防止されることになる。
On the other hand, in the low melting point glass layers 15 and 19,
By reaching the softening temperature, a reliable glass sealing portion 24 can be stably formed. At this time, if the thickness of the glass sealing part 24 is partially reduced by protruding the convex parts 16a and 16b inside the glass sealing part 24, the penetration of the blowhole is prevented. Since this is directly prevented and the surface tension of the molten low-melting glass is increased, deep penetration of the blowhole into the glass sealing portion 24 is prevented.

ところで、低融点ガラス層とセラミック表面との間にお
いては、ガラスの軟化温度程度では低融点ガラス層とセ
ラミック表面との接着は不確実ないしは不安定的な状態
になる。このため、気密封止性能が低下し、製品の品質
および信軌性が低下することになる。
By the way, between the low melting point glass layer and the ceramic surface, the adhesion between the low melting point glass layer and the ceramic surface becomes uncertain or unstable at the softening temperature of the glass. As a result, the hermetic sealing performance deteriorates, and the quality and reliability of the product deteriorate.

しかし、本実施例においては、前述した通り、ベース1
1にペレット22が搭載される前に、低融点ガラス層1
5および19が440″C以上に加熱されることにより
、ベース本体12およびキャップ本体1Bの表面にそれ
ぞれ完全に接着されているため、この封着工程における
加熱温度が軟化温度程度であっても、ベース本体12お
よびキャップ本体18の表面とガラス封着部24との間
の接着状態は安全かつ強力で、しかも、安定的に確保さ
れることになる。
However, in this embodiment, as mentioned above, the base 1
1, before the pellets 22 are loaded on the low melting point glass layer 1.
5 and 19 are completely adhered to the surfaces of the base body 12 and the cap body 1B, respectively, by being heated to 440″C or more, so even if the heating temperature in this sealing step is about the softening temperature, The adhesive state between the surfaces of the base body 12 and the cap body 18 and the glass sealing portion 24 is safe, strong, and stable.

前述したようにしてガラス封着部24が形成され、気密
封止パッケージ25が成形された多連リードフレーム1
は、はんだめっき処理工程において、全体的にはんだめ
っき被膜を被着される作業が実施される(1示せず)。
The multiple lead frame 1 has the glass sealing portion 24 formed as described above and the hermetically sealed package 25 formed therein.
In the solder plating process, a solder plating film is entirely applied (1 not shown).

その後、めっき被膜を被着された多連リードフレーム1
は、リード切断成形工程において各単位リードフレーム
毎に順次、タイバー8を切り落されるとともに、各リー
ド9のアウタ部9bを所定長さの直線形状に成形される
(図示せず)。このようにして、第1図に示されている
前記FPG・IC26が製造゛されたことになる。
After that, the multi-lead frame 1 was coated with a plating film.
In the lead cutting and forming step, the tie bars 8 are sequentially cut off for each unit lead frame, and the outer portion 9b of each lead 9 is formed into a linear shape of a predetermined length (not shown). In this way, the FPG/IC 26 shown in FIG. 1 was manufactured.

前記実施例によれば次の効果が得られる。According to the embodiment described above, the following effects can be obtained.

(1)  ベース上面におけるガラス封着部に対応する
領域に凸部を突設することにより、ガラス封着部形成工
程において、低融点ガラスが溶融した状態にあって、リ
ード群は凸部上に支えられた状態になるため、リード群
をして凸部によって規定された位置精度を維持させるこ
とができ、他方、ガラス封着部は低融点ガラスを溶融固
化させることにより、適正に成形させることができる。
(1) By providing a protruding portion in the area corresponding to the glass sealing portion on the upper surface of the base, the lead group is placed on the protrusion while the low melting point glass is in a molten state during the glass sealing portion forming process. Since it is in a supported state, the lead group can maintain the positional accuracy specified by the convex part, and on the other hand, the glass sealing part can be properly formed by melting and solidifying the low melting point glass. I can do it.

(2)ガラス封着部を有する気密封止パッケージの形成
工程等において、リード群の位置精度を維持することに
より、リード群の気密封止パッケージに対しての高さ方
向およびピッチ方向についての位置精度を高めることが
できるため、ガラス封着部による気密封止パッケージの
品質および信頼性を高めることができる。
(2) By maintaining the positional accuracy of the lead group in the process of forming a hermetically sealed package with a glass sealing part, the position of the lead group in the height direction and pitch direction with respect to the hermetically sealed package is Since the precision can be improved, the quality and reliability of the hermetically sealed package using the glass sealing part can be improved.

(3)  ベレットがベースに組み付けられる前に、ベ
ースおよびキャップに形成された低融点ガラス層を融点
以上に加熱しておくことにより、予め、低融点ガラス層
とベースおよびキャップ表面とを完全、かつ、安定的に
接着させておくことができるため、封着工程における加
熱温度を低く設定することにより、所期の封着性能を確
保しながら、ベースに組み付けられたベレットに対する
熱ストレスを抑制することができ、ガラス封着部による
気密封止パッケージの品質および信頼性を高めることが
できる。
(3) Before the pellet is assembled to the base, the low melting point glass layer formed on the base and cap is heated above the melting point to completely and completely bond the low melting point glass layer to the base and cap surfaces. Since it is possible to maintain stable adhesion, by setting the heating temperature during the sealing process low, it is possible to suppress thermal stress on the pellet assembled to the base while ensuring the desired sealing performance. This makes it possible to improve the quality and reliability of the hermetically sealed package using the glass sealing part.

(4)  ガラス封着部の内部に凸部を突設することに
より、ブローホールが深く進入するのを防止することが
できるため、気密封止パッケージ封止代をきわめて小さ
くでき、高密度実装可能な小型パッケージが提供できる
とともに、封止信頼性を向上することができる。
(4) By providing a protrusion inside the glass sealing part, it is possible to prevent the blowhole from penetrating deeply, so the sealing allowance for the hermetically sealed package can be extremely small, allowing high-density mounting. It is possible to provide a compact package with improved sealing reliability.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor.

例えば、凸部はリード9群を機械的に支持すればよいた
め、第13図に示されているように、ベース11および
キャップ17の少なくとも一方には、断続した凸部16
c、16dを突設してもよい。
For example, since the protrusions only need to mechanically support the group of leads 9, as shown in FIG.
c, 16d may be provided protrudingly.

また、第14図に示されているように、ベース11およ
びキャップ17の両方に凸部16e、16fおよび16
g、16hをそれぞれ突設してもよい。この実施例によ
れば、リード9群の高さ位置精度を上下方向の両方につ
いて確保することができる。
Further, as shown in FIG. 14, convex portions 16e, 16f, and 16
g and 16h may be provided in a protruding manner. According to this embodiment, the height positional accuracy of the group of leads 9 can be ensured both in the vertical direction.

また、ベースおよびキャップを形成するための材料とし
ては、アルミナセラミックに限らず、ムライト、窒化ア
ルミニウム、炭化シリコンセラミック、さらには、エポ
キシ樹脂等々を使用してもよい。
Furthermore, the material for forming the base and cap is not limited to alumina ceramic, but may also be mullite, aluminum nitride, silicon carbide ceramic, epoxy resin, or the like.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるFPG−IC,およ
びその製造方法に適用した場合について説明したが、そ
れに限定されるものではなく、低融点ガラス封着部によ
る気密封止パンケージを備えている他のIC等のような
半導体装置全般に適用することができる。
In the above explanation, the invention made by the present inventor was mainly applied to FPG-IC, which is the background field of application, and its manufacturing method, but it is not limited thereto. The present invention can be applied to general semiconductor devices such as other ICs that are equipped with a hermetically sealed pancage using a sealing part.

〔発明の効果〕 本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、次の通りである。
[Effects of the Invention] The effects obtained by typical inventions disclosed in this application are briefly explained as follows.

ベースおよびキャップの少なくとも一方の合わせ面にお
けるガラス封着部に対応する領域に凸部を突設すること
により、ガラス封着部形成工程において、低融点ガラス
が溶融した状態にあって、リード群は凸部上に支えられ
た状態になるため、リード群をして凸部によって規定さ
れた位置精度を維持させることができ、他方、ガラス封
着部は低融点ガラスを溶融固化させることにより、適正
に成形させることができる。
By providing a protrusion in a region corresponding to the glass sealing part on the mating surface of at least one of the base and the cap, the lead group can be removed while the low melting point glass is in a molten state in the glass sealing part forming process. Since it is supported on the convex part, the lead group can maintain the positional accuracy specified by the convex part, and on the other hand, the glass sealing part can be properly maintained by melting and solidifying the low melting point glass. It can be formed into

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例であるFPG−ICを示す一
部切断正面図、 第2図以降は本発明の一実施例であるFPC,・Icの
製造方法を示すものであり、第2図はそれに使用される
多連リードフレームを示す一部省略平面図、 第3図および第4図は同じくベースを示す平面図および
正面断面図、 第5図および第6図は同じくキャップを示す底面図およ
び正面断面図、 第7図および第8図はベースとリードフレームとの組付
後を示す一部省略平面図および正面断面図、 第9図および第10図はベレットおよびワイヤボンディ
ング後を示す一部省略平面図および正面断面図、 第11図および第12図は気密封止形パッケージ成形後
の多連リードフレームを示す一部省略一部切断平面図お
よび正面断面図、である。 第13図は本発明の実施例2を示す一部切断平面図であ
る。 第14図は本発明の実施例3を示す一部切断正面図であ
る。 1・・・多連リードフレーム、2・・・単位リードフレ
ーム、3・・・外枠、4・・・セクション枠、5・・・
タイバー支持部、6・・・スリット、7・・・タイバー
吊り部材、8・・・タイバー、9・・・リード、9a・
・・インナ部、9b・・・アウタ部、1!・・・ベース
、12・・・ベース木本13a、13b・・・キャビテ
ィー凹所、13・・・キャビティー 14・・・ボンデ
ィング床、15・・・低融点ガラス層、16a〜16h
・・・凸部、17・・・キャップ、18・・・キャップ
本体、19・・・低融点ガラス層、20・・・重なり、
21・−・ボンディング層、22・・・ペレット、23
・・・ワイヤ、24・・・ガラス封着部、25・・・気
密封止パッケージ、26・・・FPG・IC(半導体装
置)。
FIG. 1 is a partially cutaway front view showing an FPG-IC which is an embodiment of the present invention, and FIGS. Figure 2 is a partially omitted plan view showing the multi-lead frame used therein, Figures 3 and 4 are a plan view and front sectional view showing the base, and Figures 5 and 6 are the caps. A bottom view and a front sectional view, FIGS. 7 and 8 are a partially omitted plan view and a front sectional view showing the base and lead frame after they are assembled, and FIGS. 9 and 10 are the views after the bellet and wire bonding. FIGS. 11 and 12 are a partially omitted plan view and a front sectional view showing a multi-lead frame after molding a hermetically sealed package. FIG. 13 is a partially cutaway plan view showing a second embodiment of the present invention. FIG. 14 is a partially cutaway front view showing Embodiment 3 of the present invention. 1...Multiple lead frame, 2...Unit lead frame, 3...Outer frame, 4...Section frame, 5...
Tie bar support part, 6... Slit, 7... Tie bar hanging member, 8... Tie bar, 9... Lead, 9a.
...Inner part, 9b...Outer part, 1! ...Base, 12...Base wood 13a, 13b...Cavity recess, 13...Cavity 14...Bonding floor, 15...Low melting point glass layer, 16a to 16h
... Convex portion, 17... Cap, 18... Cap body, 19... Low melting point glass layer, 20... Overlapping,
21... Bonding layer, 22... Pellet, 23
... wire, 24 ... glass sealing part, 25 ... hermetically sealed package, 26 ... FPG/IC (semiconductor device).

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、電子回路が作り込まれている半導体ペレットと、こ
の半導体ペレットに電気的に接続され、前記電子回路を
外部に取り出す複数本のリードと、半導体ペレットおよ
びリードのインナ部群を気密封止するパッケージとを備
えており、このパッケージは前記半導体ペレットが組み
付けられているベースと、このベースに半導体ペレット
を被覆するように被せられているキャップと、低融点ガ
ラスが用いられてベースとキャップとの合わせ面間に形
成され、ベースとキャップとを封着しており、前記リー
ド群が貫通されているガラス封着部とを備えている半導
体装置において、 前記ベースおよびキャップのうち少なくとも一方におけ
る前記ガラス封着部に凸部が他方の対向面に向けて突設
されており、この凸部に前記リード群が当接されて支持
されていることを特徴とする半導体装置。 2、前記凸部が一連に連続する環状に形成されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装置
。 3、特許請求の範囲第1項記載の半導体装置の製造方法
であって、 ベースおよびキャップの少なくとも一方におけるガラス
封着部に対応する領域に凸部が突設される工程と、 ベースおよびキャップの両方におけるガラス封着部に対
応する領域に低融点ガラスがそれぞれ塗布される工程と
、 ベースとキャップとが前記リード群を挟み込むように配
されて合わされるとともに、低融点ガラス以上の温度に
加熱され、ガラス封着部が形成されるとともに、前記凸
部に前記リード群が当接される工程と、 を備えていることを特徴とする半導体の製造方法。
[Scope of Claims] 1. A semiconductor pellet in which an electronic circuit is built, a plurality of leads that are electrically connected to the semiconductor pellet and take out the electronic circuit to the outside, and inner parts of the semiconductor pellet and the leads. The package includes a base on which the semiconductor pellets are assembled, a cap placed on the base to cover the semiconductor pellets, and a package made of low melting point glass. a glass sealing portion formed between the mating surfaces of the base and the cap to seal the base and the cap, and through which the lead group is penetrated; A semiconductor device, wherein a convex portion is provided on the glass sealing portion of at least one of the glass sealing portions and protrudes toward the other opposing surface, and the lead group is abutted and supported by the convex portion. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the convex portion is formed in a continuous ring shape. 3. A method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1, comprising: providing a protruding portion in a region corresponding to the glass sealing portion on at least one of the base and the cap; A step in which low melting point glass is applied to areas corresponding to the glass sealing portions on both sides, and the base and cap are arranged and put together so as to sandwich the lead group, and heated to a temperature higher than the low melting point glass. A method for manufacturing a semiconductor, comprising: forming a glass sealing portion and bringing the group of leads into contact with the convex portion.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0955465A (en) * 1995-08-16 1997-02-25 Nec Corp Lead frame
JP2003535663A (en) * 2000-06-19 2003-12-02 スノウボリューション リミテッド Rotating ski slope

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