JPH0482295A - Wiring board using coaxial wire and manufacture thereof - Google Patents

Wiring board using coaxial wire and manufacture thereof

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JPH0482295A
JPH0482295A JP19690490A JP19690490A JPH0482295A JP H0482295 A JPH0482295 A JP H0482295A JP 19690490 A JP19690490 A JP 19690490A JP 19690490 A JP19690490 A JP 19690490A JP H0482295 A JPH0482295 A JP H0482295A
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JP
Japan
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wires
layer
insulating layer
wire
coaxial
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Application number
JP19690490A
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Japanese (ja)
Inventor
Yorio Iwasaki
順雄 岩崎
Toshiro Okamura
岡村 寿郎
Fujio Kojima
富士男 小島
Shigeharu Ariga
茂晴 有家
Yasushi Shimada
靖 島田
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To eliminate a crosstalk noise and to make possible a high-speed signal processing by a method wherein the core wires, which are used as signal conductors, of coaxial wires and the shielding layers of the coaxial wires are efficiently isolated from each other. CONSTITUTION:An adherent insulating layer 3 is formed on the surface of a circuit board 2 having a ground layer 1 and plurality of coaxial wires 4 are provided in a desired form. As the wires 4, wires 4 provided with adhesion layers for wire use, which have a superior adhesion to the layers 3 and are provided on the outermost layers of the wires 4 for an increase in the density of elements and the improvement of the workability of wiring, are used. Then, an insulating layer 11 is provided for fixing the wires 4, a laser beam is irradiated on parts, at which through holes 6 and 8 are respectively formed, to remove organic matters and shielding layers 5 of the wires 4 are exposed. As the wires 4 are used on a wiring board in such a way, no crosstalk noise is generated and a signal can be speeded up by using low-dielectric constant layers for wire insulating layers 9 of the wires 4. Moreover, a fluctuation in a dielectric impedance can be lessened by using the wires 4.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、同軸ワイヤを使用した配線板およびその製造
法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a wiring board using coaxial wires and a method for manufacturing the same.

(従来の技術) 電子機器の発達に伴い、配線板の配線密度も非常に高い
ものが要求されるようになってきている。
(Prior Art) With the development of electronic devices, wiring boards with extremely high wiring density are now required.

このような配線密度の高い配線板として、必要な配線パ
ターンにワイヤを使用した配線板(以下マルチワイヤ配
線板(日立化成工業株式会社製、商品名)と呼ぶ)や多
層印刷配線板がある。
Examples of such wiring boards with high wiring density include wiring boards that use wires for necessary wiring patterns (hereinafter referred to as multi-wire wiring boards (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name)) and multilayer printed wiring boards.

マルチワイヤ配線板は、特公昭45−21434号公報
によって開示されているように、電源層、グランド層な
どの回路を形成した内層基板上に接着性を存する樹脂層
(接着性絶縁層)を形成した後、数値制御布線機により
ポリイミド樹脂などで被覆されたワイヤを布線(ワイヤ
を接着剤に、はわせてゆくと同時に超音波接着する)し
、プレス等によりワイヤを固定し、上記ワイヤを横切る
スルーホールをあけ、その内部に無電解金属層を形成し
て製造されている。
As disclosed in Japanese Patent Publication No. 45-21434, a multi-wire wiring board has an adhesive resin layer (adhesive insulating layer) formed on an inner substrate on which circuits such as a power supply layer and a ground layer are formed. After that, wires coated with polyimide resin etc. are wired using a numerically controlled wiring machine (the wires are coated with adhesive and simultaneously bonded using ultrasonic waves), the wires are fixed using a press, etc., and the wires are It is manufactured by drilling a through hole across the surface and forming an electroless metal layer inside the hole.

また、多層印刷配線板は、複数の内層回路を有する内層
回路板の最外層を、銅箔の不要部分をエンチング除去し
て形成する方法と必要な部分に銅をめっきして形成する
方法があり、複数の回路板を積層接着する方法としては
、該複数の回路板と絶縁板を位置合わせのピンを用いて
交互に重ね加熱加圧して積層するビンラミネーション法
と、回路板の上に銅張絶縁板を重ね積層一体化して該銅
箔の不要部分をエツチング除去しこれを繰り返すビルド
アップ法とがある6 ところで、最近、OA、FA等の自動化が進む一方、ロ
ボント、制御装置等の不要輻射電波障害による事故が増
えており、その障害が社会的問題となりつつある。
Additionally, multilayer printed wiring boards can be formed by forming the outermost layer of an inner-layer circuit board that has multiple inner-layer circuits by etching away unnecessary parts of copper foil, or by plating copper on the necessary parts. There are two methods for laminating and bonding multiple circuit boards: the bottle lamination method, in which the circuit boards and insulating boards are stacked alternately using positioning pins and laminated by heating and pressurizing; and There is a build-up method in which insulating plates are laminated and integrated, unnecessary parts of the copper foil are removed by etching, and this process is repeated6. By the way, recently, automation of OA, FA, etc. is progressing, and unnecessary radiation from robots, control devices, etc. Accidents due to radio wave interference are increasing, and this interference is becoming a social problem.

この不要輻射電波障害を低減するには、電波を発射する
配線板をシールド化することが一般化されつつあるが、
高密度化した配線板においては、さらに、同一の配線板
上における導体間の影響すなわちクロストークノイズが
同一配線板上の高速回路に影響を無視できなくなってき
た6マルチワイヤ配線板や多層印刷配線板においても同
様で、高密度化の要求に対応するため、ワイヤの芯径ま
たは信号ラインの幅がQ、1mmのものを使用して、2
.54mm間に3木の配線あるいは1.27mm間に2
木の配線をおこなっているが、この場合、ワイヤや信号
線のピンチは03mm以下となり、やはり、隣接するワ
イヤ間でのクロストークが問題になる。この対策として
、ワイヤの芯径や信号ラインの幅を0.04mm程度に
してワイヤまたは信号ライン間の間隔を大きくすること
が知られている。また、配線板をンルト′化する方法と
して、第8図(a)〜(h)に示すように、アースパタ
ーンと信号ラインをビルドアンプして形成することが特
公昭5E154520号公報によって知られており、ま
た、特開昭51−71961号公報に示されているよう
に、導電性塗膜をシールドに用いること、および、めっ
きで導電性シールド層を形成するものが米国特許第4.
646.436号に開示されている。
In order to reduce this unnecessary radiated radio interference, it is becoming common to shield the wiring boards that emit radio waves.
Furthermore, in high-density wiring boards, the influence between conductors on the same wiring board, that is, crosstalk noise, can no longer be ignored on high-speed circuits on the same wiring board. 6 Multi-wire wiring boards and multilayer printed wiring The same goes for the board, in order to meet the demand for higher density, wire core diameter or signal line width Q is 1 mm, and 2.
.. 3 wires between 54mm or 2 wires between 1.27mm
Wooden wiring is used, but in this case the pinch of the wires and signal lines is less than 0.3 mm, and crosstalk between adjacent wires becomes a problem. As a countermeasure against this problem, it is known to increase the distance between wires or signal lines by setting the core diameter of the wire and the width of the signal line to about 0.04 mm. In addition, as a method for converting a wiring board into a wiring board, it is known from Japanese Patent Publication No. 5E154520 to form a ground pattern and a signal line by building and amplifying them, as shown in FIGS. 8(a) to (h). Furthermore, as shown in JP-A-51-71961, the use of a conductive coating film as a shield and the formation of a conductive shield layer by plating are disclosed in US Patent No. 4.
No. 646.436.

(発明が解決しようとする課題) ところが、マルチワイヤ配線板においては、ワイヤの芯
径を小さくする方法ではワイヤの破断強度が低下するた
め、布線時に適正な接着力を得るために加える超音波エ
ネルギーにより、ワイヤの交差部で断線する確立が高く
なるという重大な問題が発生し、また、高密度布線を行
うためには、ワイヤを接着性絶縁層に十分埋め込み、固
定しなければならない。このため、ワイヤの上部と接着
性絶縁樹脂層表面の段差はワイヤ径の半分以下となり、
上記の導電性塗膜を用いる方法やめっきで導電層を形成
する方法では、隣接するワイヤ間にクロストークを低減
するに十分なシールド層を形成したことにはならない。
(Problem to be solved by the invention) However, in multi-wire wiring boards, reducing the core diameter of the wires reduces the breaking strength of the wires, so ultrasonic waves are applied to obtain appropriate adhesive strength during wiring. The energy creates a significant problem in that wires have a high probability of breaking at intersections, and high-density wiring requires that the wires be well embedded and secured in an adhesive insulating layer. Therefore, the level difference between the top of the wire and the surface of the adhesive insulating resin layer is less than half the wire diameter.
The method using the above-mentioned conductive coating film or the method of forming a conductive layer by plating does not result in forming a shield layer sufficient to reduce crosstalk between adjacent wires.

多層印刷配線板においても、ライン幅を小さくすると銅
箔のキズ、wA縁板のうねり等が紫外線によるパターン
形成において大きく影響し、信号ラインの形成が極端に
困難になる。また、従来の技術のようにアースパターン
と信号ラインをビルドアップして形成することは、この
ような高密度の配線パターンを必要とされる配線板にお
いて配線密度を低下させる大きな要因となり、また製造
工程をも複雑化される。
Even in multilayer printed wiring boards, when the line width is reduced, scratches in the copper foil, waviness in the wA edge plate, etc. greatly affect pattern formation using ultraviolet rays, making it extremely difficult to form signal lines. In addition, forming ground patterns and signal lines by building up as in conventional technology is a major factor in reducing wiring density on wiring boards that require such high-density wiring patterns, and is also a major factor in reducing the wiring density in manufacturing. It also complicates the process.

本発明は、このような点に鑑みてなされたもので、クロ
ストークノイズがなく、かつ、高速信号処理に適した配
線板とその配線板を効率良(製造する方法を提供するも
のである。
The present invention has been made in view of these points, and provides a wiring board that is free from crosstalk noise and suitable for high-speed signal processing, and a method for efficiently manufacturing the wiring board.

(!I題を解決するための手段) 本発明は、同軸ワイヤの信号線となる芯線とシールド層
を効率良く分離することによってクロストークを皆無に
する方法を提供する。
(Means for Solving Problem !I) The present invention provides a method of eliminating crosstalk by efficiently separating the core wire, which is a signal line, of a coaxial wire and the shield layer.

本発明は、第1図に示すように、グランド層(1)を有
する回路板(2)と、この回路板の表面に設けた接着性
絶縁層(3)と、その表面に所望の形状に固定した同軸
ワイヤ(4)と同軸ワイヤのシールド層(5)とグラン
ド層(1)を接続する導通孔(6)と、同軸ワイヤの芯
W (7)と接続された導通孔(8)とを備えたことを
特徴するものである。
As shown in FIG. 1, the present invention comprises a circuit board (2) having a ground layer (1), an adhesive insulating layer (3) provided on the surface of this circuit board, and a desired shape formed on the surface. A conduction hole (6) connecting the fixed coaxial wire (4), the shield layer (5) of the coaxial wire, and the ground layer (1), and a conduction hole (8) connected to the core W (7) of the coaxial wire. It is characterized by having the following.

本発明の配′!a仮の製造方法を、第2A〜第2E図を
用いて説明する。
Arrangement of the present invention! A tentative manufacturing method will be explained using FIGS. 2A to 2E.

第2A図に示すように、まず、グランド層1を有する回
路板2の表面に接着性絶縁層3を形成し、複数の同軸ワ
イヤを所望の形状に配設する。
As shown in FIG. 2A, first, an adhesive insulating layer 3 is formed on the surface of a circuit board 2 having a ground layer 1, and a plurality of coaxial wires are arranged in a desired shape.

グランド層を形成するための基板としては、市販されて
いる銅箔張り積層板が使用可能である。
As a substrate for forming the ground layer, a commercially available copper foil laminate can be used.

また、レーザ加工性のよいポリイミドフィルム表面に銅
箔を形成したものや、金属箔に有機フィラ、粒状無機フ
ィラー、短繊維の無機フィラーなどを混入した熱硬化あ
るいは光硬化樹脂を塗布・硬化したもの、さらにアラミ
ド繊維などの有機製クロスで強化した樹脂を用いた&r
1箔張り積層板を使用することが好ましい。
In addition, copper foil is formed on the surface of polyimide film, which has good laser processability, and metal foil is coated and cured with thermosetting or photocuring resin mixed with organic filler, granular inorganic filler, short fiber inorganic filler, etc. , using resin reinforced with organic cloth such as aramid fiber.
Preferably, a single foil laminate is used.

接着性絶縁層としては、同軸ワイヤを接着可能なもので
あれば、特に制限するものではなく、天然ゴム・合成ゴ
ムとエポキシ樹脂を主成分とする樹脂組成物を使用する
ことができる。
The adhesive insulating layer is not particularly limited as long as it can adhere the coaxial wire, and a resin composition containing natural rubber/synthetic rubber and epoxy resin as main components can be used.

同軸ワイヤとしては、市販のものが使用可能であるが、
高密度化及び布線作業性向上のために第3図に示したよ
うに最外層に接着性絶縁層との接着力に優れたワイヤ用
接着層を設けた同軸ワイヤを使用することが好ましい。
Commercially available coaxial wires can be used, but
In order to increase the density and improve the wiring workability, it is preferable to use a coaxial wire provided with a wire adhesive layer having excellent adhesive strength with the adhesive insulating layer as the outermost layer as shown in FIG. 3.

この接着層としては、ポリビニルブチラール/エポキシ
やナイロン/フェノールなどがある。
Examples of this adhesive layer include polyvinyl butyral/epoxy and nylon/phenol.

また、同軸ワイヤの芯線は単線である必要はなく、撚線
でもよい。さらに芯線哄斐≠#1噴−四シの材質は、直
径が30〜80μm程度の銅、銅合金、アルミニウム、
アルミニウム合金やピアノ線に銅をクラッドしたものや
、これらの線材表面に金めつき、銀めっき、スズめっき
を行ったものを用いることができる。
Further, the core wire of the coaxial wire does not need to be a single wire, and may be a twisted wire. Furthermore, the material of the core wire #1 is copper, copper alloy, aluminum, with a diameter of about 30 to 80 μm,
Aluminum alloys, piano wires clad with copper, and wires whose surfaces are plated with gold, silver, or tin can be used.

また、ワイヤ用絶縁層としては、ポリイミド、ポリアミ
ドイミド、フッ素、メチルペンテン系樹脂などが使用可
能である。
Further, as the wire insulating layer, polyimide, polyamideimide, fluorine, methylpentene resin, etc. can be used.

次に第2B図に示すように、同軸ワイヤを固定するため
に絶縁層11を設ける。この絶縁層は、ガラス・エポキ
シプリプレグやガラス・ポリイミドプリプレグをプレス
ラミネートで形成してもよい、また、エポキシやポリイ
ミド系フェスなどをコーティングして形成してもよい。
Next, as shown in FIG. 2B, an insulating layer 11 is provided to secure the coaxial wire. This insulating layer may be formed by press laminating a glass/epoxy prepreg or a glass/polyimide prepreg, or may be formed by coating with an epoxy or polyimide film.

次に第2C図に示すように、この基板の導通孔6と導通
孔8が形成される部分にレーザ光を照射して有機物を除
去し、同軸ワイヤのシールド層を露出される。このとき
、導通孔8が形成される部分では、同軸ワイヤのシール
ド層を完全に露出するために基板の表裏からレーザ光を
照射することが好ましい。
Next, as shown in FIG. 2C, a laser beam is irradiated onto the portion of this substrate where the conductive holes 6 and 8 are to be formed to remove organic matter and expose the shield layer of the coaxial wire. At this time, in order to completely expose the shield layer of the coaxial wire in the portion where the conductive hole 8 is formed, it is preferable to irradiate the laser beam from both sides of the substrate.

レーザ光としては、有機物である絶縁層11や接着性絶
縁層3が容易に除去でき、かつシールド層5の金属層が
除去困難な炭酸ガスレーザが好ましい。また、YAGレ
ーザやエキシマレーザなどの単独、あるいは炭酸ガスレ
ーザと併用してもよい。
As the laser beam, a carbon dioxide gas laser is preferable, which can easily remove the organic insulating layer 11 and the adhesive insulating layer 3, but can hardly remove the metal layer of the shield layer 5. Further, a YAG laser or an excimer laser may be used alone or in combination with a carbon dioxide laser.

次に第2D図に示すように、無電解金属めっきあるいは
無電解金属めっきと電気金属めっきの併用のいずれかの
方法で、金属めっき層を形成する。
Next, as shown in FIG. 2D, a metal plating layer is formed by either electroless metal plating or a combination of electroless metal plating and electrolytic metal plating.

そして、テンティング方式で導通孔6を形成すると同時
に導通孔8が形成される部分の同軸ワイヤ金属めっき層
をエツチングにより除去する。
Then, at the same time that the through holes 6 are formed by the tenting method, the coaxial wire metal plating layer in the portion where the through holes 8 are to be formed is removed by etching.

第2E図に示したように、上記基板1枚以上と内層板1
2をプリプレグを介して重ね合わせ、加圧加熱一体化す
る。そして、ドリル穴あけ、金属めっきを行ったのち、
テンティング方式で導通孔8と表面パターンを形成する
As shown in FIG. 2E, one or more of the above substrates and the inner layer 1
2 are overlapped with prepreg interposed therebetween and integrated by pressure and heating. After drilling and metal plating,
The conductive holes 8 and the surface pattern are formed by a tenting method.

導通孔6、導通孔8及び表面パターンの形式方式として
は、テンティング方式に限定するものではなく、現在配
線板に使用されている方式ならばいずれも使用可能であ
る。たとえば、アディティブ方式を使用してもよい。
The format of the conductive holes 6, the conductive holes 8, and the surface pattern is not limited to the tenting method, and any method currently used for wiring boards can be used. For example, an additive method may be used.

(作用) 本発明による配線板は、同軸ワイヤを用いているためク
ロストークノイズが発生せず、同軸ワイヤのワイヤ用絶
縁層に誘電率の低いものを使用することにより信号の高
速化を達成することができる。また、同軸ワイヤを用い
ることにより、特性インピーダンスの変動が極めて小さ
い。
(Function) The wiring board according to the present invention uses coaxial wires, so crosstalk noise does not occur, and high-speed signals are achieved by using a material with a low dielectric constant for the wire insulating layer of the coaxial wires. be able to. Further, by using a coaxial wire, fluctuations in characteristic impedance are extremely small.

実施例 以下に、各実施例に用いた樹脂組成物の組成を示す。Example The composition of the resin composition used in each example is shown below.

〔組成物Iの組成〕[Composition of composition I]

以下の組成の樹脂300gに、塩化パラジウムIgをN
−メチル−2−ピロリドン50gに熔解した溶液を混合
する。
Palladium chloride Ig was added to 300 g of resin with the following composition.
- Mix the solution dissolved in 50 g of methyl-2-pyrrolidone.

・エチレングリコールモノエチルカーテルアセテート 
            :600g/j!・エポキシ
樹脂       :109g//!・アクリロニトリ
ルブタジェン共重合体ゴム:   20g71 ・フェノール樹脂      :  60g/j2・ア
クリロニトリルブタジェン:144g/41!・ソリコ
ンジオキシド    :  50g/j!〔組成物■の
組成〕 ゛フェノキン樹脂フェノトート、YP−50(東部化成
株式会社、商品名) : 100重量部 ・メチル化メラミン、メラン523 (日立化成工業株式会社、商品名) : 15重量部 ・ガラス短繊維、AC;P−01BZ (旭ンエーヘル株式会社、商品名) = 35重量部 ・メタブロム安、セ、香酸    :0.3重量部・集
電解めっき触媒Ca t#11 (日立化成工業株式会社、商品名) 2.5重量部 ・セロソルブアセテート   :220重量部〔組成物
■の組成〕 ・フェノトートYP−50 (東部化成株式会社、商品名) : 70重量部 ・エピコート828 (油化シェルエポキシ株式会社、商品名)= 20重量
部 ・DEN438(ダウケミカル社、商品名): 10重
量部 ・エスレックBM−2 (積水化学工業株式会社、商品名) : 20重量部 ・メラン523 (日立化成工業株式会社、商品名) = 20重量部 ・ 2PZ−CNS (四国化成工業株式会社、商品名) :  2重量部 ・クリスタライトVX−X (龍森株式会社、 商品名) : 20重量部 ・セロソルブアセテート (和光純薬株式会社、商品名) =200重量部 実施例1 両面粗化銅箔張ガラス・ポリイミド積層板MCI、−1
−67(日立化成工業株式会社、商品名)の表面に所望
のエンチングレジストを形成し、導通孔6.8となる部
分の不要の銅箔をエツチング除去して、グランド層を形
成した回路板を作製する。前記組成#jyJIを厚さ1
00μmのドライフィルムにし、150℃・I Ok 
g / cボ・10分間のプレス条件で回路板の表面に
ラミネートし、芯線0.075mm、外径0.22mm
、シールド層厚さ0.01mm、ワイヤ用絶縁層の材質
フン素樹脂の同軸ワイヤを数値制御布線機によって、配
[’度2本/2.54mm、ワイヤピンチ0゜45mm
の配線ルールで所望のパターンに布線した。
・Ethylene glycol monoethyl cartel acetate
:600g/j!・Epoxy resin: 109g//!・Acrylonitrile butadiene copolymer rubber: 20g71 ・Phenol resin: 60g/j2 ・Acrylonitrile butadiene: 144g/41!・Solicon dioxide: 50g/j! [Composition of Composition ■] Phenoquine resin Phenotote, YP-50 (Tobu Kasei Co., Ltd., trade name): 100 parts by weight Methylated melamine, Melan 523 (Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name): 15 parts by weight・Glass short fiber, AC; P-01BZ (Asahi N-Hel Co., Ltd., trade name) = 35 parts by weight ・Metabrominated, serous, aromatic acid: 0.3 parts by weight ・Electrocollective plating catalyst Cat #11 (Hitachi Chemical Co., Ltd.) Co., Ltd., trade name) 2.5 parts by weight Cellosolve acetate: 220 parts by weight [Composition of composition ■] Phenotote YP-50 (Tobu Kasei Co., Ltd., trade name): 70 parts by weight Epicote 828 (Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., trade name) = 20 parts by weight DEN438 (Dow Chemical Co., trade name): 10 parts by weight S-LEC BM-2 (Sekisui Chemical Co., Ltd., trade name): 20 parts by weight Melan 523 (Hitachi Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name) = 20 parts by weight・2PZ-CNS (Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name): 2 parts by weight・Crystallite VX-X (Tatsumori Co., Ltd., trade name): 20 parts by weight・Cellosolve acetate (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., trade name) = 200 parts by weight Example 1 Double-sided roughened copper foil-clad glass/polyimide laminate MCI, -1
-67 (trade name, Hitachi Chemical Co., Ltd.) A circuit board in which a desired etching resist was formed on the surface, and unnecessary copper foil was etched away from the portion that would become the conductive hole 6.8 to form a ground layer. Create. The composition #jyJI has a thickness of 1
00μm dry film, 150℃・I OK
Laminated on the surface of the circuit board under g/c press conditions for 10 minutes, with a core wire of 0.075 mm and an outer diameter of 0.22 mm.
A coaxial wire with a shield layer thickness of 0.01 mm and a wire insulating layer made of fluorine resin was placed using a numerically controlled wiring machine.
The wires were wired in the desired pattern using the wiring rules.

この基板表面に、前記組成物■を厚さ180μmのトイ
フィルムにしたものを、150℃・10k g / c
 nf・10分間のプレス条件でラミネートした後、さ
らに、170°C・30 k g / cボの条件で9
0分間加圧加熱して積層一体化した。
A 180 μm thick toy film of the composition (1) was applied to the surface of this substrate at 150° C. and 10 kg/c.
After laminating under the press conditions of nf for 10 minutes, it was further laminated under the conditions of 170°C and 30 kg/c for 9 minutes.
They were laminated and integrated by heating under pressure for 0 minutes.

この基板の導通孔6を形成する部分にスポット径を20
0umに絞った炭酸ガスレーザを出力45Wの条件で照
射し、さらに、導通孔8を形成する部分にスポット径を
l、7mmにした炭酸ガスレーザを照射した。
A spot diameter of 20 mm is set on the part of this substrate where the conductive hole 6 is to be formed.
A carbon dioxide laser focused at 0 μm was irradiated with an output of 45 W, and the portion where the conductive hole 8 was to be formed was further irradiated with a carbon dioxide laser with a spot diameter of 1 and 7 mm.

この基板を洗浄、触媒付与、発着促進後、無電解銅めっ
き液Hid−410(日立化成工業株式会社、商品名)
に10時間浸漬して、厚さ25μmの銅めっき層を形成
した6次に導通孔6の形成部のみにエツチングレジスト
を形成し、不要な銅めっき層をエツチング除去した。
After cleaning this substrate, applying a catalyst, and promoting deposition and deposition, electroless copper plating solution Hid-410 (Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name) was applied.
After immersion in water for 10 hours to form a copper plating layer with a thickness of 25 μm, an etching resist was formed only on the portion where the conductive holes 6 were to be formed, and the unnecessary copper plating layer was removed by etching.

この基板と、工ンチドフォイル法で作製した内層板とガ
ラス・ポリイミド製プリプレグCIA67N(日立化成
工業株式会社、商品名)と、銅箔を重ね、180°C1
30kg/cポの条件で90分加圧加熱し積層一体化し
た後、基板の所望の箇所に直径0.8mmのドリルで穴
あけをし、洗浄、触媒付与、密着促進後、無電解銅めっ
きを行い、孔内壁と銅箔表面に約35μmの無電解銅め
っき層を形成し、パッドや部品実装端子など必要な箇所
にエツチングレジストを形成し、不要な銅をエツチング
除去した。
This board, an inner layer plate made by the engineered foil method, glass polyimide prepreg CIA67N (Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name), and copper foil were layered at 180°C.
After applying pressure and heating for 90 minutes at 30 kg/c to integrate the layers, drill holes with a diameter of 0.8 mm at desired locations on the board, wash, apply a catalyst, promote adhesion, and electroless copper plating. An electroless copper plating layer of approximately 35 μm was formed on the inner wall of the hole and the surface of the copper foil, and etching resist was formed at necessary locations such as pads and component mounting terminals, and unnecessary copper was removed by etching.

実施例2 厚さ35μmの両面粗化m箔に前記組成物■を厚さ10
0μm塗布し、120°C−30分後、160°C・3
0分間加熱する0次に、表面にエツチングレジストを形
成し、導通孔6.8となる部分の銅箔をエツチング除去
してグランド層を形成した回路板を作製する。
Example 2 The above composition (■) was applied to a thickness of 10 μm on both sides roughened M foil with a thickness of 35 μm.
0 μm coating, 120°C-30 minutes, 160°C・3
Heating is performed for 0 minutes. Next, an etching resist is formed on the surface, and the copper foil in the portion that will become the conductive hole 6.8 is etched away to produce a circuit board on which a ground layer is formed.

前記組成物■を厚さ100μmのドライフィルムにし、
150°C・10 k g/cイ・10分間のプレス条
件で回路板の表面にラミネートする。そして実施例1の
同軸ワイヤの表面に厚さ108mのエポキシ/ナイロン
系接着層を塗布したものを数値制御布線機によって配線
密度2本/2.54mm、ワイヤピンチ0.45mmの
配線ルールで所望のパターンに布線した。
The composition (1) was made into a dry film with a thickness of 100 μm,
Laminate on the surface of the circuit board under pressing conditions of 150°C, 10 kg/c, and 10 minutes. Then, a 108 m thick epoxy/nylon adhesive layer was applied to the surface of the coaxial wire of Example 1 using a numerically controlled wiring machine to achieve the desired wiring density of 2 wires/2.54 mm and a wire pinch of 0.45 mm. I wired the pattern.

以降の工程は実施例3と同様に行った。The subsequent steps were performed in the same manner as in Example 3.

実施例3 前記組成物■をアラミド繊維に含浸半硬化状態にしたの
ち、厚さ35μmの両面粗化銅箔を重ねて、160°C
−30kg/cnf・60分の条件で加圧加熱一体化し
た0次にこの基板を用いて表面にエツチングレジストを
形成し、導通孔6.8となる部分の銅箔をエツチング除
去してグランド層を形成した回路板を作製する。
Example 3 After impregnating the composition (1) into aramid fibers to a semi-cured state, a double-sided roughened copper foil with a thickness of 35 μm was layered and heated at 160°C.
Using this board, which was integrated under pressure and heat under the conditions of -30 kg/cnf and 60 minutes, an etching resist was formed on the surface, and the copper foil in the area that would become the conductive hole 6.8 was removed by etching to form a ground layer. A circuit board is manufactured.

以降の工程は実施例1と同様に行った。The subsequent steps were performed in the same manner as in Example 1.

実施例4 芯線径0.06mm、外形0.18mm、シールド層厚
さ0.01mm、ワイヤ用絶縁層の材質ポリイミド樹脂
の同軸ワイヤを用いて実施例1と同様に行った。
Example 4 The same procedure as in Example 1 was conducted using a coaxial wire having a core wire diameter of 0.06 mm, an outer diameter of 0.18 mm, a shield layer thickness of 0.01 mm, and a wire insulating layer made of polyimide resin.

このようにして製造した配線板のクロストークノイズは
、下記の測定条件で観察されなかった。
No crosstalk noise in the wiring board manufactured in this manner was observed under the following measurement conditions.

一方、シールド層を除去したワイヤを用いて製造した従
来の配線板のクロストークノイズは4〜45%であり、
本発明の大きな効果が確認できた。
On the other hand, the crosstalk noise of conventional wiring boards manufactured using wires with the shield layer removed is 4 to 45%.
The great effects of the present invention were confirmed.

〔測定条件〕〔Measurement condition〕

導体間隔         :0.4mm平行に設置さ
れた導体の長さ:30cm誘導パルス電圧      
:5v 誘導パルス巾       : 500ns誘導パルス
立上り時間   : In5
Conductor spacing: 0.4mm Length of conductors installed in parallel: 30cm Induced pulse voltage
:5v Induction pulse width: 500ns Induction pulse rise time: In5

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

を説明するための断面図、第3図は本発明の一実施例の
同軸ワイヤの断面図である。 符号の説明 1、グランド層       28回路板3、接着性絶
縁層      4.同軸ワイヤ5、シールド層   
    6.導通孔7、芯M           8
.導通孔9、ワイヤ絶縁層     10.電源層1工
、11′、絶縁層   12.内層板13、ワイヤ用接
着層 14゜ レーザ加工部 (a) (b) 第 図 (d) (e) 第 図
FIG. 3 is a cross-sectional view of a coaxial wire according to an embodiment of the present invention. Explanation of symbols 1. Ground layer 28 Circuit board 3. Adhesive insulating layer 4. Coaxial wire 5, shield layer
6. Conduction hole 7, core M 8
.. Conductive hole 9, wire insulation layer 10. Power layer 1, 11', insulation layer 12. Inner layer plate 13, adhesive layer for wire 14° Laser processing part (a) (b) Fig. (d) (e) Fig.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.グランド層(1)を有する回路板(2)と、この回
路板の表面に設けた接着性絶縁層(3)と、その表面に
所望の形状に固定した同軸ワイヤ(4)と、同軸ワイヤ
のシールド層(5)とグランド層(1)を接続する導通
孔(6)と、同軸ワイヤの芯線(7)と接続された導通
孔(8)とを備えたことを特徴とする配線板。
1. A circuit board (2) having a ground layer (1), an adhesive insulating layer (3) provided on the surface of this circuit board, a coaxial wire (4) fixed to the surface in a desired shape, and a coaxial wire A wiring board characterized by comprising a conduction hole (6) connecting a shield layer (5) and a ground layer (1), and a conduction hole (8) connected to a core wire (7) of a coaxial wire.
2.以下の工程を有することを特徴とする配線板の製造
法。 A.グランド層(1)を有する回路板(2)の表面に設
けた接着性絶縁層(3)に複数の同軸ワイヤ(4)を所
望の形状に固定する工程。 B.同軸ワイヤ(4)の配設面に絶縁層(11)を設け
る工程。 C.導通孔(6)と導通孔(8)が形状される部分の絶
縁層(11)と接着性絶縁層(3)にレーザを照射して
除去する工程。 D.金属めっきで導通孔(6)を形成する工程。 E.導通孔(8)が形成される部分の同軸ワイヤ(4)
のシールド層(5)を除去する工程。 F.上記工程で得られた基板と内層板(12)を絶縁層
(11’)で一体化する工程。 G.穴あけ後、金属めっきで導通孔(8)を形成する工
程。
2. A method for manufacturing a wiring board, comprising the following steps. A. Fixing a plurality of coaxial wires (4) in a desired shape to an adhesive insulating layer (3) provided on the surface of a circuit board (2) having a ground layer (1). B. Step of providing an insulating layer (11) on the surface on which the coaxial wire (4) is provided. C. A step of irradiating the insulating layer (11) and adhesive insulating layer (3) with a laser to remove the portions where the conductive holes (6) and (8) are to be formed. D. Step of forming conductive holes (6) with metal plating. E. Coaxial wire (4) in the part where the conduction hole (8) is formed
a step of removing the shield layer (5); F. A step of integrating the substrate obtained in the above step with the inner layer plate (12) using an insulating layer (11'). G. After drilling, a process of forming conductive holes (8) with metal plating.
3.最外層に接着層を有する同軸ワイヤを使用したこと
を特徴とする請求項1記載の配線 板。
3. The wiring board according to claim 1, characterized in that a coaxial wire having an adhesive layer as the outermost layer is used.
4.絶縁層(11)と接着性絶縁層(3)が有機性クロ
ス有機フィラー、粒状無機フィラー、短繊維の無機フィ
ラーと熱硬化あるいは光硬化樹脂よりなることを特徴と
する請求項1又は3記載の配線板。
4. 4. The insulating layer (11) and the adhesive insulating layer (3) are made of an organic cross organic filler, a granular inorganic filler, a short fiber inorganic filler, and a thermosetting or photocuring resin. wiring board.
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