JPH0480453B2 - - Google Patents

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JPH0480453B2
JPH0480453B2 JP61168660A JP16866086A JPH0480453B2 JP H0480453 B2 JPH0480453 B2 JP H0480453B2 JP 61168660 A JP61168660 A JP 61168660A JP 16866086 A JP16866086 A JP 16866086A JP H0480453 B2 JPH0480453 B2 JP H0480453B2
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JP
Japan
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light
substrate
transmitting substrate
optical disk
flc
Prior art date
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Application number
JP61168660A
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Japanese (ja)
Other versions
JPS6325854A (en
Inventor
Shunpei Yamazaki
Takeshi Mizunuma
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Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Original Assignee
Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
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Publication date
Application filed by Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd filed Critical Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 「発明の利用分野」 この発明は、書換可能な不揮発性メモリ作用を
有する強誘電性液晶(以下FLCという)を用い
た書換可能な光デイスク及びその製造方法に関す
るものである。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Application of the Invention] This invention relates to a rewritable optical disk using a ferroelectric liquid crystal (hereinafter referred to as FLC) having a rewritable non-volatile memory function and a method for manufacturing the same. be.

「従来の技術」 光デイスク装置は、コンパクトデイスクに代表
されるように、レーザ光の反射面を有する凹凸面
での反射具合を利用して書換不可能なデイジタル
式デイスクメモリ装置が知られている。この応用
はオーデイオ用、ビデオ用のみならず、情報処理
用の光デイスクメモリ装置としてきわめて将来を
有望視されている。しかしこれらデイスクメモリ
は書換が不可能である。このため、書換を可能と
する方式が求められ、その代表例として光磁気メ
モリ装置が知られている。さらに、カルコゲン系
(テルル系)を用いたアモルフアス半導体の光デ
イスクメモリ装置も知られている。
``Prior Art'' Optical disk devices include non-rewritable digital disk memory devices, such as compact disks, that utilize the reflection of laser light on an uneven surface that has a reflective surface. . This application holds great promise not only for audio and video applications, but also as optical disk memory devices for information processing. However, these disk memories cannot be rewritten. For this reason, a system that allows rewriting is required, and a magneto-optical memory device is known as a typical example. Further, an amorphous semiconductor optical disk memory device using chalcogen (tellurium) is also known.

しかし光磁気メモリを用いたデイスク装置はき
わめて高価かつ希少材料を用いており、将来の多
量生産に不安を残す。またカルコゲン系アモルフ
アス半導体を用いた方法は光の制御がきわめて微
妙である。
However, disk devices using magneto-optical memory use extremely expensive and rare materials, leaving concerns about future mass production. Furthermore, in the method using a chalcogen-based amorphous semiconductor, control of light is extremely delicate.

これらより、本来多量生産し得る材料を用いる
こと、光のオン、オフがより容易に行い得るこ
と、不揮発性を有し、メモリをストア(保持)す
る時、何等の外部エネルギを必要としないこと、
等の機能を有する手段が求められていた。
From these points, materials that can be produced in large quantities are used, light can be turned on and off more easily, and it is non-volatile and does not require any external energy when storing (retaining) memory. ,
There was a need for a means with such functions.

かかる問題を解決するため、本件出願人は特願
昭60−130187等によつて液晶材料としてスメクチ
ツクC相(SmC*)を呈する強誘電性液晶(FLC
という)を用いることを提案した。即ちセルの間
隔を4μmまたはそれ以下とすることによりこの
液晶は双安定状態を得ることができる。そしてか
かる薄いセルに等方性の液晶状態で液晶を混入
し、温度降下させ、SmAを得、さらに双安定な
SmC*になる。するとらせん構造をとくことがで
きる。かかるSmC*に電圧を印加すると、分子が
一方向に並び、その角度は約+45°(度)を得るこ
とができる。また逆の電圧を印加すると逆に約−
45°を得ることができる。そしてこの2つの状態
は電圧を切つても変化しない不揮発性を有し、か
つ互いに約90°の角度を有する。本発明はかかる
約90°のチルト角を有する不揮発性メモリ作用を
用いている。
In order to solve this problem, the present applicant has developed a ferroelectric liquid crystal (FLC) exhibiting a smectic C phase (SmC * ) as a liquid crystal material by patent application No.
) was proposed. That is, by setting the cell spacing to 4 μm or less, this liquid crystal can obtain a bistable state. Then, by mixing liquid crystal in an isotropic liquid crystal state into such a thin cell and lowering the temperature, SmA is obtained, and further bistable
Become SmC * . This allows you to create a helical structure. When a voltage is applied to such SmC * , the molecules align in one direction, and the angle can be approximately +45° (degrees). Also, if the opposite voltage is applied, about -
You can get 45°. These two states are non-volatile and do not change even when the voltage is turned off, and are at an angle of about 90 degrees to each other. The present invention uses a non-volatile memory function having such a tilt angle of about 90 degrees.

本発明の光デイスクはそれぞれが電極を有する
一対の基板をその内側に非対称配向面を有する表
面を互いに対抗せしめ、その面間に前記した
SmC*FLCを充填する。
The optical disk of the present invention has a pair of substrates each having an electrode, the surfaces of which have asymmetrically oriented surfaces facing each other, and the above-mentioned
Fill SmC * FLC.

この光デイスクは2方式を提案し得る。 Two methods can be proposed for this optical disc.

その第1の方式は一対の基板の内側にそれぞれ
電極を有し、この電極の表面に非対称配向膜を有
せしめてFLCを挟んだものである。
In the first method, electrodes are provided inside a pair of substrates, an asymmetric alignment film is provided on the surface of each electrode, and an FLC is sandwiched between the electrodes.

他の第2の方式は、一対の基板の一方の内側に
反射板を有し、この反射板と他の基板の一面との
間で非対称配向処理を施しFLCを挟んだもので
ある。この方式においては光デイスクの内部に電
極を有さない。
Another second method is to have a reflective plate inside one of a pair of substrates, perform asymmetrical alignment treatment between this reflective plate and one surface of the other substrate, and sandwich the FLC. In this method, there are no electrodes inside the optical disk.

本発明においては、セルを構成する一対の基板
(光の入射側を対抗電極、内部側(奥側)を単に
基板という)とその内側に配設されている電極
(光の入射側の電極を対抗電極、内部側を単に電
極という)さらにFLCにその一方が密接する内
表面を配向処理せしめている。
In the present invention, a pair of substrates (the light incident side is referred to as a counter electrode, and the inner side (back side) is simply referred to as a substrate) forming a cell and an electrode disposed inside the substrate (the light incident side is referred to as a counter electrode) and The inner surface is simply referred to as the counter electrode, and the inner surface is simply referred to as the electrode).Furthermore, the inner surface of the FLC that is in close contact with one side is subjected to an orientation treatment.

特に本発明は、この光デイスクに対し光ビーム
特に好ましくは半導体レーザ光を反射する層を有
する。さらにこの光ビームの反射板は1つの電極
機能を併用構成せしめ得る。
In particular, the invention provides for this optical disc to have a layer that reflects light beams, particularly preferably semiconductor laser light. Furthermore, this light beam reflector can also have the function of one electrode.

その場合、第1の方式においては、入射光の経
路はレーザ光源よりハーフミラーを経て対抗基
板、対抗電極、FLC、反射性電極、さらにここ
で反射され、逆の経路を辿る。そして反射光はハ
ーフミラーにて反射され、偏光板を経てフオトセ
ンサに至る。
In that case, in the first method, the path of the incident light is from the laser light source, through the half mirror, to the counter substrate, to the counter electrode, to the FLC, to the reflective electrode, where it is reflected, and follows the opposite path. The reflected light is then reflected by a half mirror, passes through a polarizing plate, and reaches a photo sensor.

また第2の方式においては、入射光の経路はレ
ーザ光源よりハーフミラーを経て対抗基板、
FLC、反射面、さらにその逆の経路を経て反射
光がハーフミラーにて反射され偏光板を経てフオ
トセンサに至る。
In the second method, the path of the incident light starts from the laser light source, passes through a half mirror, and then goes to the opposing substrate.
The reflected light passes through the FLC, the reflective surface, and the opposite path, is reflected by a half mirror, passes through a polarizing plate, and reaches the photo sensor.

そしてFLCの位相と偏光板の位相との位相差
が合致した場合、透光性となる。しかしこのビー
ム光が偏光板とその位相角をずらせていると非透
過または難透過となる。その結果、偏光板からの
透過量が十分なコントラストを有するならば、光
が照射された番地の「0」、「1」の判定が可能と
なる。
When the phase difference between the FLC and the polarizing plate matches, the film becomes translucent. However, if the phase angle of this beam light is shifted from that of the polarizing plate, it will not be transmitted or will be difficult to transmit. As a result, if the amount of transmission from the polarizing plate has sufficient contrast, it becomes possible to determine whether the address irradiated with light is "0" or "1".

かかる光デイスクの記憶の「書消し」「書き込
み」及び「読み出し」を以下に概説する。
``Writing/erasing'', ``writing'' and ``reading'' of such optical disk storage will be outlined below.

即ち記憶の「書消し」はこのFLCに正または
負の所定の電界をこのデイスクの基板の内部側ま
たは外部側よりFLCに加えることにより実施す
る。また所定の番地の「書き込み」はデイスクの
回転速度及び中央部よりの所定の距離に対し
FLCの初期のチルト角をみだす程度に強いビー
ム光または熱を照射する。するとその番地のみは
FLCのチルト角を初期の状態例えば+45°より−
45°またはその他初期の状態と異なる角度に配さ
れる。かくすることにより初期状態を「0」とす
るならば、光照射により「1」とすることができ
る。
That is, "writing and erasing" the memory is carried out by applying a predetermined positive or negative electric field to the FLC from the inside or outside of the substrate of the disk. In addition, "writing" at a given address depends on the rotational speed of the disk and the given distance from the center.
A beam of light or heat strong enough to exceed the initial tilt angle of the FLC is irradiated. Then only that address
Change the FLC tilt angle from the initial state of +45° to -
Placed at 45° or some other angle different from the initial state. If the initial state is set to "0" in this manner, it can be set to "1" by light irradiation.

この書き込み情報のすべての書消しを行うには
FLCに対し垂直方向に電界を加えるが、この電
界を内部より加える場合、光デイスクの内部に
FLCを挟んで設けられた一対の電極に前記した
「書消し」と同じ極性の電圧を印加すればよい。
即ちこのビツト単位の書き込みおよびデイスク全
面の書消しを繰り返し行うことができる。
To erase all written information
An electric field is applied perpendicularly to the FLC, but if this electric field is applied from inside, it will cause damage to the inside of the optical disc.
It is sufficient to apply a voltage of the same polarity as that for "writing and erasing" described above to a pair of electrodes provided with the FLC sandwiched therebetween.
That is, this bit-by-bit writing and writing/erasing of the entire disk can be repeated.

また、電界を一対の基板の外部側より印加する
第2の方式の場合は、内部に電極を有さない光デ
イスクを挟んで電界を印加する一対の電極の配設
する。そしてこの電極より光デイスクの全面また
は一部に対し電界を加え、FLCの全部または一
部に再配列させて「書き消し」を行う。
In the case of the second method in which an electric field is applied from the outside of a pair of substrates, a pair of electrodes for applying an electric field are provided with an optical disk having no internal electrodes sandwiched therebetween. Then, an electric field is applied to the entire surface or part of the optical disk from this electrode, causing all or part of the FLC to rearrange, thereby performing "writing and erasing".

記憶の「読み出し」は前記した如く、半導体レ
ーザの所定の番地に対し光ビーム例えばレーザ光
を照射しその反射光を偏光板を介してフオトセン
サにて検出する。
As described above, "reading" of the memory is performed by irradiating a light beam, such as a laser beam, onto a predetermined address of a semiconductor laser, and detecting the reflected light by a photo sensor via a polarizing plate.

「本発明が解決したいとする問題点」 前記の如き、強誘電性液晶を用いた光デイスク
メモリは、少なくとも現在の段階では製造コスト
が高く、その多くの利点に鑑み、製造工程の短
縮、部材の省略等による段階的なコストダウンが
望まれている。
"Problems to be Solved by the Present Invention" As mentioned above, optical disk memories using ferroelectric liquid crystals are expensive to manufacture, at least at the current stage. It is desired to reduce costs step by step by omitting etc.

本発明では、コストダウンの一環として、次の
点に着目した。
In the present invention, we focused on the following points as part of cost reduction.

(1) メモリ領域を径方向について仕切るべく従来
設けられていた周方向の構を省略する。
(1) The circumferential structure conventionally provided to partition the memory area in the radial direction is omitted.

(2) 対向する基板間の間隔を保つスペーサを適切
な位置に少ない工程で形成する。
(2) Form spacers at appropriate locations to maintain the distance between opposing substrates with fewer steps.

「構成」 上記問題点を解決するために本発明による光デ
イスクメモリ装置は、透光性基板と、この透光性
基板と平行に設けられた対向基板と、この対向基
板と透光性基板間に設けられ、これら2枚の基板
間の領域を径方向についてビツトピツチ間隔で仕
切りメモリ領域を形成するスペーサと、このスペ
ーサによつて区切られたメモリ領域について設け
られた対向基板上の反射膜と、前記メモリ領域に
充填された液晶とからなつている。また、本発明
になる光デイスクメモリ装置の製造方法は、透光
性基板上に反射膜−パターンを形成する段階と、
この透光性基板のパターン形成面に光感光性樹脂
を塗布する段階と、この透光性基板側から光を照
射して前記光感光性樹脂のフオトエツチングを行
う段階と、他の透光性基板を前記透光性基板上に
重畳させると共に、これら基板間に液晶を介在さ
せる段階とからなつている。
"Structure" In order to solve the above-mentioned problems, the optical disk memory device according to the present invention includes a light-transmitting substrate, a counter substrate provided in parallel to the light-transmitting substrate, and a space between the counter substrate and the light-transmitting substrate. a spacer provided on the substrate and partitioning the area between these two substrates at bit pitch intervals in the radial direction to form a memory area; a reflective film provided on the opposing substrate for the memory area separated by the spacer; The memory area is filled with liquid crystal. Further, the method for manufacturing an optical disk memory device according to the present invention includes the steps of forming a reflective film-pattern on a transparent substrate;
A step of applying a photosensitive resin to the pattern-forming surface of the light-transmitting substrate, a step of photo-etching the light-sensitive resin by irradiating light from the side of the light-transmitting substrate, and a step of photo-etching the photosensitive resin on the pattern-forming surface of the light-transmitting substrate. The method includes the steps of superimposing a substrate on the light-transmitting substrate and interposing a liquid crystal between these substrates.

以下に実施例に従つて本発明を説明する。 The present invention will be described below with reference to Examples.

「実施例」 第1図は第1の方式による本発明の光デイスク
メモリを用いた記録システムを示す。
Embodiment FIG. 1 shows a recording system using the optical disk memory of the present invention according to the first method.

第1の系100は情報の「読み出し」用であり
第2の系101は情報の「書き込み」用である。
また103は情報の「書消し」用である。デイス
クは10により示す。
The first system 100 is for "reading" information, and the second system 101 is for "writing" information.
Further, 103 is for "erasing" information. The disc is designated by 10.

光デイスクは一対の対抗基板3及び基板7を有
する。一方の対抗基板3は少なくとも透光性であ
る。さらにその一対の基板の内側には一対の電極
4,6を有する。そして対抗電極4は透光性を有
し、また電極6は反射性を有する。さらにその一
対の電極の一方に配向処理がさなれ他方に非配向
処理がなされている。さらにその電極間には
FLC5が充填される。
The optical disk has a pair of opposing substrates 3 and 7. One opposing substrate 3 is at least translucent. Furthermore, a pair of electrodes 4 and 6 are provided inside the pair of substrates. The counter electrode 4 has a translucent property, and the electrode 6 has a reflective property. Further, one of the pair of electrodes is subjected to alignment treatment, and the other is subjected to non-alignment treatment. Furthermore, between the electrodes
FLC5 is filled.

この光デイスクは周辺をFLCが大気に触れな
いように封止30,30′されている。この光デ
イスク10の内側周辺側には一対の電極4,6よ
り延在した外部コンタクト用電極32,32′を
有する。この外部コンタクト用電極32,32′
は、記憶の書消し103の際その信号源25より
導出したリード13,13′の端子31,31′と
接続され「書消し」を行わせる。
The periphery of this optical disk is sealed 30, 30' to prevent the FLC from coming into contact with the atmosphere. The optical disk 10 has external contact electrodes 32, 32' extending from the pair of electrodes 4, 6 on the inner peripheral side thereof. These external contact electrodes 32, 32'
are connected to the terminals 31, 31' of the leads 13, 13' derived from the signal source 25 when erasing the memory 103, thereby performing the "erasing".

かくして全面が「0」の状態のデイスクに対し
情報の「書き込み」を系101を用いて行う。即
ち全面に一方向に配設したFLCに対し光ビーム
特に赤外線を23よりハーフミラー22を経て集
光光学系、位置補正等の系21を経て所定の番地
に対し光を照射25し、所定の番地の位相を初期
状態よりずらすことにより書き込みを行う。さら
にその光はハーフミラー22を経てフオトセンサ
9に至る。ここで情報の書き込みが行われている
ことをモニタする。その際適量の光強度となるよ
うに24にて補正をする。
In this way, the system 101 is used to "write" information to the disk whose entire surface is "0". That is, a light beam, particularly infrared rays, is irradiated 25 from a light beam 23 to a predetermined address via a half mirror 22, a condensing optical system, a position correction system 21, etc. to the FLC arranged in one direction on the entire surface. Writing is performed by shifting the phase of the address from the initial state. Further, the light passes through the half mirror 22 and reaches the photo sensor 9. Monitor whether information is being written here. At that time, correction is made in step 24 so that the light intensity is an appropriate amount.

情報の「読み出し」に関しては系100を用い
る。
System 100 is used for "reading" information.

即ち、半導体レーザ12より光ビームはハーフ
ミラー2をへて集光光学系、位置の補正(オート
トラツキング装置)11を経て、光デイスク10
に光16を入射する。さらにこの光デイスク10
より光が16′として反射し、ハーフミラー2に
より光路を分離し偏光板8を経て受光センサ9に
至る。
That is, a light beam from a semiconductor laser 12 passes through a half mirror 2, a condensing optical system, a position correction (auto tracking device) 11, and then reaches an optical disk 10.
Light 16 is incident on. In addition, this optical disk 10
The light is reflected as 16', the optical path is separated by the half mirror 2, and the light passes through the polarizing plate 8 and reaches the light receiving sensor 9.

この光デイスクに関し以下にさらに具体的に示
す。
This optical disc will be described in more detail below.

即ちプラスチツク基板またはコーニング7059ガ
ラス基板7を用いた。この基板上に反射性電極と
してアルミニユームを真空蒸着方により一方の電
極6とした。また他方の対抗電極として透光性導
電膜4をプラスチツク基板またはガラス基板(対
抗基板)3上に形成する。この透光性導電膜4と
してはITO(酸化インジユーム・スズ)を用いた。
そしてこの一対の電極6、対抗電極4の内側に非
対称配向膜(図示せず)を設け、スペーサ(図示
せず)を介在させる。これらによりFLC(厚さ
1.5μ)5を挟んである。配向処理ととて対抗電極
4上にはPAN(ポリアクリルニトリル)、PVA
(ポリビニールアルコール)を0.1μの厚さにスピ
ン法により設け、公知のラビング処理をした。ラ
ビング処理の一例として、ナイロンをラビング装
置に900PPMで回転させ、その表面を2m/分の
速度で基板を移動させて形成した。即ち一方の電
極6上には無機化合物の膜を形成してラビング処
理を行わない配向膜とし、他方の電極4には有機
化合物の膜を形成しラビング処理を行つた。配向
処理層の間にはFLC例えばS8(オクチル・オキ
シ・ベンジリデン・アミノ・メチル・ブチル・ベ
ンゾエイト)を充填した。これ以外でも
BOBAMBC等のFCLまたは複数のブレンドを施
したFLCを充填し得る。このFLCのしきい値特
性例を第2図に示す。図面でも±5V加えること
により、曲線29,29′を得、透過、非透過を
させ得、十分反転させるとともにメモリ効果を示
すヒステリシスを得ることが判明した。
That is, a plastic substrate or a Corning 7059 glass substrate 7 was used. One electrode 6 was formed on this substrate by vacuum deposition of aluminum as a reflective electrode. Further, a transparent conductive film 4 is formed on a plastic substrate or a glass substrate (counter substrate) 3 as the other counter electrode. As this transparent conductive film 4, ITO (indium tin oxide) was used.
An asymmetrical alignment film (not shown) is provided inside the pair of electrodes 6 and counter electrode 4, and a spacer (not shown) is interposed therebetween. These allow FLC (thickness
1.5μ) 5 is sandwiched. After alignment treatment, PAN (polyacrylonitrile) and PVA are used on the counter electrode 4.
(Polyvinyl alcohol) was applied to a thickness of 0.1μ by a spin method, and then subjected to a known rubbing treatment. As an example of the rubbing treatment, nylon was rotated by a rubbing device at 900 PPM, and the surface was formed by moving the substrate at a speed of 2 m/min. That is, a film of an inorganic compound was formed on one electrode 6 to serve as an alignment film that was not subjected to rubbing treatment, and a film of an organic compound was formed on the other electrode 4 and subjected to rubbing treatment. FLC such as S8 (octyl oxy benzylidene amino methyl butyl benzoate) was filled between the alignment treatment layers. Other than this
FCLs such as BOBAMBC or blends of FLCs may be filled. An example of the threshold characteristic of this FLC is shown in FIG. It has also been found that by applying ±5 V in the drawing, curves 29 and 29' can be obtained, which can be made transparent and non-transparent, and can be sufficiently inverted and hysteresis exhibiting a memory effect can be obtained.

第2図においては縦軸は透過率である。 In FIG. 2, the vertical axis is transmittance.

第2の書き消し方式を用いた光デイスクメモリ
装置を第3図に示す。
FIG. 3 shows an optical disk memory device using the second write/erase method.

図面において、情報の書き消し用の方式のみが
異なり、他は実施例1と同様である。
In the drawings, only the method for writing and erasing information is different, and the rest is the same as in the first embodiment.

即ち、光デイスク10(円形の縦断面図を示
す)は一対の基板3及び7を有する。この一方の
対抗基板3は透光性である。この対抗基板上面と
他の基板7上(図面では下側)に設けられた反射
板6の表面の間に非対称配向処理を施す。
That is, the optical disk 10 (shown in a circular longitudinal section) has a pair of substrates 3 and 7. This one opposing substrate 3 is translucent. An asymmetrical alignment process is performed between the upper surface of this opposing substrate and the surface of the reflecting plate 6 provided on the other substrate 7 (lower side in the drawing).

さらにこの処理面の内側にFLC5が実施例1
と同様に充填されている。
Further, inside this treated surface, FLC5 was applied in Example 1.
Filled as well.

この光デイスク10は周辺部を30,30′で
封止されている。
This optical disk 10 is sealed at its periphery with 30, 30'.

この光デイスク10に対し、一対の電極31,
31′に外部より高圧発生源25よりFLCに対し
所定の電界を配すべく直接電圧を印加する。
For this optical disk 10, a pair of electrodes 31,
A voltage is directly applied to 31' from the high voltage source 25 from the outside in order to provide a predetermined electric field to the FLC.

この時、電界の印加端子31,31′は光デイ
スク10の外側に近接(図面では外部より加える
ことを明示するため少し離れさせている)せしめ
ている。この端子31,31′がデイスクの半径
方向の長さを有する場合は光デイスクを一回転さ
せ、全面消去を行い得る。また、一部のみとする
ならば、一対の電界を局部消去し得る。この場合
はデイスクを回転しつつ外側から内側またはその
逆に端子31を走査して、デイスクの全面を消去
し得る。図面において端子31′は反射板6が導
体である場合、下側の端子31の真上にある必要
は必ずしもない。
At this time, the electric field application terminals 31, 31' are placed close to the outside of the optical disk 10 (in the drawing, they are shown a little apart to clearly show that the electric field is applied from the outside). If the terminals 31, 31' have the same length in the radial direction of the disk, the entire surface of the optical disk can be erased by rotating the optical disk once. Moreover, if only a part of the electric field is used, the pair of electric fields can be locally erased. In this case, the entire surface of the disk can be erased by scanning the terminal 31 from the outside to the inside or vice versa while rotating the disk. In the drawings, if the reflecting plate 6 is a conductor, the terminal 31' does not necessarily need to be directly above the lower terminal 31.

かかる第2の方式において、端子31,31′
が外部側に設けられる場合、直接FLCに対し密
接していない。しかし、FLCの書き消しに必要
な電力損失として第2図に示される如きヒステリ
シスループの面積(縦軸が電束密度D、横軸が電
界強度Eとした時の面積)と等価であり、きわめ
て小さいため、その電力損を補う程度に端子31
に近接した対抗基板3が弱い導電性を有すれば十
分である。
In this second method, the terminals 31, 31'
If it is provided on the outside side, it is not directly in close contact with the FLC. However, the power loss required for erasing FLC is equivalent to the area of the hysteresis loop shown in Figure 2 (area when the vertical axis is the electric flux density D and the horizontal axis is the electric field strength E), and it is extremely Since the terminal 31 is small, the terminal 31 is small enough to compensate for the power loss.
It is sufficient that the counter substrate 3 in close proximity to the substrate 3 has weak conductivity.

かくして光デイスクのFLCを所定の角度に配
向せしめ、全面が「0」の状態デイスクに対し情
報の書き込みを実施例1と同様に行う。また実施
例1と同様に読み出しを行つた。
In this way, the FLC of the optical disk is oriented at a predetermined angle, and information is written to the disk whose entire surface is "0" in the same manner as in the first embodiment. Further, reading was performed in the same manner as in Example 1.

第4図及び第5図に、本発明による光デイスク
10の内部構造を詳細に示す。図中、透光性電極
4上には、強誘電性薄膜41及び配向膜42が形
成されている。この強誘電性薄膜41は例えばビ
ニリデンフロライド(CH2CF2)とトリフロロエ
チレンとの共重合体からなり、液晶5と共に不揮
発性メモリ媒体を形成する。
4 and 5 show the internal structure of the optical disc 10 according to the present invention in detail. In the figure, a ferroelectric thin film 41 and an alignment film 42 are formed on a transparent electrode 4. This ferroelectric thin film 41 is made of, for example, a copolymer of vinylidene fluoride (CH 2 CF 2 ) and trifluoroethylene, and together with the liquid crystal 5 forms a nonvolatile memory medium.

基板7と配向膜42との間には、ビツトピツト
幅間隔でスペーサ61が設けられており、これに
よつて対向する基板3,7間の距離が一定に保た
れている。図面から明らかなように、基板7上の
反射電極6はスペーサ61の存在しない位置にこ
れと隣接して設けられる。
Spacers 61 are provided between the substrate 7 and the alignment film 42 at intervals of a bit pit width, thereby keeping the distance between the opposing substrates 3 and 7 constant. As is clear from the drawing, the reflective electrode 6 on the substrate 7 is provided adjacent to the spacer 61 at a position where it does not exist.

以上の構成によれば、透光性基板3側から入射
した光の位置が、正しくメモリ領域(即ち、本発
明のデイスクの場合、液晶の存在する領域)に合
つていない場合には、光の反射が行われず、入射
位置の誤りが検出される。従つて、スペーサ61
は単に基板間隔の保持だけでなく、メモリ領域を
区画する機能も合わせ持つている。
According to the above configuration, if the position of the light incident from the transparent substrate 3 side is not correctly aligned with the memory area (that is, the area where the liquid crystal is present in the case of the disk of the present invention), the light is not reflected, and an error in the incident position is detected. Therefore, the spacer 61
It not only maintains the substrate spacing, but also has the function of partitioning the memory area.

次に本発明に成る光デイスクの製造について述
べる。
Next, the manufacturing of the optical disk according to the present invention will be described.

まず、コーニング7059のガラス、基板7の全面
にアルミニユーム膜6を真空蒸着法により形成
し、ビツトピツト間隔を持つたスパイラル状のフ
オトレジストを塗布後、公知の光エツチングを行
う。そしてアルミニユームのサパイラル電極6の
形成された基板7の表面に全体にわたつて、スピ
ン法によつて光硬化性樹脂を1〜3μの厚さで一
様に塗布するスピン法による膜厚のバラツキは1
%以内である。この樹脂の露光はガラス基板7側
から光を照射することによつて行われ、電極6が
マスクとなり、スペーサ61が電極6の間隔に形
成される。
First, an aluminum film 6 is formed on the entire surface of the substrate 7 made of Corning 7059 glass by vacuum evaporation, and after coating a spiral photoresist with a bit pit interval, known photo-etching is performed. The photocurable resin is uniformly applied to a thickness of 1 to 3 μm over the entire surface of the substrate 7 on which the aluminum spiral electrode 6 is formed using a spin method. 1
% or less. This exposure of the resin is performed by irradiating light from the glass substrate 7 side, the electrodes 6 serve as a mask, and spacers 61 are formed at intervals between the electrodes 6.

これとは別に、ガラス基板3上には透光性導電
膜4、強誘電性膜41及び配向膜42が積層形成
される。
Separately, a transparent conductive film 4 , a ferroelectric film 41 , and an alignment film 42 are laminated on the glass substrate 3 .

以上の如く、電極等が設けられた基板3,7は
互いに圧接した状態で周辺シールされる。最後に
周辺シールの際に形成した注入口から、基板3,
7間に液晶を注入してデイスクメモリが完成す
る。
As described above, the substrates 3 and 7 provided with electrodes and the like are sealed around their peripheries while being in pressure contact with each other. Finally, from the injection port formed during peripheral sealing, the substrate 3,
During the 7th period, liquid crystal was injected and the disk memory was completed.

尚、現在のレーザ技術を用いた場合、光の拡が
りを1.2μmまで押さえることが可能であり、大容
量を得るために、ビツトピツチはきわめて小さく
設定されているのが普通である。従つて、液晶5
を充填すべきスパイラル状の溝は、その断面積に
比べ非常に長く、ここに液晶を注入することはな
かなか困難である。これを改善するには、第5図
に示されているように、スパイラル電極パターン
6上に碁盤の目のように流通路用パターン61を
設け、この上に樹脂を塗布して上記露光を行つ
て、流通路を形成する方法がある。
Note that when current laser technology is used, it is possible to suppress the spread of light to 1.2 μm, and in order to obtain a large capacity, the bit pitch is usually set extremely small. Therefore, the liquid crystal 5
The spiral groove to be filled with is extremely long compared to its cross-sectional area, making it difficult to inject liquid crystal into it. In order to improve this, as shown in FIG. 5, a flow path pattern 61 is provided on the spiral electrode pattern 6 like a checkerboard, a resin is applied on this pattern, and the above-mentioned exposure is performed. Therefore, there is a method of forming a flow path.

しかしながら、両基板3,7を圧着させる前
に、真空中で液晶を基板3上に載せ、それから基
板7を圧着させる方法を用いれば、この流通路は
省略しても差支えない。
However, if a method is used in which the liquid crystal is placed on the substrate 3 in a vacuum before the substrates 3 and 7 are pressure-bonded, and then the substrate 7 is pressure-bonded, this flow path may be omitted.

「効果」 (1) メモリ領域の径方向仕切りが省略される。"effect" (1) The radial partition of the memory area is omitted.

(2) 反射膜形成工程をスペーサ形成工程内に組込
める。
(2) The reflective film formation process can be incorporated into the spacer formation process.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の光デイスクメモリを用いた記
録システムの概略を示す。第2図は強誘電性液晶
の動作特性を示す。第3図は他の光デイスク記録
システムの概略を示す。第4図は本発明の光デイ
スクメモリの部分断面図。 第5図は本発明の光デイスクメモリの製造方向
の一例を示す平面図。
FIG. 1 schematically shows a recording system using the optical disk memory of the present invention. FIG. 2 shows the operating characteristics of a ferroelectric liquid crystal. FIG. 3 schematically shows another optical disc recording system. FIG. 4 is a partial sectional view of the optical disk memory of the present invention. FIG. 5 is a plan view showing an example of the manufacturing direction of the optical disk memory of the present invention.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 透光性基板と、 この透光性基板と平行に設けられた対向基板
と、 この対向基板と透光性基板間に設けられこれら
2枚の基板間の領域を径方向についてビツトピツ
チ間隔で仕切りメモリ領域を形成するスペーサ
と、 このスペーサによつて区切られたメモリ領域に
ついて設けられた対向基板上の反射膜と、前記メ
モリ領域に充填された液晶とからなるデイスク。 2 透光性基板上に反射膜パターンを形成する段
階と、 この透光性基板のパターン形成面に光感光性樹
脂を塗布する段階と、 この透光性基板側から光を照射して前記光感光
性樹脂のフオトエツチングを行いスペーサを形成
する段階と、 他の透光性基板を前記透光性基板上に重畳させ
るとともに、これら基板間に液晶を介在させる段
階とから成るデイスクの製造方法。
[Scope of Claims] 1. A light-transmitting substrate, a counter substrate provided parallel to the light-transmitting substrate, and a substrate provided between the opposing substrate and the light-transmitting substrate, the area between these two substrates having a diameter. A disk comprising a spacer forming a partitioned memory area at bit pitch intervals in the direction, a reflective film on a counter substrate provided for the memory area partitioned by the spacer, and liquid crystal filled in the memory area. 2. A step of forming a reflective film pattern on a light-transmitting substrate, a step of applying a photosensitive resin to the pattern-forming surface of this light-transmitting substrate, and a step of irradiating light from the side of this light-transmitting substrate to remove the light. A method for manufacturing a disk, comprising the steps of photo-etching a photosensitive resin to form a spacer, and superimposing another light-transmitting substrate on the light-transmitting substrate, and interposing a liquid crystal between these substrates.
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