【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]
本発明は磁性薄膜を磁気記録層とする磁気記録
媒体に関し、特に防蝕性、電磁変換特性、走行
性、耐摩耗性にすぐれた金属薄膜型磁気記録媒体
に関する。
磁気記録媒体としては、非磁性支持体上に磁性
粉末を結合剤中に分散せしめ、塗布乾燥させる塗
布型のものが広く使用されてきている。しかし、
近年高密度記録への要求が高まるにつれ、真空蒸
着、スパツタリング、イオンプレーテイング等の
ベーパーデポジシヨン法あるいは電気メツキ、無
電解メツキ等のメツキ法により形成される強磁性
金属薄膜を磁気記録層とする金属薄膜型磁気記録
媒体が注目を浴びており実用化に至つている。
金属薄膜型磁気記録媒体は、飽和磁化の大きな
強磁性金属をバインダーの如き非磁性物質を介在
させない状態で、極めて薄い層として形成できる
ので、電磁変換特性上非常に有利で、高密度記録
にも適している。
しかしながら、金属薄膜型磁気記録媒体につい
ての大きな問題点は、製造後経時しておくと金属
表面が腐蝕し電磁変換特性が低下してしまうこと
である。この欠点を防止する方法として、熱可塑
性ポリマー、熱硬化性ポリマーを金属表面に塗設
し、保護層を付与することによつて解決すること
が提案されている。この方法では、ヘツドと磁性
層間のスペーシング損失のために保護層の厚みを
大きくできないという制約があるため、充分な防
蝕性を付与することはできなかつた。（第２図参
照）また、磁性層表面を窒化させる方法（特開昭
50−33806号公報）あるいは酸化させる方法（特
公昭42−20025号公報）などによつて防蝕性向上
することが知られているが、これらの方法では10
分〜２時間もの長時間処理が必要であつたり、処
理時間を短かくすると充分な防蝕効果が得られな
かつた。
本発明者らは先に、強磁性金属薄膜上に厚さ20
〜270Åのプラズマ重合層を設けることによつて
上記欠点を克服することに成功した（特願昭57−
184299号）。
本発明者らは、上記発明に基づいてさらに研究
を重ねた結果、プラズマ重合層の密度を1.4以上
にすることによつて、さらに耐久性の著しく改良
された保護層を得ることに成功し本発明を達成し
た。
従つて、本発明の１つの目的はヘツドと磁性層
間のスペーシング損失を極力小さくするため超薄
層でしかも防蝕性の良好な保護層を有する金属薄
膜磁気記録媒体を提供することにある。
本発明のもう１つの目的は耐久性の良好な金属
磁気記録媒体を提供することにある。
本発明の上記の目的は、強磁性金属薄膜を有す
る高分子支持体の該強磁性金属薄膜上に、密度
1.4以上で厚さ20〜270Åのプラズマ重合層を設け
たことを特徴とする磁気記録媒体によつて達成さ
れる。
本発明でいうプラズマ重合層の密度とは、形成
されたプラズマ重合層を削りとり得られたプラズ
マ重合層の粉をｎ−ヘキサン−テトラクロルエタ
ンからなる密度勾配管法によつて得られた値を意
味する。
尚超薄層でプラズマ重合層だけを削りとれない
ものは厚み1000Å以上のプラズマ重合層を、ウエ
ブスピードを遅くすることによつて得、このプラ
ズマ重合層の密度で代用した。
本発明によるプラズマ重合層は通常のポリマー
層と比較すると、緻密な架橋構造を有している。
即ち、非常に緻密で、しかも金属薄膜上に均一な
厚みの層として形成されていると考えられる。こ
のために、腐蝕の原因となる酸素、水分等を金属
薄膜から遮断しかつ酸素、水分等を透過しないこ
とによつて防蝕性に優れ、しかも極めて薄い層と
して形成できるのでヘツド・磁性層間のスペーシ
ング損失が小さくなることによつて電磁変換特性
の良好な磁気記録媒体を得ることができる。さら
に本発明の有利なことは溶剤を全く使わないの
で、作業が簡単で乾燥ゾーン等の付帯設備も不要
となることである。しかも、金属薄膜の形成を真
空条件下での蒸着等によるベーパーデポジシヨン
法と組合せると、真空を破ることなく共通のライ
ンで金属薄膜の形成と保護層とを逐次に形成でき
るので設備的にも経済的にも有利である。
本発明によるプラズマ重合層の形成に用いる化
合物（以下低分子化合物と称する）としては、20
℃、10-4torrで蒸気圧を有するものなら使用可能
であるが、沸点が200℃以下のものが好ましい。
特に好ましい例としては、下記のものを挙げるこ
とができるが、本発明はこれらの化合物に限定さ
れるものではない。即ち、メタン、エタン、プロ
パン、ブタン、ペタン、ヘキサン、オクタン等の
脂肪族飽和炭化水素、エチレン、プロピレン、ブ
テン、ヘキサン等の脂肪族不飽和炭化水素、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、スチレン、エチルベ
ンゼン等の芳香族炭化水素、フロロメタン、ジフ
ロロメタン、トリフロロメタン、テトラフロロメ
タン、ジフロロエタン、テトラフロロエチレン、
ヘキサフロロプロピレン、テトラフロロシラン、
ジクロロエチレン、テトラクロロエタン等の飽和
又は、不飽和のハロゲン化合物、アルコール類、
ケトン類、エーテル類、脂肪酸類などを単独又は
混合して用いることができる。
プラズマ重合処理の装置としては無電極放電
型、電極放電型のいずれを用いてもよいがより好
ましくは電極が重合槽の中にある内部電極を有す
る放電型である。内部電極を有する放電型を用い
ると形成されたプラズマ重合層は1.4以上の密度
のものが得られやすい。
第１図は本発明のプラズマ重合層を形成するに
適した内部電極型プラズマ重合装置の１例を示す
略図である。真空装置（重合槽）内に、サンプル
送出部１とサンプル巻取部２を設置し、平行板電
極部３，３の間を、高分子支持体上に強磁性金属
薄膜の形成されたサンプル４を連続的に走行させ
てプラズマ重合層を形成させるようになつてい
る。排気口から真空ポンプ（図示せず）によつて
適当な真空度に排気した後に、ガス導入部から、
低分子化合物のガスＡを流量計８及びバルブ７を
通つて適当圧で導入する。なお、必要に応じて不
活性ガスＢを同様に流量計８及びバルブを通つて
導入することができる。
重合槽中の低分子化合物の圧力は、１〜
10-4torrが好ましく、更に好まくは、５×10-2〜
５×10-3torrである。これより圧力が高いときは
プラズマ重合層が粉状で形成されたり形成された
プラズマ重合層の密度が1.4以下となつて好まし
くない。また、プラズマ槽内部の汚れが大きく、
低いときは重合層の形成に時間を要したりするの
で好ましくない。必要に応じて窒素ガス、アルゴ
ンガス等の不活性気体を重合槽内に導入すること
ができる。
プラズマの発振周波数は特に限定されるもので
はないが、13.56MHzが便利である。
プラズマ重合層の好ましい厚みは20〜270Åで
あり、更に好ましくは50〜200Åである。この範
囲を越えて厚くなるとヘツド磁性層のスペーシン
グ損失が大きくなるし、薄くなると防蝕性が低下
したり、プラズマ重合条件の許容範囲が狭くなつ
て好ましくない。
また形成されたプラズマ重合層の密度は1.4以
上が好ましく更に好ましくは1.5以上であり、こ
の場合、耐久性の著しく改良されたプラズマ重合
層が得られる。これより密度が小さくなると耐久
性が十分ではない。
プラズマ重合層の上に更に潤滑剤層を設けるこ
とも可能である。潤滑剤としては、脂肪酸、金属
石けん、脂肪酸アミド、脂肪酸エステル、鉱油、
鯨油等の動植物油、高級アルコール、シリコンオ
イル、フロロカーボン類などを単独又は混合して
用いることができる。
本発明に使用される高分子支持体としては、酢
酸セルローズ；硝酸セルローズ；エチルセルロー
ズ；メチルセルローズ；ポリアミド；ポリメチル
メタクリレート；ポリテトラフルオルエチレン；
ポリトリフルオルエチレン；エチレン、プロピレ
ンのようなα−オレフインの重合体あるいは共重
合体；塩化ビニルの重合体あるいは共重合体；ポ
リ塩化ビニリデン；ポリカーボネート；ポリイミ
ド；ポリエチレンテレフタレートのようなポリエ
ステル類等である。
本発明における強磁性金属薄膜は、ベーパーデ
ポジシヨンあるいはメツキ法により形成される。
ベーパーデポジシヨン法とは、不活性ガスあるい
は酸素等の気体あるいは真空空間中において、膜
として形成せしめようという物質又はその化合物
を蒸気あるいはイオン化した蒸気として発生もし
くは導入させて所望の支持体上に膜として析出さ
せる方法で、真空蒸着法、スパツタリング法、イ
オンプレーテング法、イオンビームデポジシヨン
法、化学気相メツキ法等がこれ相当する。またメ
ツキ法とは電気メツキあるいは無電解メツキ法等
の液相より支持体上に物質を膜として形成させる
方法を言う。強磁性金属薄膜の材料としては、
Fe、Co、Niその他の強磁性金属あるいはこれら
の合金、さらにFe−Si、Fe−Rh、Fe−Ｖ、Fe−
Ti、Co−Ｐ、Co−Ｂ、Co−Si、Co−Ｖ、Co−
Ｙ、Co−Sm、Co−Mn、Co−Ni−Ｐ、Co−Ni
−Ｂ、Co−Cr、Co−Ni−Cr、Co−Ni−Ag、Co
−Ni−Pd、Co−Ni−Zn、Co−Cu、Co−Ni−
Cu、Co−Ｗ、Co−Ni−Ｗ、Co−Mn−Ｐ、Co−
Sm−Cu、Co−Ni−Zn−Ｐ、Co−Ｖ−Cr、等が
用いられる。特に好ましくは、強磁性薄膜はCo
を50wt％以上含有する。
本発明による磁気記録媒体の強磁性薄膜の膜厚
は一般には0.02μm〜5μm、好ましくは0.05μm〜
1μmである。高分子支持体の厚さは4μm〜50μm
が好ましい。強磁性薄膜の密着向上、磁気特性の
改良のために高分子支持体上に下地層を設けても
いい。高分子支持体の磁性層と反対側にバツクコ
ート層を設けてもよい。
磁気記録媒体の形状はテープ、シート、カー
ド、デスク等いずれでも良いが、特に好ましいの
はテープ形状である。
次に本発明の実施例について説明するが、本発
明は下記の実施例に制限されるものはない。実施
例中「部」は「重量部」を示す。
12μm厚のポリエチレンテレフタレートフイル
ムの表面に、斜め蒸着によつてCo−Ni（Ni20wt
％）磁性膜（膜厚1000Å）を設けたものを実施例
に使用した。
実施例 １
第１図の装置を用いて、CH2＝CH2ガスとAr
ガスの混合比が１／10、重合槽内の圧力
10-2torr、50wattで電極間の滞在時間が10秒間に
なるようにしてプラズマ重合処理を行ないサンプ
ルNo.１を得た。
実施例 ２
第１図の装置を用いて、CHF2CHF2ガスとAr
ガスの混合比が１／10、重合槽内の圧力８×
10-3torr、50wattで電極間の滞在時間が10秒間に
なるようにしてプラズマ重合処理を行ないサンプ
ルNo.２を得た。
実施例 ３
第１図の重合槽内の圧力が５×10-2torrになる
ようにスチレンを蒸発させ、スチレンガスとアル
ゴンガスの混合比が１／８になるようにした他は
実施例１と同じ条件でサンプルNo.３を得た。
実施例 ４
第１図の重合槽内の圧力が７×10-3torrになる
ようにC2H6ガス及びアルゴンガスの混合比１／
10の混合ガスを導入する他は実施例１と同様に処
理してサンプルNo.４を得た。
実施例 ５
電極間内の滞在時間を以下のように変える以外
は実施例１と同一条件で行なつた。
50秒間………サンプルNo.５
25秒間 〃 No.６
５秒間 〃 No.７
２秒間 〃 No.８
１秒間 〃 No.９
比較例 １
実施例１に於て重合層内の圧力が10-1torrで滞
在時間が３秒間になるようにしてプラズマ重合処
理を行いサンプルNo.10を得た。
比較例 ２
実施例１に於て重合層内の圧力が５×10-2torr
で滞在時間が５秒間になるようにしてプラズマ重
合処理を行ないサンプルNo.11を得た。
比較例 ３
塩ビ酢ビ共重合体（UC社製、商品名VYHH）
0.05％MEK溶液をCo−Ni磁性層上に塗布乾燥し
サンプルNo.12を得た。
比較例 ４
スチレンブタジエン共重合体の0.5％MEK溶液
をCo−Ni磁性層上に塗布し乾燥してサンプルNo.
13を得た。
上記サンプルを用いて以下の試験を行ない防蝕
性及び耐久性の効果を調べた。
結果を第１表に示す。
防蝕性試験は、60℃、80％RHの雰囲気で７日
間さらしたのち、目視で判定した。
耐久性試験は1/2インチにスリツトしたのち、
家庭用ビデオテープレコーダー（ビクター製
3600）
The present invention relates to a magnetic recording medium having a magnetic thin film as a magnetic recording layer, and particularly to a metal thin film type magnetic recording medium having excellent corrosion resistance, electromagnetic conversion characteristics, runnability, and wear resistance. As magnetic recording media, coating type media, in which magnetic powder is dispersed in a binder and coated on a non-magnetic support and dried, have been widely used. but,
In recent years, as the demand for high-density recording has increased, magnetic recording layers are made of ferromagnetic metal thin films formed by vapor deposition methods such as vacuum evaporation, sputtering, and ion plating, or plating methods such as electroplating and electroless plating. Metal thin film type magnetic recording media are attracting attention and are being put into practical use. Metal thin film magnetic recording media can be formed as an extremely thin layer of ferromagnetic metal with high saturation magnetization without intervening non-magnetic substances such as binders, so they are extremely advantageous in terms of electromagnetic conversion characteristics and are also suitable for high-density recording. Are suitable. However, a major problem with metal thin film magnetic recording media is that the metal surface corrodes and the electromagnetic conversion characteristics deteriorate over time after manufacture. As a method to prevent this drawback, it has been proposed to apply a thermoplastic polymer or thermosetting polymer to the metal surface to provide a protective layer. In this method, there is a restriction that the thickness of the protective layer cannot be increased due to spacing loss between the head and the magnetic layer, and therefore sufficient corrosion resistance cannot be imparted. (See Figure 2) Also, a method of nitriding the surface of the magnetic layer (Japanese Patent Laid-Open No.
It is known that corrosion resistance can be improved by methods such as oxidation (Japanese Patent Publication No. 50-33806) or oxidation method (Japanese Patent Publication No. 42-20025), but these methods
A long treatment time of from 1 minute to 2 hours is required, and if the treatment time is shortened, a sufficient anticorrosive effect cannot be obtained. The present inventors previously developed a film with a thickness of 20 mm on a ferromagnetic metal thin film.
By providing a plasma-polymerized layer of ~270 Å, we succeeded in overcoming the above drawbacks (Japanese Patent Application No. 1987-
No. 184299). As a result of further research based on the above invention, the present inventors succeeded in obtaining a protective layer with significantly improved durability by increasing the density of the plasma polymerized layer to 1.4 or more. Achieved an invention. Accordingly, one object of the present invention is to provide a metal thin film magnetic recording medium having an ultra-thin protective layer with good corrosion resistance in order to minimize the spacing loss between the head and the magnetic layer. Another object of the present invention is to provide a metal magnetic recording medium with good durability. The above-mentioned object of the present invention is to provide a polymer support having a ferromagnetic metal thin film with a high density.
This is achieved by a magnetic recording medium characterized by providing a plasma polymerized layer with a thickness of 20 to 270 Å and a thickness of 1.4 or more. The density of the plasma polymerized layer as used in the present invention is the value obtained by scraping off the formed plasma polymerized layer and applying powder of the plasma polymerized layer obtained by a density gradient tube method using n-hexane-tetrachloroethane. means. If only the plasma polymerized layer was too thin to be scraped off, a plasma polymerized layer with a thickness of 1000 Å or more was obtained by slowing down the web speed, and the density of this plasma polymerized layer was used as a substitute. The plasma-polymerized layer according to the present invention has a dense crosslinked structure compared to a conventional polymer layer.
That is, it is considered to be formed as a very dense layer with a uniform thickness on the metal thin film. For this reason, it has excellent corrosion resistance by blocking oxygen, moisture, etc. that cause corrosion from the metal thin film, and does not allow oxygen, moisture, etc. to permeate through it.Furthermore, it can be formed as an extremely thin layer, so there is no gap between the head and the magnetic layer. By reducing the pacing loss, a magnetic recording medium with good electromagnetic conversion characteristics can be obtained. A further advantage of the present invention is that since no solvent is used, the process is simple and no additional equipment such as a drying zone is required. Furthermore, by combining the formation of a metal thin film with a vapor deposition method using vapor deposition under vacuum conditions, the formation of a metal thin film and a protective layer can be sequentially formed on a common line without breaking the vacuum, making it easier to use equipment. It is also economically advantageous. The compound used for forming the plasma polymerized layer according to the present invention (hereinafter referred to as a low molecular compound) is 20
℃ and 10 −4 torr can be used, but those with a boiling point of 200° C. or lower are preferable.
Particularly preferred examples include the following compounds, but the present invention is not limited to these compounds. That is, aliphatic saturated hydrocarbons such as methane, ethane, propane, butane, petane, hexane, and octane, aliphatic unsaturated hydrocarbons such as ethylene, propylene, butene, and hexane, benzene, toluene, xylene, styrene, ethylbenzene, etc. Aromatic hydrocarbons, fluoromethane, difluoromethane, trifluoromethane, tetrafluoromethane, difluoroethane, tetrafluoroethylene,
hexafluoropropylene, tetrafluorosilane,
Saturated or unsaturated halogen compounds such as dichloroethylene and tetrachloroethane, alcohols,
Ketones, ethers, fatty acids, etc. can be used alone or in combination. As the apparatus for plasma polymerization treatment, either an electrodeless discharge type or an electrode discharge type may be used, but a discharge type having an internal electrode in the polymerization tank is more preferable. When a discharge type having internal electrodes is used, a plasma polymerized layer formed with a density of 1.4 or higher is likely to be obtained. FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of an internal electrode type plasma polymerization apparatus suitable for forming the plasma polymerization layer of the present invention. A sample delivery section 1 and a sample winding section 2 are installed in a vacuum device (polymerization tank), and a sample 4 on which a ferromagnetic metal thin film is formed on a polymer support is passed between parallel plate electrode sections 3 and 3. is run continuously to form a plasma polymerized layer. After evacuating the exhaust port to an appropriate degree of vacuum using a vacuum pump (not shown), from the gas introduction section,
Gas A of a low molecular weight compound is introduced through a flow meter 8 and a valve 7 at an appropriate pressure. Note that inert gas B can be similarly introduced through the flow meter 8 and the valve, if necessary. The pressure of the low molecular compound in the polymerization tank is 1 to
10 −4 torr is preferable, more preferably 5×10 −2 to
It is 5×10 -3 torr. When the pressure is higher than this, the plasma polymerized layer is formed in powder form or the density of the formed plasma polymerized layer becomes 1.4 or less, which is not preferable. In addition, there is a lot of dirt inside the plasma tank,
When it is low, it is not preferable because it takes time to form a polymer layer. If necessary, an inert gas such as nitrogen gas or argon gas can be introduced into the polymerization tank. Although the oscillation frequency of the plasma is not particularly limited, 13.56MHz is convenient. The preferred thickness of the plasma polymerized layer is 20 to 270 Å, more preferably 50 to 200 Å. If it becomes thicker than this range, the spacing loss of the head magnetic layer will increase, and if it becomes thinner, the corrosion resistance will deteriorate and the permissible range of plasma polymerization conditions will become narrower, which is not preferable. The density of the formed plasma polymerized layer is preferably 1.4 or more, and more preferably 1.5 or more. In this case, a plasma polymerized layer with significantly improved durability can be obtained. If the density is lower than this, the durability will not be sufficient. It is also possible to provide a further lubricant layer on top of the plasma polymerized layer. As lubricants, fatty acids, metal soaps, fatty acid amides, fatty acid esters, mineral oil,
Animal and vegetable oils such as whale oil, higher alcohols, silicone oils, fluorocarbons, and the like can be used alone or in combination. The polymer supports used in the present invention include cellulose acetate; cellulose nitrate; ethyl cellulose; methyl cellulose; polyamide; polymethyl methacrylate; polytetrafluoroethylene;
Polytrifluoroethylene; polymers or copolymers of α-olefins such as ethylene and propylene; polymers or copolymers of vinyl chloride; polyvinylidene chloride; polycarbonate; polyimide; polyesters such as polyethylene terephthalate, etc. . The ferromagnetic metal thin film in the present invention is formed by vapor deposition or plating method.
The vapor deposition method is a method in which a substance or its compound to be formed into a film is generated or introduced as vapor or ionized vapor in a gas such as inert gas or oxygen or in a vacuum space to form a film on a desired support. This method includes vacuum evaporation, sputtering, ion plating, ion beam deposition, chemical vapor plating, and the like. The plating method refers to a method of forming a film of a substance on a support from a liquid phase, such as electroplating or electroless plating. Materials for ferromagnetic metal thin films include:
Fe, Co, Ni and other ferromagnetic metals or their alloys, as well as Fe-Si, Fe-Rh, Fe-V, Fe-
Ti, Co-P, Co-B, Co-Si, Co-V, Co-
Y, Co-Sm, Co-Mn, Co-Ni-P, Co-Ni
-B, Co-Cr, Co-Ni-Cr, Co-Ni-Ag, Co
−Ni−Pd, Co−Ni−Zn, Co−Cu, Co−Ni−
Cu, Co-W, Co-Ni-W, Co-Mn-P, Co-
Sm-Cu, Co-Ni-Zn-P, Co-V-Cr, etc. are used. Particularly preferably, the ferromagnetic thin film is Co
Contains 50wt% or more. The thickness of the ferromagnetic thin film of the magnetic recording medium according to the present invention is generally 0.02 μm to 5 μm, preferably 0.05 μm to
It is 1 μm. The thickness of the polymer support is 4μm~50μm
is preferred. An underlayer may be provided on the polymer support to improve adhesion of the ferromagnetic thin film and improve magnetic properties. A back coat layer may be provided on the opposite side of the polymer support from the magnetic layer. The magnetic recording medium may have any shape such as tape, sheet, card, or disk, but tape shape is particularly preferred. Next, examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited to the following examples. In the examples, "parts" indicate "parts by weight." Co-Ni (Ni20wt.
%) provided with a magnetic film (film thickness 1000 Å) was used in the examples. Example 1 Using the apparatus shown in Figure 1, CH 2 = CH 2 gas and Ar
Gas mixing ratio is 1/10, pressure inside the polymerization tank
Plasma polymerization was performed at 10 -2 torr, 50 watt, and the residence time between the electrodes was 10 seconds to obtain sample No. 1. Example 2 Using the apparatus shown in Figure 1, CHF 2 CHF 2 gas and Ar
Gas mixing ratio is 1/10, pressure inside the polymerization tank is 8x
Plasma polymerization was performed at 10 -3 torr and 50 watts with a residence time between the electrodes of 10 seconds to obtain sample No. 2. Example 3 Same as Example 1 except that styrene was evaporated so that the pressure in the polymerization tank shown in Figure 1 was 5 x 10 -2 torr and the mixing ratio of styrene gas and argon gas was 1/8. Sample No. 3 was obtained under the same conditions. Example 4 The mixing ratio of C 2 H 6 gas and argon gas was set to 1/1 so that the pressure in the polymerization tank shown in Fig. 1 was 7 × 10 -3 torr.
Sample No. 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that a mixed gas of No. 10 was introduced. Example 5 The test was carried out under the same conditions as in Example 1 except that the residence time between the electrodes was changed as follows. 50 seconds……Sample No. 5 25 seconds 〃 No. 6 5 seconds 〃 No. 7 2 seconds 〃 No. 8 1 second 〃 No. 9 Comparative example 1 In Example 1, the pressure inside the polymerization layer was 10 - Plasma polymerization was performed at 1 torr for a residence time of 3 seconds to obtain sample No. 10. Comparative Example 2 In Example 1, the pressure inside the polymerization layer was 5×10 -2 torr.
Sample No. 11 was obtained by performing plasma polymerization treatment so that the residence time was 5 seconds. Comparative Example 3 Vinyl chloride/vinyl acetate copolymer (manufactured by UC, trade name VYHH)
A 0.05% MEK solution was applied onto the Co--Ni magnetic layer and dried to obtain sample No. 12. Comparative Example 4 A 0.5% MEK solution of styrene-butadiene copolymer was applied onto the Co-Ni magnetic layer and dried to form sample No.
Got 13. The following tests were conducted using the above samples to examine the effects of corrosion resistance and durability. The results are shown in Table 1. The corrosion resistance test was visually judged after being exposed to an atmosphere of 60°C and 80% RH for 7 days. Durability test was performed after slitting to 1/2 inch.
Home video tape recorder (made by Victor)
3600)
【表】
でスチル耐久時間（分）を測定温度は、23℃65％
RH。
厚みの測定は水晶発振子で行ない、重合時間で
推定した。
これらの結果を見ると本発明によつていかに防
蝕性及び耐久性良好でかつスペーシング損失の少
ない超薄層の保護層であるか明らかである。[Table] Measure the still durability time (minutes) at a temperature of 23℃65%
RH. The thickness was measured using a crystal oscillator and estimated based on the polymerization time. Looking at these results, it is clear how the present invention provides an ultra-thin protective layer with good corrosion resistance and durability and little spacing loss.
【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]
第１図は内部電極型プラズマ重合装置である。
１：サンプル送出部、２：サンプル巻取部、
３：平行板電極部、４：サンプル、５：ガス導入
部、６：排気口、７：バルブ、８：流量計。
FIG. 1 shows an internal electrode type plasma polymerization apparatus. 1: sample sending section, 2: sample winding section,
3: parallel plate electrode section, 4: sample, 5: gas introduction section, 6: exhaust port, 7: valve, 8: flow meter.