JPH0469657A - Photosensitive composition - Google Patents

Photosensitive composition

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JPH0469657A
JPH0469657A JP18238590A JP18238590A JPH0469657A JP H0469657 A JPH0469657 A JP H0469657A JP 18238590 A JP18238590 A JP 18238590A JP 18238590 A JP18238590 A JP 18238590A JP H0469657 A JPH0469657 A JP H0469657A
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JP
Japan
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group
photosensitive composition
photosensitive
acid
methyl
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Application number
JP18238590A
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Japanese (ja)
Inventor
Yutaka Adachi
裕 安達
Hideyuki Nakai
英之 中井
Takeo Akiyama
秋山 健夫
Mitsuru Sasaki
充 佐々木
Junko Nakamura
純子 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Publication of JPH0469657A publication Critical patent/JPH0469657A/en
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Abstract

PURPOSE:To improve storage stability and exposure visualizability by incorporating a dye for changing the tone of a specified triazine compound and its photodecomposition products through the interaction with them. CONSTITUTION:The dye to be added changes the tone of the triazine compound represented by formula I and its photodecomposition products through the interaction with them, thus permitting the obtained photosensitive composition to be superior in each of sensitivity, underdevelopability, exposure visualizability, and that after storage as compared with other samples. In formula I, A is a carbon ring or a hetero ring both having aromaticity; B is a divalent hetero ring; and each of (m) and (n) is 0, 1, or 2.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、感光性平版印刷版等に用いることができる感
光性組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a photosensitive composition that can be used for photosensitive lithographic printing plates and the like.

[発明の背景] 感光性物質として。−キノンジアジド化合物を使用した
感光性組成物は、例えばポジ型の感光性平版印刷版やプ
リント回路を製造する場合に広く用いられている。
[Background of the invention] As a photosensitive substance. - Photosensitive compositions using quinonediazide compounds are widely used, for example, in the production of positive-working photosensitive lithographic printing plates and printed circuits.

感光性平版印刷版は、親水性支持体上にインク受容性の
感光層を設けたもので、例えばポジ型感光性平版印刷版
においては、親水性支持体上に、紫外線等の活性光線に
よる露光により可溶化するインク受容性感光層が形成さ
れている。このようなポジ型感光性平版印刷版の感光層
に画像露光を施し、次いで現像すると、非画線部の感光
層は除去されて親水性支持体の表面が露出する一方、画
線部の感光層は支持体に残留してインキ受容層を形成す
る。
A photosensitive lithographic printing plate is one in which an ink-receptive photosensitive layer is provided on a hydrophilic support. For example, in a positive-working photosensitive lithographic printing plate, the hydrophilic support is exposed to actinic rays such as ultraviolet rays. An ink-receptive photosensitive layer is formed which is solubilized by the ink-receiving method. When the photosensitive layer of such a positive photosensitive lithographic printing plate is subjected to imagewise exposure and then developed, the photosensitive layer in the non-image area is removed and the surface of the hydrophilic support is exposed, while the photosensitive layer in the image area is removed. The layer remains on the support to form an ink-receiving layer.

平版印刷においては、上記非画線部が親水性で、画線部
が親油性であるという性質の差が利用される。
In planographic printing, the difference in properties is utilized in that the non-image areas are hydrophilic and the image areas are lipophilic.

通常、ポジ型の感光性平版印刷版の感光層には、感光成
分として。−キノンジアジド化合物が、また被膜強度と
アルカリ可溶性とを高めるための成分としてアルカリ可
溶性樹脂が含有されている。
Usually, it is used as a photosensitive component in the photosensitive layer of a positive photosensitive lithographic printing plate. -A quinonediazide compound is contained, and an alkali-soluble resin is contained as a component for increasing coating strength and alkali solubility.

これらの感光性平版印刷版には、作業性向上のために高
い感度を有することが必要とされている。
These photosensitive planographic printing plates are required to have high sensitivity in order to improve workability.

このため、特に上記。−キノンジアジド化合物の中でも
、感度及びコストの点がら]、2−ナフトキノン−2−
ジアジド−5−スルホン酸エステル化合物および1.2
−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸エステ
ル化合物が有用なもノトシて一般に用いられている。
For this reason, especially the above. -Among quinonediazide compounds, in terms of sensitivity and cost], 2-naphthoquinone-2-
Diazide-5-sulfonic acid ester compound and 1.2
-Naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid ester compounds are useful and generally used.

製版においては、例えばフィルム原稿の位置をかえて次
々に焼き付けをする、いわゆる“多面焼き付け”を行う
等の露光作業が行われる。これら露光作業において、露
光部と未露光部の識別ができないと、露光部の位置の確
認ができないため、露光作業が難しくなり、また、誤っ
た露光をしてしまうということになる。これらをさける
ために、感光性組成物には、露光により、露光作業に用
いられる黄色の安全灯の下ででも認識することができる
可視画像が形成されること(露光可視画性)が求められ
ている。
In plate making, exposure operations such as so-called "multi-sided printing" are performed, for example, changing the position of the film original and printing one after another. In these exposure operations, if it is not possible to distinguish between exposed areas and unexposed areas, the position of the exposed areas cannot be confirmed, making the exposure operations difficult and leading to incorrect exposure. In order to avoid these problems, photosensitive compositions are required to form a visible image upon exposure that can be recognized even under the yellow safety light used for exposure work (exposure visible image property). ing.

0−キノンジアジド化合物は露光されると光分解し、褪
色するので、0−キノンジアジド化合物を用いた感光性
組成物においては、露光により一応可視像を得ることか
できるか、得られた可視像はコントラストが低く、露光
作業に用いられる黄色の安全灯の下では殆ど認識するこ
とかできない程度のものであった。
Since the 0-quinonediazide compound photodecomposes and fades when exposed to light, in a photosensitive composition using the 0-quinonediazide compound, it is possible to obtain a visible image by exposure, or the resulting visible image The contrast was so low that it could barely be recognized under the yellow safety lights used for exposure work.

露光によりコントラストのある可視画像が得られないと
いう欠点は、感光性組成物中に、0−ナフトキノンジア
ジド−4−スルホン酸ハロゲニドと染料として塩形成能
を有する有機化合物を添加することによって改良され、
黄色の安全灯の下でもはっきり認識できる可視像を得る
ことができるようになるが、保存安定性が悪く、製造後
3か月もすると、この効果は消滅してしまう。
The disadvantage that a visible image with contrast cannot be obtained by exposure to light can be improved by adding 0-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halide and an organic compound having salt-forming ability as a dye to the photosensitive composition.
Although it becomes possible to obtain a clearly visible image even under a yellow safety light, the storage stability is poor, and this effect disappears after three months after production.

また、オキサジアゾール化合物と変色する色素を添加す
ることにより、黄色の安全灯の下でもはっきり認識でき
る可視画像が得られ、また、保存安定性が改良され、製
造後時間がたっても良好な露光可視画性が得られるよう
になるが、感度の低下が大きく、また、疲労した現像液
を用いて現像した場合や現像液を補充しながら現像する
システムにおいてしばしば起る現像液濃度の低下があっ
た場合に、版面汚れが発生する等の問題があった。
In addition, the addition of oxadiazole compounds and color-changing dyes provides visible images that are clearly recognizable even under yellow safety lights, and also improves storage stability and provides good exposure even long after manufacture. Although visible images can be obtained, there is a significant decrease in sensitivity, and there is also a decrease in developer concentration that often occurs when developing with a tired developer or in systems where development is performed while replenishing the developer. In this case, there were problems such as staining of the plate surface.

[発明の目的] したがって、本発明の目的は、保存安定性が良く、露光
可視画性が改良された感光性組成物を提供することにあ
る。
[Object of the Invention] Therefore, an object of the present invention is to provide a photosensitive composition that has good storage stability and improved visible imageability upon exposure.

また、本発明の他の目的は、感度の低下が少く、現像許
容性が大きい感光性組成物を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a photosensitive composition with little decrease in sensitivity and high development tolerance.

[発明の構成] 本発明の上記目的は、少なくとも(a)下記−般式[I
]で表されるトリアジン化合物及び(b)上記一般式[
I]で表されるトリアジン化合物の光分解生成物との相
互作用によってその色調を変化させる色素を含有するこ
とを特徴とする感光性組成物によって達成された。
[Structure of the Invention] The above object of the present invention is to achieve at least (a) the following - general formula [I
] and (b) the above general formula [
This was achieved by a photosensitive composition characterized by containing a dye that changes its color tone through interaction with a photodecomposition product of a triazine compound represented by [I].

一般式[1] [式中、Aは芳香族性を有する同素環基又はヘテロ環基
を表し、Bは2価のへテロ環基を表す。
General formula [1] [wherein A represents a homocyclic group or a heterocyclic group having aromaticity, and B represents a divalent heterocyclic group.

m、nは0〜2の整数を表す。コ 以下、本発明の詳細な説明する。m and n represent integers of 0 to 2. Ko The present invention will be explained in detail below.

本発明において用いられるオルトキノンジアジド化合物
としては、例えば。−ナフトキノンジアジドスルホン酸
と、フェノール類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹
脂とのエステル化合物が挙げられる。
Examples of the orthoquinonediazide compound used in the present invention include: - Ester compounds of naphthoquinone diazide sulfonic acid and polycondensation resins of phenols and aldehydes or ketones are mentioned.

前記のフェノール類としては、例えば、フェノール、0
−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、3,
5−キシレノール、カルバクロール、チモール等の一価
フエノール、カテコール、1ノゾルシン、ヒドロキノン
等の二価フェノール、l′i ピロガロール、フロログルシン等の三価フェノール等が
挙げられる。
Examples of the phenols include phenol, 0
-cresol, m-cresol, p-cresol, 3,
Examples include monohydric phenols such as 5-xylenol, carvacrol, and thymol, dihydric phenols such as catechol, 1-nosorcin, and hydroquinone, and trihydric phenols such as l'i pyrogallol and phloroglucin.

前記のアルデヒドとしては、ホルムアルデヒド、ベンズ
アルデヒド、アセトアルデヒド、クロトンアルデヒド、
フルフラール等が挙げられる。
Examples of the aldehyde include formaldehyde, benzaldehyde, acetaldehyde, crotonaldehyde,
Examples include furfural.

これらのアルデヒドのうち好ましいものは、ポルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。
Preferred among these aldehydes are pormaldehyde and benzaldehyde.

更に前記のケトンとしては、アセトン、メチルエヂルケ
トン等が挙げられる。
Furthermore, examples of the above-mentioned ketones include acetone, methyl edyl ketone, and the like.

前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ポルムアルデヒ
ド樹脂、m−、p−混合クレジル・ホルムアルデヒド樹
脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロール
・アセトン樹脂等が挙げられる。
Specific examples of the polycondensation resin include phenol/formaldehyde resin, m-cresol/polmaldehyde resin, m-, p-mixed cresyl/formaldehyde resin, resorcinol/benzaldehyde resin, pyrogallol/acetone resin, and the like.

前記0−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類の
OH基に対する。−ナフトキノンジアジドスルホン酸の
縮合率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%
が好ましく、より好ましくは20〜45%である。
to the OH group of the phenol of the O-naphthoquinonediazide compound. - Condensation rate of naphthoquinonediazide sulfonic acid (reaction rate for one OH group) is 15 to 80%
is preferable, and more preferably 20 to 45%.

本発明に用いられる上記0−キノンジアジドを含む高分
子化合物は、塗布性を考慮すると、重量平均分子量が1
..000以上のものが好ましく、更に好ましくは、 
1,500以上の分子量を有するものである。
Considering the coating properties, the polymer compound containing 0-quinonediazide used in the present invention has a weight average molecular weight of 1.
.. .. 000 or more, more preferably,
It has a molecular weight of 1,500 or more.

更に本発明に用いられる。−キノンジアジド化合物とし
ては、特開昭58−484.51号公報に記載された化
合物が挙げられる。
Furthermore, it is used in the present invention. -Quinonediazide compounds include compounds described in JP-A-58-484.51.

また、2,3.4−)リヒドロキシベンゾフエノン、2
,3,4.4’ −テトラヒドロキシベンゾフェノン、
2,3,4.2’ 、4’ −ペンタヒドロキシベンゾ
フェノン、2,3,4.3’ 。
Also, 2,3.4-)lyhydroxybenzophenone, 2
, 3,4.4'-tetrahydroxybenzophenone,
2,3,4.2', 4'-pentahydroxybenzophenone, 2,3,4.3'.

4 ’ +  5 ’  −へキサヒドロキシベンゾフ
ェノン等とオルトキノンジアジド基との縮合化合物も使
用することができる。
Condensation compounds of 4'+5'-hexahydroxybenzophenone and the like with orthoquinonediazide groups can also be used.

上記0−キノンジアジド化合物のうち、1,2ベンゾキ
ノンジアジドスルホニルクロリド又は1.2〜ナフ]・
キノンジアジドスルホニルクロリドとピロガロール・ア
セトン縮合樹脂又は2,3゜4−トリヒドロキシベンゾ
フェノンを反応させて得られる0−キノンジアジドエス
テル化合物が最も好ましい。
Among the above 0-quinonediazide compounds, 1,2benzoquinonediazide sulfonyl chloride or 1.2-naf]
Most preferred is an 0-quinonediazide ester compound obtained by reacting quinonediazide sulfonyl chloride with a pyrogallol/acetone condensation resin or 2,3°4-trihydroxybenzophenone.

本発明に用いられる。−キノンジアジド化合物としては
、上記化合物を各々単独で用いてもよい1−12種以上
の化合物を組合せて用いてもよい。
Used in the present invention. - As the quinonediazide compound, each of the above compounds may be used alone, or 1 to 12 or more types of compounds may be used in combination.

0−キノンジアジド化合物の好ましい使用量は、感光性
組成物の不揮発成分の10〜40重量%である。
The preferred amount of the 0-quinonediazide compound used is 10 to 40% by weight of the nonvolatile components of the photosensitive composition.

また、0−キノンジアジド基として特に好ましいものは
1−12−キノンジアジドの4−又は5スルポン酸基も
しくは1,2−キノンジアジドの4又は5−カルボキシ
ル基である。
Further, particularly preferred as the 0-quinonediazide group are the 4- or 5-sulfonic acid group of 1-12-quinonediazide or the 4- or 5-carboxyl group of 1,2-quinonediazide.

前記の0−キノンジアジド化合物は、アルカリ可溶性樹
脂と混合して用いた方がよい。アルカリ可溶性樹脂とし
ては、ノボラック樹脂、フェノール性水酸基を有するビ
ニル系重合体、特開昭55〜57841号公報に記載さ
れている多価フェノールとアルデヒド又はケトンとの縮
合樹脂等が挙げられる。
The above-mentioned 0-quinonediazide compound is preferably used in combination with an alkali-soluble resin. Examples of alkali-soluble resins include novolac resins, vinyl polymers having phenolic hydroxyl groups, and condensation resins of polyhydric phenols and aldehydes or ketones described in JP-A-55-57841.

ノボラック樹脂としては、例えばフェノール・ホルムア
ルデヒド樹脂、クレゾール普ホルムアルデヒド樹脂、特
開昭55−57841号公報に記載されているようなフ
ェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合樹脂
、特開昭55−127558号公報に記載されているよ
うなp−fit換フエフエノールェノールもしくは、ク
レゾールとホルムアルデヒドとの共重縮合樹脂等が挙げ
られる。
Examples of the novolak resin include phenol-formaldehyde resin, cresol formaldehyde resin, phenol-cresol-formaldehyde copolycondensation resin as described in JP-A-55-57841, and phenol-cresol-formaldehyde copolycondensation resin as described in JP-A-55-127558. Examples include p-fit-converted phenol phenol as described above, or a copolycondensation resin of cresol and formaldehyde.

また、フェノール性水酸基を有するビニル系重合体とし
ては、該フェノール性水酸基を有する単位を分子構造中
に有する重合体であり、下記の一般式[■]〜一般式[
V[]の少なくとも1つの構造単位を含む重合体が好ま
しい。
In addition, the vinyl polymer having a phenolic hydroxyl group is a polymer having a unit having the phenolic hydroxyl group in its molecular structure, and has the following general formula [■] to general formula [
Polymers containing at least one structural unit of V[] are preferred.

一般式[11] %式% [11] 一般式[■コ −HCR1R2−CR3← B−0)I 一般式[V] −(CR,R2−CR3−)−(CLL−CL+−一般
式[Vf] −(CR3−CR4+− H [式中R5およびR2はそれぞれ水素原子、アルキル基
又はカルボキシル基を表し、好ましくは水素原子である
。R3は水素原子、ハロゲン原子又はアルギル基を表わ
し、好ましくは水素原子又はメチル基、エチル基等のア
ルキル基である。R4は水素原子、アルキル基、アリー
ル基又はアラルキル基を表わし、好ましくは水素原子で
ある。Aは窒素原子又は酸素原子と芳香族炭素原子とを
連結する、置換基を有していてもよいアルキレン基を表
わし、mは0〜10の整数を表わし、Bは置換基を有し
ていてもよいフェニレン基又は置換基ヲ有してもよいナ
フチレン基を表わす。]本発明の感光性組成物に用いら
れる重合体としては共重合体型の構造を有するものが好
ましく、前記一般式[r1〕〜一般式[VI]でそれぞ
れ示される構造単位と組合せて用いることができる単量
体単位としては、例えばエチレン、プロピレン、イソブ
チレン、ブタジェン、イソプIノン等のエチレン系不飽
和オレフィン類、例えばスチレン、αメチルスチレン、
p−メチルスチレン、p−クロロスチレン等のスチレン
類、例えばアクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸類
、例えばイタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸等の
不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えばアクリル酸メチル
、アクリル酸エチル、アクリル酸−〇−ブチル、アクリ
ル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸−2
−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−クロロアク
リル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、エタクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノカ
ルボン酸のエステル類、例えばアクリロニトリル、メタ
アクリロニトリル等の二l・ジル類、例えばアクリルア
ミド等のアミF類、例えばアクリルアニリド、p−クロ
ロアクリルアニリド、m−二トロアクリルアニリド、m
−メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、例えば酢
酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンジェ酸ビニル、酪
酸ビニル等のビニルエステル類、例えばメチルビニルエ
ーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエー
テル、β−クロロエチルビニルエーテル等のビニルエー
テル類、塩化ビニル、ビニリデンクロライド、ビニリデ
ンシアナイド、例えば1−メチル−1−メトキシェチレ
ユ、1,1−ジメトキシエチレン、1,2−ジメトキシ
エチレン、1.1−ジメトキシカルボニルエチレン、1
−メチル−1−二トロエチレン等のエチレン誘導体類、
例えばN−ビニルビロール、N−ビニルカルバゾール、
N−ビニルインドール、N−ビニルピロリドン、N−ビ
ニルピロリドン等のN−ビニル系単量体がある。これら
のビニル系単量体は、不飽和二重結合が開裂した構造で
高分子化合物中に存在する。
General formula [11] % formula % [11] General formula [■Co-HCR1R2-CR3← B-0) I General formula [V] -(CR,R2-CR3-)-(CLL-CL+-General formula [Vf ] -(CR3-CR4+- H [wherein R5 and R2 each represent a hydrogen atom, an alkyl group or a carboxyl group, preferably a hydrogen atom. R3 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an argyl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group.R4 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group, preferably a hydrogen atom.A represents a nitrogen atom or an oxygen atom and an aromatic carbon atom. represents an alkylene group that may have a substituent, m represents an integer of 0 to 10, and B represents a phenylene group that may have a substituent or a substituent. Represents a naphthylene group.] The polymer used in the photosensitive composition of the present invention preferably has a copolymer type structure, and the structural units represented by the above general formulas [r1] to [VI], respectively. Monomer units that can be used in combination include, for example, ethylenically unsaturated olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoplone, such as styrene, α-methylstyrene,
Styrenes such as p-methylstyrene and p-chlorostyrene, acrylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid, unsaturated aliphatic dicarboxylic acids such as itaconic acid, maleic acid, and maleic anhydride, such as methyl acrylate, acrylic Ethyl acid, 〇-butyl acrylate, isobutyl acrylate, dodecyl acrylate, acrylic acid-2
- Esters of α-methylene aliphatic monocarboxylic acids such as chloroethyl, phenyl acrylate, methyl α-chloroacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, ethyl ethacrylate, etc., such as acrylonitrile, methacrylonitrile, etc. amide F such as acrylamide, e.g. acrylanilide, p-chloroacrylanilide, m-nitroacrylanilide, m
- Anilides such as methoxyacrylanilide, vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl benzoate, vinyl butyrate, vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, β-chloroethyl vinyl ether, chloride Vinyl, vinylidene chloride, vinylidene cyanide, such as 1-methyl-1-methoxychetyleyl, 1,1-dimethoxyethylene, 1,2-dimethoxyethylene, 1,1-dimethoxycarbonylethylene, 1
- Ethylene derivatives such as methyl-1-nitroethylene,
For example, N-vinylvirol, N-vinylcarbazole,
There are N-vinyl monomers such as N-vinylindole, N-vinylpyrrolidone, and N-vinylpyrrolidone. These vinyl monomers exist in polymer compounds with a structure in which unsaturated double bonds are cleaved.

上記の単量体のうち脂肪族モノカルボン酸のエステル類
、ニトリル類が本発明の目的に対して優れた性能を示し
、好ましい。
Among the above monomers, aliphatic monocarboxylic acid esters and nitriles exhibit excellent performance for the purpose of the present invention and are therefore preferred.

これらのアルカリ可溶性樹脂は、!、 、 500以上
の分子量を有するものが好ましく、更に好ましくは、2
.000以上の分子量を有するものがよい。
These alkali-soluble resins! , preferably has a molecular weight of 500 or more, more preferably 2
.. Those having a molecular weight of 000 or more are preferable.

これらのアルカリ可溶性樹脂は、本発明の感光性組成物
中に、感光性組成物の不揮発成分の50〜90重量%含
ませることが好まし・い。
These alkali-soluble resins are preferably contained in the photosensitive composition of the present invention in an amount of 50 to 90% by weight of the nonvolatile components of the photosensitive composition.

本発明に用いられるトリアジン化合物は、下記一般式[
11で表される化合物である。
The triazine compound used in the present invention has the following general formula [
This is a compound represented by 11.

一般式[I] 上記一般式[I]において、Aは芳香族性を有する同素
環基又はヘテロ環基を表す。これら基には、置換基を有
するものも含まれる。
General Formula [I] In the above general formula [I], A represents a homocyclic group or a heterocyclic group having aromaticity. These groups include those having substituents.

Aで表される芳香族性を有する同素環基又はヘテロ環基
は、単環あるいは2環のものであり、例えばフェニル基
、ナフチル基、オキサゾール基、ベンゾフリル基、ベン
ゾオキサゾール基、ベンゾイミダゾール基、キノリル基
が挙げられるが、合成収率、現像液への溶解性からする
と単環のフェニル基が好ましい。
The aromatic homocyclic group or heterocyclic group represented by A is monocyclic or bicyclic, such as phenyl group, naphthyl group, oxazole group, benzofuryl group, benzoxazole group, benzimidazole group. , quinolyl group, and from the viewpoint of synthesis yield and solubility in a developer, a monocyclic phenyl group is preferable.

これら縮合環が有してもよい置換基としては、電子供与
性基が好ましい。電子供与性基とは、ハメットのσ値が
負であるものをいい、例えばフェニル基、トリメチルシ
リケート基、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イ
ソプロピル基、nブチル基、t−ブチル基等のアルキル
基、メトキシ基、エトギシ基、n−プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、n−ブトキシ基、t−ブトキシ基等のア
ルコキシ基、フェノキシ基、アミノ基、置換アミノ基が
挙げられる。これら置換基の中で特に好ましいものはア
ルキル基、アルコキシ基である。
As the substituent that these condensed rings may have, an electron-donating group is preferable. The electron donating group refers to a group having a negative Hammett's σ value, such as phenyl group, trimethylsilicate group, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, t-butyl group, etc. Examples include alkyl groups, methoxy groups, ethoxy groups, n-propoxy groups, isopropoxy groups, n-butoxy groups, alkoxy groups such as t-butoxy groups, phenoxy groups, amino groups, and substituted amino groups. Particularly preferred among these substituents are alkyl groups and alkoxy groups.

Bはへテロ環基を表す。これらのへテロ環基は単環ある
いは2環のものであり、例えばフリル基、チエニル基、
オキサゾール基、チアゾール基、イミダゾール基、ピリ
ジル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、ベンゾオ
キサゾール基、ベンゾチアゾール基、ベンゾイミダゾー
ル基、ベンゾトリアゾール基、インドリル基、キノリル
基が挙げられる。これらの基はs−トリアジン環と2位
で結合するのが好ましい。
B represents a heterocyclic group. These heterocyclic groups are monocyclic or bicyclic, such as furyl group, thienyl group,
Examples include oxazole group, thiazole group, imidazole group, pyridyl group, benzofuryl group, benzothienyl group, benzoxazole group, benzothiazole group, benzimidazole group, benzotriazole group, indolyl group, and quinolyl group. These groups are preferably bonded to the s-triazine ring at the 2-position.

更に、m、n、Ωにおいて、m、nは共に0であること
が好ましい。Ωは0又は1であること力曵好ましいが、
Oであることが特に好まし0゜以下に、一般式[I]で
表されるI・リアジン化合物の具体例を示すが、本発明
はこれら化合物:こ限定されるものではない。
Furthermore, in m, n, and Ω, it is preferable that m and n are both 0. It is preferable that Ω is 0 or 1, but
It is particularly preferred that O is 0° or less. Specific examples of the I-riazine compound represented by the general formula [I] are shown below, but the present invention is not limited to these compounds.

】 8 これらトリアジン化合物の感光性組成物中に占める割合
は、感光性組成物の不揮発成分の0.1〜5重量%が好
ましく、特に好ましい使用量は、感光性組成物の不揮発
成分の0.5〜3重量%である。
8 The proportion of these triazine compounds in the photosensitive composition is preferably 0.1 to 5% by weight based on the nonvolatile components of the photosensitive composition, and the particularly preferable amount used is 0.1 to 5% by weight of the nonvolatile components of the photosensitive composition. It is 5 to 3% by weight.

次に、一般式[I]で表されるトリアジン化合物の光分
解生成物との相互作用によってその色調を変化させる色
素について説明する。
Next, a dye that changes its color tone through interaction with a photodecomposition product of a triazine compound represented by the general formula [I] will be described.

本発明における色素には染料とともに顔料も含まれ、無
機の顔料も用いることができるが、酸によって色調を変
化させる有機染料を用いることが好ましい。
The dyes in the present invention include pigments as well as dyes, and inorganic pigments can also be used, but it is preferable to use organic dyes whose color tone changes with acid.

用いられる有機染料としては、例えばジフェニルメタン
系、トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系
、キサンチン系、アントラキノン系、イミノナフトキノ
ン系、アゾメチン系のものを挙げることができる。
Examples of the organic dyes used include diphenylmethane, triphenylmethane, thiazine, oxazine, xanthine, anthraquinone, iminonaphthoquinone, and azomethine dyes.

これら有機染料としては、例えばアイゼンブリリアント
ベーシックシアニン6GH[採土ケ谷化学工業■製〕、
アストラニューフクシン、アリザリンレッドS1エオシ
ン、エチルバイオレット、エリスロシンB1オーラミン
、オイルグリーン#502〔オリエント化学工業■製〕
、オイルブルーレツト8308 Cオリエント化学工業
■製〕、オイルピンク#312 Cオリエント化学工業
■製〕、オイルブルー#603 (オリエント化学工業
蛙製〕、オイルレッド5B[オリエント化学工業銖製〕
、オイルレッドOG[オリエント化学工業■製〕、オイ
ルレッドRR[オリエント化学工業■製]、オレンジ■
、2−カルボキシアニリノ−4−p−ジエチルアミノフ
ェニルイミノナフトキノン、2−カルボステアリルアミ
ノ−4−pジヒドロキシエチルアミノフェニルイミノナ
フトキノン、キシレノールブルー、キナルジンレッド、
クリスタルバイオレット、クリスタルバイオレッ)Fl
、OBSm−クレゾールパープル、クレゾールレッド、
コンゴーレッド、シアノ−p−ジエチルアミノフェニル
イミノアセトアニリド、4−p−ジエチルアミノフェニ
ルイミノナフトキノン、2.7−ジクロロフルオレセイ
ン、ジフェニルチオカルバゾン、13−ジフェニルトリ
アジン、スピンレッドBEHスペシャル〔採土ケ谷化学
工業■製〕、スルホローダミンB1チモールスルホフタ
レイン、チモールフタレイン、チモールブルーナイルブ
ルー2B、ナイルブル−A、1−βナフチル−4−p−
ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、α−
ナフチルレッド、バラフタシン、バラメチルレッド、ビ
クトリアピュアブルーBOH,ファーストアシッドバイ
オレットR1フエナセタリン、1−フェニル−3−メチ
ル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5=ピラ
ゾロン、フェノールフタレイン、フェノールレッド、ツ
クシン、ブリリアントグリーン、ブロモクレゾールパー
プル、ブロモフェノールブルーペイシックツクシン、ベ
ンゾブルーリン4B1マゼンタ、マラカイトグリーン、
メタニルイエロ、メチルオレンジ、メチルグリーン、メ
チルバイオレッl−2B 、メチルバイオレh、p−メ
トキシベンゾイル−p′−ジエヂルアミノー〇′−メチ
ルフェニルイミノアセトアニリド、ローズベンガル、ロ
ーダミン6G、ローダミンBを具体的に挙げることがで
きる。
Examples of these organic dyes include Eisen Brilliant Basic Cyanine 6GH [manufactured by Odogaya Chemical Industry ■],
Astra New Fuchsin, Alizarin Red S1 Eosin, Ethyl Violet, Erythrosin B1 Auramine, Oil Green #502 [Manufactured by Orient Chemical Industry ■]
, Oil Blue Let 8308 C Orient Chemical Co., Ltd.), Oil Pink #312 C Orient Chemical Co., Ltd.
, Oil Red OG [manufactured by Orient Chemical Industry ■], Oil Red RR [manufactured by Orient Chemical Industry ■], Orange ■
, 2-carboxyanilino-4-p-diethylaminophenylimino naphthoquinone, 2-carbostearylamino-4-p dihydroxyethylaminophenylimino naphthoquinone, xylenol blue, quinaldine red,
Crystal Violet, Crystal Violet) Fl
, OBSm-Cresol Purple, Cresol Red,
Congo Red, cyano-p-diethylaminophenyliminoacetanilide, 4-p-diethylaminophenylimino naphthoquinone, 2,7-dichlorofluorescein, diphenylthiocarbazone, 13-diphenyltriazine, Spin Red BEH Special [manufactured by Odugaya Chemical Industry ■] , Sulforhodamine B1 Thymol Sulfophthalein, Thymol Phthalein, Thymol Blue Nile Blue 2B, Nile Blue-A, 1-β Naphthyl-4-p-
Diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, α-
Naphthyl red, valaftacin, rose methyl red, Victoria Pure Blue BOH, Fast Acid Violet R1 phenacetaline, 1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5=pyrazolone, phenolphthalein, phenol red, tsuksin, brilliant Green, Bromocresol Purple, Bromophenol Blue Pesic Tsushin, Benzobrulin 4B1 Magenta, Malachite Green,
Specific examples include methanyl yellow, methyl orange, methyl green, methyl violet l-2B, methyl violet h, p-methoxybenzoyl-p'-diedylamino-〇'-methylphenyliminoacetanilide, rose bengal, rhodamine 6G, and rhodamine B. I can do it.

これらの化合物の内でトリフェニルメチル系の化合物が
変色の大きさと保存安定性の点から好ましい。
Among these compounds, triphenylmethyl-based compounds are preferred from the viewpoint of the degree of discoloration and storage stability.

本発明において特に好ましく用いられる染料としては、
マラカイトグリーン(CI  A2000) 、メチル
バイオレト(CI  42535) 、メチルグリーン
(CI  42585) 、クリスタルバイオレツ1−
(C142555) 、ブリリアントグリーン(c I
4.2040)、エチルバイオレット(CI  428
00) 、フェノールフタ1ツイン、フェノールレッド
、ブロモフェノールブルー、チモールブルー、ブロモク
レゾールパープル、ビクトリアピュアブルーBOH(C
I4.2595)、アイゼンブリリアントベーシックシ
アニン6GH[採土ケ谷化学工業■製)  (CI  
42025)、アストラニューフクシン(CI  4.
2520)、マゼンタ(CI  42510) 、クリ
スタルバイオレットFIOB (BASF社製)  (
CI  42557) 、ツクシン(CI 42500
)を挙げることができる。
The dyes particularly preferably used in the present invention include:
Malachite Green (CI A2000), Methyl Violet (CI 42535), Methyl Green (CI 42585), Crystal Violet 1-
(C142555), brilliant green (c I
4.2040), ethyl violet (CI 428)
00), Phenolphta 1 Twin, Phenol Red, Bromophenol Blue, Thymol Blue, Bromocresol Purple, Victoria Pure Blue BOH (C
I4.2595), Eisen Brilliant Basic Cyanine 6GH [manufactured by Odugaya Chemical Industry ■] (CI
42025), Astraneufuchsin (CI 4.
2520), magenta (CI 42510), crystal violet FIOB (manufactured by BASF) (
CI 42557), Tsuksin (CI 42500)
) can be mentioned.

これら染料の感光性組成物中に占める割合は、感光性組
成物の不揮発成分の0.1〜10重量96が好ましく、
0.3〜5重量%であることが特に好ましい。
The proportion of these dyes in the photosensitive composition is preferably 0.1 to 10% by weight of the nonvolatile components of the photosensitive composition,
Particularly preferred is 0.3 to 5% by weight.

本発明の感光性組成物には、以上の説明した各素材のほ
か、必要に応じて他の添加剤を含むことができる。可塑
剤として各種低分子化合物類、例えばフタル酸エステル
類、トリフェニルホスフェート類、マレイン酸エステル
類、塗布性向上剤として界面活性剤、例えばフッ素系界
面活性剤、エチルセルロースポリアルキレンエーテル等
に代表されるノニオン活性剤等が挙げられる。
In addition to the materials described above, the photosensitive composition of the present invention can contain other additives as necessary. Plasticizers include various low-molecular compounds such as phthalate esters, triphenyl phosphates, maleate esters, and coating properties improvers include surfactants such as fluorine surfactants and ethyl cellulose polyalkylene ether. Examples include nonionic activators.

又、感度を向上させるための増感剤も本発明の感光性組
成物に添加することができる。増感剤としては、特開昭
57−118287号公報に記載されている没食子酸誘
導体、特開昭52−80022号公報に記載されている
ような5員環状酸無水物、例えば、無水フタル酸、テト
ラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無
水マレイン酸、無水コハク酸、ピロメット酸、イタコン
酸等、及び特開昭58−11932号公報に記憶されて
いるような6員環状酸無水物、例えば、無水グルタル酸
及びその誘導体等が挙げられる。これらのうち、好まし
いのは環状酸無水物であり、特に6員環状酸無水物が好
ましい。
Further, a sensitizer for improving sensitivity can also be added to the photosensitive composition of the present invention. As the sensitizer, gallic acid derivatives described in JP-A No. 57-118287, 5-membered cyclic acid anhydrides such as those described in JP-A-52-80022, such as phthalic anhydride; , tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, maleic anhydride, succinic anhydride, pyrometic acid, itaconic acid, etc., and 6-membered cyclic acid anhydrides as remembered in JP-A-58-11932, e.g. , glutaric anhydride and its derivatives. Among these, cyclic acid anhydrides are preferred, and 6-membered cyclic acid anhydrides are particularly preferred.

本発明の感光性組成物を、上記各成分を溶解する溶媒に
溶解させ、これを適当な支持体表面に塗布乾燥させるこ
とにより、ポジ型感光性平版印刷版を形成することがで
きる。使用し得る溶媒としては、メチルアルコール、エ
チルアルコール、イソプロピルアルコール、n−プロピ
ルアルコール、n−ブタノール、イソブタノール、t−
ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、1
ヘキサノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチル−〇−プロピルケトン、メチルイソプ
ロピルケトン、メチル−〇−ブチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等
のケトン類、エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリ
コールn−ブチルエーテル、エチレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールイソプロピ
ルエーテルアセテート等のエチレングリコール類、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールイソ
プロビルエーテル、ジエチレングリコールフェニルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート等のジエチレングリコ
ール類、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プ
ロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールイソプロビルユ、−チル等のプロピレングリコ
ール類、酢酸エチル、酢酸−〇−プロピル、酢酸イソプ
ロピル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類、その池水、乳
酸メチル、乳酸エチル、ジエチルエーテル、ジオキサン
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−
ブチロラクトン、3−メトキシ−1−ブタノール、3−
メチル−3−メトキシ−1−ブタノール、テトラヒドロ
フラン、塩化メチレン等が挙げられる。
A positive-working photosensitive lithographic printing plate can be formed by dissolving the photosensitive composition of the present invention in a solvent that dissolves each of the above-mentioned components, and applying and drying the solution on the surface of a suitable support. Solvents that can be used include methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, n-propyl alcohol, n-butanol, isobutanol, t-
Butanol, 1-pentanol, 2-pentanol, 1
Alcohols such as hexanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl 〇-propyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl 〇-butyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, ethylene glycol monomethyl ether,
Ethylene glycols such as ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol n-butyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol isopropyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol isopropyl ether, Diethylene glycols such as diethylene glycol phenyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycols such as propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol isoprobyl, -thyl, etc. , acetate esters such as ethyl acetate, -propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, pond water thereof, methyl lactate, ethyl lactate, diethyl ether, dioxane, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-
Butyrolactone, 3-methoxy-1-butanol, 3-
Examples include methyl-3-methoxy-1-butanol, tetrahydrofuran, methylene chloride, and the like.

本発明において、好ましい有機溶剤はジエチレングリコ
ール類又はプロピレングリコール類に属する化合物を主
成分とする溶剤である。これらは近年問題となっている
。エチレングリコール類をはじめとする化合物の毒性を
改善し、更に組成物の溶解性が良好な化合物として好ま
しく用いられる。
In the present invention, preferred organic solvents are solvents whose main component is a compound belonging to diethylene glycols or propylene glycols. These have become problems in recent years. It is preferably used as a compound that improves the toxicity of compounds such as ethylene glycols and also has good solubility in the composition.

塗布方法は、従来公知の方法、例えば、回転塗布、ワ・
rヤーバー塗布、デイツプ塗布、エアーナイフ塗布、ロ
ール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可能であ
る。
The coating method may be a conventionally known method such as spin coating or wax coating.
Yarbur coating, dip coating, air knife coating, roll coating, blade coating, curtain coating, etc. are possible.

本発明の感光性組成物を用いた感光層を設ける支持体と
しては、アルミニウム、亜鉛、銅、鋼等の金属板、及び
クロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム及び鉄等が
めっき又は蒸着された金属板、紙、プラスチックフィル
ム及び樹脂が塗布された紙、アルミニウム等の金属箔が
張られた紙、親水化処理したプラスチックフィルム等が
挙げられる。このうち好ましいのはアルミニウム板であ
る。支持体としてアルミニウム板を使用する場合、砂目
立て処理、陽極酸化処理及び必要に応じて封孔処理等の
表面処理が施されていることが好ましい。これらの処理
には公知の方法を適用することができる。
Examples of the support on which the photosensitive layer using the photosensitive composition of the present invention is provided include metal plates such as aluminum, zinc, copper, and steel, and metal plates plated or vapor-deposited with chromium, zinc, copper, nickel, aluminum, iron, and the like. Examples include metal plates, paper, plastic films, paper coated with resin, paper covered with metal foil such as aluminum, and plastic films treated to make them hydrophilic. Among these, aluminum plates are preferred. When an aluminum plate is used as a support, it is preferably subjected to surface treatments such as graining, anodizing, and, if necessary, sealing. Known methods can be applied to these treatments.

砂目立て処理の方法と17では、例えば、機械的方法、
電解によりエツチングする方法が挙げられる。機械的方
法としては、例えば、ボール研磨法、ブラシ研磨法、液
体ホーニングによる研磨法、パフ研磨法等が挙げらねる
。アルミニウム祠の組成等に応じて上述の各種方法を単
独あるいは組み合わせて用いることができる。好ましい
のは電解エツチングする方法である。
The graining method 17 includes, for example, a mechanical method,
An example is a method of etching by electrolysis. Examples of mechanical methods include ball polishing, brush polishing, liquid honing, and puff polishing. The various methods described above can be used alone or in combination depending on the composition of the aluminum ash. Preferred is electrolytic etching.

電解エツチングは、りん酸、硫酸、塩酸、硝酸等の無機
の酸を単独ないし2種以」二混合した浴で行われる。砂
目立て処理の後、必要に応じてアルカリあるいは酸の水
溶液によってデスマット処理を行い、中和して水洗する
Electrolytic etching is carried out in a bath containing one or a mixture of inorganic acids such as phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, and nitric acid. After the graining treatment, if necessary, desmut treatment is performed with an aqueous alkali or acid solution, neutralized, and washed with water.

陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、クロム酸、シュ
ウ酸、リン酸、マロン酸等を1種または2種以上含む溶
液を用い、アルミニウム板を陽極として電解して行なわ
れる。形成された陽極酸化皮膜量は1〜50II1g/
diが適当てあり、好ましくはIO〜□ 40mg /
 d rdである。陽極酸化皮膜量は、例えば、アルミ
ニウム板をリン酸クロム酸溶液(リン酸85%液:35
m1、酸化クロム(Vl):20gを1gの水に溶解し
て作製)に浸漬し、酸化皮膜を溶解]2、板の皮膜溶解
前後の重量変化測定等がら求められる。
The anodic oxidation treatment is performed by electrolyzing using an aluminum plate as an anode using a solution containing one or more of sulfuric acid, chromic acid, oxalic acid, phosphoric acid, malonic acid, etc. as an electrolytic solution. The amount of anodic oxide film formed is 1 to 50II1g/
DI is appropriate, preferably IO~□ 40mg/
d rd. The amount of anodized film can be determined by, for example, applying an aluminum plate to a phosphoric acid chromic acid solution (85% phosphoric acid solution: 35%
m1, chromium oxide (Vl): prepared by dissolving 20 g in 1 g of water) to dissolve the oxide film] 2. It is determined by measuring the weight change of the plate before and after the film is dissolved.

封孔処理は、熱水処理、水蒸気処理、ケイ酸ソダ処理、
重クロム酸塩水溶液処理等が具体例として挙げられる。
Sealing treatments include hot water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment,
Specific examples include dichromate aqueous solution treatment.

この他にアルミニウム板支持体に対して、水溶性高分子
化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液による
下引き処理を施すこともできる。
In addition, the aluminum plate support may be subjected to subbing treatment using an aqueous solution of a water-soluble polymer compound or a metal salt such as fluorinated zirconate.

その他、一般に感光性平版印刷版にフィルム原稿を密着
焼(=Iする際、焼枠を真空にして行なうが、この真空
密着性を改良する方法も本発明の感光性組成物を用いた
ポジ型感光性平版印刷版に適用することができる。真空
密着性を改良する方法としては、感光層表面に機械的に
凹凸を施す方法、感光層表面に固体粉末を散布させる方
法、特開昭50−125805号公報に記載されている
ような感光層表面にマット層を設ける方法、及び特開昭
55−] 2974号公報に記載されているような感光
層表面に固体粉末を熱融性させる方法等が挙げられる。
In addition, in general, when contact printing (=I) a film original onto a photosensitive lithographic printing plate, the printing frame is vacuumed, but a method for improving this vacuum adhesion is also a positive printing method using the photosensitive composition of the present invention. It can be applied to photosensitive lithographic printing plates.Methods for improving vacuum adhesion include a method of mechanically making unevenness on the surface of the photosensitive layer, a method of scattering solid powder on the surface of the photosensitive layer, and a method of spreading solid powder on the surface of the photosensitive layer. A method of providing a matte layer on the surface of a photosensitive layer as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 125805, a method of making a solid powder heat-fusible on the surface of a photosensitive layer as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1974-2974, etc. can be mentioned.

本発明の感光性組成物を適用したポジ型感光性平版印刷
版は、従来慣用のものと同じ方法で使用することができ
る。例えば、透明陽画フィルムを通して超高圧水銀灯、
メタルハライドランプ、キセノンランプ、タングステン
ランプ等の光源により露光し、次いで、アルカリ現像液
にて現像され、未露光部分のみが支持体表面に残り、ポ
ジーポジ型のレリーフ像ができる。
A positive-working photosensitive lithographic printing plate to which the photosensitive composition of the present invention is applied can be used in the same manner as those conventionally used. For example, an ultra-high pressure mercury lamp is passed through a transparent film,
It is exposed to light using a light source such as a metal halide lamp, a xenon lamp, or a tungsten lamp, and then developed with an alkaline developer, leaving only the unexposed portions on the surface of the support, creating a positive relief image.

アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸プ用・リウム、炭酸カリウム、メ
タケイ酸すI・リウム、メタケイ酸カリウム、第ニリン
酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属
塩の水溶液が挙げられる。
Examples of alkaline developers include sodium hydroxide,
Examples include aqueous solutions of alkali metal salts such as potassium hydroxide, lithium carbonate, potassium carbonate, lithium metasilicate, potassium metasilicate, sodium diphosphate, and sodium tertiary phosphate.

アルカリ金属塩の濃度は0.1〜10重量%が好ましい
。又、該現像液中に必要に応じアニオン性界面活性剤、
両性界面活性剤やアルコール等の有機溶媒を加えること
ができる。
The concentration of the alkali metal salt is preferably 0.1 to 10% by weight. In addition, an anionic surfactant, if necessary, is added to the developer.
Amphoteric surfactants and organic solvents such as alcohols can be added.

〔実施例] 以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。
[Examples] The present invention will be explained below using Examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例] (感光性平版印刷版試料の作成) 厚さ0.24龍のアルミニウム板を5重量%の水酸化す
l・リウム水溶液中で60℃で1分間脱脂処理を行った
後、1gの0.5mol塩酸水溶液中において温度25
℃、電流密度60A/dm2、処理時間30秒の条件で
電解エツチング処理を行った。次いで5重量%水酸化ナ
トリウム水溶液中で60℃、10秒間のデスマット処理
を施した後、20重量%硫酸溶液中で温度20℃、電流
密度3 A、 / d rrF、処理時間1分間の条件
で陽極酸化処理を行った。更に30℃の熱水で20秒間
、熱水封孔処理を行い、平版印刷版材料2 つ 用支持体として使用するアルミニウム板を作製[。
Example] (Preparation of photosensitive lithographic printing plate sample) An aluminum plate with a thickness of 0.24 mm was degreased in a 5% by weight aqueous solution of sulfur and lithium hydroxide at 60°C for 1 minute, and then 1 g of In a 0.5 mol hydrochloric acid aqueous solution at a temperature of 25
The electrolytic etching process was carried out under the conditions of temperature, current density of 60 A/dm2, and processing time of 30 seconds. Then, it was desmutted in a 5% by weight aqueous sodium hydroxide solution at 60°C for 10 seconds, and then desmutted in a 20% by weight sulfuric acid solution at a temperature of 20°C, a current density of 3 A, /drrF, and a treatment time of 1 minute. Anodic oxidation treatment was performed. Furthermore, a hot water sealing treatment was performed with hot water at 30°C for 20 seconds to prepare an aluminum plate to be used as a support for the two lithographic printing plate materials.

た。Ta.

上記のように作成したアルミニウム板に下記組成の感光
性組成物塗布液を回転塗布機を用いて塗布し、90℃で
4分間乾燥し、ポジ型感光性平版印刷版試料No、 1
を得た。感光性組成物の塗布量は24Il1g/dイで
あった。
A photosensitive composition coating solution having the following composition was applied to the aluminum plate prepared as above using a spin coater, and dried at 90°C for 4 minutes to obtain positive photosensitive lithographic printing plate sample No. 1.
I got it. The coating amount of the photosensitive composition was 24Il1g/d.

(塗布液組成) バインダー樹脂(BD−1)      7.0gキノ
ンジアジド化合物(感光体) (QI)−1)             1..6g
l・リアジン化合物(No、 ]、 )       
[1,06gビクI・リアピュアブルーBOH (採土ケ谷化学■製)         0.08gメ
チルセロソルブ          100m1」1記
感光性組成物の塗布液組成において、表1に示すように
、バインダー樹脂、キノンジアジド化合物およびトリア
ジン化合物を変え、感光性平版印刷版試料No、 2〜
10を得た。
(Coating liquid composition) Binder resin (BD-1) 7.0g quinonediazide compound (photoreceptor) (QI)-1) 1. .. 6g
l-Ryazine compound (No, ], )
[1,06g Biku I Reapure Blue BOH (manufactured by Odougaya Chemical) 0.08g methyl cellosolve 100ml] In the coating liquid composition of the photosensitive composition described in 1, as shown in Table 1, binder resin, quinonediazide compound and By changing the triazine compound, photosensitive lithographic printing plate sample No. 2~
Got 10.

このようにして得られた感光性平版印刷版試料N011
〜10上に、感度測定用ステップタブレット(イースト
マンコダック社製No、2m度差0.5ずつで21段階
のグレースケール)を密着して、2に、wメタルハライ
ドランプ(岩崎電気社製アイドルフィン2000)を光
源として90cmの距離から露光した。次にこの試料を
コニカ■製5DR−1−現像液を水で6倍に希釈1.た
現像液で27℃にて20秒間現像した。感度を」二記ス
テップタブレットのクリア段数で評価した。
Photosensitive lithographic printing plate sample No. 011 thus obtained
~ 10, a step tablet for sensitivity measurement (No. manufactured by Eastman Kodak, 21 levels of gray scale with a 2m degree difference of 0.5) is closely attached to the top, and a w metal halide lamp (idle fin manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd. 2000) was used as a light source and exposed from a distance of 90 cm. Next, this sample was diluted 6 times with water using Konica ■'s 5DR-1 developer. The film was developed for 20 seconds at 27° C. using a developer solution. Sensitivity was evaluated by the number of steps cleared on a two-step tablet.

次に、アンダー現像性を評価するために、アルカリ濃度
が更に希釈された現像液、すなわぢ現像能力の低下した
現像液に相当する現像液に対する現像性を評価した。上
記現像性は5DR−1現像液の希釈率を9.10.11
倍と変化させ、各々27℃にて20秒間現像して得られ
た平版印刷版試料に・ついて、印刷テストを行ないシャ
ド一部の網点のカラミ程度を目視て評価した。
Next, in order to evaluate under-developability, the developability was evaluated using a developer whose alkaline concentration was further diluted, that is, a developer whose developing ability was reduced. The above developability is determined by diluting the 5DR-1 developer at a dilution rate of 9.10.11.
A printing test was conducted on the lithographic printing plate samples obtained by developing each sample at 27° C. for 20 seconds, and visually evaluating the degree of coloration of halftone dots in a portion of the shadow.

また、露光可視画性を検討するために、前記条件で露光
した現像前の試料の露光部と未露光部の濃度差を濃度計
(サクラデンシ!・メータPDA65 コニカ■製)を
用いて測定した。その濃度差ΔDが大きいはと露光可視
画性が良いことを意味する。また、製品の保存性を検討
するために、40℃、80%RHの条件下に5日間放置
した試¥41〜10についても前記と同様に露光可視画
性を3・P価し、前記保存前の試料のΔDと比較した。
In addition, in order to examine the visible image quality after exposure, the difference in density between the exposed and unexposed areas of the sample before development, which had been exposed under the above conditions, was measured using a densitometer (Sakuradenshi! Meter PDA65 manufactured by Konica ■). A large density difference ΔD means that the exposed visible image quality is good. In addition, in order to examine the storage stability of the product, the exposure visible image properties of samples ¥41 to 10 that were left for 5 days at 40°C and 80% RH were evaluated in the same manner as above, and the storage stability was evaluated as 3. Comparison was made with the ΔD of the previous sample.

結果を表1に示す。The results are shown in Table 1.

以下余白 *1; 1゜ ナフトキノンジアジド−4 スルホニルクロライド ト リアジン化合物 (0,08g ) No、 1 No、2 NO13 NO14 キノンジアジド化合物 (感光体) D−3 D ] D−4 Q、を反応させる前の樹脂のMw−1500x:y−2 コ Qlを反応させる前の樹脂のMw −900D−2 D−5 Q2を反応させる前の樹脂のMw=1.500バインダ
ー樹脂 BI)−1 フェノール、+71−クレゾール及びp−クレゾール(
モル比48 : 32 : 20)とホルムアルデヒド
との共重合樹脂D−2 表1の結果から、本発明の感光性組成物を用いた試料N
o、 1〜7は、比較の試料No、 8〜]0に比し、
感度、アンダー現像性、露光可視画性、保存後の露光可
視画性が共に優れていることがわかる。
Below margin *1; 1゜Naphthoquinonediazide-4 Sulfonyl chloride triazine compound (0.08g) No, 1 No, 2 NO13 NO14 Quinonediazide compound (photoreceptor) D-3 D ] D-4 Resin before Q is reacted Mw of the resin before reacting with Q-1500x:y-2 Mw of the resin before reacting with Ql -900D-2 D-5 Mw of the resin before reacting with Q2 = 1.500 Binder resin BI)-1 Phenol, +71-cresol and p-cresol (
Copolymer resin D-2 of formaldehyde and molar ratio 48:32:20) From the results in Table 1, sample N using the photosensitive composition of the present invention
o, 1 to 7 are compared to comparative sample No. 8 to ]0,
It can be seen that the sensitivity, under-developability, exposed visible image quality, and exposed exposed visible image quality after storage are all excellent.

[発明の効果] 本発明によれば、現像許容性が大きく、露光可視画性か
優れ、かつ、保存後においても露光可視画性が低下しな
い感光性組成物を提供することができる。
[Effects of the Invention] According to the present invention, it is possible to provide a photosensitive composition that has high development tolerance, excellent exposed visible image properties, and does not deteriorate in exposed visible image properties even after storage.

(k、 :f) : m : n −2520・50:
2 Mw−80000) 以下余白
(k, :f) : m : n -2520・50:
2 Mw-80000) Below margin

Claims (1)

【特許請求の範囲】 少なくとも(a)下記一般式[ I ]で表されるトリア
ジン化合物及び(b)上記一般式[ I ]で表されるト
リアジン化合物の光分解生成物との相互作用によってそ
の色調を変化させる色素を含有することを特徴とする感
光性組成物。 一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Aは芳香族性を有する同素環基又はヘテロ環基
を表し、Bは2価のヘテロ環基を表す。 m、nは0〜2の整数を表す。]
[Scope of Claims] At least (a) the triazine compound represented by the following general formula [I] and (b) the color tone obtained by interaction with the photodecomposition product of the triazine compound represented by the above general formula [I] A photosensitive composition characterized by containing a dye that changes the color of the photosensitive composition. General formula [I] ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available▼ [In the formula, A represents a homocyclic group or a heterocyclic group having aromaticity, and B represents a divalent heterocyclic group. m and n represent integers of 0 to 2. ]
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6221989B1 (en) * 1998-05-14 2001-04-24 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Polymers and positive resist compositions

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