JPH0461866B2 - - Google Patents

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JPH0461866B2
JPH0461866B2 JP6929584A JP6929584A JPH0461866B2 JP H0461866 B2 JPH0461866 B2 JP H0461866B2 JP 6929584 A JP6929584 A JP 6929584A JP 6929584 A JP6929584 A JP 6929584A JP H0461866 B2 JPH0461866 B2 JP H0461866B2
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JP
Japan
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olefin
thiols
zeolite
olefins
temperature
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Expired
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JP6929584A
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JPS59196862A (ja
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Eriotsuto Furiido Haabaato
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Shell Internationale Research Maatschappij BV
Original Assignee
Shell Internationale Research Maatschappij BV
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS59196862A publication Critical patent/JPS59196862A/ja
Publication of JPH0461866B2 publication Critical patent/JPH0461866B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C321/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は硫化水素と線状モノオレフインの反応
によるC10ないしC22第2級チオールの製造に関す
る。 C10ないしC22の範囲のチオールは既知化合物で
ある。第2級チオールは付臭剤、潤滑剤配合物の
成分、およびエポキシ樹脂硬化剤としての用途に
おいて有用性を有するが、更に表面活性剤の合成
における中間体として使用した場合に特に有利で
ある。 チオール(メルカプタン)が、硫化水素をオレ
フインに、特に触媒殊に酸触媒の存在下で付加す
ることからなる方法で製造されうることは知られ
ている。更にこの方法が殆んど排他的に第3級チ
オールの製造に適用されてきたことが認められ
る。H2Sの“第3級”オレフイン、通常プロピレ
ンまたはブチレン3量体または4量体のようなオ
レフインポリマーへのマルコウニコフ付加は殆ん
ど定量的選択率で第3級チオールを生ずる。 高級オレフインから同様な仕方で第2級チオー
ルを製造することは実際的成功を納めていない。
一つは、従来のH2S付加法による線状オレフイン
からの第2級チオールの製造は相当な量のジアル
キルスルフイド副生物の生成を伴なう。チオール
はH2S1分子とオレフイン1分子の付加生成物で
ある。ジアルキルスルフイドは一旦生成したチオ
ールがもう1分子のオレフインと反応した時に生
成する。H2Sと高級オレフインから第2級チオー
ルを製造する既知方法においては、ジアルキルス
ルフイドは第2級チオールを基準に計算して約50
ないし100重量%の量で生成する。(主として立体
的理由から、枝分れオレフインからの第3級チオ
ールの製造においてはジアルキルスルフイドの生
成は重大な問題ではない。)もう一つには、H2S
のオレフインへの付加を促進するために適用され
る触媒および反応条件は、オレフインの二重結合
異性化および/または分子構造の転位をも促進す
る。結果として、H2S付加により第2級チオール
に転化すると期待されてよいオレフインが、代り
に第3級チオールに転化される。 第2級チオール、特に線状炭素鎖構造の第2級
チオールの製造は、該チオールが表面活性剤の合
成における中間体として使用するに適する場合に
は、極めて重要である。C10ないしC30の範囲のチ
オールから誘導されうる表面活性剤の中には、例
えばチオールの酸化により製造される陰イオン性
パラフインスルホネート(一般式R−SO3 -M+
分子。式中RはC10ないしC30アルキル、Mはナト
リウムのような陽イオンである。)がある。第2
級アルコールは〔一般式R−S―(R′−O)―XH(式
中RはやはりC10ないしC30アルキル、R′はC2
C3またはC4アルキル、そしてxは約1ないし30
の整数である)の〕の非イオン性チオールアルコ
キシレートの製造に特に有用であり、これはチオ
ールとC2ないしC4アルキレンオキシドを昇温
(例えば140℃)昇圧(例えば7バール)下に酸性
触媒(ルイス酸)または塩基性触媒(アルカリま
たはアルカリ土類金属)の存在下に接触させるこ
とにより製造しうる。 表面活性剤の洗剤用途における使用の明らかな
重要性の一因子はそれらの汚れ除去能力である。
第2級チオールから製造された表面活性剤は広範
な洗剤用途において優れた洗浄性を有することが
見出されている。表面活性剤利用におけるもう一
つの重要な因子は環境問題に関する。産業および
家庭の両方におけるそれらの一般的用途の多くに
おいて、表面活性剤は廃水流中に出て行く。そう
すると表面活性剤分子の生物分解が重要な関心事
となる。第3級チオールから誘導される枝分れ炭
素鎖表面活性剤は、第2級チオールから誘導され
る線状炭素鎖の表面活性剤よりも非常に生物分解
され難く、従つて洗剤および他の通常の表面活性
剤用途への広汎な使用にはあまり受容しえない。
この理由から、第2級チオールの選択的製造のた
めの改善された方法が特に望まれるであろう。 特に本発明の方法で使用される触媒に関して、
米国特許第4102931号明細書は第3級チオール製
造のためのH2Sの枝分れ非対称オレフインへの付
加を触媒させるのにゼオライトを使用することを
記載している。線状オレフインはこの従来技術法
に有用であると開示されている出発物質から除外
されており、そしてこの特許はプロセスの選択性
のいかなる面へのいかなる有利な影響をもゼオラ
イトに帰していない。 ここに、或ゼオライト触媒の存在下にH2Sを
C10ないしC22線状モノオレフインに付加すること
により第2級チオールが高い選択率で製造される
ことが見出された。 従つて本発明は、液相中で50°ないし120℃の範
囲の温度および10ないし100バールの圧力で、1
種またはそれより多いC10ないしC22線状モノオレ
フインと硫化水素を、該硫化水素対該オレフイン
のモル比少なくとも3対1で、触媒的に有効な量
の、脱陽イオンされたまたは希土類金属イオン交
換されたゼオライトの存在下に接触させることを
特徴とする、C10ないしC22第2級チオールの製造
方法に関する。 特に重要なことに、この方法は第2級チオール
の高い選択率での製造をもたらす。高炭素数範囲
の第2級チオールの従来技術の製造法のすべてに
特徴的な、オレフイン出発物質のジアルキルスル
フイドおよび/または第3級チオール副生成物へ
の望ましくない転化の問題は本質的に除去され
た。 本発明の方法は、炭素数範囲10ないし22の第2
級チオールの製造への限られた適用に意図され、
しかして炭素数範囲10ないし16のオレフイン反応
体がより好ましく、そして炭素数範囲10ないし14
のオレフインが最も好ましいと考えられる。本発
明は更に線状(直鎖)構造のオレフインからの第
2級チオールの製造に意図される。枝分れまたは
環状オレフインの同様な処理は相当な量の第2級
チオール以外の物質が生成する結果となる。 入手し易さの実際的理由からオレフイン反応体
として使用するに好ましいのは、C10ないしC22
範囲の商業的オレフイン生成物である。そのよう
なオレフインの一例は、パラフインワツクスのク
ラツキングにより製造されるChevron Alpha
Olefin製品シリーズ(Chevron Chemical Co.の
商標で同社から販売されている)のである。商業
的生産は、当該技術でよく知られている手順を用
いてエチレンをオリゴマー化することによりもつ
と普通に達成される。生ずるオリゴマー化生成物
は実質的に線状構造であり、斯して製品は実質的
に線状構造のものであり、斯して第3級チオール
の製造に通常使用される高度に枝分れしたプロピ
レンおよびブチレンオリゴマー(またはポリマ
ー)と容易に区別しうる。エチレンのオリゴマー
化により製造される商業的オレフイン生成物は米
国においてGulf Oil Chemicals Companyによ
りGulfeneの商標で、Shell Chemical Company
によりNeodeneの商標で、およびEthyl
CorporationによりEtnyl Alpha−Olefinsとして
市場に出されている。このようなオレフイン製品
の多くは大部分がアルフアオレフインからなる
が、高級線状内部オレフインも例えばパラフイン
の塩素化−脱塩化水素により、パラフインの脱水
素により、およびアルフアオレフインの異性化に
より商業的に生産されている。大きな割合の内部
オレフインを含有するオレフイン出発物質は、反
応速度および第2級チオールへの選択率の両方の
観点から、本発明の方法における出発物質として
特に好ましい。C10ないしC22の範囲の線状内部オ
レフイン製品はShell Chemical Companyおよび
Liquichemica Companyにより市場に出されて
いる。これらの商業的生成物は、主として内部オ
レフインであろうとアルフアオレフインであろう
と、典型的には約70重量%(%w)またはそれよ
り多くの、最もしばしば約80%wまたはそれより
多くの、特定の炭素数範囲(例えばC10ないし
C12、C11ないしC15、C12ないしC13、C15ないし
C18等)の線状モノオレフインを含有し、生成物
の残余は他の炭素数または炭素構造のオレフイ
ン、ジオレフイン、パラフイン、芳香族および合
成プロセスから生ずる他の不純物である。特定さ
れた炭素数範囲の線状モノオレフインから本質的
になる(即ち少なくとも約90%w含有する)商業
的オレフインは、本発明の方法における反応体と
して使用するに最も好ましいと考えられる。 H2S反応体は任意の都合のよい源から適宜得ら
れる。それは比較的純粋な形であるのが好ましい
が、H2S反応体および反応系全体が本質的に水を
含まないことが特に重要であり、水の存在は触媒
活性の損失を生ずることが見出されている。ルイ
ス塩基および有機過酸化物も反応系から除去すべ
きである。 本発明の目的のために、オレフインおよびH2S
反応体を触媒的に有効な量の1またはそれより多
い或ゼオライトの存在下に接触させる。該用語が
当該技術において理解されているように、そして
ここでそれが使用されているように、ゼオライト
は化学的組成および物理的構造の両方に関してよ
く定義される結晶性アルミノ珪酸塩の一族であ
る。化学的にはゼオライトは式 Mx/n〔(AlO2x・(SiO2y〕mH2O (式中Mはn価の陽イオンである) で表わすことができる。構造的にはAlO4とSiO4
基は小さなチヤンネルまたは細孔により相互連絡
する結晶内キヤビテイを形成する3次元網状構造
中で共有酸素原子により結合されている。陽イオ
ンおよび水分子はキヤビテイ内のアルミノ珪酸塩
骨組構造に結合する。種々のゼオライトは主とし
てAlとSiの割合、陽イオンの種類、3次元アル
ミナおよびシリカ網状構造の配置および結晶細孔
およびキヤビテイの個々の寸法および形状によつ
て相互に異なる。 一方は構造に関し、そして他方は組成に関する
ゼオライトの2つの面は、本発明の方法における
触媒としてのそれらの好結果の適用に重要である
ことが見出された。構造に関しては、適当なゼオ
ライトの細孔開口は必然的に少なくとも0.4nmの
直径を有し、そして好ましくは0.9nmより大きく
ない直径のものである。特に好ましいのは0.5nm
ないし0.9nmの細孔開口を有するゼオライトであ
り、0.5nmないし0.85nmの範囲の細孔直径のゼ
オライトが最適であると考えられる。X型および
Y型ゼオライトおよびZSMシリーズのゼオライ
トはこの最も好ましい範囲の細孔開口を有する合
成ゼオライトの特定例である。やはり本発明にお
ける使用に適当なのは、例えばモルデン沸石のよ
うな、特定された細孔開口を有する天然(または
鉱物)ゼオライトである。組成に関しては、ゼオ
ライトは必然的に、比較的高い酸度のものであ
り、これはアルミナおよびシリカ網状構造中に存
在する陽イオンの性質に関する要件である。合成
ゼオライトが通常その形で見出されまたは製造さ
れる1価アルカリ金属陽イオン(例えばNa+また
はK+)形は、必要な酸度を有しない。しかし、
当該技術でよく知られている手順でアルカリ金属
を或他の陽イオンで置換える交換を行なつてそれ
によりゼオライトに酸度および本発明により適用
された時のチオール製造への所望の高選択率を付
与することができる。本発明の目的に特に適する
のは脱陽イオンされた、またはプロトン化された
ゼオライト、および希土類金属(原子番号21、39
および57ないし71の元素)からなる群から選ばれ
た1種またはそれより多い陽イオンを有するゼオ
ライトである。陽イオン交換は単にゼオライトを
昇温下(例えば100℃)で所望の置換陽イオンを
含有する一連の水溶液と接触させることにより達
成しうる。脱陽イオンされたゼオライトはアンモ
ニウムイオンでの交換と続く約550℃の温度への
加熱により製造しうる。陽イオン交換処理は典型
的にはゼオライト陽イオンの約70ないし95%の置
換を生ずる。 本発明における使用に好ましい特定の合成ゼオ
ライトの例としては、Union Carbide
Corporationにより市場に出されている商業的生
成物、特にLinde LZ−Y62、LZ−Y72およびLZ
−Y82として知られる脱陽イオンYゼオライト、
および希土類含浸YゼオライトLinde SK−500
を述べることができる。他の例はMobil
Corporationにより製造されているZSMゼオライ
ト(例えばZSM−4、ZSM−5、ZSM−11、
ZSM12およびZSM−38)でありそれらの製造お
よび性質は例えば米国特許第3702886および
4046859号明細書により説明されている。好まし
い天然または鉱物ゼオライトの例は陽イオン交換
されたまたは脱陽イオンされたモルデン沸石、フ
エリエライト、グメリン沸石、カンクリン石、輝
沸石およびダチアルダイトを含む。モルデン沸石
が特に好ましい。 使用前に触媒を例えば約250°ないし750℃の温
度に数時間加熱することにより〓焼して吸着水を
除去するのが好ましい。約500℃の温度が特に有
用であることが見出された。〓焼は新たに得られ
たゼオライトには必要でないかもしれないが、触
媒が空気または水に暴露された場合には実施すべ
きである。 本発明に従う実施のためには、H2Sとオレフイ
ンを液相で固体触媒と、必然的に限定された温
度、圧力、および触媒と反応体の相対的割合の条
件下で接触される。 オレフインとH2Sの接触は液相で行なわれる。
第2級チオールへの高い選択率を達成する目的の
ためには、この液相がH2Sとオレフインを少なく
とも1対1のモル比で含有することが重要であ
る。温度および圧力に依つては反応域はH2Sに富
む蒸気相を含んでもよいが、オレフインに対して
必要なモル比の計算には液相中に存在するH2Sの
みが含まれる。第2級チオールへの高い選択率は
一般にH2Sとオレフインのモル比の1対1より上
への増大で実現される。この理由で、液相中の
H2Sとオレフインのモル比少なくとも2対1が好
ましく、少なくとも3対1のモル比が更に好まし
く、そして少なくとも5対1のモル比、特に少な
くとも10対1が最も好ましいと考えられる。 本方法は限られた温度範囲内のみで実施するの
が適当である。適当なプロセス温度はオレフイン
反応体の個々の性質に或程度依存する。実質的に
内部オレフインからなる反応体の場合には、50°
ないし120℃特に60°ないし100℃の範囲の温度が
好ましい。実質的にアルフアオレフインからなる
反応体では、プロセスは同じ50°ないし120℃の範
囲で行なうことができるが、この場合所望の選択
率はやや高いH2S対オレフインの比、即ち3対1
より大きいモル比特に5対1により大きいモル比
のみで実現される。50°ないし100℃の温度でのア
ルフアオレフインの処理、特に60°ないし85℃の
温度が好ましい。各場合に、H2S付加反応は40℃
より低い温度では感知しうる速度で進行せず、一
方140℃より高い温度ではプロセスは望ましいプ
ロセス圧力では第2級チオールへの所望の高選択
率を実現しない。 本発明は必然的に加圧下で好ましくは17バール
より大きい圧力で実施される。尤も、比較的低い
プロセス温度では若干低い圧力(少なくとも10バ
ール)も適当でありうる。このようなプロセス圧
力の限定への留意は本発明の好結果の実施に重要
である。与えられた温度で圧力を増加させること
は、液相中の高いH2S対オレフインのモル比を維
持する機会を提供するので、第2級チオールの選
択的製造に有益である。プロセスの選択率および
処理の便宜の両方の観点から特に好ましいと考え
られるのは、少なくとも25バール、特に40ないし
100バールの圧力である。プロセス圧力の上限に
関し述べた好ましい値は、プロセス性能よりもむ
しろ実際的装置設計の面に関し、そして所望なら
それよりかなり高い圧力を適用することができ
る。 オレフインとH2Sはチオールへの所望の転化を
促進するために有効な量の触媒の存在下に接触さ
せる。定量的に云えば、そして例えばバツチ法お
よび粉末触媒を使用すると、触媒的に有効な量の
ゼオライトは通常、オレフイン反応体の重量を基
準に計算して3重量%(%w)を超える。それよ
り多い量の触媒、例えば6%wより多い量が、高
い反応速度および第2級チオールへの選択率の観
点から通常好ましく、更に多い量例えば10%wよ
り多い量、特に20%wより多い量がもつと好まし
い。一般に、触媒がペレツトまたは押出物の形で
適用されるなら、粉末の形よりも多い量で必要で
あろう。 本発明の実施に適用しうる手順の特定例とし
て、適当な相対的割合の液体H2Sおよび液体オレ
フインを低温で連続的に混合し、所望のプロセス
温度に加熱し、そして1またはそれより多い触媒
含有床に通す。該方法はバツチ式操作、例えば液
体H2Sとオレフインの混合物を、適当な量の触媒
を含有しそして所望のプロセス温度に維持された
反応域に撹拌しつつ添加する操作にも同様に適用
できる。温度および圧力および反応体および触媒
の相対的割合の好ましい条件下で、チオールへの
オレフインの本質的に完全な転化が典型的には2
ないし15時間、しばしば3ないし7時間で達成さ
れる。 チオール生成物は一般的に慣用の方法によりプ
ロセス生成物混合物から適当に回収される。例え
ばH2S反応体は液体チオールから大気圧近くでお
よび約125℃の温度で有効にフラツシユ蒸発され
る。窒素のような不活性ガスでのストリツピング
はH2S除去を促進する。残つた液体を減圧蒸留し
てチオール生成物を典型的にはより高沸点の副生
成物化合物、特にジアルキルスルフイドから分離
することができる。 本発明の方法の生成物は式 (式中、R1およびR2は各々アルキルである) の第2級チオールである。R1とR2はSH部分が付
いている炭素原子と共に10ないし22個の炭素原子
の線状鎖を形成する。この鎖に沿つたSH置換の
位置はオレフイン出発物質中の二重結合の位置に
或程度依存する。しかし、本発明の実施中に、二
重結合の位置に関するオレフインの異性化がH2S
付加の速度とほぼ等しい速度で起り、SH置換の
位置が大幅にランダムな生成物と生ずることが観
察されている。そのような二重結合異性化は、第
3級チオールよりも第2級の選択的製造を確実に
するために、線状オレフイン反応体の使用を必要
にする。更に、本発明の方法における線状オレフ
インの使用は本質的に第2級チオールのみの製造
をもたらすに充分であることが見出されている。
出発物質は二重結合異性化をこうむるが、第2級
チオールよりも第3級を生ずるであろう第3級オ
レフインを形成するような炭素構造の転位を有意
な程度にこうむることは見出されていない。 本発明の方法の或好ましい態様下での実施を表
わす以下の実施例により本発明を更に説明する。 例 1−13 本発明の方法の一連の実施例をバツチ式で行な
つた。各実験につき、計量された量のオレフイン
出発物質および希土類含浸Yゼオライト(Linde
SK−500)をオートクレープ反応器中に導入し
た。炭素数および二重結合位置の異なる数種のオ
レフイン反応体を使用した。触媒は押出物の形
で、そして10.7%wの混合希土類酸化物を含有し
た。水または空気への暴露により惹起される活性
の変動を除くために、触媒を使用前に〓焼した
(即ち、500℃の温度で約12時間)。オレフインお
よび触媒の装入の際もオートクレーブおよびその
内容物を本質的に酸素および水が無いままに保つ
ように用心した。触媒およびオレフインの導入に
次いで、オートクレーブを密封し、不活性ガスで
パージし、次に−70℃に冷却した。液体の形の
H2S反応体をこの温度で添加した。オートクレー
ブ中の全H2Sのオートクレーブ中の全オレフイン
に対するモル比少なくとも3.3を与えるに充分な
H2Sを添加した。各場合にオートクレーブ中の液
相中のH2Sのオレフインに対するモル比は1より
大きいと計算された。次にオートクレーブを所望
のプロセス温度に加熱し、そしてオートクレーブ
圧力(最大プロセス圧力)を測定した。(各場合
にこの圧力は約25ないし60バールの範囲であつ
た。)反応器の制御された冷却により本質的に一
定の温度を所望の時間維持した。過剰のH2S反応
体をフラツシングまたはストリツピング除去後、
得られた液体反応混合物の分析を行なつた。オレ
フイン出発物質の転化率を気液クロマトグラフイ
により測定した。第2級チオールへの選択率は気
液クロマトグラフイかまたは硝酸銀滴定により測
定した。ジアルキルスルフイド副生成物はHPLC
分析により測定した。例1−13の結果を表に示
す。
【表】
【表】
【表】 例 14 本発明に従う連続法を、C11/C12内部オレフイ
ンと液体H2Sの混合物を約60℃の温度および約40
バールの圧力で、脱陽イオンされたYゼオライト
(Linde LZ−Y82)含有床に通すことにより実施
した。H2Sとオレフインのモル比は該床に入る供
給原料(すべて液相)中で約20対1であつた。反
応体の流速は、オレフインを基準に計算して約
1.0の液毎時空間速度を与えるように制御した。
これらの条件下で、オレフインの転化は本質的に
完全であり、第2級チオールへの選択率は98%で
あつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 液相中で50°ないし120℃の範囲の温度および
    10ないし100バールの圧力で、1種またはそれよ
    り多いC10ないしC22線状モノオレフインと硫化水
    素を、該硫化水素対該オレフインのモル比少なく
    とも3対1で、触媒的に有効な量の、脱陽イオン
    されたまたは希土類金属イオン交換されたゼオラ
    イトの存在下に接触させることを特徴とする、
    C10ないしC22第2級チオールの製造方法。 2 圧力が少なくとも25バールであり、そして温
    度が50°ないし100℃の範囲である特許請求の範囲
    第1項記載の方法。 3 ゼオライトが0.4ないし0.9nmの細孔開口を
    有する脱陽イオンされたまたは陽イオン交換され
    たゼオライトである特許請求の範囲第1項または
    第2項記載の方法。 4 ゼオライトがX型、Y型、モルデン沸石また
    はZSMゼオライトである特許請求の範囲第1項
    または第3項記載の方法。 5 ゼオライトが0.5ないし0.85nmの細孔開口を
    有する特許請求の範囲第4項記載の方法。 6 液相中の硫化水素とオレフインのモル比が少
    なくとも5対1であり、温度が60°ないし85℃の
    範囲であり、そして圧力が40ないし100バールの
    範囲である特許請求の範囲第1ないし5項のいず
    か一項記載の方法。
JP6929584A 1983-04-11 1984-04-09 第2級チオ−ルの製造方法 Granted JPS59196862A (ja)

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EP (1) EP0122654B1 (ja)
JP (1) JPS59196862A (ja)
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DE (1) DE3461635D1 (ja)

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