JPH0459935A - Ｔｉ―Ａｌ合金の電子ビーム溶解・鋳造方法 - Google Patents
Ｔｉ―Ａｌ合金の電子ビーム溶解・鋳造方法Info
- Publication number
- JPH0459935A JPH0459935A JP16981490A JP16981490A JPH0459935A JP H0459935 A JPH0459935 A JP H0459935A JP 16981490 A JP16981490 A JP 16981490A JP 16981490 A JP16981490 A JP 16981490A JP H0459935 A JPH0459935 A JP H0459935A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alloy
- molten metal
- electron beam
- added
- melting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000002844 melting Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 230000008018 melting Effects 0.000 title claims abstract description 27
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 238000005266 casting Methods 0.000 title claims description 11
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 title 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 27
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 22
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 10
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 5
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 abstract description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 229910000883 Ti6Al4V Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 3
- 239000011573 trace mineral Substances 0.000 description 3
- 235000013619 trace mineral Nutrition 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004356 Ti Raw Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 210000003625 skull Anatomy 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明はＴｉ−６Ａ１−４Ｖ合金のようにＴｉを主成分
とする合金に八〇を添加して電子ビーム溶解して鋳造す
る方法に関するものである。
とする合金に八〇を添加して電子ビーム溶解して鋳造す
る方法に関するものである。
〈従来の技術〉
最近、電子ビーム溶解法はエネルギー密度が高く、高真
空雰囲気で行うため、精錬効果が大きく、また入熱コン
トロールが容易で介在物のない高融点金属の溶製方法と
して大きな注目を集めている。
空雰囲気で行うため、精錬効果が大きく、また入熱コン
トロールが容易で介在物のない高融点金属の溶製方法と
して大きな注目を集めている。
その反面、低融点高蒸気圧成分を含む合金ではこの成分
が優先的に蒸発するため、成分調整が回能で、電子ビー
ム溶解法はもっばら純金属の溶製に用いられている。
が優先的に蒸発するため、成分調整が回能で、電子ビー
ム溶解法はもっばら純金属の溶製に用いられている。
従来、Ｔｉの電子ビーム溶解における成分調整方法とし
て、微量元素、例えばＯ，Ｐｅ：ａ度を調整した溶液を
、主Ｔｉ原料に塗布したのち溶解する方法（特開平１−
１５６４３４号公報、特開平１−１５６４３５号公報）
や微量元素を含む原料と主Ｔｉ原料とを混合・造粒した
のち溶解する方法（特開平１４５６４３６号公報）など
が提案されている。しかし、これらの方法は、微量元素
についてのものであり合金主成分元素の調整ではない。
て、微量元素、例えばＯ，Ｐｅ：ａ度を調整した溶液を
、主Ｔｉ原料に塗布したのち溶解する方法（特開平１−
１５６４３４号公報、特開平１−１５６４３５号公報）
や微量元素を含む原料と主Ｔｉ原料とを混合・造粒した
のち溶解する方法（特開平１４５６４３６号公報）など
が提案されている。しかし、これらの方法は、微量元素
についてのものであり合金主成分元素の調整ではない。
合金溶解時の主成分調整については特性Ｘ線を用いてオ
ンライン分析を行った例（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｎｔ
ｒｏｌ Ｉｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｂｅａｍ Ｍｅｌｔ
ｉｎｇ、 Ａ、 Ｍｉｔｃｈｅｌｌ。
ンライン分析を行った例（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｎｔ
ｒｏｌ Ｉｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｂｅａｍ Ｍｅｌｔ
ｉｎｇ、 Ａ、 Ｍｉｔｃｈｅｌｌ。
ＥＢ Ｍｅｌｔｉｎｇ ａｎｄ Ｒｅｆｉｎｉｎｇ ５
ｔａｔｅ ｏｆ ｔｈｅ Ａｒｔ １９８４、 Ｐ、８
９）があるが、電子ビームの運動量や温度勾配に伴う溶
湯表面の揺動のため、良い精度を得ることは難しい。
ｔａｔｅ ｏｆ ｔｈｅ Ａｒｔ １９８４、 Ｐ、８
９）があるが、電子ビームの運動量や温度勾配に伴う溶
湯表面の揺動のため、良い精度を得ることは難しい。
いずれにしても例えば、Ｔｉ−６Ａｌ−４Ｖ合金のよう
に、低融点高蒸気圧成分を含有する高融点金属の電子ビ
ーム溶解における正確な成分コントロールには有効な手
段がないのが現状である。
に、低融点高蒸気圧成分を含有する高融点金属の電子ビ
ーム溶解における正確な成分コントロールには有効な手
段がないのが現状である。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明は、高融点元素であるＴｉと蒸発しやすい元素で
あるＡｎを含む合金の成分調整を電子ビーム溶解・鋳造
法により容易にしかも精度よく達成できる方法を提供す
ることを目的とするものである。
あるＡｎを含む合金の成分調整を電子ビーム溶解・鋳造
法により容易にしかも精度よく達成できる方法を提供す
ることを目的とするものである。
〈！！題解決のための手段〉
本発明は、Ｔｉを主成分とする合金にＡＥを添加し電子
ビームで溶解して鋳造するに際して、Ａｌ添加時の溶湯
表面の温度変化によって添加したＡＰの蒸発量すなわち
添加歩留りを推定して溶湯中のＡｌ濃度を把握し、次に
出湯までの保持時間をｔＪＲ節することによって出湯成
分中のＡｌ２濃度を目標値にコントロールすることを特
徴とするＴｉ−Ａ１合金の電子ビーム溶解・鋳造方法で
ある。
ビームで溶解して鋳造するに際して、Ａｌ添加時の溶湯
表面の温度変化によって添加したＡＰの蒸発量すなわち
添加歩留りを推定して溶湯中のＡｌ濃度を把握し、次に
出湯までの保持時間をｔＪＲ節することによって出湯成
分中のＡｌ２濃度を目標値にコントロールすることを特
徴とするＴｉ−Ａ１合金の電子ビーム溶解・鋳造方法で
ある。
く作用〉
電子ビーム溶解炉の例を第１図に示す、ここではバッチ
式の鋳造方法を例としているが、本発明はこれに限らず
、ハースるつぼ、クリスタライザを用いてインゴットを
溶製するいわゆるＥＢＣＨＲ法（Ｅｊ！ｅｃｔｒｏｎ
Ｂｅａｍ Ｃｏｊ！ｄ Ｈｅａｒｔｈ Ｒｅｍｅｊ！
ｔｉｎｇ）においても全く同様に適用し得る。
式の鋳造方法を例としているが、本発明はこれに限らず
、ハースるつぼ、クリスタライザを用いてインゴットを
溶製するいわゆるＥＢＣＨＲ法（Ｅｊ！ｅｃｔｒｏｎ
Ｂｅａｍ Ｃｏｊ！ｄ Ｈｅａｒｔｈ Ｒｅｍｅｊ！
ｔｉｎｇ）においても全く同様に適用し得る。
第１図において合金原料１を挿入した水冷銅るつぼ２に
電子ビーム３を一定時間照射し、所定の出湯量に見合う
メルトプール４を形成後、添加元素を溶湯に添加し、そ
の後一定時間溶湯を電子ビームによって加熱し、下方に
位置する鋳型５に鋳造する。
電子ビーム３を一定時間照射し、所定の出湯量に見合う
メルトプール４を形成後、添加元素を溶湯に添加し、そ
の後一定時間溶湯を電子ビームによって加熱し、下方に
位置する鋳型５に鋳造する。
例えば、Ｔｉ−６Ａｌ２−４Ｖ合金においては、Ａ１、
Ｔｉ、 Ｖの順で優先的に蒸発するため、合金成分
はＡＩ！、ｆｊＡ度が減少し、■濃度が増加する。この
場合、合金成分の９０％がＴｉであり、Ａｌの蒸発量が
非常に大きいために、純Ａｊ２を添加してＡｌ濃度を目
標濃度範囲に収めることは簡単ではない。
Ｔｉ、 Ｖの順で優先的に蒸発するため、合金成分
はＡＩ！、ｆｊＡ度が減少し、■濃度が増加する。この
場合、合金成分の９０％がＴｉであり、Ａｌの蒸発量が
非常に大きいために、純Ａｊ２を添加してＡｌ濃度を目
標濃度範囲に収めることは簡単ではない。
すなわち添加＾乏の歩留りはＡＰの蒸発量に太き（依存
しているが、このＡＩ！、の蒸発は炉内圧力・溶湯温度
分布、添加Ａｌが溶湯中に埋没するまでの時間（Ｔｉ−
６Ａｌ−４Ｖ合金中のＡｌ２の活量は後述のように約０
．０１なので、純Ａｌｆｉの蒸発量は合金中のそれに比
べ約１００倍になる）に支配され、なかでも温度分布は
電子ビーム出力、溶解時間ビーム偏向パターン、周波数
、ビームの反射効率。
しているが、このＡＩ！、の蒸発は炉内圧力・溶湯温度
分布、添加Ａｌが溶湯中に埋没するまでの時間（Ｔｉ−
６Ａｌ−４Ｖ合金中のＡｌ２の活量は後述のように約０
．０１なので、純Ａｌｆｉの蒸発量は合金中のそれに比
べ約１００倍になる）に支配され、なかでも温度分布は
電子ビーム出力、溶解時間ビーム偏向パターン、周波数
、ビームの反射効率。
メルトブール、残留スカル量に大きく影響される。
これらの積極的かつ正確なコントロールは非常に難しい
。
。
そこで本発明では、これらの不確定な要素はブラックボ
ックスとして、蒸発量の本質的な指標として、すなわち
、アウトプットの１つとして、Ａｌ添加時の温度変化を
とり、これからＡｌの蒸発量すなわち歩留りを推定する
ことにより、製品（鋳造品）の組成の連中率が著しく向
上することを見い出した。
ックスとして、蒸発量の本質的な指標として、すなわち
、アウトプットの１つとして、Ａｌ添加時の温度変化を
とり、これからＡｌの蒸発量すなわち歩留りを推定する
ことにより、製品（鋳造品）の組成の連中率が著しく向
上することを見い出した。
次に推定法をＴｉ−６ＡＩ！、−４Ｖ合金について説明
する。
する。
Ｔｉ−６Ａｌ−４■合金溶湯にＡｌを添加すると第２図
に示すような温度上昇と温度降下が非常に短時間の間に
観察される。
に示すような温度上昇と温度降下が非常に短時間の間に
観察される。
ここで、Ｔｉ−６Ａｌ−４Ｖ合金熔湯をＴｉ−Ａ１２元
系の正則溶液と仮定すると、混合のためのエンタルピー
変化ΔＨ１′Ｉは（１）式で表される。
系の正則溶液と仮定すると、混合のためのエンタルピー
変化ΔＨ１′Ｉは（１）式で表される。
ΔＨ’＝ＲＴαＡＬ Ｎ Ａｔ Ｎ ｆｉ ’−
’−・・−−−−−・−・−（＋）ただしＮｉ：ｉのモ
ル分率、αａｔ：Ａｊ２の活量（＝ ｊ！ ｎ ｒ Ａ
ｔ／ Ｎχｔｔ） ｒ ＡＬ ：活量係数、Ｒ：気体定
数（＝１．９８６ ｃａｆ！ ／１ｍｏ１２．Ｋ） 、
Ｔ ：絶対温度。
’−・・−−−−−・−・−（＋）ただしＮｉ：ｉのモ
ル分率、αａｔ：Ａｊ２の活量（＝ ｊ！ ｎ ｒ Ａ
ｔ／ Ｎχｔｔ） ｒ ＡＬ ：活量係数、Ｒ：気体定
数（＝１．９８６ ｃａｆ！ ／１ｍｏ１２．Ｋ） 、
Ｔ ：絶対温度。
Ｔｉ−６Ａｊ！−４Ｖ合金溶湯中の１の活量係数ＴＡＬ
は１より小さいため、ΔＨ’＜０となり、この混合は発
熱反応であり、温度上昇はこのためである。一方、温度
降下はＡ１の溶融および蒸発潜熱による。
は１より小さいため、ΔＨ’＜０となり、この混合は発
熱反応であり、温度上昇はこのためである。一方、温度
降下はＡ１の溶融および蒸発潜熱による。
ここでＡｌを添加した際の各反応に寄与するモル数を次
のようであるとする。
のようであるとする。
融解したモル数：Ｍｆ
蒸発したモル数：Ｍｖ
混合したモル数二Ｍｍ
温度変化に関与したモル数：Ｍ
温度変化は上昇・下降が数回に分かれる場合があり、こ
のことを考慮して、昇温度を合計したものをＴノ、降温
度を合計したものをＴ１とすると次式が成り立つと考え
られる。
のことを考慮して、昇温度を合計したものをＴノ、降温
度を合計したものをＴ１とすると次式が成り立つと考え
られる。
２６００Ｍ ｆ ＋６９５００ Ｍ ｖ ＝ Ｔ ｚ
Ｘ６．９１Ｍ −−−−（２）ＭｍＸ（−ΔＨ”）＝Ｔ
／”Ｘ６．９１Ｍ −−−（３）ただし八！の熔融潜
熱： ２６００ｃａ ｊ！ ／ ＋ｅｏ １ 、蒸発潜
熱： ６９５００ｃａ Ｉ！、／ ＋＊ｏ １２、Ｔ
ｉ−６Ａｌ２−４Ｖ合金の比熱二６．９１ｃａ Ｉ！
／ ｍｏ １２・Ｋのデータを用いた。
Ｘ６．９１Ｍ −−−−（２）ＭｍＸ（−ΔＨ”）＝Ｔ
／”Ｘ６．９１Ｍ −−−（３）ただし八！の熔融潜
熱： ２６００ｃａ ｊ！ ／ ＋ｅｏ １ 、蒸発潜
熱： ６９５００ｃａ Ｉ！、／ ＋＊ｏ １２、Ｔ
ｉ−６Ａｌ２−４Ｖ合金の比熱二６．９１ｃａ Ｉ！
／ ｍｏ １２・Ｋのデータを用いた。
別に行った実験で、Ｔｉ−６Ａｌ−４Ｖ合金溶液中の１
の活量係数がγＡＬ＝７．６５ＸＩＯ−”と求められて
いるので（１）式に所定の値を入れて計算すると、Ｔに
おけるΔＨ１′ｌは、 △Ｈ’ 〜１．９８６ＴＸ ｌ ｎ （７，６５ｘｌＯ
−”） ｘｏ、１０９８１０．８９０２−−０．６００
Ｔ ｃａｊ２／ｍｏｆ −−−−−−−（４）とな
る。
の活量係数がγＡＬ＝７．６５ＸＩＯ−”と求められて
いるので（１）式に所定の値を入れて計算すると、Ｔに
おけるΔＨ１′ｌは、 △Ｈ’ 〜１．９８６ＴＸ ｌ ｎ （７，６５ｘｌＯ
−”） ｘｏ、１０９８１０．８９０２−−０．６００
Ｔ ｃａｊ２／ｍｏｆ −−−−−−−（４）とな
る。
（２）、 （３）、 （Ｉｆ）を用いて次式で与えられ
る値Ｐを変換すると、 Ｐ＝ （Ｔ／／Ｔ％）ｘ２６００／ ０．６Ｔ＝Ｍｍ
／（Ｍｆ＋２．６７Ｍｖ） −・−・−−−−・ｌ
＋−・−（５）となる。
る値Ｐを変換すると、 Ｐ＝ （Ｔ／／Ｔ％）ｘ２６００／ ０．６Ｔ＝Ｍｍ
／（Ｍｆ＋２．６７Ｍｖ） −・−・−−−−・ｌ
＋−・−（５）となる。
ここでＰは添加したｌのをＡＩ！重量（ｇ）とすると
Ｔ／／Ｐ−（０，６（Ａｌ、／２７．ｏ）／６．９１）
ｘ （６，９１７’、／ （２６００Ｘ （１／２７
．０） ＞ １ ・−（６）と書け、（６）式の右辺
は添加した＾ｌがすべて溶融し蒸発がなくＭ−Ｍｍ＝Ｍ
ｆとした場合に見込まれる温度上昇である。Ｍｍ、Ｍｆ
は溶解条件が一定ならば、各溶解でほぼ一定と考えられ
るので、Ｐが添加したＡｊｌ！の蒸発量に比例すると考
えられる。Ｐ値はＴ／、Ｔ＼と添加時のＴから直接求め
られるため、Ｐと添加ＡＩ！、歩留りは第３図に示すよ
うな関係があり、Ｐ値から添加元素の歩留りを推定でき
る。
ｘ （６，９１７’、／ （２６００Ｘ （１／２７
．０） ＞ １ ・−（６）と書け、（６）式の右辺
は添加した＾ｌがすべて溶融し蒸発がなくＭ−Ｍｍ＝Ｍ
ｆとした場合に見込まれる温度上昇である。Ｍｍ、Ｍｆ
は溶解条件が一定ならば、各溶解でほぼ一定と考えられ
るので、Ｐが添加したＡｊｌ！の蒸発量に比例すると考
えられる。Ｐ値はＴ／、Ｔ＼と添加時のＴから直接求め
られるため、Ｐと添加ＡＩ！、歩留りは第３図に示すよ
うな関係があり、Ｐ値から添加元素の歩留りを推定でき
る。
従って、次に溶湯保持中のＡ！濃度変化が経験的に知ら
れれば、Ｐから直接出湯組成のコントロールが可能とな
る。
れれば、Ｐから直接出湯組成のコントロールが可能とな
る。
〈実施例〉
第１図に示したような装置でＴｉ−６Ａｊ！−４Ｖ合金
の鋳造実験を行った。電子ビーム出力は１００に一１真
空度は２〜６ Ｘ １０−’ｔｏｒｒで、溶湯量は５〜
７ｋｇであった。
の鋳造実験を行った。電子ビーム出力は１００に一１真
空度は２〜６ Ｘ １０−’ｔｏｒｒで、溶湯量は５〜
７ｋｇであった。
これに１００〜３００ ＨのＡｉを添加して、ＰとＡ１
歩留りの関係を示したΦが第３図である。ここでＡ１歩
留りＹ（％）はｌを添加しない場合の溶湯Ａｌ濃度を（
Ａｊり’、添加Ａ７！量をＡｌ（ｇ）、出湯量をＷ（ｇ
）、鋳造品の＾Ｉ！、濃度を（Ａｌ２）として Ｙ＝ （〔＾ｌ］ −〔Ａ１ ） ’ ） Ｘ −
Ｘ１００ｆ で算出した。
歩留りの関係を示したΦが第３図である。ここでＡ１歩
留りＹ（％）はｌを添加しない場合の溶湯Ａｌ濃度を（
Ａｊり’、添加Ａ７！量をＡｌ（ｇ）、出湯量をＷ（ｇ
）、鋳造品の＾Ｉ！、濃度を（Ａｌ２）として Ｙ＝ （〔＾ｌ］ −〔Ａ１ ） ’ ） Ｘ −
Ｘ１００ｆ で算出した。
添加Ａｌ溶融後の保持時間とＡｌ濃度の関係は、−例と
して１７０ ｇ添加した場合第４図のようになる。
して１７０ ｇ添加した場合第４図のようになる。
従って出湯時の溶湯組成はＰと第４図のような関係から
容易にコントロールできる。
容易にコントロールできる。
因みにＡｊ！：５．５０〜６．７５％、Ｖ ： ３．５
０〜４．５０％のＡＳＴＭスペック適中率は４ｏチヤー
ジで８３％、濃度のばらつきの標準偏差は＾１：０．２
％、■二０．０５％であり、十分信幀に足るものであっ
た。
０〜４．５０％のＡＳＴＭスペック適中率は４ｏチヤー
ジで８３％、濃度のばらつきの標準偏差は＾１：０．２
％、■二０．０５％であり、十分信幀に足るものであっ
た。
〈発明の効果〉
本発明により電子ビーム溶解法にょるＴｉ−ＡＮ鋳遺品
の成分コントロールが精度よく行えるようになった。ま
たこのことにより、ＶＡＲ法ではなし得なかった原料形
状の制約を受けず精錬作用を持つ鋳造が可能となった。
の成分コントロールが精度よく行えるようになった。ま
たこのことにより、ＶＡＲ法ではなし得なかった原料形
状の制約を受けず精錬作用を持つ鋳造が可能となった。
第１図は電子ビーム溶解・鋳造装置の概略図、第２図は
Ａｌ添加に伴なう溶湯表面温度の時間変化を示すグラフ
、第３図はＰ値とＡＩ！歩留りとの関係を示すグラフ、
第４図は溶湯保持時間とＡｌ濃度との関係を示すグラフ
である。 １・・・溶解原料、 ２・・・水冷銅るつぼ、３・
・・電子ビーム、 ４・・・メルトプール、５・・
・鋳型、 ６・・・放射温度計、７・・・光フ
アイバーケーブル、 ８・・・電子銃、 ９・・・電子ビーム溶解炉
。 第 図 第 ２ 図 第 図
Ａｌ添加に伴なう溶湯表面温度の時間変化を示すグラフ
、第３図はＰ値とＡＩ！歩留りとの関係を示すグラフ、
第４図は溶湯保持時間とＡｌ濃度との関係を示すグラフ
である。 １・・・溶解原料、 ２・・・水冷銅るつぼ、３・
・・電子ビーム、 ４・・・メルトプール、５・・
・鋳型、 ６・・・放射温度計、７・・・光フ
アイバーケーブル、 ８・・・電子銃、 ９・・・電子ビーム溶解炉
。 第 図 第 ２ 図 第 図
Claims (1)
- Ｔｉを主成分とする合金にＡｌを添加し電子ビームで溶
解して鋳造するに際して、Ａｌ添加時の溶湯表面の温度
変化によって添加したＡｌの蒸発量すなわち添加歩留り
を推定して溶湯中のＡｌ濃度を把握し、次に出湯までの
保持時間を調節することによって出湯成分中のＡｌ濃度
を目標値にコントロールすることを特徴とするＴｉ−Ａ
ｌ合金の電子ビーム溶解・鋳造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16981490A JPH0459935A (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | Ｔｉ―Ａｌ合金の電子ビーム溶解・鋳造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16981490A JPH0459935A (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | Ｔｉ―Ａｌ合金の電子ビーム溶解・鋳造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0459935A true JPH0459935A (ja) | 1992-02-26 |
Family
ID=15893398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16981490A Pending JPH0459935A (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | Ｔｉ―Ａｌ合金の電子ビーム溶解・鋳造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0459935A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006253367A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Rohm Co Ltd | 面実装型固体電解コンデンサとその製造方法 |
| JP2009174054A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-08-06 | Showa Denko Kk | 金属精製方法及び装置、精製金属、鋳造品、金属製品及び電解コンデンサ |
-
1990
- 1990-06-29 JP JP16981490A patent/JPH0459935A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006253367A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Rohm Co Ltd | 面実装型固体電解コンデンサとその製造方法 |
| JP2009174054A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-08-06 | Showa Denko Kk | 金属精製方法及び装置、精製金属、鋳造品、金属製品及び電解コンデンサ |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Glade et al. | Thermodynamics of Cu 47 Ti 34 Zr 11 Ni 8, Zr 52.5 Cu 17.9 Ni 14.6 Al 10 Ti 5 and Zr 57 Cu 15.4 Ni 12.6 Al 10 Nb 5 bulk metallic glass forming alloys | |
| US8496046B2 (en) | Method for producing alloy ingot | |
| Ahmad et al. | Disorder trapping during the solidification of βNi 3 Ge from its deeply undercooled melt | |
| You et al. | The evaporation behavior of alloy elements during electron beam smelting of Inconel 718 alloy | |
| Srivastava et al. | Solubility and thermodynamic properties of oxygen in solid molybdenum | |
| JPH0459935A (ja) | Ｔｉ―Ａｌ合金の電子ビーム溶解・鋳造方法 | |
| Zhao et al. | In situ studies of liquid-liquid phase separation, solidification sequence and dendrite growth kinetics in electrostatically levitated Ti–Y alloys | |
| SE446013B (sv) | Sett for framstellning av kornorienterat kisellegerat stal | |
| Kharanzhevskiy et al. | Amorphization and nanocrystal formation in a Pd–Ni–Cu–P alloy after cooling under different conditions | |
| Buzzard | Beryllium-uranium system | |
| JPH05214521A (ja) | チタンスパッタリングターゲット | |
| Nagarajan et al. | Enthalpies of formation of UAl4 and UAl3 by calorimetry | |
| Illeková et al. | The relation between the bulk and ribbon Zr55Ni25Al20 metallic glasses | |
| Westphal et al. | Zirconium determination by cooling curve analysis during the pyroprocessing of used nuclear fuel | |
| JPH04124229A (ja) | チタン合金の電子ビーム溶解方法 | |
| US4380470A (en) | Ductile transplutonium metal alloys | |
| Wang et al. | Nonequilibrium phenomena in rapid solidification: Theoretical treatment for process modeling | |
| US2870006A (en) | Process for melting metals | |
| US20230038669A1 (en) | Alloy | |
| Powers | The titanium-vanadium system | |
| Stovpchenko et al. | Thermodynamic and Physical Properties of CaF2–(Al2O3–TiO2–MgO) System Slags for Electroslag Remelting of Inconel 18 Alloy | |
| Stoephasius et al. | A New Processing Route for Titanium Alloys by Aluminothermic Reduction of Titanium Dioxide and Refining by ESR | |
| Hayward et al. | Determination of the solidus temperatures of Zircaloy-4/oxygen alloys | |
| Liu et al. | Preparation of metastable phase materials: nucleation and growth kinetics considerations | |
| Chrissafis et al. | Crystallization kinetics of amorphous |