JPH0457278U - - Google Patents

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JPH0457278U
JPH0457278U JP9751790U JP9751790U JPH0457278U JP H0457278 U JPH0457278 U JP H0457278U JP 9751790 U JP9751790 U JP 9751790U JP 9751790 U JP9751790 U JP 9751790U JP H0457278 U JPH0457278 U JP H0457278U
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  • Coating Apparatus (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図AおよびBはこの考案の一実施例を示し
、第1図Aは回転吸着ヘツドの吸着面が基板を吸
着する位置関係を示す平面図、第1図Bは吸着面
の平面図、第2図AおよびBは従来例を示し、第
2図Aは回転吸着ヘツドの吸着面が基板を吸着す
る位置関係を示す平面図、第2図Bは吸着面の平
面図である。 3……基板、4……パターン領域、10……吸
着面、11……真空吸着孔、12……周縁部。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 真空吸着孔が設けられた吸着面で、複数のパタ
    ーン領域を有する基板を水平に吸着し、この状態
    で前記基板を回転させ、その遠心力で前記基板の
    表面に液状物質を塗布する回転塗布装置の回転吸
    着ヘツドにおいて、 前記吸着面を、その周縁部が前記基板のパター
    ン領域の少なくとも1つ以上を囲むとともに、こ
    の囲まれたパターン領域と隣接するパターン領域
    の間に位置する形状に形成したことを特徴とする
    回転塗布装置の回転吸着ヘツド。
JP9751790U 1990-09-19 1990-09-19 回転塗布装置の回転吸着ヘッド Expired - Lifetime JP2526071Y2 (ja)

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JPH0457278U true JPH0457278U (ja) 1992-05-15
JP2526071Y2 JP2526071Y2 (ja) 1997-02-12

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