JPH0455483A - Heat-resistant and insulating varnish composition and formation of coating film using the same - Google Patents

Heat-resistant and insulating varnish composition and formation of coating film using the same

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JPH0455483A
JPH0455483A JP16732490A JP16732490A JPH0455483A JP H0455483 A JPH0455483 A JP H0455483A JP 16732490 A JP16732490 A JP 16732490A JP 16732490 A JP16732490 A JP 16732490A JP H0455483 A JPH0455483 A JP H0455483A
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main polymer
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Abstract

PURPOSE:To provide the subject composition composed of a main polymer liquid containing an organic polymer, a zirconium alkoxide, a silane coupling agent, etc., and useful for electrical and electronic parts or for imparting heat- resistance and electrical insulation to the parts. CONSTITUTION:The objective composition is composed of a main polymer liquid containing (A) an organic polymer such as polyamide imide or silicone resin, (B) a zirconium alkoxide, (C) a silane coupling agent such as gamma- glycidoxypropyl trimethoxysilane, (D) a catalyst for sol-gel process such as N,N-dimethylbenzylamine and (E) a solvent such as N,N-dimethylformamide.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は電気または電子機器、あるいはそれらの部品に
、耐熱性および電気絶縁性を付与することができるワニ
ス組成物、およびそれを用いた被膜の形成方法に関する
Detailed Description of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to a varnish composition that can impart heat resistance and electrical insulation to electrical or electronic equipment or their parts, and a coating using the same. The present invention relates to a method of forming.

(従来の技術) 電気機器または電子機器において、機器や部品の表面に
、絶縁性や防湿性を付与するため、あるいは保護膜を形
成するためにワニスが広く用いられ、機器や部品の、耐
久性および信頼性の向上に貢献している。操作の簡易性
およびコスト面から有機系ワニスが広く用いられている
(Prior art) Varnishes are widely used in electrical or electronic equipment to provide insulation or moisture-proofing properties or to form a protective film on the surface of the equipment or parts. and contributes to improved reliability. Organic varnishes are widely used because of their ease of operation and cost.

しかし、有機系ワニスの主成分であるポリマーは、C−
C結合やC−0−C結合を骨格とするため、加熱によっ
て酸化または分解され易く、使用限界温度は150℃程
度である。したがって、有機系ワニスに耐熱性を付与す
るためには難燃剤を添加する必要がある。さらに有機系
ワニスは温度が上昇するにつれて電気絶縁性、高周波特
性が太き(低下する。
However, the polymer that is the main component of organic varnish is C-
Because it has a skeleton of C bonds or C-0-C bonds, it is easily oxidized or decomposed by heating, and its operating temperature limit is about 150°C. Therefore, in order to impart heat resistance to an organic varnish, it is necessary to add a flame retardant. Furthermore, as the temperature of organic varnish increases, its electrical insulation properties and high frequency characteristics become thicker (decreased).

特に有機系ワニスは、はっ水性が比較的低く、吸収した
水分が放呂されにく(、電気的特性の低下も著しい。さ
らに、一般に有機溶剤、化学薬品に弱く、紫外線による
劣化も起こりやすい。
In particular, organic varnishes have relatively low water repellency, making it difficult for absorbed moisture to be released (and the electrical properties are also significantly reduced. Furthermore, they are generally susceptible to organic solvents and chemicals, and are susceptible to deterioration by ultraviolet rays. .

このような有機系ワニスの欠点を補うワニスとして、シ
ロキサン結合(St−0−St)からなる無機部分とメ
チル基やフェニル基からなる有機部分とを有スルシリコ
ーンワニスがある。シリコーンワニスは、有機系ワニス
に比較して、耐熱性、電気特性、吸水性などの性質は改
善されるものの、機械的強度、耐薬品性は充分ではない
。さらにシリコーンワニスは、200 ”C以上でも安
定であるが、26f)℃のハンダの溶融点に近い温度で
の安定性は不十分である。そして、シリコーン系の樹脂
は、耐湿性がエポキシフェノールノボラック系の樹脂よ
りも低く、内部応力も高いためコーティング剤または封
止剤としては、好ましくない。
As a varnish that compensates for such drawbacks of organic varnishes, there is a sulfur silicone varnish that has an inorganic part consisting of a siloxane bond (St-0-St) and an organic part consisting of a methyl group or a phenyl group. Although silicone varnishes have improved properties such as heat resistance, electrical properties, and water absorption compared to organic varnishes, their mechanical strength and chemical resistance are not sufficient. Furthermore, although silicone varnish is stable above 200"C, its stability at temperatures close to the melting point of solder, which is 26f)C, is insufficient. Silicone-based resins have a moisture resistance that is higher than that of epoxyphenol novolak. It is not preferable as a coating agent or sealant because it has a lower internal stress than other resins and a higher internal stress.

現在量も好ましい、耐熱性および絶縁性ワニスとしては
、ポリイミド樹脂を主成分とするワニスがある。ポリイ
ミド樹脂は、ガラス転移温度(Tg)が、240〜25
0℃と高いため、高温時の電気特性の低下が少なく、熱
膨張率も小さい。さらに、導体に対する接着力および硬
度も高い。しかし、銅箔に対する接着力や同種の樹脂か
らなる層間の接着力が小さい、吸水性が高いなどの欠点
がある。さらに、ポリイミド樹脂は非常に高価であるた
め、実用上コストの問題が発生する。
As the heat-resistant and insulating varnish, which is also currently preferred, there is a varnish containing polyimide resin as a main component. Polyimide resin has a glass transition temperature (Tg) of 240 to 25
Since the temperature is as high as 0°C, there is little deterioration in electrical properties at high temperatures, and the coefficient of thermal expansion is also small. Furthermore, it has high adhesion and hardness to conductors. However, it has drawbacks such as poor adhesion to copper foil, poor adhesion between layers made of the same type of resin, and high water absorption. Furthermore, since polyimide resin is very expensive, it poses a practical cost problem.

(発明が解決しようとする課題) 本発明は、上記従来の欠点を解決するものであり、その
目的とするところは、電気または電子機器、あるいはそ
れらの部品に、耐熱性および電気絶縁性を付与すること
ができるワニス組成物を提供することにある。さらに本
発明の他の目的は、上記のワニス組成物を用いた耐熱性
および電気絶縁性に優れた被膜の形成方法を提供するこ
とにある。
(Problems to be Solved by the Invention) The present invention solves the above-mentioned conventional drawbacks, and its purpose is to impart heat resistance and electrical insulation to electrical or electronic equipment or their parts. An object of the present invention is to provide a varnish composition capable of Still another object of the present invention is to provide a method for forming a film with excellent heat resistance and electrical insulation using the above-mentioned varnish composition.

(課題を解決するための手段) 本発明の耐熱性および絶縁性ワニス組成物は、有機ポリ
マー ジルコニウムアルコキシド、シランカップリング
剤、ゾル−ゲル法触媒、および溶媒を含有するメインポ
リマー液からなり、そのことにより上記目的が達成され
る。
(Means for Solving the Problems) The heat-resistant and insulating varnish composition of the present invention consists of a main polymer liquid containing an organic polymer zirconium alkoxide, a silane coupling agent, a sol-gel method catalyst, and a solvent. This achieves the above objective.

本発明の耐熱性および絶縁性ワニス組成物は、前記メイ
ンポリマー液に加えて、さらに、プレポリマー液を含有
してもよ(、該プレポリマー液が、ジルコニウムアルコ
キシド、シランカップリング剤、チタニウムアルコキシ
ド、ゾル−ゲル法触媒および溶媒を含有する。
The heat-resistant and insulating varnish composition of the present invention may further contain a prepolymer liquid in addition to the main polymer liquid (the prepolymer liquid may contain zirconium alkoxide, a silane coupling agent, a titanium alkoxide, etc.). , a sol-gel process catalyst and a solvent.

本発明の耐熱性および絶縁性ワニス組成物は、前記プレ
ポリマー液とメインポリマー液との混合物であってもよ
い。
The heat-resistant and insulating varnish composition of the present invention may be a mixture of the prepolymer liquid and the main polymer liquid.

さらに本発明は、前記メインポリマー液からなるワニス
組成物を用いて耐熱性および絶縁性を有する被膜を形成
する方法であって、該ワニス組成物を基材表面に付与す
る工程;と、該組成物が付与された基材を、150〜3
50℃の範囲の温度で熱処理することにより、該基材表
面に被膜を形成する工程;とを包含し、そのことにより
上記目的が達成される。
Furthermore, the present invention provides a method for forming a heat-resistant and insulating film using a varnish composition comprising the main polymer liquid, comprising: applying the varnish composition to the surface of a substrate; The substrate to which the material was applied was heated to 150 to 3
forming a film on the surface of the substrate by heat treatment at a temperature in the range of 50°C, thereby achieving the above object.

さらに本発明の耐熱性および絶縁性を有する被膜を形成
する方法は、前記プレポリマー液を基材表面に付与し、
プレポリマーの層を基材表面に形成する工程;該プレポ
リマーの層の表面に前記メインポリマー液を付与し、該
プレポリマー層の表面にメインポリマーの層を形成する
工程;および、該プレポリマー層とメインポリマー層と
を有する基材を、150〜350℃の範囲の温度で熱処
理することにより、該基材表面に被膜を形成する工程;
を包含し、そのことにより上記目的が達成される。
Furthermore, the method of forming a film having heat resistance and insulation properties of the present invention includes applying the prepolymer liquid to the surface of the base material,
a step of forming a prepolymer layer on the surface of the base material; a step of applying the main polymer liquid to the surface of the prepolymer layer and forming a main polymer layer on the surface of the prepolymer layer; and the prepolymer layer. forming a film on the surface of the substrate by heat treating the substrate having the layer and the main polymer layer at a temperature in the range of 150 to 350°C;
, thereby achieving the above objective.

本発明においてメインポリマー液に用いられる有機ポリ
マーとしては、耐熱性に優れた有機ポリマー 例えばポ
リアミドイミドまたはシリコーン樹脂が好適である。特
に、以下の繰り返し単位を有するポリアミドイミドが好
適である:ボリアミドイミドを用いた場合には、300
℃程度の高温で被膜が黒色に変色する。この変色を避け
る必要がある場合は、シリコーン樹脂〈シリコーンワニ
ス)を併用することも可能である。シリコーンワニスを
併用すると、ポリアミドイミドを用いた場合に比べ、高
温時に被膜がやや軟化する。
The organic polymer used in the main polymer liquid in the present invention is preferably an organic polymer with excellent heat resistance, such as polyamide-imide or silicone resin. Particularly suitable are polyamideimides having the following repeating units: When polyamideimide is used, 300
The coating changes color to black at high temperatures of around ℃. If it is necessary to avoid this discoloration, it is also possible to use silicone resin (silicone varnish). When silicone varnish is used in combination, the coating becomes slightly softer at high temperatures than when polyamideimide is used.

本発明においてメインポリマー液に用いられるジルコニ
ウムアルコキシドは、Zr(OR’)4で示される。R
1は低級アルキル基である。具体的には、Zr(0−C
H3)n、Zr(0−C2[s)4、Zr(0−fso
−C3Hv)4、Zr(0−C4H9)4などが用′い
られ得る。2種以上のこれらのアルコキシドを混合して
用いてもよい。その使用量は、上記有機ポリマー100
重量部に対して1〜20重量部の範囲であり、好ましく
は約5重量部である。20重量部以上が用いられると、
形成されるメインポリマーの脆性が大きくなり、被膜の
メインポリマー層が剥離しやすくなる。1重量蔀以下の
場合は、被膜が高温で熱変形しやすくなる。
The zirconium alkoxide used in the main polymer liquid in the present invention is represented by Zr(OR')4. R
1 is a lower alkyl group. Specifically, Zr(0-C
H3)n, Zr(0-C2[s)4, Zr(0-fso
-C3Hv)4, Zr(0-C4H9)4, etc. may be used. Two or more of these alkoxides may be used in combination. The amount used is 100% of the above organic polymer.
It ranges from 1 to 20 parts by weight, preferably about 5 parts by weight. When 20 parts by weight or more is used,
The brittleness of the main polymer formed increases, and the main polymer layer of the coating is likely to peel off. If the weight is less than 1 weight, the coating is likely to be thermally deformed at high temperatures.

メインポリマー液に用いられるシランカップリング剤と
しては、既知のシランカップリング剤が用いられ得る。
As the silane coupling agent used in the main polymer liquid, known silane coupling agents can be used.

特に、エポキシ基を有するシランカップリング剤が好適
である。それには、例えばγ−グリシド手ジプロピルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルメチルジ
ェトキシシラン、およびβ−(3,4−エポキシシクロ
ヘキシル)エチルトリメトキシシランがある。このよう
なシランカップリング剤は2種以上が混合して用いられ
得る。シランカップリング剤の使用量は、上記有機ポリ
マー100重量部に対して、1〜100重量部の範囲内
である。有機ポリマーとしてポリアミドイミドを単独で
用いる場合は、1〜50重量部、特に約10重量部が好
ましい。50重量部以上を使用するとメインポリマーの
剛性と脆性とが大きくなり、被膜の絶縁性および加工性
が低下する。
Particularly suitable is a silane coupling agent having an epoxy group. These include, for example, γ-glycidodipropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyljethoxysilane, and β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane. Two or more types of such silane coupling agents may be used in combination. The amount of the silane coupling agent used is within the range of 1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the organic polymer. When polyamideimide is used alone as the organic polymer, it is preferably 1 to 50 parts by weight, particularly about 10 parts by weight. If 50 parts by weight or more is used, the main polymer will have increased rigidity and brittleness, and the insulation and processability of the coating will decrease.

メインポリマー液に用いられるゾル−ゲル法触媒として
は、水に実質的に不溶であり、かつ有機溶媒に可溶な第
三アミンが用いられる。それには例えば、N、N−ジメ
チルベンジルアミン、トリプロピルアミン、トリブチル
アミン、トリペンチルアミンなどがあり、特にN、N−
ジメチルベンジルアミンが好適である。その使用量は有
機ポリマー ジルコニウムアルコキシドおよびシランカ
ップリング剤の合計量の100重量部当り、 0.01
〜0,5重量部、好ましくは約0.03重量部である。
As the sol-gel method catalyst used in the main polymer liquid, a tertiary amine that is substantially insoluble in water and soluble in organic solvents is used. These include, for example, N,N-dimethylbenzylamine, tripropylamine, tributylamine, tripentylamine, especially N,N-
Dimethylbenzylamine is preferred. The amount used is 0.01 parts by weight of the total amount of organic polymer zirconium alkoxide and silane coupling agent.
~0.5 parts by weight, preferably about 0.03 parts by weight.

メインポリマー液には必要に応じてホウ酸が含有される
。ホウ酸を添加することによって、得られる被膜の耐熱
性および硬度が著しく向上し、さらに高温に曝された場
合、被膜の変色が起こりにくくなる。ホウ酸の含有量は
、上記有機ポリマーioo重量部に対して15重量部以
下、好ましくは、05〜6重量部である。
The main polymer liquid contains boric acid as necessary. By adding boric acid, the heat resistance and hardness of the resulting coating are significantly improved, and the coating is less likely to discolor when exposed to high temperatures. The content of boric acid is 15 parts by weight or less, preferably 05 to 6 parts by weight, based on ioo parts by weight of the organic polymer.

メインポリマー液に用いられる溶媒としては、N、N−
ジメチルホルムアミドが好ましく用いられる。
The solvent used for the main polymer liquid is N, N-
Dimethylformamide is preferably used.

溶媒の使用量は、通常上記の含有成分の合計量の100
重量部当り、20〜50重量部である。
The amount of solvent used is usually 100% of the total amount of the above ingredients.
It is 20 to 50 parts by weight per part by weight.

メインポリマー液は、上記有機ポリマー ジルコニウム
アルコキシド、シランカップリング剤、ゾル−ゲル法触
媒および溶媒を混合して調製される。
The main polymer liquid is prepared by mixing the organic polymer zirconium alkoxide, a silane coupling agent, a sol-gel method catalyst, and a solvent.

本発明においてプレポリマー液に用いられるジルコニウ
ムアルコキシドとしては、上ぎ己メインポリマー液で用
いられ得るジルコニウムアルコキシドと同様のものが使
用可能である。
As the zirconium alkoxide used in the prepolymer liquid in the present invention, the same zirconium alkoxide as can be used in the main polymer liquid can be used.

プレポリマー液に用いられるシランカップリング剤とし
ては、上記メインポリマー液で用いられ得るシランカッ
プリング剤と同様のものが使用可能である。シランカッ
プリング剤の使用量は、上記アルコキシドの合計110
0重量部に対して、1〜10重量部の範囲内である。
As the silane coupling agent used in the prepolymer liquid, the same silane coupling agent as can be used in the main polymer liquid can be used. The amount of silane coupling agent used is 110 in total of the above alkoxides.
It is within the range of 1 to 10 parts by weight relative to 0 parts by weight.

プレポリマー液に用いられる、チタニウムアルコキシド
は、Ti(OR2)4で示される。R2は低級アルキル
基テアル。具体的ニハ、Ti (0−CH3)4、Ti
(0−C2H5)4、Ti(0−C3HT)a、Ti(
0−C4H9)aなどが用いられ得る。2種以上のこれ
らのアルコキシドを混合して用いてもよい。チタニウム
アルコキシドを用いることによって、得られる被膜の熱
伝導率が低くなり、基材の耐熱性が著しく向上する。そ
の使用量は、上記ジルコニウムアルコキシド100重量
部に対して1〜20重量部の範囲であり、好ましくは約
3重量部である。20重量部以上が用いられると、プレ
ポリマーの脆性が大きくなり、プレポリマーが剥離しや
すくなる。1重量部以下の場合は、複合ポリマーが高温
で熱変形しやすくなる。
The titanium alkoxide used in the prepolymer solution is designated Ti(OR2)4. R2 is a lower alkyl group theal. Specific Niha, Ti (0-CH3)4, Ti
(0-C2H5)4, Ti(0-C3HT)a, Ti(
0-C4H9)a, etc. may be used. Two or more of these alkoxides may be used in combination. By using titanium alkoxide, the thermal conductivity of the resulting coating is lowered, and the heat resistance of the base material is significantly improved. The amount used is in the range of 1 to 20 parts by weight, preferably about 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the zirconium alkoxide. When 20 parts by weight or more is used, the brittleness of the prepolymer increases and the prepolymer is likely to peel off. When the amount is 1 part by weight or less, the composite polymer becomes easily thermally deformed at high temperatures.

プレポリマー液に用いられるゾル−ゲル法触媒としては
、上記メインポリマー液に用いられ得るゾル−ゲル法触
媒と同様のものが使用され得る。
As the sol-gel method catalyst used for the prepolymer solution, the same sol-gel method catalyst as can be used for the above-mentioned main polymer solution can be used.

その使用量は、上記アルコキシドおよびシランカップリ
ング剤の合計量の100重量部当り、o、 oos〜0
.3重量部、好ましくは約0.008重量部である。
The amount used is o, oos to 0 per 100 parts by weight of the total amount of the alkoxide and silane coupling agent.
.. 3 parts by weight, preferably about 0.008 parts by weight.

プレポリマー液の溶媒としては、エチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、およびブチルアルコールなどが
用いられ得る。溶媒の使用量は、上記の含有成分の合計
IHoo重量部に対して、3〜100重量部である。
Ethyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, etc. can be used as a solvent for the prepolymer liquid. The amount of the solvent used is 3 to 100 parts by weight based on the total IHoo parts by weight of the above-mentioned components.

本発明のワニス組成物のプレポリマー液は、上記ジルコ
ニウムアルコキシド、シランカップリング剤、必要に応
じてチタニウムアルコキシド、ゾル−ゲル法触媒、およ
び溶媒を混合して調製される。
The prepolymer liquid of the varnish composition of the present invention is prepared by mixing the above-mentioned zirconium alkoxide, a silane coupling agent, if necessary, a titanium alkoxide, a sol-gel method catalyst, and a solvent.

本発明のワニス組成物は、必要に応じて、上記メインポ
リマー液とプレポリマー液との混合物であってもよい。
The varnish composition of the present invention may be a mixture of the main polymer liquid and the prepolymer liquid, if necessary.

本発明のワニス組成物は、各種プリント基板、トランジ
スタ、ICなどの保護用ワニス;コイルを絶縁膜で被覆
するためのコイル含浸用ワニス;ガラス積層板、マイカ
用バインダー;ガラスクロス用ワニス;プリント基板に
素子を実装するための接着剤;半導体素子の封止用ワニ
スなどに用いられる。したがって、本発明のワニス組成
物で被覆され得る基材としては、各種プリント基板、ト
ランジス9、IC,コイル、ガラス、マイカなどが用い
られ得る。
The varnish composition of the present invention is a varnish for protecting various printed circuit boards, transistors, ICs, etc.; a varnish for coil impregnation for coating a coil with an insulating film; a binder for glass laminates and mica; a varnish for glass cloth; a varnish for printed circuit boards Adhesive for mounting devices on devices; Used in varnish for sealing semiconductor devices, etc. Therefore, various printed circuit boards, transistors 9, ICs, coils, glass, mica, etc. can be used as substrates that can be coated with the varnish composition of the present invention.

本発明の方法によれば、本発明の耐熱性および絶縁性被
膜は、例えば以下のようにして形成される。まず、上記
有機ポリマー ジルコニウムアルコキシド、シランカッ
プリング剤、ゾル−ゲル法触媒、および溶媒を混合して
メインポリマー液を調製する。次に、このメインポリマ
ー液を、被膜を形成すべき基材表面に塗布するか、ある
いは、基材をポリマー液に浸漬するなどの方法により、
基材に付与し、乾燥する。これによって、有機ポリマー
 ジルコニウムアルコキシドおよびシランカプリング剤
の加水分解と縮重合反応が進行し、基材表面にメインポ
リマーの層が形成される。好ましくは、この操作を数回
繰り返し、複数の層を形成する。このようにして積層す
ることによって最終的に得られる被膜の耐熱性および絶
縁性が増大し、被膜の破壊電圧が著しく大きくなる。こ
のようにして単数もしくは複数層のメインポリマー層が
形成された基材を150℃〜350℃の範囲の温度で3
0秒〜I(1分間加熱することによって、基板表面に耐
熱性および絶縁性を有する被膜が形成される。
According to the method of the present invention, the heat-resistant and insulating coating of the present invention is formed, for example, as follows. First, a main polymer liquid is prepared by mixing the organic polymer zirconium alkoxide, a silane coupling agent, a sol-gel method catalyst, and a solvent. Next, this main polymer solution is applied to the surface of the base material on which a film is to be formed, or by immersing the base material in the polymer solution.
Apply to the base material and dry. As a result, hydrolysis and polycondensation reactions of the organic polymer zirconium alkoxide and the silane coupling agent proceed, and a layer of the main polymer is formed on the surface of the substrate. Preferably, this operation is repeated several times to form multiple layers. By stacking layers in this manner, the heat resistance and insulation properties of the final film are increased, and the breakdown voltage of the film is significantly increased. The base material on which one or more main polymer layers are formed in this way is heated to a temperature in the range of 150°C to 350°C for 30 minutes.
By heating for 0 seconds to I (1 minute), a heat-resistant and insulating film is formed on the substrate surface.

本発明の方法では、必要に応じて上記メインポリマー液
を付与する前に、上記プレポリマー液を基材表面に付与
してプレポリマー層を形成してもよい。それには、まず
、上記ジルコニウムアルコキシド、シランカップリング
剤、チタニウムアルコキシド、ゾル−ゲル法触媒、およ
び溶媒を混合してプレポリマー液を調製する。次に、こ
のプレポリマー液を、基材に塗布し、あるいは、基材を
プレポリマー液に浸漬して、その後乾燥することにより
、基材表面にプレポリマー層を形成する。
In the method of the present invention, before applying the main polymer liquid, the prepolymer liquid may be applied to the surface of the substrate to form a prepolymer layer, if necessary. To do this, first, the zirconium alkoxide, silane coupling agent, titanium alkoxide, sol-gel method catalyst, and solvent are mixed to prepare a prepolymer liquid. Next, this prepolymer liquid is applied to the base material, or the base material is immersed in the prepolymer liquid and then dried to form a prepolymer layer on the surface of the base material.

次いで、上記と同様にしてプレポリマー層の上にメイン
ポリマー層を形成する。好ましくは、この操作を数回繰
り返し、プレポリマー層とメインポリマー層とを交互に
積層してもよい。このようにプレポリマー層およびメイ
ンポリマー層が形成された基材を150℃〜350℃の
範囲の温度で30秒〜lO分間加熱することによって、
基板表面に耐熱性および絶縁性を有する被膜が形成され
る。
Next, a main polymer layer is formed on the prepolymer layer in the same manner as above. Preferably, this operation may be repeated several times to alternately laminate prepolymer layers and main polymer layers. By heating the base material on which the prepolymer layer and the main polymer layer are formed in this way at a temperature in the range of 150°C to 350°C for 30 seconds to 10 minutes,
A film having heat resistance and insulation properties is formed on the surface of the substrate.

さらに、上記プレポリマー液とメインポリマー液とを混
合し、この混合液を基材に塗布し、150℃〜350℃
の範囲の温度で30秒〜10分間加熱することによって
も、耐熱性および絶縁性を有する被膜が形成される。
Furthermore, the prepolymer liquid and the main polymer liquid are mixed, and this mixed liquid is applied to the base material at a temperature of 150°C to 350°C.
A film having heat resistance and insulation properties can also be formed by heating at a temperature in the range of 30 seconds to 10 minutes.

(作用) 本発明の方法において、有機ポリマー ジルコニウムア
ルコキシド、シランカップリング剤、ゾル−ゲル法触媒
、および溶媒を含有するメインポリマー液を基材表面に
付与すると、空気中の水分を吸収して容易に硬化する。
(Function) In the method of the present invention, when a main polymer liquid containing an organic polymer zirconium alkoxide, a silane coupling agent, a sol-gel method catalyst, and a solvent is applied to the surface of a substrate, moisture in the air is easily absorbed. hardens.

これは、処理液中のアルコキシドが空気中の水分によっ
て、加水分解され、ゾル−ゲル法触媒の働きによって、
生じた水酸基からプロトンが奪取され、加水分解生成物
同士の脱水重縮合反応が進行するためである。このとき
、同時にシランカップリング剤も加水分解されて、アル
コキシ基が水酸基となる。触媒の働きによりエポキシ基
の開環も起こり、水酸基が生じる。そして、加水分解さ
れたシランカップリング剤と加水分解されたアルコキシ
ドとの重縮合反応が進行する。有機ポリマーも重縮合反
応に関与する。例えば、有機ポリマーとしてポリアミド
イミドを用いた場合には、ゾル−ゲル法触媒の働きでア
ミド基のプロトンが奪取され、加水分解されたジルコニ
ウムアルコキシドやシランカップリング剤との重縮合反
応が進行し、Zr−0−N結合や5i−0−N結合が生
成される。メインポリマー液にホウ酸が含有されている
場合には、B2O3のB3″イオンが、シランカップリ
ング剤や金属アルコキシドの架橋していない酸素原子を
引き付けて、四面体状の[B04]を構成する。その結
果、S 1−0−B、 Zr−0−B結合を形成し、メ
インポリマーのシランやジルコニウムのガラス質の網目
構造の切れ目を四面体状の[BOa]で封止することに
なるため、耐熱性および硬度が増大し、耐水性および耐
酸化性に優れた被膜が得られる。上記の反応は、常温で
も進行するが、加熱処理することにより加速され、確実
に反応が完結する。そして、優れた耐熱性と電気絶縁性
を有する被膜が形成される。
This is because alkoxides in the treatment liquid are hydrolyzed by moisture in the air, and due to the action of the sol-gel catalyst,
This is because protons are taken away from the generated hydroxyl groups, and the dehydration polycondensation reaction between the hydrolysis products proceeds. At this time, the silane coupling agent is also hydrolyzed at the same time, and the alkoxy group becomes a hydroxyl group. Due to the action of the catalyst, ring opening of the epoxy group also occurs, producing a hydroxyl group. Then, a polycondensation reaction between the hydrolyzed silane coupling agent and the hydrolyzed alkoxide proceeds. Organic polymers also participate in polycondensation reactions. For example, when polyamide-imide is used as an organic polymer, the protons of the amide group are removed by the action of a sol-gel catalyst, and a polycondensation reaction with hydrolyzed zirconium alkoxide and a silane coupling agent proceeds. Zr-0-N bonds and 5i-0-N bonds are generated. When the main polymer liquid contains boric acid, the B3'' ion of B2O3 attracts the non-crosslinked oxygen atoms of the silane coupling agent and metal alkoxide to form a tetrahedral [B04]. As a result, S 1-0-B and Zr-0-B bonds are formed, and the breaks in the glassy network structure of the main polymer silane and zirconium are sealed with tetrahedral [BOa]. As a result, heat resistance and hardness increase, and a film with excellent water resistance and oxidation resistance is obtained.The above reaction proceeds even at room temperature, but heat treatment accelerates it and ensures completion of the reaction. A film having excellent heat resistance and electrical insulation properties is then formed.

このようにして形成された被膜は、ジルコニウムアルコ
キシドおよびシランカップリング剤の無機骨格に由来す
る無機質部分と、ポリアミドイミドなどの有機ポリマー
とシランカップリング剤の有機基(エポキシ基など)に
由来する有機質部分とが化学的に結合している。メイン
ポリマーは、基本的には無機部分による多孔質の高分子
またはそれらが3次元的に結合した巨大高分子であり、
さらにこの高分子が複数個集合して、多孔質の三次元マ
トリックスを形成している。この多孔質高分子の細孔部
分は、複合ポリマーの有機部分が充填され、細孔が有機
質で封止された緻密な構造を有する。さらに、有機部分
が無機質部分と化学的に結合しているため、高温でも有
機部分の劣化や体積の減少などがおこりにくく、耐湿性
、耐溶剤性、耐薬品性に優れる。そして、被膜が、基材
を酸素や化学物質から効果的に隔離するため、高温下で
も、酸化や他の化学反応による不可逆的な熱劣化が生じ
ることがない。
The film thus formed consists of an inorganic part derived from the inorganic skeleton of the zirconium alkoxide and the silane coupling agent, and an organic part derived from the organic polymer such as polyamideimide and the organic group (epoxy group, etc.) of the silane coupling agent. The parts are chemically bonded. The main polymer is basically a porous polymer made of inorganic parts or a giant polymer in which these are bonded three-dimensionally,
Furthermore, a plurality of these polymers aggregate to form a porous three-dimensional matrix. The pores of this porous polymer are filled with the organic portion of the composite polymer and have a dense structure in which the pores are sealed with the organic material. Furthermore, since the organic part is chemically bonded to the inorganic part, the organic part is less prone to deterioration or volume reduction even at high temperatures, and has excellent moisture resistance, solvent resistance, and chemical resistance. And because the coating effectively isolates the substrate from oxygen and chemicals, irreversible thermal degradation due to oxidation or other chemical reactions does not occur, even at high temperatures.

メインポリマー層の下層にプレポリマー層が形成される
場合には、以下のようにして反応が進行する。まず、ジ
ルコニウムアルコ牛シト、シランカップリング剤、チタ
ニウムアルコキシドを含有するプレポリマー液が、基材
に塗布されると、空気中の水分を吸収して容易に硬化す
る。これは、プレポリマー液中のアルコ牛シトが空気中
の水分によって、加水分解され、上記と同様の脱水重縮
合反応が進行するためである。このとき、上記と同様に
シランカップリング剤も加水分解されて、アルコ牛シト
と縮合する。これにより、Zr−0−TisZr−0−
Si、 Zr−0−C,Ti−0−C,Tf−0−Sf
などの結合を有するプレポリマーが形成される。さらに
このプレポリマーは、基材内の金属原子や無機原子とも
酸素原子を介して結合するため、基材表面に強固に接着
する。
When a prepolymer layer is formed below the main polymer layer, the reaction proceeds as follows. First, when a prepolymer liquid containing zirconium alkoxide, a silane coupling agent, and titanium alkoxide is applied to a substrate, it absorbs moisture in the air and hardens easily. This is because the alcocyte in the prepolymer liquid is hydrolyzed by moisture in the air, and the same dehydration polycondensation reaction as described above proceeds. At this time, the silane coupling agent is also hydrolyzed and condensed with the alcocyte in the same manner as above. As a result, Zr-0-TisZr-0-
Si, Zr-0-C, Ti-0-C, Tf-0-Sf
A prepolymer is formed having bonds such as. Furthermore, this prepolymer is also bonded to metal atoms and inorganic atoms within the base material via oxygen atoms, so that it firmly adheres to the surface of the base material.

次いで、このプレポリマー層が形成された基材に上記と
同様にしてメインポリマー層が形成されると、メインポ
リマーは、プレポリマー層に残存するアルコ牛シトとも
脱水重縮合反応を行うので、プレポリマー層とプレポリ
マー層とが強固に結合する。
Next, when a main polymer layer is formed on the base material on which this prepolymer layer is formed in the same manner as described above, the main polymer also undergoes a dehydration polycondensation reaction with the alco-cows remaining in the prepolymer layer. The polymer layer and prepolymer layer are strongly bonded.

このようにして形成された被膜は、プレポリマーとメイ
ンポリマーとが互いに化学的に結合した複合ポリマーか
らなる。プレポリマーは、−0−Sj−0−1−0−T
i−0−の結合を含有するため、熱に対して形状や寸法
変化がほとんどなく、Zr成分を含有するため、適度な
靭性を有する。さらに、プレポリマー液には、チタニウ
ムアルコキシドが含有されるため、プレポリマーは、0
−Ti−0結合を有する。
The film thus formed is made of a composite polymer in which a prepolymer and a main polymer are chemically bonded to each other. The prepolymer is -0-Sj-0-1-0-T
Since it contains an i-0- bond, there is almost no change in shape or dimension due to heat, and because it contains a Zr component, it has appropriate toughness. Furthermore, since the prepolymer liquid contains titanium alkoxide, the prepolymer has 0
-Ti-0 bond.

0−Ti−0結合は、熱伝導率が但く、高温に曝された
際に基材に熱が伝わるのを防ぎ、基材に良好な耐熱性を
付与する。
The 0-Ti-0 bond has good thermal conductivity, but prevents heat from being transferred to the base material when exposed to high temperatures, and provides the base material with good heat resistance.

このように、本発明の被膜は、無機質部分の耐熱性と絶
縁性、および有機ポリマーの柔軟性とを合わせ持つため
、優れた耐熱性および電気絶縁性を有し、かつ加工性に
富んでいる。さらに、熱伝導率が低く、緻密な橋造を有
するため、基材から、外部の高温や酸素などの化学物質
を効果的に遮断して、基材に一優れた耐熱性を与える。
As described above, the film of the present invention has both the heat resistance and insulation properties of the inorganic part and the flexibility of the organic polymer, so it has excellent heat resistance and electrical insulation properties, and is highly processable. . Furthermore, because it has low thermal conductivity and a dense bridge structure, it effectively blocks external high temperatures and chemical substances such as oxygen from the base material, giving the base material excellent heat resistance.

例えば、ポリエチレンテレフタレートなどの基材に本発
明の耐熱性および絶縁性被膜を形成した場合、260℃
のシリコンオイルバス中で20秒間放置しても、基材に
は、変形、変色、劣化などの変化は見られない。さらに
、150℃で30分間放置しても、収縮または歪は、0
.05%以下である。そして、被膜の絶縁性は、抵抗が
109Ω、絶縁破壊電圧が8000V以上である。
For example, when the heat-resistant and insulating film of the present invention is formed on a base material such as polyethylene terephthalate,
Even after being left in a silicone oil bath for 20 seconds, the base material showed no changes such as deformation, discoloration, or deterioration. Furthermore, even if left at 150°C for 30 minutes, there was no shrinkage or distortion.
.. 0.05% or less. As for the insulation properties of the film, the resistance is 109Ω and the dielectric breakdown voltage is 8000V or more.

本発明のワニス組成物は、有機部分と無機質部分の比率
を変えることによって、基材の使用目的に応じた特性の
被膜を得ることができる。例えば、電気部品用被膜は、
耐熱性、電気絶縁性の他に、コロナ放電、アーク放電に
対する耐性が要求される。このような被膜を得るために
は、ワニス組成物中の無機質部分の比率を高めることが
好ましい。
In the varnish composition of the present invention, by changing the ratio of the organic part to the inorganic part, it is possible to obtain a film with characteristics depending on the intended use of the base material. For example, coatings for electrical parts are
In addition to heat resistance and electrical insulation, resistance to corona discharge and arc discharge is required. In order to obtain such a coating, it is preferable to increase the proportion of the inorganic part in the varnish composition.

マイカ用バインダー ガラスクロス用絶縁被膜として使
用する場合には、柔軟性が要求されるので、有機部分の
比率を高めることが好ましい。このように、本発明のワ
ニス組成物は、基材の用途に応じて容易に被膜の特性を
調節することが可能であり、幅広い用途に使用すること
ができる。
Binder for Mica When used as an insulating coating for glass cloth, flexibility is required, so it is preferable to increase the proportion of the organic portion. As described above, the varnish composition of the present invention allows the properties of the coating to be easily adjusted depending on the use of the substrate, and can be used for a wide range of purposes.

(実施例) 以下に本発明を実施例につき説明する。(Example) The invention will be explained below with reference to examples.

実1」−一 本実施例では、本発明のワニス組成物をコイル含浸用ワ
ニスとして用いた。まず、下記に示す成分を攪拌しなが
ら混合し、プレポリマー液を調製した。
EXAMPLE 1 In this example, the varnish composition of the present invention was used as a varnish for coil impregnation. First, the components shown below were mixed with stirring to prepare a prepolymer liquid.

チタニウムテトライソツブ0本°今シト       
        0.5イ1プロ八°ノール     
                   46,5ソ゛
トケ゛ル法触媒            微量上記プレ
ポリマー液をコイルに塗布し、乾燥して、プレポリマー
の層を形成した。
0 titanium tetraisotubs
0.5i 1 Pro 8° Nord
46,5 Sotokel Process Catalyst A small amount of the above prepolymer solution was applied to a coil and dried to form a prepolymer layer.

ついで、下記の成分を攪拌しながら混合し、メインポリ
マー液を調製した。
Next, the following components were mixed with stirring to prepare a main polymer liquid.

メインポリマー液 成分 重量% 本″す1ミドイミド 工本°キノシランカブブリンク゛剤 (SH6040)
        2.97エチルシリケー)     
                     12.2
7シ゛ルコニウムテトラフ゛ト今シト ( Zr02 
10%)       1.89トルエン      
                       18
.00シ゛メチル本ルムTミド           
          19.28ソ゛トケ゛ル法触媒 
           微量以上の連続使用が可能であ
った。コイルに形成された被膜の電気的特性を評価した
ところ表1の結果を得た。
Main polymer liquid component weight % Hon.
2.97 ethyl silica)
12.2
7 Zirconium Tetraphyte (Zr02)
10%) 1.89 toluene
18
.. 00 methyl booklum Tmid
19.28 Sotocale process catalyst
Continuous use of more than a trace amount was possible. When the electrical characteristics of the coating formed on the coil were evaluated, the results shown in Table 1 were obtained.

表1 このメインポリマー液を上記でプレポリマーを形成した
コイルの表面に塗布した。さらに、プレポリマー液とメ
インポリマー液を数回繰り返して塗布し、このコイルを
120〜170℃の温度で加熱処理して、絶縁性被膜で
被覆されたコイルを得た。
Table 1 This main polymer solution was applied to the surface of the coil on which the prepolymer was formed above. Further, the prepolymer liquid and the main polymer liquid were repeatedly applied several times, and the coil was heat-treated at a temperature of 120 to 170°C to obtain a coil coated with an insulating film.

上記2種のポリマー液はともに粘度が低く、コイル内部
に充分に浸透し、コイル内部の導線の表面にも被膜が形
成されていた。得られたコイルは、良好な耐熱性を有し
、250℃〜300℃で20.000時間本実施例では
、本発明のワニス組成物をマイカ用ワニスに用いた。マ
イカ用ワニスは柔軟性に富み、耐熱性に優れたものが要
求される。
Both of the above two types of polymer liquids had low viscosity and sufficiently penetrated into the inside of the coil, and a film was also formed on the surface of the conductive wire inside the coil. The obtained coil had good heat resistance and was heated at 250° C. to 300° C. for 20,000 hours. In this example, the varnish composition of the present invention was used as a varnish for mica. Varnishes for mica are required to be highly flexible and have excellent heat resistance.

以下に示す成分を攪拌しながら混合して、ワニス組成物
を調製した。
A varnish composition was prepared by mixing the components shown below with stirring.

成分 重量% 本゛リアミドイミド 工本°キシソランカブブリンク゛剤 (SH6040)
エチルシリケート 31、76 2、10 6、30 表2 トルエン シ゛メチル本ルムアミト′ ソ゛ルーケ′ル法触媒 24、G。
Ingredient weight% Main lyamide-imide compound xysolan carblinking agent (SH6040)
Ethyl silicate 31, 76 2, 10 6, 30 Table 2 Toluene methyl sulfur amide salt process catalyst 24, G.

24、04 微量 上記ワニス組成物をマイカに塗布し、170〜230℃
で3分間加熱した。得られた被膜の電気特性を表2に示
す。
24,04 Apply a small amount of the above varnish composition to mica and heat at 170 to 230°C.
was heated for 3 minutes. Table 2 shows the electrical properties of the obtained film.

(以下余白) 本実施例では、本発明のワニス組成物を半導体対土用と
して用いた例を示す。半導体封止用ワニスは、比較的低
温で硬化すること、耐熱性、耐水性、耐溶剤性に富むこ
と、熱膨張係数が小さく、半導体チップやリードフレー
ムとの接着性が良好であること、誘電率が低いことなど
が要求される。
(Left below) This example shows an example in which the varnish composition of the present invention was used for semiconductor coating. Semiconductor encapsulation varnishes must cure at relatively low temperatures, have high heat resistance, water resistance, and solvent resistance, have a small coefficient of thermal expansion, have good adhesion to semiconductor chips and lead frames, and have excellent dielectric properties. It is required that the ratio be low.

まず、以下に示す成分を攪拌しながら混合して、ワニス
組成物を調製した。
First, a varnish composition was prepared by mixing the components shown below with stirring.

(以″7−/i−リ 表3 ネ°リアミド′イミド               
      31.76工本°キンシランfJグブりン
ク゛剤 (SH6040)      1.90エチル
シリケート                    
    12.28シ゛ルコニウムテトラフ゛ト今シド フ゛タノール溶液 (ZnO2to%)       
     1.89トルエン            
                26.83シ゛メチ
ル本ルムアミド                  
  27.00ソ′ルーケ゛ル法触媒        
           微量上記のワニス組成物を用い
て常法により半導体素子を封止した。得られた半導体素
子は耐溶剤性に優れ、80℃〜100℃に加熱しても被
膜が軟化するなどの問題は生じなかった。被膜の電気的
特性を表3に示す。
(hereinafter "7-/i-li-Table 3
31.76 units Kinsilane fJ linking agent (SH6040) 1.90 Ethyl silicate
12.28 Silconium tetraphyte phenol solution (ZnO2to%)
1.89 toluene
26.83 dimethyl lumamide
27.00 Soluble process catalyst
A semiconductor element was sealed by a conventional method using a small amount of the above varnish composition. The obtained semiconductor device had excellent solvent resistance, and no problems such as softening of the film occurred even when heated to 80°C to 100°C. The electrical properties of the coating are shown in Table 3.

1)85℃、85%RHで4日間放置後。1) After being left at 85°C and 85% RH for 4 days.

宜11土 最外層のプレポリマー液として下記に示す成分を含有す
るプレポリマー液を用いたこと以外は実施例1と同様に
して、絶縁性被膜で被覆されたコイルを得た。
A coil coated with an insulating film was obtained in the same manner as in Example 1, except that a prepolymer solution containing the components shown below was used as the prepolymer solution for the outermost layer of the clay.

(以下余白) 本°リアミドイミド エネ°キシシランカフフ゛リンク゛剤 (SH6040
)      8.55エチルシリケート      
                    1.71ホ
ウ酸            4,27シ゛メチル本ル
ムアミド                    2
7.00ン゛ルーケ゛ル法触媒           
       微量などの特性を容易に調整することが
可能である。
(Left below) This Riamidoimidene xysilane cuff linking agent (SH6040
) 8.55 ethyl silicate
1.71 boric acid 4,27 dimethyl lumamide 2
7.00-inch Rouker process catalyst
It is possible to easily adjust characteristics such as trace amount.

従って、本発明のワニス組成物は、様々な種類の電気機
器または電子機器に好適に用いられ得る。
Therefore, the varnish composition of the present invention can be suitably used for various types of electrical or electronic equipment.

以上that's all

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、有機ポリマー、ジルコニウムアルコキシド、シラン
カップリング剤、ゾル−ゲル法触媒、および溶媒を含有
するメインポリマー液からなる、耐熱性および絶縁性ワ
ニス組成物。 2、前記メインポリマー液に加えて、さらに、プレポリ
マー液を含有し、 該プレポリマー液が、ジルコニウムアルコキシド、シラ
ンカップリング剤、チタニウムアルコキシド、ゾル−ゲ
ル法触媒および溶媒を含有する、請求項1に記載のワニ
ス組成物。3、前記ワニス組成物が、前記プレポリマー
液とメインポリマー液との混合物である、請求項2に記
載のワニス組成物。 4、前記有機ポリマーがポリアミドイミドである、請求
項1または2に記載のワニス組成物。 5、前記メインポリマー液が、さらにホウ酸を含有する
、請求項1または2に記載のワニス組成物。 6、前記ゾル−ゲル法触媒が、実質的に水に不溶で、有
機溶媒に可溶な第3アミンである、請求項1または2に
記載のワニス組成物。 7、前記ゾル−ゲル法触媒が、N,N−ジメチルベンジ
ルアミンである、請求項6に記載のワニス組成物。 8、請求項1に記載のワニス組成物を用いて耐熱性およ
び絶縁性を有する被膜を形成する方法であって、 前記ワニス組成物を基材表面に付与する工程;と、 該組成物が付与された基材を、150〜350℃の範囲
の温度で熱処理することにより、該基材表面に被膜を形
成する工程;とを包含する、 耐熱性および絶縁性被膜の形成方法。 9、請求項2に記載のワニス組成物を用いて耐熱性およ
び絶縁性を有する被膜を形成する方法であって、 前記プレポリマー液を基材表面に付与し、プレポリマー
の層を基材表面に形成する工程;該プレポリマーの層の
表面に前記メインポリマー液を付与し、該プレポリマー
層の表面にメインポリマーの層を形成する工程;および
、 該プレポリマー層とメインポリマー層とを有する基材を
、150〜350℃の範囲の温度で熱処理することによ
り、該基材表面に被膜を形成する工程;を包含する、 耐熱性および絶縁性被膜の形成方法。
[Scope of Claims] 1. A heat-resistant and insulating varnish composition comprising a main polymer liquid containing an organic polymer, zirconium alkoxide, a silane coupling agent, a sol-gel method catalyst, and a solvent. 2. In addition to the main polymer liquid, it further contains a prepolymer liquid, and the prepolymer liquid contains a zirconium alkoxide, a silane coupling agent, a titanium alkoxide, a sol-gel method catalyst, and a solvent. The varnish composition described in . 3. The varnish composition according to claim 2, wherein the varnish composition is a mixture of the prepolymer liquid and the main polymer liquid. 4. The varnish composition according to claim 1 or 2, wherein the organic polymer is polyamideimide. 5. The varnish composition according to claim 1 or 2, wherein the main polymer liquid further contains boric acid. 6. The varnish composition according to claim 1 or 2, wherein the sol-gel catalyst is a tertiary amine that is substantially insoluble in water and soluble in organic solvents. 7. The varnish composition according to claim 6, wherein the sol-gel method catalyst is N,N-dimethylbenzylamine. 8. A method of forming a heat-resistant and insulating film using the varnish composition according to claim 1, comprising: applying the varnish composition to the surface of a substrate; A method for forming a heat-resistant and insulating film, the method comprising: forming a film on the surface of the base material by heat-treating the base material at a temperature in the range of 150 to 350°C. 9. A method of forming a heat-resistant and insulating film using the varnish composition according to claim 2, comprising applying the prepolymer liquid to the surface of the substrate, and applying the prepolymer layer to the surface of the substrate. a step of applying the main polymer liquid to the surface of the prepolymer layer to form a main polymer layer on the surface of the prepolymer layer; and having the prepolymer layer and the main polymer layer. A method for forming a heat-resistant and insulating film, comprising: forming a film on the surface of a base material by heat-treating the base material at a temperature in the range of 150 to 350°C.
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