JPH045266A - ドパミン誘導体の製造方法 - Google Patents
ドパミン誘導体の製造方法Info
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
チルアミンと下記式
([)
%式%
本発明は、
急激に低下した心臓収縮を処理する
のに有用なドパミン誘導体の新規な製造方法に関H3
する。
で示される4−
(4−ヒドロキシフェニル)
ブタ
ン
2−オンとをシアンホウ素化水素ナトリウム従来、
下記式
触媒存在下に反応させることにより、
下記式(I[[)
で示される4−
〔2
〔
〔3−
ヒドロキシ
フェニル)−1−メチルプロピル〕アミン〕エチル)
−1,2−ベンゼンジオールの製造方法としては、以下
の(a)〜(C)の3つの方法が知られている。
−1,2−ベンゼンジオールの製造方法としては、以下
の(a)〜(C)の3つの方法が知られている。
(a) 2−(3,4−ジメトキシフェニル)エチル
アミン(1)と4−(4−メトキシフェニル)ブタン−
2−オン(V)とを反応させ、得られた中間体(Vl)
を水素化して式(■)の化合物を製造し、次に48%臭
化水素酸により脱メチル化し、フェノール性アミンとす
る方法。この際、水素化反応は水素化用触媒として5%
パラジウム担持炭又はラニーニッケルの存在下に約25
〜250 psiの水素圧で水素化することによって行
われる(特公昭5B −25656号公報、下記反応式
参照)。
アミン(1)と4−(4−メトキシフェニル)ブタン−
2−オン(V)とを反応させ、得られた中間体(Vl)
を水素化して式(■)の化合物を製造し、次に48%臭
化水素酸により脱メチル化し、フェノール性アミンとす
る方法。この際、水素化反応は水素化用触媒として5%
パラジウム担持炭又はラニーニッケルの存在下に約25
〜250 psiの水素圧で水素化することによって行
われる(特公昭5B −25656号公報、下記反応式
参照)。
(b) 3.4−ジメトキシフェニル酢酸と3−(4
−メトキシフェニル)−1−メチルプロピルアミンとを
縮合してメトキシル化アミドとし、次いでボランを用い
て第2アミンへ還元した後、48%臭化水素酸により脱
メチル化し、フェノール性アミンとする方法(特開昭5
8−25656号公報、下記反応式参照)。
−メトキシフェニル)−1−メチルプロピルアミンとを
縮合してメトキシル化アミドとし、次いでボランを用い
て第2アミンへ還元した後、48%臭化水素酸により脱
メチル化し、フェノール性アミンとする方法(特開昭5
8−25656号公報、下記反応式参照)。
CH3
CH3
CH3
Hff
CH。
CI。
(IV)
(C) 2− (3,4−ジメトキシフェニル)エチ
ルアミンと4−メトキシフヱニルプロベニルケトンとを
反応させてアミノケトンとし、次に5%パラジウム担持
炭を使用して50psiの水素圧でカルボニルをメチレ
ンへ還元した後、48%臭化水素酸により脱メチル化し
、フェノール性アミンとする方法(特開昭58−256
56号公報、下記反応式参照)。
ルアミンと4−メトキシフヱニルプロベニルケトンとを
反応させてアミノケトンとし、次に5%パラジウム担持
炭を使用して50psiの水素圧でカルボニルをメチレ
ンへ還元した後、48%臭化水素酸により脱メチル化し
、フェノール性アミンとする方法(特開昭58−256
56号公報、下記反応式参照)。
CH。
co、 0
CHl
CH。
゛シよ゛と る
しかしながら、上述した(a)〜(C)の方法は、いず
れもドパミン誘導体を得るまでの反応段数が多いために
操作が煩雑であり、収率面からも好ましくないという欠
点があった。更に、(a)、(C)の方法は、加圧下で
反応を進める必要があるので操作が面倒であり、安全性
にも問題があった。
れもドパミン誘導体を得るまでの反応段数が多いために
操作が煩雑であり、収率面からも好ましくないという欠
点があった。更に、(a)、(C)の方法は、加圧下で
反応を進める必要があるので操作が面倒であり、安全性
にも問題があった。
従って、上記(IV)式のドパミン誘導体の工業的に有
利な製造方法の開発が望まれていた。
利な製造方法の開発が望まれていた。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、上記(IV)
式のドパミン誘導体及びその酸付加塩を簡単な操作で安
全かつ高収率で製造することができるドパミン誘導体の
製造方法を提供することを目的とする。
式のドパミン誘導体及びその酸付加塩を簡単な操作で安
全かつ高収率で製造することができるドパミン誘導体の
製造方法を提供することを目的とする。
るための び
本発明者は上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結
果、下記式(I) で示される2−(3,4−ジメトキシフェニル)エチル
アミンと下記式(II) CH。
果、下記式(I) で示される2−(3,4−ジメトキシフェニル)エチル
アミンと下記式(II) CH。
で示される4−(4−ヒドロキシフェニル)ブタン−2
−オンとをシアンホウ素化水素ナトリウム触媒存在下に
反応させることにより、下記式Cm)で示される新規な
アミノ酸誘導体が中間体として得られ、この化合物を脱
メチル化することにより、下記式(■) Jn で示されるドパミン誘導体及びその酸付加塩を少ない反
応段数で簡単かつ安全な操作で、しかも、収率艮く製造
できることを知見した。
−オンとをシアンホウ素化水素ナトリウム触媒存在下に
反応させることにより、下記式Cm)で示される新規な
アミノ酸誘導体が中間体として得られ、この化合物を脱
メチル化することにより、下記式(■) Jn で示されるドパミン誘導体及びその酸付加塩を少ない反
応段数で簡単かつ安全な操作で、しかも、収率艮く製造
できることを知見した。
即ち、本発明は上述した従来法(a)と類似の出発原料
を使用するものであるが、本発明はその反応に際し触媒
としてシアンホウ素化水素ナトリウムを使用したことに
より、(a)法の中間物質(Vl)を経ることなく、従
って加圧下で水素化するという工程を経ることなく、−
挙に式(■)の化合物と類似の中間体(III)を得る
ことができ、しかもこの反応は室温、常圧という温和な
条件で進行するので、本目的物質の工業的製法として非
常に有利であることを知見し、本発明をなすに至ったも
のである。
を使用するものであるが、本発明はその反応に際し触媒
としてシアンホウ素化水素ナトリウムを使用したことに
より、(a)法の中間物質(Vl)を経ることなく、従
って加圧下で水素化するという工程を経ることなく、−
挙に式(■)の化合物と類似の中間体(III)を得る
ことができ、しかもこの反応は室温、常圧という温和な
条件で進行するので、本目的物質の工業的製法として非
常に有利であることを知見し、本発明をなすに至ったも
のである。
従って、本発明は、(I)式の2−(3,4−ジメトキ
シフェニル)エチルアミンと(n)式の4−(4−ヒド
ロキシフェニル)ブタン−2−オンとをシアンホウ素化
水素ナトリウム触媒存在下に反応させることにより、(
I[[)式の化合物を得た後、該化合物を脱メチル化す
ることを特徴とする(IV)式のドパミン誘導体又はそ
の酸付加塩の製造方法を提供する。
シフェニル)エチルアミンと(n)式の4−(4−ヒド
ロキシフェニル)ブタン−2−オンとをシアンホウ素化
水素ナトリウム触媒存在下に反応させることにより、(
I[[)式の化合物を得た後、該化合物を脱メチル化す
ることを特徴とする(IV)式のドパミン誘導体又はそ
の酸付加塩の製造方法を提供する。
以下、本発明につき更に詳述する。
本発明の製造方法では、まず下記式(1)で示される2
−(3,4−ジメトキシフェニル)エチルアミンと下記
式(II) H3 で示される4−(4−ヒドロキシフェニル)ブタン−2
−オンとをシアンホウ素化水素ナトリウムの存在下で反
応させて還元的にアミノ化するもので、この反応により
、下記一般式(I[[)%式%([) で示されるメトキシ化第2級アミンが得られる。
−(3,4−ジメトキシフェニル)エチルアミンと下記
式(II) H3 で示される4−(4−ヒドロキシフェニル)ブタン−2
−オンとをシアンホウ素化水素ナトリウムの存在下で反
応させて還元的にアミノ化するもので、この反応により
、下記一般式(I[[)%式%([) で示されるメトキシ化第2級アミンが得られる。
ここで、(1)式の化合物と(If)式の化合物との混
合割合は、(n)式の化合物に対して(1)式の化合物
を等モル−8倍モル、特に4倍モル〜6倍モルとするこ
とが好ましい。
合割合は、(n)式の化合物に対して(1)式の化合物
を等モル−8倍モル、特に4倍モル〜6倍モルとするこ
とが好ましい。
また、上記反応は触媒としてシアンホウ素化水素ナトリ
ウムの存在下に行なうもので、この触媒の使用量は(I
I)式の化合物に対して等モル−5倍モル、特に等モル
−2倍モルが好適である。シアンホウ素化水素ナトリウ
ムの使用量が等モルに満たないと還元的アミノ化が十分
に進まず、(I[[)式の化合物を高収率で合成できな
い場合があり、5倍モルを越えると経済的に不利である
。
ウムの存在下に行なうもので、この触媒の使用量は(I
I)式の化合物に対して等モル−5倍モル、特に等モル
−2倍モルが好適である。シアンホウ素化水素ナトリウ
ムの使用量が等モルに満たないと還元的アミノ化が十分
に進まず、(I[[)式の化合物を高収率で合成できな
い場合があり、5倍モルを越えると経済的に不利である
。
更に、反応条件は適宜調整できるが、反応温度は室温で
十分で特に加熱する必要はなく、反応時間は24〜10
0時間、特に48〜72時間程度とすることができる。
十分で特に加熱する必要はなく、反応時間は24〜10
0時間、特に48〜72時間程度とすることができる。
なお、反応は加圧下で進める必要はなく、常圧下で行な
うことができる。
うことができる。
なおまた、上記反応は有機溶媒中で行なうことが望まし
く、有機溶媒としては、例えばメタノール、エタノール
、イソプロパツール等のアルコール系溶媒等が好適に使
用される。
く、有機溶媒としては、例えばメタノール、エタノール
、イソプロパツール等のアルコール系溶媒等が好適に使
用される。
次いで、本発明では上記(III)式のアミノ酸誘導体
を脱メチル化することにより、目的とする下記一般式(
IV) +J0 で示されるドパミン誘導体又はその酸付加塩を得るもの
である。
を脱メチル化することにより、目的とする下記一般式(
IV) +J0 で示されるドパミン誘導体又はその酸付加塩を得るもの
である。
この場合、(I[[)式の化合物の脱メチル化は、通常
の方法を採用し得、溶媒として酢酸を用い、この酢酸中
で臭化水素酸、特に48%臭化水素酸の存在下で行なう
ことができる。なお、臭化水素酸の使用量は、反応溶媒
の酢酸と臭化水素酸との比が10:1〜1:1、特に4
:1となるような量が適当である。
の方法を採用し得、溶媒として酢酸を用い、この酢酸中
で臭化水素酸、特に48%臭化水素酸の存在下で行なう
ことができる。なお、臭化水素酸の使用量は、反応溶媒
の酢酸と臭化水素酸との比が10:1〜1:1、特に4
:1となるような量が適当である。
また、反応条件は適宜調整できるが、反応温度は還流下
で十分であり、反応時間は1〜12時間、特に4〜6時
間が好適である。
で十分であり、反応時間は1〜12時間、特に4〜6時
間が好適である。
更に、(IV)弐のドパミン誘導体は、必要に応じて酸
を付加して酸付加塩とすることができ、酸としては、例
えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等が挙げられる。なお、酸
付加は通常の方法で行なうことができる。
を付加して酸付加塩とすることができ、酸としては、例
えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等が挙げられる。なお、酸
付加は通常の方法で行なうことができる。
主所勿苅1
以上説明したように、本発明の製造法によれば、上記(
III)式で示される新規なアミノ酸誘導体を中間体と
して簡単な操作で安全かつ収率良く上記(IV)式のド
パミン誘導体及びその酸付加塩を製造することができる
。従って、本発明の製造方法は工業的に有利である。
III)式で示される新規なアミノ酸誘導体を中間体と
して簡単な操作で安全かつ収率良く上記(IV)式のド
パミン誘導体及びその酸付加塩を製造することができる
。従って、本発明の製造方法は工業的に有利である。
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本
発明は下記実施例に制限されるものではない。
発明は下記実施例に制限されるものではない。
なお、下記実施例において、生成物の融点は未補正であ
る。
る。
無水メタノール10mf中に2−(3,4−ジメトキシ
フェニル)エチルアミン3.05 g (0,0168
モル)、5N塩酸−メタノール1.12mj2.4−(
4−ヒドロキシフェニル)ブタン−2−オン0、46
g (0,0028モル)、シアンホウ素化水素ナトリ
ウム0.2 g (0,00316モル)を順に加え、
室温で72時間撹拌した。反応後、濃塩酸でpH2以下
にし、溶媒を留去した後、エーテルで洗浄し、その水溶
液を水酸化カリウムでpH10以上にした。
フェニル)エチルアミン3.05 g (0,0168
モル)、5N塩酸−メタノール1.12mj2.4−(
4−ヒドロキシフェニル)ブタン−2−オン0、46
g (0,0028モル)、シアンホウ素化水素ナトリ
ウム0.2 g (0,00316モル)を順に加え、
室温で72時間撹拌した。反応後、濃塩酸でpH2以下
にし、溶媒を留去した後、エーテルで洗浄し、その水溶
液を水酸化カリウムでpH10以上にした。
更に、エーテルで抽出して水で洗浄後、亡硝で乾燥、濾
過、溶媒を留去した。残金をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し、2%エタノール/クロロホルム流出
画分から4− (3−((2−(3,4−ジメトキシフ
ェニル)エチル〕アミノ〕−1−メチルプロピル〕フェ
ノール0.75 gを得た(収率81.4%)。
過、溶媒を留去した。残金をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し、2%エタノール/クロロホルム流出
画分から4− (3−((2−(3,4−ジメトキシフ
ェニル)エチル〕アミノ〕−1−メチルプロピル〕フェ
ノール0.75 gを得た(収率81.4%)。
得られた化合物の赤外線吸収スペクトル、H−NMRス
ペクトル及びマススペクトルの結果は下記のとおりであ
った。
ペクトル及びマススペクトルの結果は下記のとおりであ
った。
赤外線吸収スペクトル
1、R,ν”’ (cm−’) :2930,28
50,1610.1590H−NMRスペクトル (DMSO−da) 6 : 1.10<3H,d)、
1.40−1.90(2H,tm)2.30〜2.75
(78,m)、3.75(6H,s)5.00(LH,
s)、 6.50〜6.85(7H,m)マススペク
トル Mass : M/e=329 (MW=329)次
に、酢酸40m!、臭化水素酸10mj2中に上記で得
られた化合物0.5 g (0,0015モル)を加え
、4時間加熱還流した。放冷後、溶媒を留去し、水に溶
解した。水酸化ナトリウム水溶液で中和後、析出する結
晶を濾取し、すぐに濃塩酸1oIlll中に加えて一夜
放置し、析出する結晶を濾取して乾燥させた。4Nの塩
酸より再結晶したところ、4− C2−((3−(4−
ヒドロキシフェニル)l−メチルプロピル〕アミノ〕エ
チル) −1,2ヘンゼンジオール0.4 gを得た(
収率87.4%、融点183〜184°C)。
50,1610.1590H−NMRスペクトル (DMSO−da) 6 : 1.10<3H,d)、
1.40−1.90(2H,tm)2.30〜2.75
(78,m)、3.75(6H,s)5.00(LH,
s)、 6.50〜6.85(7H,m)マススペク
トル Mass : M/e=329 (MW=329)次
に、酢酸40m!、臭化水素酸10mj2中に上記で得
られた化合物0.5 g (0,0015モル)を加え
、4時間加熱還流した。放冷後、溶媒を留去し、水に溶
解した。水酸化ナトリウム水溶液で中和後、析出する結
晶を濾取し、すぐに濃塩酸1oIlll中に加えて一夜
放置し、析出する結晶を濾取して乾燥させた。4Nの塩
酸より再結晶したところ、4− C2−((3−(4−
ヒドロキシフェニル)l−メチルプロピル〕アミノ〕エ
チル) −1,2ヘンゼンジオール0.4 gを得た(
収率87.4%、融点183〜184°C)。
得られた化合物の赤外線吸収スペクトル、H−NMRス
ペクトル及びマススペクトルの結果は下記のとおりであ
った。
ペクトル及びマススペクトルの結果は下記のとおりであ
った。
赤外線吸収スペクトル
1、R,ν”’ (cta−’) : 3300.
2900.2B50.2450゜1610、1530.
1520 H−NMRスペクトル (DMSO−di) 6 : 1.30(3)1.d)
、1.35〜3.30(98,+g)6.30〜?、O
O(7H,m) 、 7.70 (1B、 s)8.0
0(2H,s) マススペクトル
2900.2B50.2450゜1610、1530.
1520 H−NMRスペクトル (DMSO−di) 6 : 1.30(3)1.d)
、1.35〜3.30(98,+g)6.30〜?、O
O(7H,m) 、 7.70 (1B、 s)8.0
0(2H,s) マススペクトル
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼…( I ) で示される2−(3,4−ジメトキシフェニル)エチル
アミンと下記式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼…(II) で示される4−(4−ヒドロキシフェニル)ブタン−2
−オンとをシアンホウ素化水素ナトリウム触媒存在下に
反応させることにより、下記式(III)▲数式、化学式
、表等があります▼…(III) で示される化合物を得た後、該化合物を脱メチル化する
ことを特徴とする下記式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼…(IV) で示されるドパミン誘導体又はその酸付加塩の製造方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2107857A JPH045266A (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | ドパミン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2107857A JPH045266A (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | ドパミン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH045266A true JPH045266A (ja) | 1992-01-09 |
Family
ID=14469827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2107857A Pending JPH045266A (ja) | 1990-04-24 | 1990-04-24 | ドパミン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH045266A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014524482A (ja) * | 2011-08-25 | 2014-09-22 | コグニション セラピューティクス,インコーポレイテッド | 神経変性疾患を処置する組成物及び方法 |
US9346114B2 (en) | 2010-04-28 | 2016-05-24 | Aerojet Rocketdyne Of De, Inc. | Substrate having laser sintered underplate |
US9796672B2 (en) | 2014-01-31 | 2017-10-24 | Cognition Therapeutics, Inc. | Isoindoline compositions and methods for treating neurodegenerative disease |
US9815770B2 (en) | 2009-07-31 | 2017-11-14 | Cognition Therapeutics, Inc. | Inhibitors of cognitive decline |
US11214540B2 (en) | 2017-05-15 | 2022-01-04 | Cognition Therapeutics, Inc. | Compositions for treating neurodegenerative diseases |
-
1990
- 1990-04-24 JP JP2107857A patent/JPH045266A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9815770B2 (en) | 2009-07-31 | 2017-11-14 | Cognition Therapeutics, Inc. | Inhibitors of cognitive decline |
US9346114B2 (en) | 2010-04-28 | 2016-05-24 | Aerojet Rocketdyne Of De, Inc. | Substrate having laser sintered underplate |
JP2014524482A (ja) * | 2011-08-25 | 2014-09-22 | コグニション セラピューティクス,インコーポレイテッド | 神経変性疾患を処置する組成物及び方法 |
US9796672B2 (en) | 2014-01-31 | 2017-10-24 | Cognition Therapeutics, Inc. | Isoindoline compositions and methods for treating neurodegenerative disease |
US10207991B2 (en) | 2014-01-31 | 2019-02-19 | Cognition Therapeutics, Inc. | Isoindoline compositions and methods for treating neurodegenerative disease |
US10611728B2 (en) | 2014-01-31 | 2020-04-07 | Cognition Therapeutics, Inc. | Isoindoline compositions and methods for treating neurodegenerative disease |
US11691947B2 (en) | 2014-01-31 | 2023-07-04 | Cognition Therapeutics, Inc. | Isoindoline compositions and methods for treating neurodegenerative disease |
US11214540B2 (en) | 2017-05-15 | 2022-01-04 | Cognition Therapeutics, Inc. | Compositions for treating neurodegenerative diseases |
US11981636B2 (en) | 2017-05-15 | 2024-05-14 | Cognition Therapeutics, Inc. | Compositions for treating neurodegenerative diseases |
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