JPH04506627A - 電気的脱錯体化によるガス混合物からの二原子酸素の分離に遷移金属錯体を使用する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 電気的脱錯体化によるガス混合物からの二原子酸素の分離に遷移金属錯体を使用 する方法 本発明は、二原子酸素（ｄｌｏｘｙｇｅｎ）を含有するガス混合物からの二原子 酸素の分離に遷移金属錯体を使用することに関する。遷移金属Ｍがｙモルの有機 錯形成化合物（ｃｏｍｐｌｅｘｊｎｇ　５ｐｅｃｉｅｓ）　Ｃに結合しているＣ ｙＭ型の多数の遷移金属錯体は、分子状酸素を結合できる。

得られる二原子酸素を結合した錯体は、スーパーオキソ（ｓｕｐｏｒｏｘｏ）型 ：　ｃｙＭ−ｏ−ｏ、μｍペルオキソ型：Ｃｙ　Ｍ−０−０−ＭＣｙ　、シバブ ト（ｄｊｈａｐｔｏ）ペルオキソ型：ヒドロベルオキソ型：　Ｃ）’　Ｍ−０− ０１１，オキソ型：ＣｙＭ−０、又はμｍオキソ型：　ＣｙＭ−０−ＭＣｙのい ずれかである。これらの構造のうち最初の３種類は、遷移金属に対して０２分子 を開裂させることなく結合させたものに相当し、従ってガス混合物から酸素分子 を分離する過程において生成し得る。この点からみて、最も普通に使用される錯 体の１群としては、シッフ塩基、アミノ酸、ポルフィリン、ポリアルキルアミン 又はポリアルキルアミノ酸を結合したコバルト、あるいはクリプタンド（ｃｒｙ ｐＬａｎｄ）又はポルフィリンを結合した鉄が挙げられる。また別の錯体の１群 としては、１個もしくは腹数個のホスフィン又は１個の蛋白質をそれぞれ結合し た遷移金属例えばマンガン又は銅が挙げられる。

これらの錯体に対する二原子酸素の結合は、スーパーオキソ型又はμｍベルオキ ソ型の錯体を生成し、しかも熱力学的に可逆的である。二原子酸素の脱離（脱着 ）工程は、温度を上げることによって及びガス分圧を下げることによって行われ る。

しかしながら、かかる錯体を用いてガス混合物から二原子酸素を分離する効率を 向上させるためには、二原子酸素に対して極めて大きい親和力を有している金属 錯体を用いて連続的方法で実施することが望ましい。

しかしながら、これは金属−酸素の結合力が強く、二原子酸素の脱離工程におい て開裂に極めて大きなエネルギーを必要とする場合には実現できない。Ｍａｘｄ ｅ■Ｉｎｃ、社の米国特許第４，４７５，９９４号は、ガス混合物と接触させた 際に二原子酸素を結合できるコバルト錯体の溶液を使用すること及び二原子酸素 を脱離させるために電気化学的方法を使用することを提案することにより、上記 の問題の少なくとも一部を解決可能にする。

この方法に使用される金属錯体は、初めにコバルトが＋■の酸化状態にある場合 にはスーパーオキソ型ｃｙＣｏ−０−０又はμｍｍベルオキソＣｙ　Ｃｏ−０− ０−ＣｏＣｙの形をとって二原子酸素を結合する。選択された適当な配位子を用 いることによって、有機配位子を変化させることなしに錯体を電気化学的に酸化 することが可能であり、このような次第で電気化学的反応一槽の陽極でガス状の 二原子酸素を発生（すなわち遊離）させることができる。

この酸化反応は、０２に対して不活性なＣｏ（ｍ）錯体の生成をもたらす。該錯 体は電気化学的反応槽の陰極室において還元されて０２を結合可能なＣｏ（ＩＩ ）錯体を再生する。例として、二原子酸素をスーパーオキソ型の形をとって結合 する場合のこのサイクルの例を以下の反応工程図Ｉに示す。

（Ｃ）’Ｃｏ”Ｘ）−ｆｆ　ＣｙＣｏ””Ｘａ− 反応工程図Ｉ スーパーオキソ型（通常は有機媒体に可溶性）又はμｍベルオキソ型（通常は水 性媒体に可溶性）のコバルト錯体は、反応工程図Ｉに示される電気化学的サイク ルに従って分子状酸素を配位（結合）し、運搬し、脱鉛体化できることが知られ ているが、その寿命（ｄａｓｄｕｒｅｅｓ　ｄｅ　ｖｉｅ）が限られている。反 応経路を理解し且つ電気化学的処理下及び二原子酸素の存在下における錯体分子 の崩壊について分析することは、特に考慮しなければならない多数の平衡が存在 する水性媒体中ではかなり難かしい。

特表平４−５０６６２７　（４） これらの平衡のなかで、当業者はプロトン化された配位子と非プロトン化された 配位子の間の平衡（ｐＨの作用）、配位子と金属の間の平衡（配位子の塩基性度 の作用）、異なる配位環境を必要とする化合物（ｓｐｅｃｆｅｓ）同志の間の平 衡（４座配位錯体＃５座配位錯体ば６座配位錯体）、スピン平衡例えば低スピン ｃｍ’　、２高スピンＣｏ’　（使用される配位子の場の力の作用）、二原子酸 素の錯体形成平衡及び酸素化された錯体の２量化を挙げるであろう。

不十分に制御された化学反応及び／又は電気化学反応は、有機配位子を変化させ 得るか、錯体の不可逆分解をもたらす金属それ自体を変化させ得る。

ガス混合物から二原子酸素を分離する方法に必要とされる条件をさらに満足させ る二原子酸素の錯体を得るために、本発明者らは、単純化された配位の機構（５ ｃｈｅ＊ａ）及び溶液中における限定された数の反応を示し、一般に市販されて いる単純な有機配位子を含み且つ反応工程図■に記載の電気化学的サイクルに類 似した電気化学的サイクルに従って機能する新規な１群の遷移金属錯体を用いた 。

このガス混合物から二原子酸素を分離する方法は、−次の一般式（Ａ）： ［Ｌｎ　（Ｍ”）　ｍ　（Ｘ＝）　ｘ］　”　”　（＾）〔式中： ★　Ｌは配位部分（ｕｎ　５ｉｔｅ　ｄｅ　ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ）であっ て、同一か又は異なる単座又は多座の、無機又は有機の１個又は複数個の配位子 の一部分である配位部分を表わし、前記配位子はＭの低い原子価を安定化できる ものであり、特に次の配位子： ・−酸化炭素 ・ホスフィン類 ・ホスフィンオキシト類 ・ホスファイト類 ・脂肪族又は芳香族アミン類 ・アミド類 ・カルボン酸類 ・脂肪族又は芳香族チオール類 ・スルホキシド類 ・ニトリル類 ・イソシアネート類 φアルシン類 ・アルキル（アリールフシラン類又はアルキル（アリール）シロキサン類 ・飽和又は不飽和の、窒素、燐、酸素又は硫黄を含有する複素環式化合物 の中から選択されるものであり、 ★　Ｍは０２を結合してシバブトペルオキソ型の二原子酸素化された化合物、す なわち を形成し得る遷移金属であって、特にＰｄ、　Ｐｔ、　Ｒｈ、　Ｎｉ、１「及び 肋から選択される遷移金属であり、★　Ｘは配位可能な有機陰イオン例えばカル ボン酸イオンであるか又は無機陰イオン例えばハロゲン化物イオン特に塩化物イ オンであり、 ★　ｎは２〜１２の整数であり、配位部分りの数を表わし、 ★　ｐは前記の式（Ａ）で示される錯体中の遷移金属Ｍの酸化数（Ｉｅ　ｄｅｇ ｒｅ　ｄ’ｏｘｙｄａｔｉｏｎ）を表わし、★　ｍは１又は２であり、前記錯体 の金属中心の数を表わし、 ★　２は１〜３の整数であり、前記の陰イオンＸ−２の電荷を表わし、 ★　Ｘは０〜４であり、１個又は複数個の金属中心Ｍに配位された同一か又は異 なる陰イオンＸの数を表わす〕 で示される低い酸化数（Ｉｅ　ｄｅｇｒｅ　ｄ’ｏｘｙｄａｔｌｏｎ）の遷移金 属錯体に二原子酸素を吸収させ； −該吸収により次の式（Ｂ）； ［Ｌｎ　（Ｍｐ＋２０ｈ）　ｍ　（Ｘ−２）　ｘ］　”−”　（Ｂ）（式中二 ★ＬＳＭ、ＸＳｐ、ｚは前記と同一の意義を有し、★ｎ′、ｍ′、Ｘ′はそれぞ れ２≦ｎ゛≦ｎ、１≦ｍ′≦ｍ、０≦Ｘ′≦Ｘを条件としてｎ、ｍ％Ｘと同一の 意義を有する） で示されるシバブトペルオキソ型の二原子酸素化された錯体を生成させ； −前記の式（Ａ）で示される錯体と０２との反応によって得られた前記のシバブ トペルオキソ生成物（Ｂ）を電気化学的に酸化することにより二原子酸素を脱離 （ｄｅｓｏｒｐｔｌｏｎ）させ； −脱Ｍ（すなわち遊離）させた二原子酸素を回収し且つ所望ならば連続的方法に よって回収し；−前記の化合物（Ｂ）の電気的酸化工程を行った後に得られた錯 体を電気化学的に還元して前記の錯体（Ａ）を再生させる： ことからなることを特徴とする。

本発明に使用し得る金属錯体の１群は、次の式（Ｃ）［Ｌ　ｎＭリコ　リ （式中の記号は前記の意義と同一の意義を有する）で示されるものである。

本発明の金属錯体の別の１群においては、金属ＭはＭの空位の配位部位の全て又 は少な（とも一部分が塞がれるように配位部分りを含む配位子ばかりではなく陰 イオンも配位している。

この１群は、次の式（Ｄ）： ［Ｌｎ（Ｍ＋ｐ）（Ｘ−２）ｘ］”２（Ｄ）（式中、ＬＳＭ、Ｘ、ｎ、ｐ、ｘ及 び２は前記の意義と同一の意義を有する）で示されるものである。

本発明はまた、次の式 ％式％（５） （式中、ＬＳＭ、Ｘ、ｎｓ　ｐＳｚ及びＸは前記の意義と同一の意義を有する） で示される三核錯体であって、該三核構造が橋架は陰イオンＸ　によって、又は 少なくとも２個の配位部分りをもつ多座キレート化配位子によって、又は金属／ 金属結合によって又はこれらの結合の組み合わせによって保持される三核錯体に 関するものである。

前記の式（＾）〜（Ｅ）において、本発明において使用可能な金属錯体は、陰イ オン又は陽イオンの状態にあるものであり得る。その場合、該金属錯体は、それ らの電荷を釣り合わせる１個又は複数個の無機又は有機の非配位対イオンと会合 している。これらのイオンは支持電解質に由来し、特に陽イオンとしては第４級 アンモニウム塩、第４級ホスホニウム塩、錯化された又はされていないアルカリ 金属又はアルカリ土類金属類、あるいはそれらの類縁体であり得、また陰イオン としてはハロゲン化物イオン、テトラフルオロ硼素酸イオン、ヘキサフルオロ燐 酸イオン、硫酸イオン、炭酸イオン、燐酸イオン又はそれらの類縁体であり得る 。

式（Ｂ）の二原子酸素化された錯体は、式（Ａ）の化合物から、さらに詳しくは 式（Ｃ）、式（Ｄ）又は式（Ｅ）の化合物から二原子酸素を結合させることによ って得られる。化合物（Ａ）　、（Ｃ）　、（Ｄ）及び（Ｅ）は、使用前に合成 でき、あるいは市販の化合物から又はそれ以外の化合物から”その場“で調製し える。

種々の酸化状、顧の金属塩は、活性化合物の先駆体例えばハロゲン化物塩、酢酸 塩、硝酸塩、硫酸塩、フルオロ硼酸塩、次亜塩素酸塩、又はそれらの類縁体とし て作用し得る。

ＭがＰｄである場合には、本発明の方法に特によく適合する化合物は、ＰｄＣｌ ２及びＮａ２ＰｄＣＩ４である。

本発明の錯体の調製に特に適当である配位子は、ホスフィン類の中から選択され る。該ホスフィン類としては、特に単座又は多座のトリフェニルホスフィン類、 アルキル−、アリール−又はアルキルアリール−ホスフィン類、特にトリフェニ ルホスフィン及びトリーローブチルホスフィンが挙げられる。水溶性の配位子を 得るためには、燐原子に結合する置換基のうちの１つに親水性基をもつ化合物、 例えばトリスルホン化されたトリフェニルホスフィンＰ（Ｃ６Ｈ４Ｓ０３１１） ３又はジスルホン化されたトリフェニルホスフィンＰ（Ｃ６Ｈ５）（Ｃ６）１４ ＳＯ３１１）２　又はモノスルホン化されたトリフェニルホスフィンＰ（Ｃ６Ｈ ５）２（Ｃ６Ｈ４ＳＯ３１１）の如きスルホン化されたホスフィン類が好ましい 。水性媒体中で操作する場合には、ホスフィンオキシト類及びホスファイト類が 好都合である。

本発明に使用するのに特に好ましい金属錯体は、遷移金属Ｍとしてパラジウム、 白金、ニッケル又はロジウムを含むものである。

前記の電気化学的酸化工程は、電解槽の陽極室で実施される。適当な電解質は、 錯化された又はされていないアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属、第４級ア ンモニウム塩又は第４級ホスホニウム塩の、パーフルオロ硼素酸塩又はテトラフ ェニル硼素酸塩又はパーフルオロ燐酸塩又はハロゲン化物又は硫酸塩又は炭酸塩 又は燐酸塩の型のものであり、例えばテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムテトラフ ルオロボレート又はトリエチルベンジルアンモニウムへキサフルオロホスフェー トであり得る。

印加される電位は、酸化すべき酸素化された金属錯体及び媒体の組成を考慮して 選択される。

酸化工程の後に、同様に電解槽の陽極室で実施される二原子酸素の脱離工程が続 く。得られた溶液からの二原子酸素の分離は、陽極室の後に配置した気液分離塔 中で実施される。

連続的に二原子酸素の分離方法を実施するためには、分離塔の出口で得られる溶 液を電解槽の陰極室に移送し、該陰極室において酸化工程で使用される電位より も低い電位で電気化学的還元を実施して、さらに低い原子価の錯体であって陰極 室の出口と陽極室の入口との間に配置された吸収塔の中で二原子酸素を再び結合 することができる錯体を生成させ、次いで電気化学的に酸化−還元サイクルを反 復する。前記の電気化学的酸化−還元サイクルを、以下の反応工程図１１ａ　、 　Ｉｌｂ　。

１１ｃ　、ｌｉｄにより説明する。該反応工程図においてり。

Ｍ、Ｘ＋　ｐＳＺＳｎｓ　ｍ５Ｘｓ　ｎ−１ｍ′、Ｘ゛は前記の意義と同一の意 義を有し、ｎ”、ｍ“、Ｘ”はそれぞれ。′、ｍ′及びＸ′と同一の意義を有す る。

１／ａ”［Ｌ、Ｎｏ−Ｘ−’、、１”’−自　１７ａ’ｊＬ、、（Ｍ”’０，１ １．！−，ｌ”　ｌＰ曲自白１／＋ａ’ｌＬ、にす、、ｚ−＋、１（＋＠争２１ −ｍ’＋反応工程図１１ａ 反応工程図１１ｂ Ｏｓ　”　（ｒ＋１／＠’　−＋１／ＩＩＩＬ中（ｘ’／ｍ’４７ｓｌＸ−” ◆（翼”／ａ＋・翼’／ｍ’）Ｘ−’ 反応工程図１ｉｅ １／ｍ”　［Ｌ、　、Ｍ’　Ｐ、−ｘ−ｔ、、　Ｉｍ−＋　ｐ引−就＋ｇ（（＋ ） 反応工程図１１ｄ 中間化合物（Ｆ）及び（ＩＩ）は正確に特徴づけられるためには寿命が極めて短 く、４つの反応工程図１１ａ、Ｉｌｂ　。

１１ｃ及びｌｉｄが可能である。同様に、中間化合物（Ｇ）はこのサイクルの間 に配位子の交換によって生じる数種の中間化合物を表わし得る。本発明の一つの 態様によれば、二原子酸素の吸収工程は、溶液中でガス混合物と還元された形態 の金属錯体とを接触させることによって行われる。

本発明の別の態様によれば、活性化合物（Ａ）はその場で形成される。すなわち 、金属ハロゲン化物例えばＰｄＣｌ２又はＮａ、ＰｄＣ１，と、配位子例えばト リフェニルホスフィン又はトリーローブチルホスフィンとの混合物を陰極室に導 入し、化合物（Ｇ）〔上記の例において（ＲｓＰ）２Ｐｄｅ１２、Ｒ−フェニル 基又はｎ−ブチル基〕を迅速に生成させる。活性化合物（Ａ）は化合物（Ｇ）を 適当な電位で還元することによって得られ、次いでこのサイクルは前記のように して実施される。

化合物（Ｇ）が二原子酸素からスーパーオキシドイオンへの還元電位に近いか又 はそれよりも低い電位で還元可能である場合には、この方法の有利な態様は、化 合物（Ｇ）を用いて発生したスーパーオキシドイオンを陰極室で還元して二原子 酸素化された錯体（Ｂ）を直接に生成させることである。例えば、錯体（Ｇ）が 錯体（ＲｉＰ）２Ｐｄｃｌｚである場合には、この反応は以下のように記載され る：すなわち この反応の実現（ｌａ　ｍａｔｅｒｌａｌｉｓａｔ［ｏｎ）は、加圧下で電気化 学的反応槽を使用することによ７て実施するか又はガス拡散用の多孔質陰極を用 いることによって実施するのが有利であろう。上記の多孔質陰極はさらにまた次 の二つの利点：すなわち ★典型的な方法と比べて、吸収塔を必要としない、という利点 ★加圧された反応槽を使用するのに比べて、二原子酸素を含有するガス混合物の 他の成分による溶液の飽和を回避可能であるという利点 を示す。

本発明の別の態様によれば、有機溶媒の錯体溶液が使用される。オーム抵抗降下 の小さい溶媒を選択するのが好ましい。この種の適当な溶媒としては、ジメチル ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルもしくはベンゾニトリル 、ジクロロメタン、テトラヒドロフランが挙げられる。

本発明の別の態様によれば、本方法は水性媒体中で実施され、使用する配位子は 水溶性の配位子の中から選択される。

本発明の別の態様によれば、二原子酸素の分離は大気圧下で実施される。

本発明の別の態様によれば、１〜１００バール好ましくは１〜２０バールの高め られた圧力が使用し得る。この場合には、錯体の溶液は加圧空気と接触される。

別の態様においては、二原子酸素の吸収は大気圧下で実施され、上記溶液は所定 の圧力までポンプで加圧される。

この方法は、特に連続法で空気から二原子酸素を分離することを可能にする。

またこの方法は、ガス混合物から二原子酸素を分離することを可能にし、ガス例 えばＮｚ、Ａｒ又はＣＯ２の精製に特に重要である。

本発明を、本発明に使用される錯体の酸化−還元の研究に関する実施例により説 明する。

特に、図１〜４は選択された実施例に関連するポルタングラム（ｖｏｌｔａｌ！ ｌｏｇｒａａｖ＋ｅ）を表わすニー　図１は錯体Ｌ４Ｐｄ”　（式中、Ｌはトリ フェニルホスフィンを表わす）の電気化学に関する。曲線ＩＡはアルゴン雰囲気 下における錯体（Ｐ、Ｐｈ１）４Ｐｄ”　のポルタングラムであり一曲線ＩＢは 二原子酸素を導入した後の上記と同じ錯体のポルタングラムであり；曲線ＩＣは 過剰の０２の存在下における錯体（’ＰＰｈ３）４Ｐｄ”　のポルタングラムを 表わし；曲線ＩＤは■Ｃの溶液に最初の錯体に対して２当量のｎ−Ｂｕ４Ｎ”Ｃ ドを加えた後の結果である。

−図２及び図３は、化学的方法によって調製し、次いてジメチルホルムアミドに 溶解した錯体（ＰＰｈ３）２ＰｄＯ２のポルタングラムを表わす。特に、図２は 錯体（ＰＰｈ３）ｚＰｄ０２単独（曲線２Ａ）について及び２当量特表平４−５ ０６６２７（７） のｎ　−Ｂ　ｕ　４　Ｎ”ＣＩ−を加えた後の上記錯体（曲線２Ｂ）について最 初の陰極走査（ｕｎ　ｂａｌａｙａｇｅ　１ｎｉｔｉａｌ　ａｎｏｄｌｑｕｅ） で得られたポルタングラムを表わす。

−図３は錯体（ＰＰｈｓ）ｚＰｄ０２単独（曲線３＾）について及び２当量のｎ 　−Ｂ　ｕ　４Ｎ’ＣＩ−を加えた後の上記錯体（曲線３Ｂ）について最初の陽 極走査で得られたポルタングラムを表わす。

−図４はジメチルホルムアミド中でＰｄＣｌ２とｐｐｈ　。

からその場で調製した錯体（Ｐ　Ｐ　ｈ　３　）　２　Ｐ　ｄ　Ｏ２について記 録したポルタングラムを表わす。特に曲線４八〜４Ｄは以下を表わす：すなわち ★錯体（ＰＰｈｉ）　ｚＰｄｃＩ２単独（曲線４Ａ）★低い０２分圧下における 錯体（ＰＰｈａ）ｚＰｄｃｌｚ（曲線４Ｂ） ★空気雰囲気下の錯体（ＰＰｈｓ）２ＰｄｃＩ。（曲線４Ｃ）★純０□雰囲気下 の（ＰＰｈｉ）ｚＰｄｃＩ□　（曲線４Ｄ）を表わす。

酸化−還元電位の研究を、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）又はジクロロメタン （ＣＨ２Ｃ１゜）中で支持電解質として０．３モルのテトラ−ｎ−ブチルアンモ ミラムテトラフルオロボレート　（ｎ−ＢｕＪＢＦ４）の存在下で実施した。Ｌ ４Ｐｄ”　の濃度は２＋ｇＭである。

電位を飽和カロメル電極（ＳＣＥ）と対比して記録し、金（Ａｕ）電極又は炭素 （Ｃ）電極について（ｓｕｒ　ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）周期的なポルタンメトリー （ｖｏｌｕｔａｍｅｔｒｉｅ）　（電流電圧法ともいう）によりそれぞれ２００ 及び１ｏｈＶ／ｓの走査速度で測定した。

Ａ−二原子酸素の不存在下におけるＬ４Ｐｄ’　の電気化学酸化：　Ｌ４Ｐｄ” 　−−［Ｌ２Ｐｄ”ゴ”＋２８−　＋２ＬＥＯｘ−＋Ｏ，１３Ｖ　（ＤＭＦ、Ａ ｕ）−＋０．０７Ｖ　（ＤＭＦ、Ｃ） Ｅ　、、□−４０，０２Ｖ　（ＣＨ２Ｃ１２，Ｃ，可逆的）Ｂ−二原子酸素の存 在下におけるＬ４Ｐｄ“　の電気化学二原子酸素を含有するガス混合物（例えば 空気）の存在下で、錯体Ｌ４Ｐｄ’　は次の反応式に従って二原子酸素化された 錯体り、Ｐｄ”Ｏ□を生成する。

Ｌ４Ｐｄ”　＋　Ｏ□−→Ｌ２　Ｐｄ”　Ｏ□＋２Ｌ酸化： Ｌ２　Ｐｄ”　０２−→［Ｌ２Ｐｄ’ｌ”＋　０２　＋２ｅ−Ｅ　ｏｘ−＋０． ５２Ｖ　（ＤＭＦ、Ａｕ）−＋０．４８Ｖ　（ＤＭＦ、Ｃ） 一＋０．６４Ｖ　（ＣＨ２Ｃ１２，Ａｔｅ）−４０，５９Ｖ　（ＣＨ２Ｃ１２， Ｃ）錯体Ｌ２Ｐｄ”０２の酸化ハ＋０．５０Ｖ　（対５ＣＥ）　１．：近イ電位 では不可逆的である。化学反応の次後に制御された電位（＋０．６０Ｖ）で電気 分解した場合には観察できるガスの発生がある。

還元： Ｌ２Ｐｄ”　Ｏ□＋２ｅ−−→［Ｌ２Ｐｄｑ］４′Ｉ＋Ｏ□−（２−”（式中、 ｑ＝０又は１） Ｅ　＝−ａ　−−１，６８Ｖ　（ＤＭＦ、Ａｕ）−−１，６２Ｖ　（ＤＭＦ、Ｃ ） 一−１．７３Ｖ　（ＣＨ２Ｃ１２，ＡＬＩ）−−１，７４ｖ（ＣＨ２Ｃ１□、Ｃ ） 還元された化合物は再び二原子酸素を結合可能であり、約十〇。５０Ｖで２個の 電子を用いて前記と同様の酸化反応で酸化される。この化合物はその前駆体Ｌ４ Ｐｄ”よりも二原子酸素に対してさらに親和性を有する。

これらの酸化還元反応を図１により説明する。図１は、以下の錯体ニ ーアルゴン雰囲気下における（ＰＰｈｉ’）４Ｐｄ’（図ＩＡ） 一二原子酸素雰囲気下における（ＰＰｈｘ）４Ｐｄ”（図ＩＢ及び図ＩＣ） についてＤＭＦ中で記録した周期的ポルタングラムを表わす。

さらに、種々の酸化還元反応の寄与を、図２（曲線２Ａ及び２Ｂ）に示されるよ うに同一の条件下における錯体（ＰＰｈｉ）２Ｐｄｏ□の酸化還元挙動について の研究により確認した。

この観察の全体は錯体Ｌ４Ｐｄ”　について以下のサイクル（反応工程図■）に より明らかにされた。

反応工程図工 実施例２：二原子酸素及び塩素イオンの存在下におけ塩素イオンの存在下で、よ り安定な新たな錯体が形成された： Ｌ２　Ｐｄ’　Ｏ，＋ＸＣ１−−ｅ［Ｌ２Ｐｄｌ１０２ｃＩＸ］−ｘ（式中、ｘ ＝　１又は２） 酸化： ［Ｌ２Ｐｄ”０２Ｃ１，］−”　−−−＞　（Ｌ２Ｐｄ”０２Ｃ１，］”−”　 ＋　２ｅ−Ｅｏｘ−＋０．４８Ｖ　（ＤＭＦ、Ａｕ）−＋０．４８Ｖ　（ＤＭＦ 、Ｃ） 一＋０．５７Ｖ　（Ｃ１１２ＣＩ２．Ａｕ）−４０，６２Ｖ　（Ｃ１１２ＣＩ２ ．Ｃ）還元： ［Ｌ２Ｐｄ”０２Ｃ１，］−”　＋２ｅ−＋＋＋＞　（Ｌ２ＰｄｑＣ１，］”− ”　十〇ｉ”−”（式中、ｑ−０又は１） Ｅ−−６−−１．Ｂ８Ｖ　（ＤＭＦ、Ａｕ）特表平４−５０６６２７　（８） 一−１，５８Ｖ　（ＤＭＦ、Ｃ） ”−１，７８Ｖ　（Ｃ１１２Ｃ１２，Ａｕ）−−１，８９Ｖ　（Ｃ１１ＣＩ２． Ｃ）これらの酸化還元反応を、図ＩＤ［二原子酸素雰囲気下における２当量の塩 素イオン存在下の（ＰＰｈｉ）４Ｐｄのポルタングラム〕並びに図２Ｂ及び図３ Ｂ（アルゴン雰囲気下における２当量の塩素イオン存在下の（ＰＰｈｉ）２Ｐｄ ｏｚのポルタングラム〕により説明する。

この観察により溶液中においてＣＩ−イオンと前記錯体との相互作用が以下のサ イクル（式中、ｘ−１又は２）に従って行われることが結論される。

反応工程図■ 実施例３：Ｃ１−イオンの存在下におけるＩ、２　Ｐ　ｄ　０２隔離された区室 を持つ電解槽中で、アルゴン雰囲気下に０１１２Ｃ１２中で２当量のｎ−Ｂｕ４ ＮＣＩの存在下においてＬ２Ｐｄ０２の溶液を酸化した。１．５４フアラデイ一 １モルの通電後に、ガスの発生を伴いながら電解槽中に沈殿した黄色固体の生成 が確認された。

濾過した後に得られた固体（収率−８９％、消費された電気量に対して）は、化 学的方法によって調製された錯体り、　ＰｄＣｌ２と同一の物理化学的特性（” １１　ＮＭＩ？：外部標準として！１３ＰＯ４に対して２３．７ｐＩ）１ｍに信 号；Ｉｆ？：しｐｄ−ｃ＋−３５０ｃ「りを有する。

Ｌ２Ｐｄ０２の酸化は１モル当たり２個の電子を必要とする。該酸化は分子状酸 素を発生し、次式に従って錯体り、ＰｄＣｌ２を生成する。

Ｌ２　ＰｄＯ２＋　２ＣＩ−＝　０２　＋Ｌ　２　ＰｄＣｌ、＋　２８−陽極で のガスの発生を別にすれば、二原子酸素は以下の方法で明らかにされる：すなわ ちＬｚＰｄＣＩ２が溶解するＤＭＦ中でアルゴン雰囲気下で電気分解した後の溶 液について行った周期的ポルタンメトリーは、−ｉ、ｅ８■付近にＬ２ＰｄＯ２ に起因する還元状態を示す波形（ｕｎｅ　ｖａｇｕｅ　ｅｎ　ｒｅｄｕｅｔｉｏ ｎ）を示し、初めのうち走査が陽極で行われた場合にはＬ　２　Ｐ　ｄ　０２に 起因する酸化状態を示す波形（ｌａ　ｖａｇｕｅ　ｄ’ｏｘｙｃｌａｔｉｏｎ） は存在しない。

Ｌ２Ｐｄｅｌ□の還元はＬ２Ｐｄ”　を生成せずに、むしろ溶液中に二原子酸素 が存在することを示すｔ、２Ｐｄ”０２を生成する。

実施例４：０１−イオンの存在下におけるＬ２Ｐｄ０２（Ｌ＝ＰＰｈｉ）溶液の 制御された電位のもとての電気分解。脱離された二原子酸素の定量 Ｉ、２　Ｐ　ｄ　Ｏ２の溶液の電気分解を以下の条件下で実施した。

構成：熱交換用の流体を循環させるための二重のケーシングと多孔質ガラスで区 分された複数の隔室とを備えた電解槽；炭素製陽極（ＲＶＣ１０００、Ｃａｒｂ ｏｎｅ　Ｌｏｒｒａｉｎｅ）　；白金グリッド陰極；対照電極として飽和カロメ ル電極（Ｓ、Ｃ，Ｅ）　；　０□含有量とガスの生成量とをそれぞれ分析するた めのＢＩ？００ＫＳ容積測定器をライン上に備えたＳＥＲＶＯＭＥＸ酸素分析機 。

媒体組成：溶媒、ジメチルホルムアミド、７０ａ＋Ｉ　；Ｌ２ＰｄＱ２５［ＩＭ ；ベンジルトリーｎ−ブチルアンモニウムクロリド、１１ｍＭ　；支持電解質、 テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムへキサフルオロホスフェ−）、０．３Ｍ；二原 子酸素で飽和された媒体。

操作条件：二重のケーシング中に水を循環させることにより溶液の温度を２０℃ に保持する。印加電位は対Ｓ、Ｃ，Ｅ、＋０．８５Ｖである。

結果：二原子酸素として平均組成９８．４％のガス７、ＩＮｌが０２０Ｊ１ミリ モルの生成に対応して収集された（予期される理論量の８６％）。遊離された０ ２分子当たり電子２個を交換すると仮定した、生成した二原子酸素のファラデイ ー収率は８０，８％である。

実施例５：ＰｄＣｌ２とトリフェニルホスフィンＰＰｈ　３とからその場で調製 された錯体Ｌ２Ｐｄ０２の電気化学ＤＭＦ中に懸濁したＰｄＣｌ２の懸濁液に２ 当量のトリフェニルホスフィンを加えて、錯体（ＰＰｂｓ）　ｚＰｄｃｌｚの特 性を示す黄色溶液を急速に生成させた。

その場で生成させたこの錯体について記録したポルタングラム（走査速度２００ ０１Ｖ／Ｓ　、金電極）は、単独で調製され、固体状態で単離され、次いで溶解 された錯体（ＰＰｈｉ）　２ＰｄｃＩｚについて記録したポルタングラムと同一 であった。

Ｌ２　Ｐｄ’　ＣＩ２＋２ｅ−−［ＬｚＰｄ’Ｃ１ｘｌ−”（２−ｘ）ＣＩ−Ｅ 　、、ａ　＝−０，９７Ｖ　（ＤＭＦ、Ａｕ）−−０，９２Ｖ　（ＤＭＰ、Ｃ） −［ＬｉＰｄ’Ｃｌ　ｘ］−ｘの酸化：［Ｌ２Ｐｄ’ＣＩ、（］−Ｘ＋（２−ｘ ）ＣＩ−−”　Ｌ、　ＰｄＣｌ、＋２ｅ−Ｅ　ＯＸ−＋０．０１５Ｖ　（ＤＭＦ 、＾Ｕ）−＋０．０５Ｖ　（ＤＭＦ、Ｃ） Ｂ−二原子酸素の存在下における電気化学二原子酸素の存在下においては、十〇 、Ｇ１５Ｖにおける電子を発生した原子価ゼロの錯体 ［（ＰＩ”ｈｉ）ｚＰｄ’ｃｌｘ］ｘ−１７）Ｍ化状態を示す波形カ消失し、　 ［（ＰＰｈｉ）２Ｐｄ＠ｏ□ｃＩｘ］Ｘ−の特性を示すより高い電位で酸化され た新しい錯体の生成がある。

初めの錯体の還元： （ＰＰｈ３）ｚＰｄ”Ｃ１ｚ　＋　２ｅ−−ｍ−＞　［（Ｅ’Ｐｈｚ）２Ｐｄ’ （：ｌ、］−工＋（２−ｘ）Ｃ１−Ｅ　、、、　−−０，９９Ｖ　（ＤＭＦ、Ａ ｕ）（０２の還元状態を示す波形と同一の電位） 二原子酸素化された錯体の生成： １（Ｉ’Ｐｈ、）、Ｈ’ｄ”Ｃ１，］−’　＋　Ｏ，−−−＞　［（ＰＩ’ｈ３ ）２Ｅ’ｄ”Ｏ，Ｃ１ｊ−’二原子酸素化された錯体の還元： ［（ＰＰｈ、）２Ｐｄ”０２ＣＩＩｌ］””　＋　２ａ−−一−＞［（Ｅ’Ｐｈ ５）、ＰｄＱＣｌ、］”！−”　＋　Ｏ，−１’−’ｌ’（式中、ｑ−０又は１ ） Ｅ　−−ａ　−−１，６７Ｖ　（ＤＭＦ、Ａｕ）−−１，ＢＯＶ　（ＤＭＦ、Ｃ ） 二原子酸素化された錯体の酸化： ［（ＰＰｈ、）、Ｐｄ”Ｏ，Ｃ１，ｌ””　−−−＞　［（ＰＰｈ、）２ＰｄＣ １，］２−ｘ　＋　Ｏ，＋　２ｅ−Ｅｏｘ−＋０．４３Ｖ　（ＤＭＦ、Ａｕ）− ＋０．４３Ｖ　（ＤＭＦ、Ｃ） 上記の結果を、アルゴン雰囲気下及び０２雰囲気下で記録した錯体（ＰＰｈ３） 　ｚＰｄｃＩ□のポルタングラムとともに図４に示した。

実施例６：金属が単座配位子トリーローブチルホスフィン２個と塩素イオン２個 とを配位している金属錯体り、ＰｄＣｌ２の電気化学 この研究は、２１ＩＩＭの濃度の錯体溶液に関して、支持電解質として（ｎ−Ｂ ｕ）４ＮＢＦ４０．３Ｍの存在下にＤＭＦ中で２０ｈＶ／ｓの走査速度で金電極 について周期的ポルタンメトリーにより行った。

アルゴン雰囲気下で記録したポルタングラムニー　還元において Ｌ２　Ｐｄ”　ＣＩ２＋２ｅ−−ｃｔ、２ｐｄ’ｃｌ　ｍ］”−＋（２−ｘ）Ｃ ドＥ、、、−−ＬＪ９Ｖ −０，９７Ｖにプレウェーブ（ｐｒｅｖａｖｃ）−酸化において〔反復走査（ｂ ａｌａｙａｇｅ　ｒｅｔｏｕｒ）　］　；［Ｌ２Ｐｄ’ＣＩ　、］’−＋　（２ −ｘ）ＣＩ−−Ｌ２　Ｐｄ”　Ｃ１，＋２ｅ−ＥＯＸ−−０，４０Ｖ 二原子酸素の雰囲気下で記録したポルタングラムは、溶液に溶解した二原子酸素 から１個の電子のスーツクーオキシドイオン０７への還元、錯体り、Ｐｄ’ＣＩ 。の中心金属の還元及び二原子酸素化された錯体：［ＬｚＰｄ’０□Ｃ１ｘｌ− Ｘの還元にそれぞれ起因する３つの還元状態を示す波形（ｖａｇｕｃｓ　ｄｅ　 ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ）を−０，９２■、−１Ｊ９Ｖ及び−２，１７Ｖに示す。

酸化においては、−Ｑ、４０Ｖにおける［Ｌ、Ｐｄ０Ｃｌｘｌ−”の波形が消失 し、−０，７０Ｖ、　＋０．２２Ｖ及び（＋ｏ、ｅｏ〜＋０．８０Ｖ）にスーパ ーオキシドイオンＯ；から二原子酸素への酸化、二原子酸素化された錯体［Ｌｚ ＰｄＯｚＣＩ　ｘ］−ｘの酸化及び塩素イオンＣ１−の酸化にそれぞれ起因する ３つの新たな波形の出現が認められた。

特に、＋０．２２Ｖで酸化された錯体は−２，１７Ｖで還元された錯体から生じ るのではなく、二原子酸素と錯体：［Ｌ２Ｐｄ’ＣＩｘコーＸとの反応（−１， ５Ｖでの反復走査の逆）か又は次式： ％式％ に従うスーパーオキシドイオンＯ；と錯体ＬｚＰｄ”ＣＩとの反応（−ｔ、ＯＶ での反復走査の場合）によって生じる錯体であることが認められる。

過剰の塩素イオンの存在下［（ｎ−Ｂｕ）４Ｎ″Ｃドの添加〕では、それにも拘 らず−０，４０Ｖ〜−〇、４３Ｖ及び＋０．２２Ｖ〜＋０．１９Ｖそれぞれにお いて錯体［Ｌ２Ｐｄ０ＣＩＸ］−Ｘ及び［１，２Ｐｄｏ２ｃＩｘ］−ｘの酸化電 位のわずかな移動（シフト）を伴って同様の一般的挙動が認められる。この移動 はこれら２つの錯体に関してさらに促進された酸化を示し、Ｃ１−とＬ２Ｐｄ″ ″及びＬ２Ｐｄ”Ｏ，とのより強い相互作用による。

操作条件は実施例６に記載の条件と同一である。

最初の金属塩Ｎａ２ＰｄＣＩ４はＤＭＦに可溶性であるので、２当量のトリーロ ーブチルホスフィンを添加すると錯体Ｌ２ＰｄＯ２の生成を極めて速く生起する （溶液の色が褐色から黄色に変色する）。

二原子酸素の不存在下でその場で生成したこの錯体について行った周期的なポル タンメトリーは、還元について−Ｑ、９７ｖ１：ｐｒｅｖａｖｅの存在を示し、 また−Ｌ３９Ｖに錯体（ｒｒＢｕ）　２Ｐｄｃｌ□について認められた波形と同 一の波形を示す。

酸化に関しては、［ＬｚＰｄ’Ｃ１ｘ］−”の酸化に起因する波形が−０，４７ Ｖに認められる。この電位は塩素イオンの不存在下においてＬ２ＰｄＣ＋２の場 合に認められる電位（０，４０Ｖ）　ヨりも低イ０．０７Ｖ　テあるが、（ｎ− ｓｕ）ａＮ’ｃ＋−を添加した場合（実施例６参照）の同じ錯体について認めら れる電位よりもわずかに０．０４Ｖ低い。従って、この電位の変化は、溶液中の ＣＩ−イオンの濃度に起因し、Ｃ１−イオンと生成した中間体錯体との相互作用 を説明する。

二原子酸素の存在下においては、ポルタングラムは還元に関して、二原子酸素の 還元に起因する−０．９４Ｖにおける波形及びＬ２Ｐｄ”ＣＩ２の還元に起因す る第二の波形を−ＩＪ９Ｖに示す。

酸化に関しては、［Ｌ２Ｐｄ’Ｃ１ｘｌ−ｘに起因する波形の消失カ認メラレ、 ソＬｒ＋０．２２Ｖｌ：　［Ｌ２Ｐｄ０２Ｃ１ｘｌ−ｘの酸化の波形の出現が認 められる。＋〇、７９Ｖにおける酸化を示す波形は塩素イオンの酸化に起因する 。

また二原子酸素の存在下では、二原子酸素の還元（−０，９４Ｖ）後に正確に反 復走査が行われた場合には、酸化に関しては＋〇、２２Ｖに［Ｌ２Ｐｄ０２ＣＩ ｘコー’ｘの酸化に対応する波形が認められ、また−０．４７Ｖにおいて原子価 ０の錯体［ＬｚＰｄＯＣＩｘｌ−ｘの酸化を示す波形が存在しないことが認めら れる。これらの観察は次式に従って二原子酸素化された錯体が生成することを示 す。

要約書 −次の一般式（Ａ）： ［Ｌｎ（Ｍ叩）　ｍ　（Ｘ＝）　ｘ］　ａｌｐ”　（Ａ）〔式中二 ★　ＬはＭの低い原子価を安定化できる１個又は複数個の配位子の一部分である 配位部分を表わし、★　Ｍは０２を結合してシバブトベルオキソ型の二原子酸素 化された化合物を形成し得る遷移金属であり、★　Ｘは配位可能な有機陰イオン であり、★　ｎは２〜１２の整数であり、ｐは前記の式（Ａ）で示される錯体中 の遷移金属Ｍの酸化数を表わし、ｍは１又は２であり、２は１〜３の整数であり 、ＸはＯ〜４である〕 で示される低い酸化状態の遷移金属錯体に二原子酸素を吸収させ； −前記の式（＾）で示される錯体と０２との反応によって得られるシバブトベル オキソ生成物（Ｂ）を電気化学的に酸化することにより二原子酸素を脱離させｍ −脱離させた二原子酸素を回収し且つ所望ならば連続的方法によって回収し； −前記の化合物（Ｂ）の電気的酸化工程を行った後に得られら錯体を電気化学的 に還元して前記の錯体（＾）を再生させる、 ことからなることを特徴とする、三原子酸素を含有するガス混合物から二原子酸 素を分離する方法。

国際調査報告 国際調査報告 ＦＲ９１００２１８ ＳＡ　４６４７６

Claims (19)

【特許請求の範囲】
1. １．二原子酸素を含有するガス混合物から二原子酸素を分離する方法であって、 −次の一般式（Ａ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ａ）〔式中； ★Ｌは配位部分であって、同一か又は異なる単座又は多座の、無機又は有機の１ 個又は複数個の配位子の一部分である配位部分を表わし、前記配位子はＭの低い 原子価を安定化できるものであり、特に次の配位子：・一酸化炭素 ・ホスフィン類 ・ホスフィンオキシド類 ・ホスファイト類 ・脂肪族又は芳香族アミン類 ・アミド類 ・カルボン酸類 ・脂肪族又は芳香族チオール類 ・スルホキシド類 ．ニトリル類 ・イソシアネート類 ・アルシン類 ・アルキル（アリール）シラン類又はアルキル（アリール）シロキサン類 ・飽和又は不飽和の、窒素、燐、酸素又は硫黄を含有する複素環式化合物 の中から選択されるものであり、 ★ＭはＯ２を結合してジハプトベルオキソ型の二原子酸素化された化合物、すな わち ▲数式、化学式、表等があります▼ を形成し得る遷移金属であって、特にＰｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｉｒ及びＨｏか ら選択される遷移金属であり、★Ｘは配位可能な有機陰イオン例えばカルボン酸 イオンであるか又は無機陰イオン例えばハロゲン化物イオン特に塩化物イオンで あり、 ★ｎは２〜１２の整数であり、配位部分Ｌの数を表わし、 ★ｐは前記の式（Ａ）で示される錯体中の遷移金属Ｍの酸化数を表わし、 ★ｍは１又は２であり、前記錯体の金属中心の数を表わし、 ★ｚは１〜３の整数であり、前記の陰イオンＸ−ｚの電荷を表わし、 ★ｘは０〜４であり、１個又は複数個の金属中心Ｍに配位された同一か又は異な る陰イオンＸの数を表わす〕 で示される低い酸化状態の遷移金属錯体に二原子酸素を吸収させ； −該吸収により次の式（Ｂ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｂ）（式中： ★Ｌ、Ｍ、Ｘ、ｐ、ｚは前記と同一の意義を有し、★ｎ′、ｍ′、ｘ′はそれぞ れ２≦ｎ′≦ｎ、１≦ｍ′≦ｍ、０≦ｘ′≦ｘを条件としてｎ、ｍ、ｘと同一の 意義を有する） で示されるジハプトベルオキソ型の二原子酸素化された錯体を生成させ； −前記の式（Ａ）で示される錯体とＯ２との反応によって得られた前記のジハプ トペルオキソ生成物（Ｂ）を電気化学的に酸化することにより二原子酸素を脱離 させ； −脱離（すなわち遊離）させた二原子酸素を回収し且つ所望ならば連続的方法に よって回収し；−前記の化合物（Ｂ）の電気的酸化工程を行った後に得られら錯 体を電気化学的に還元して前記の錯体（Ａ）を再生させる、 ことからなることを特徴とする、二原子酸素を含有するガス混合物から二原子酸 素を分離する方法。
2. ２．前記の使用される金属錯体が、次の式（Ｃ）［ＬｎＭ＋ｐ］＋ｐ （式中の記号は請求の範囲第１項に記載の意義と同一の意義を有する）で示され るものである請求の範囲第１項記載の方法。
3. ３．前記の使用される金属錯体中の金属Ｍが、Ｍの空位の配位部位の全て又は少 なくとも一部分が塞がれるように配位部分Ｌを含む配位子を配位しているばかり ではなく陰イオンも配位しており、特に該金属錯体が次の式（Ｄ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｄ）（式中、Ｌ、Ｍ、Ｘ、ｎ、ｐ、ｘ及び ｚは請求の範囲第１項に記載の意義を有する）で示されるものである請求の範囲 第１項記載の方法。
4. ４．前記の使用される金属錯体が次の式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中の記号は請求の範囲第１項に記載の意義と同一の意義を有する）で示され る二核錯体であり、該二核構造が橋架け陰イオンＸ−ｚによって、及び／又は少 なくとも２個の配位部分Ｌをもつ多座キレート化配位子によって、及び／又は金 属／金属結合によって及び／又はこれらの結合の組み合わせによって保持される ものである請求の範囲第１項記載の方法。
5. ５．前記の使用される金属錯体が、陰イオン又は隔イオンの状態にあり、且つそ れらの電荷を釣り合わせる無機又は有機の１個又は数個の非配位対イオンと会合 しており、前記の対イオンが特に第４級アンモニウム塩、第４級ホスホニウム塩 、錯化された又はされていないアルカリ金属又はアルカリ土類金属の中から選択 される陽イオンであるか、あるいは特にハロゲン化物イオン、テトラフルオロ硼 素酸イオン、ヘキサフルオロ燐酸イオン、硫酸イオン、炭酸イオン、燐酸イオン の中から選択される陰イオンである請求の範囲第１項〜第４項のいずれか１項に 記載の方法。
6. ６．前記の配位子がホスフィン類、ホスフィンオキシド類、ホスファイト類の中 から選択されるものであり、該ホスフィンが特に単座又は多座のトリフェニルホ スフィン類、アルキル−、アリール−又はアルキルアリール−ホスフィン類、特 にトリフェニルホスフィン及びトリ−ｎ−ブチルホスフィンの中から選択される ものであり、場合によってはこれらのホスフィン類はリンの置換基の１つに親水 性基をもつものである請求の範囲第１項〜第５項のいずれか１項に記載の方法。
7. ７．前記の遷移金属Ｍがパラジウム、白金、ニッケル、ロジウム、イリジウム又 はモリブデンの中から選択されるものである請求の範囲第１項〜第６項のいずれ か１項に記載の方法。
8. ８．請求の範囲第１項〜第４項にそれぞれ記載の化合物（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ） 、（Ｄ）及び（Ｅ）が、使用前に合成されるか又はその場で調製されるものであ る請求の範囲第１項〜第７項のいずれか１項に記載の方法。
9. ９．前記の電気化学的酸化工程が電解槽の陽極室で実施され、適当な電解質が錯 化された又はされていないアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属、第４級アン モニウム塩又は第４級ホスホニウム塩のパーフルオロ硼素酸塩又はテトラフェニ ル硼素酸塩又はパーフルオロ燐酸塩又はハロゲン化物又は硫酸塩又は炭酸塩又は 燐酸塩であり、例としてはテトラ−ｎ−ブチルアンモニウムテトラフルオロボレ ート又はトリエチルベンジルアンモニウムヘキサフルオロホスフェートである請 求の範囲第１項〜第８項のいずれか１項に記載の方法。
10. １０．前記の二原子酸素の脱離を電解槽の陽極室で実施し、電解溶液からの二原 子酸素の分離を該陽極室の後に配置した気液分離塔中で実施し且つそこで連続的 に酸素分離方法を実施し、該分離塔の出口で得られる溶液を電解槽の陰極室に移 送し、該陰極室において電気化学的還元を酸化工程において使用される電位より も低い電位で実施して、さらに低い原子価の錯体であって陰極室の出口と陽極室 の入口との間に配置された吸収塔の中で二原子酸素を再び結合することができる 錯体を生成させ、次いで電気化学的に酸化−還元サイクルを反復する請求の範囲 第１項〜第９項のいずれか１項に記載の方法。
11. １１．前記の二原子酸素の吸収工程を、溶液中でガス混合物と還元された形態の 金属錯体とを接触させることにより行うか、あるいは別の態様において適当な配 位子と金属塩とを陰極室に加えることによりその場で生成させた活性化合物（Ａ ）とガス混合物とを接触させることにより行い、前記陰極室において次の式（Ｇ ）：▲数式、化学式、表等があります▼（Ｇ）（式中、ｎ′′、ｍ′′及びｘ′ ′はそれぞれ請求の範囲第１項記載のｎ′、ｍ′及びｘ′と同一の意義を有し、 他の符号は請求の範囲第１項に記載の意義を有する）で示される中間化合物（Ｇ ）を生成させ、この中間化合物（Ｇ）を適当な電位で還元して活性化合物（Ａ） を生成させ、次いでこのサイクルをさらに続ける請求の範囲第１項〜第１０項の いずれか１項に記載の方法。
12. １２．前記の化合物（Ｇ）が、二原子酸素の還元電位に近いかそれよりも低い電 位でスーパーオキシドイオンに還元可能なものであり、陰極室で生成するこのス ーバーオキシドイオンが前記の化合物（Ｇ）と反応して請求の範囲第１項に記載 の二原子酸素化された錯体（Ｂ）を直接に生成するものである請求の範囲第１１ 項に記載の方法。
13. １３．前記の電気化学的反応槽が加圧下にあるか、陰極が多孔性ガス拡散電極で ある請求の範囲第１２項に記載の方法。
14. １４．前記の溶液が、有機溶媒好ましくはオーム抵抗降下の小さい溶媒例えばジ メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゾニトリル 、ジクロロメタン又はテトラヒドロフラン中で調製されるものである請求の範囲 第１項〜第１３項のいずれか１項に記載の方法。
15. １５．前記の溶液が水性であり、その場合に配位子が水溶性配位子の中から選択 されるものである請求の範囲第１項〜第１３項のいずれか１項に記載の方法。
16. １６．前記の二原子酸素の分離工程を大気圧下で行う請求の範囲第１項〜第１５ 項のいずれか１項に記載の方法。
17. １７．前記の二原子酸素の分離工程を高圧下で特に１〜１００バール好ましくは １〜２０バールの範囲の高められた圧力下で行う請求の範囲第１項〜第１５項の いずれか１項に記載の方法。
18. １８．空気からの二原子酸素の連続的方法での分離及び回収に対して請求の範囲 第１項〜第１７項のいずれかに１項に記載の方法を適用する方法。
19. １９．二原子酸素を含有するガス混合物の精製に対して請求の範囲第１項〜第１ ７項のいずれか１項に記載の方法を適用する方法。