JPH04505521A - メモリ用記憶装置 - Google Patents
メモリ用記憶装置Info
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- JPH04505521A JPH04505521A JP50073390A JP50073390A JPH04505521A JP H04505521 A JPH04505521 A JP H04505521A JP 50073390 A JP50073390 A JP 50073390A JP 50073390 A JP50073390 A JP 50073390A JP H04505521 A JPH04505521 A JP H04505521A
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
メモリ用記憶装置
技術分野
本発明は磁気メモリ素子を用いたデジタルメモリに関し、更に特定的にはメモリ
用の磁気記憶媒体に関する。
背景技術
公知技術において磁気バブルメモリ記憶装置(米国特許第4314358号)は
、表面部に磁気的内部結合したデータの入力/出力チャンネルを備えた磁気的単
軸層と、磁気バブル核形成装置と読み出し装置とデータ記憶レジスタとを備える
。データ記憶レジスタは磁気バブル伝搬経路の穴に沿って導電層°と周期的に交
互に絶縁されて設けられ、開口部を通してレジスタは磁気バブル伝搬経路に垂直
な個々のゾーンに分離される。このようなゾーンの各々は2つの交流電源に接続
される。
電流の流れる方向に平行な端部におけるゾーンに沿って流れる電流は、磁気バブ
ルが存在することのできる磁場の範囲を減少する磁気バイアス場に加えられる磁
場の磁気的車軸層成分の表面に垂直に誘導される。結果として記憶媒体の安定機
能の範囲は狭くなる。
公知技術において磁気バブルメモリ用記憶装置(日本国特許第58−56191
号)は、表面部に磁気的内部結合したデータの入力チャンネルを備えた磁気的単
軸層と、磁気バブル核形成装置と読み出し装置とデータ記憶レジスタとを備える
。データ記憶レジスタは互いに電気的に絶縁されて、第1および第2導電層にお
ける磁気バブル伝搬経路の穴に周期的に交互に沿って他の3つの導電層の1つ上
に設けられる。穴の配置の四分の−の開口部を通してデータ記憶レジスタの3つ
の層において間隔周期幅は磁気バブル伝搬経路に垂直に切られデータ記憶レジス
タを数個の直列の電気的に結合したゾーンに分離する。
3つの層の全ては一端で内部接続され、その層の2つは他端部で交流電源に接続
され、第3の層はこれらの電流供給電源の共通端子に接続される。
第4導電層は最初の3つの層と電気的に絶縁されゾーン間の磁気バブル伝搬を提
供する成分を運ぶ。第4導電層はそれ自身の交流電源から駆動される。
第4層においてこれらの成分を満足することは記憶装置の設計を複雑とし、磁気
車軸層から第4層が離れることはこれらの成分の機能の効率を悪化する。
発明の開示
本発明の目的はデータ記憶レジスタのゾーン間に、3つの導電層の仲介を通して
データ記憶レジスタのゾーン間に磁気バブルの伝搬を確実にしそれによって記憶
装置の構造が簡素化されるようなセクションを有するメモリの記憶装置を提供す
ることである。
このことはメモリ記憶装置によって達成され、表面部に磁気的内部結合したデー
タの入力/出力チャンネルを備えた磁気的車軸層と、磁気バブル核形成装置と読
み出し装置とデータ記憶レジスタとを備え、このデータ記憶レジスタは互いに絶
縁され他の3つの導電層の1つ上に設けられ磁気バブル伝搬経路に沿って周期的
に互い違いとなり第1および第2導電層における他の穴の1つ上に位置し、デー
タ記憶レジスタにおける磁気バブル伝搬経路に垂直な3つの層において切られる
スリットを通し、穴の分布の間隔周期の四分の−に等しい第1と第2の層におけ
るスリット幅と、データ記憶レジスタを直列ゾーンにおいて数個の電気的結合に
細別し、その中で3つの層の全ては一端で電気的に内部接続し、2つの層は反対
側の端で交流電源に接続され、第3の層はこれらの電源の共通端子に接続され、
本発明によれば第3の層は最初の2つの層の穴の上に位置する穴が設けられ、第
2層の穴は穴の位置の間隔周期の半分によって第1の層の穴に対応してシフトさ
れ、第3層の穴は磁気バブル伝搬経路に沿って位置する穴の間隔周期の四分の−
によって第1の層の穴に対応してシフトされ、その中で第1と第2の層における
スルースリットはジグザグ形状をし、スルースリットの縦軸が共通縦平面におい
て位置するジグザグ頂点から等距離となるように互いに180°反転して、その
中で第3の導電層におけるスリット幅は穴の位置の間隔周期に等しく、その対称
軸は最初の2つの層におけるスリットの縦軸と同一平面にある。
第1と第2の層における穴の間の領域における第3層におけるスリットの幅が穴
の位置の単一間隔周期の四分の−の領域内に選択されることは有利なことである
。
本発明は高速、小形、製造容易、且つ低消費電力のメモリを設計することを可能
とする。
図面の簡単な説明
本発明のこれら及び他の目的と本発明の利点は、以下の詳細説明とその好適実施
例と添付図面により明白となる。そこで、
第1図は本発明によるメモリの記憶装置の設計を示し、第2図は本発明による第
1図に示すメモリ記憶装置における部分Aの拡大図を示し、
第3図は本発明によりデータ記憶レジスタにおける電流を制御するタイムチャー
トを示す。
本発明の好適実施例
磁気バブルメモリ記憶装置は、表面部が磁気的に内部結合されたデータ人力/出
力チャンネル2を備える磁気的車軸層1 (第1図)と、磁気バブル核形成装置
3と磁気バブル読み出し装置4とデータ記憶レジスタ5とを具備する。レジスタ
5は他の導電層6.7.8の1つ上に位置し、誘電層9.10.11によって分
離されるよう設計される。
スルーカット12.13.14は、磁気バブル伝搬経路15に垂直に位置づけら
れ、本実施例における直列ゾーン16.17に電気的に結合するデータ記憶レジ
スタ5を少なくとも2つの数個に分割する。導電層6.7.8は片側で内部接続
されるリード18.19.20が、反対側でリード21.22.23が設けられ
、リード21.22は交流電源24.25にそれぞれ接続され、リード23はこ
れらの供給電源24.25の共通端子に接続される。磁気車軸層1は永久磁石に
よるバイアス磁界に従属する(バイアス磁界の供給部は図示せず)。矢“a”は
磁気バブル伝搬の方向を示す。
ゾーン16.17(第2図)は伝搬の前方に磁気バブルの穴の列26.28を、
伝搬の後方に磁気バブルの穴の列27.29を備え、列26.27はそれぞれ穴
30.31.32と33.34.35とにより導電層6.7.8に対応して構成
され、列28.29はそれぞれ穴36.37.38と39.40.41とにより
同一導電層6.7.8に対応して構成される。各層6.7.8においてこれらの
穴は磁気バブルの4倍の直径にほぼ等しい周期を有する磁気バブル伝搬経路15
に沿って順次に位置づけられる。この穴は2倍の磁気バブルの直径長と等倍の磁
気バブルの直径幅を有する。
穴の長さは磁気バブル伝搬経路に沿って静電磁気トラップの同形分布の必要条件
によって決定され、穴の幅は最長の静電磁気トラップ深さを発生させる条件によ
って規定される。
磁気バブルの前方伝搬列26.28と後方伝搬列27.29との間の間隔は、例
えば層6における穴30の穴の位置の間隔周期に等しい。前方伝搬列26におい
て層6における穴30と導電層7における穴31は穴の位置の間隔周期の半分だ
け磁気バブル伝搬経路に沿って動かされる。導電層8における穴32は磁気バブ
ル伝搬経路に沿った穴の位置の間隔周期の四分の−だけ穴30に対してシフトさ
れる。後方磁気バブル伝搬列27において導電層6における穴33は穴の位置の
間隔周期の半分だけ磁気バブル経路に沿って前方磁気バブル伝搬セクション26
の穴30に対してシフトされる。導電層7における穴34はこの間隔周期の半分
だけ穴33に対してシフトされ、導電層8における穴35は磁気バブル伝搬経路
15に沿って穴の位置の間隔周期の四分の−だけ穴34に対してシフトされる。
前方磁気バブル伝搬列28において導電層6における穴36は磁気バブル伝搬経
路に沿って穴の位置の間隔周期の半分だけ全く同一の導電層における穴30に対
してシフトされる。導電層7における穴37は穴36に対しての半分だけ動かさ
れ、穴38は磁気バブル伝搬経路15に沿って穴の位置の間隔周期の四分の−だ
け穴37に対してシフトされる。
後方磁気バブル伝搬列29において導電層6における穴39は穴30に対してシ
フトされない。導電層7における穴40は導電層6における穴39に対して半分
だけ動かされ、導電層8における穴41は導電層7における穴40に対して磁気
バブル伝搬経路15に沿って穴の位置の間隔周期の四分の−だけ動かされる。導
電層6.7においてスルースリット12.13はジグザグ構成であり、スルース
リットの縦軸がジグザグ頂点から等距離であり、共通縦平面42に配置されるよ
うに互いに180°毎反転する。
導電層6においてデータ記憶レジスタ5の反対側の列26.29のスリット12
は、スリット12から穴30と39への間隔が穴の位置の間隔周期の半分であり
、反対側の列27.28のこのスリット12から穴33と36への間の間隔は穴
の位置の間隔周期の四分の−であるように位置づけらる。
導電層7において反対側の列26.29のスリット13は、スリット13と穴3
1.40との間の間隔が穴の位置の間隔周期の四分の−であり、反対側の列27
.28のこのスリット13から穴34と37への間の距離は穴の位置の間隔周期
の半分であるように位置づけらる。
導電層8におけるスリット14はスリット13.12の上に位置し、スリット1
2.13の縦軸と同一平面に位置する縦方向に対称軸を有する穴の位置の間隔周
期に等しい幅を有する。列26.27.28.29間の領域におけるスリット1
4の幅は穴の位置の四分の−から一周期まで変えることかできる。
メモリ用記憶装置の機能は以下のようである。
核形成装置3(第3図)からの磁気バブルはデータ人力/出力チャンネル2に沿
って伝搬し、後者がデータで満たされる時記憶レジスタはデータを入力/出力チ
ャンネル2に交換できる。この後磁気バブルはデータ人力/出力チャンネル2を
経由して読取装置4に到達する。
磁気バブルは穴3O−41(第2図)及びそれらの回りに電流か流れることによ
る導電層6.7.8におけるスリット12.13.14との端部で発生する局部
磁場と相互作用する結果として伝搬する。局部磁場が磁気バイアス場に抵抗する
所で、層lにおける磁気バブルを引き付ける場所が発生され、これらの場所は静
電磁気トラップと称する。
導電層6.7.8に沿った交流電流はスリット12.13.14の穴30−41
の端部に沿って均一に静電磁気トラップを移動せしめ、磁気バブルを伴って運ば
しめる。
データ記憶レジスタ5(第1図)のゾーン16.17における磁気バブル伝搬は
穴3O−41(第2図)の端部で発生する静電磁気トラップの均一移動による。
導電層6.7は層8と電気的に直列結合し、それ故各瞬間における制御電流は2
つの層6.8または7.8を経由して同時に流れる。3つの6.7.8の層全て
における穴3〇−41の存在は、制御電流を穴30−41を回って流し、異なる
層における2つの穴の端部で、例えば穴30と32又は穴31と32に、局部磁
場を同時に発生する。このように発生された総合磁場は層1に静電磁気トラップ
を誘導し、これらのトラップは穴30−41の端部に沿って伝搬し磁気バブルを
伴って運ぶ。
穴の位置の間隔周期の半分だけ層6における穴30に対する層7における穴31
を動かし、穴の位置の間隔周期の四分の−だけその穴30に対する穴32を動か
して、データ記憶レジスタ5における静電磁気トラップの等距離位置を穴の位置
の間隔周期の四分の−に隣接するトラップ間の間隔で、確実にする。このことは
結果としてレジスタ5に沿って磁気バブルの均一伝搬を引き起こす。
このようにゾーン16.17における静電磁気トラップは穴30−41の助けに
よって発生される。
電流■1、I2、I3、I4、I5、I6は導電層6.7.8に流れ、層1にお
けるスリット12.13.14の場所で、直列に結合されるゾーン16.17に
よりこれらのスリットの回りに流れることにより、静電磁気トラップを誘導する
。
導電層8におけるスリット14に穴の位置の周期の幅を設け、互いに180°ジ
グザグに反転して穴の位置の周期の四分の−の幅で、導電層6.7におけるスリ
ット12.13を設け、静電磁気トラップが列26.27.28.29における
トラップのピッチと同様なピッチで、穴の位置の周期の四分の−に等しいように
ゾーン16と17の間に発生されることを可能とする。このように3つの導電層
6.7.8を経由する通過制御電流11=16の助けでゾーン16.17間の磁
気バブルの均一連続伝搬を確実とし、このことは実質的に記憶装置の設計を簡素
化する。
ゾーン16と17の間の磁気バブル伝搬を更に詳細に考慮する。層6.7.8に
沿って電源供給24.25(第1図)から流れる交流は、磁気バブル43(第2
図)を、ゾーン17からゾーン16に通過する時、スリットの場所で位置48.
49.50.51に列26において位置52.53.54.55に、列28にお
いて位置44.45.46.47に占めせしめる。ゾーン16から17に通過す
る時、磁気バブル56は列27において位置57.58.59.60を、スリッ
ト部で位置61.62.63.64を、列29で位置65.66.67.68を
取る。
導電層6における電流■1の正方向の流れは、列28における磁気バブル43が
位置44に占めるように取られる。ゾーン17で導電層7における電流I2の正
方向は磁気バブル43が位置47にあるように取られる。電流■3は電流11と
電流■2の和であり、電気的に直列に接続されるゾーン16と17の電流11と
電流I2の方向と反対方向に導電層8において流れ、それ故、導電層6のゾーン
16における電流■4は電流11と大きさが等しいが極性が反対であり、ゾーン
16における導電層7における電流I5は電流I2と大きさが等しいが極性が反
対であり、ゾーン16における導電層8における電流I6は電流I3と大きさが
等しく極性が反対である。時刻tl(第3図)の最初の瞬間において、ゾーン1
7(第2図)における導電層6における電流11は正極性であり、導電層7にお
ける電流I2は0であり、導電層8における電流I3は負極性である。導電層6
のゾーン16において、電流■4は負極性であり、電流■5は0であり、電流■
6は正極性である。静電磁気トラップは列28の位置44と列27の位置57で
発生され、磁気バブル43と56を引き付ける。
時刻t2(第3図)の瞬間において、ゾーン17(第2図)における層6におけ
る電流Ilは0であり、層7における電流I2は負極性であり、層8における電
流I3は正極性である。ゾーン16の層6における電流I4は0であり、電流■
5は正極性であり、電流I6は負極性である。これは磁気静電トラップを、磁気
バブル43と56とをそれぞれ伴って運び、位置44から位置45に、位置57
から位置58に移動せしめる。
時刻t3(第3図)の瞬間において、ゾーン17(第2図)における層6におけ
る電流■1は負極性であり、層7において電流■2は0であり、層8において電
流I3は正極性であり、ゾーン160層6における電流I4は正極性であり、層
7における電流I5は0であり、層8における電流I6は負極性であり、それ故
静電磁気トラップは、磁気バブル43と56とをそれぞれ伴って運び、位置45
から位置46に、位置58から位置59に移動する。
時刻t4(第3図)の瞬間において電流11は0であり、層7において電流I2
は正極性であり、層8において電流■3は負極性であり、電流■4は0であり、
電流I5は負極性であり、電流I6は正極性である。それ故静電磁気トラップは
、磁気バブル43と56とをそれぞれ伴って、位置46から位置47に、位置5
9から位置60に移動する。
時刻t5(第3図)の瞬間においてゾーン16.17(第2図)における層6.
7.8において流れる電流■1、I2、I3、I4、I5、I6は時刻t1の瞬
間と同様であり、静電磁気トラップは磁気バブル43と56とをそれぞれ伴って
移動され、位置46から位置47に、位置59から位置60に移動する。
時刻t6(第3図)の瞬間においてゾーン16.17(第2図)における層6.
7.8における電流It、I2、I3と、I4.15、I6は時刻t2の瞬間と
同様である。それ故静電磁気トラップは位置48から位置49に、位置61から
位置62に移動され、磁気バブル43と56とをそれぞれ伴なって運ぶ。
時刻t7(第3図)の瞬間において電流11、I2、I3と、I4、I5、I6
は時刻t3の瞬間と同様である。それ故静電磁気トラップはそれぞれ位置49か
ら位置50に、位置62から位置63に移動され、磁気バブル43と56とをそ
れぞれ伴なって運ぶ。
時刻t8(第3図)の瞬間においてゾーン16.17(第2図)における層6.
7.8における電流■1、I2、I3と、I4、I5、I6は時刻t4の瞬間と
同様であり、それ故静電磁気トラップは位置50から位置51に、位置63から
位置64に移動され、磁気バブル43と56とをそれぞれ伴なって運ぶ。
時刻t9(第3図)の瞬間においてゾーン16.17(第2図)における層6.
7.8における電流11、I2、I3と、I4、I5、I6は時刻t1の瞬間と
同様である。静電磁気トラップは位置51から位置52に、位置64から位置6
5に移動され、磁気バブル43と56とをそれぞれ伴なって運ぶ。
時刻tlo(第3図)の瞬間においてゾーン16.17(第2図)における層6
.7.8における電流11、I2、I3と、I4、I5、I6は時刻t2の瞬間
と同様である。静電磁気トラップは位置52から位置53に、位置65から位置
66に移動され、磁気バブル43と56とをそれぞれ伴なって運ぶ。
時刻t11(第3図)の瞬間においてゾーン16.17(第2図)における層6
.7.8における電流11、I2、I3と、I4、I5、I6は時刻t3の瞬間
と同様である。静電磁気トラップは位置53から位置54に、位置66から位置
67に移動され、磁気バブル43と56とをそれぞれ伴なって運ぶ。
時刻t12(第3図)の瞬間においてゾーン16.17(第2図)における層6
.7.8における電流11、I2、I3と、I4、I5、I6は時刻t4の瞬間
と同様である。静電磁気トラップは位置54から位置55に、位置67から位置
68に移動され、磁気バブル43と56とをそれぞれ伴なって運ぶ。
このように3つの層6.7.8における穴30−41と層6.7における穴を半
分だけ移動し、層8においては穴の位置周期の四分の一毎だけ移動し、層6.7
においてはジグザグ形状のスリットを提供し、間隔周期の四分の−の幅のスリッ
トを有し互いに180°反転したジグザグ形状のスリットを有し、穴の位置の幅
の周期の層8におけるスリットと伴に、ゾーン16.17とスリット12.13
.14の位置の両方において静電磁気トラップが、穴の位置の間隔周期の四分の
−のピッチで位置づけられるように配置されることを可能とする。層6.7.8
に制御電流11=I6を流すことにより、均−且つ連続的にゾーン16.17間
を移動し、磁気バブルをデータ記憶レジスタ5(第1図)に沿って運ぶ。
この簡素化された記憶装置の設計構成は穴30−41を有する3つの導電層6.
7.8と、データ蓄積中にレジスタ5に沿って磁気バブルを均−且つ連続的に運
搬することを確実にするスリット12.13.14とを備える。
産業上の利用可能性
本発明はロボット、数値制御付工作機械、航空宇宙工学、通信機器、及びパーソ
ナルコンピュータにおけるメモリに使用できる。
44 4、f 45 47 4849 j(1,57,52jJ 64 j;、
fハ3
国際調査報告
Claims (1)
- 1.表面部に磁気的に内部結合されたデータ入力/出力チャンネル(2)を備え た磁気的単軸層(1)と、磁気バブル核形成装置(3)と、読み出し装置(4) と、データ記憶レジスタ(5)とを備えるメモリ用記憶装置であって、該データ 記憶レジスタは互いに絶縁され、磁気バブル伝搬経路に沿って周期的に交互する 他の3つの導電層(6、7、8)の1つ上に置かれ、且つ第1と第2の層におけ る穴(30、31、33、34、36、37、39、40)の上に互い違いに位 置し、該データ記憶レジスタの該3つの層は該磁気バブル伝搬経路に垂直なスル ースリット(12、13、14)を設け、該データ記憶レジスタを数個の電気的 結合ゾーン(16、17)に分割し、第1と第2の層におけるスリット幅は穴の 位置の間隔周期の四分の一を構成するデータ記憶レジスタであって、3つの層( 6、7、8)の全ては片側で電気的に内部接続され、2つの層(6、7)は他の 側で交流電源(24、25)に接続され、第3の層はこれらの電流供給電源(2 4、25)の共通端子に接続されるメモリ用記憶装置において、 該第3の導電層は最初の2つの層の穴の上に穴(32、35、38、41)を設 け、層(7)における穴(31、34、37、40)を層(6)における穴(3 0、33、36、39)に対して磁気バブル伝搬経路に沿った穴の位置の間隔周 期の半分により移動し、層(8)における穴(32、35、38、41)を層( 6)における穴(30、33、36、39)に対して磁気バブル伝搬経路に沿っ た穴の位置の間隔周期の四分の一により移動し、ジグザグ構成の導電層(6、7 )におけるスルースリット(12、13)は互いに180°反転して、それ故ジ グザグ頂点に対して等距離であるスルースリット(12、13)の縦軸は共通縦 平面(42)に在り、導電層(8)におけるスリット(14)の幅は穴の位置の 間隔周期に等しく、このスリットの対称軸は該層(6、7)におけるスリット( 12、13)の縦軸と同一縦平面(42)に配置されることを特徴とするメモリ 用記憶装置。
Applications Claiming Priority (1)
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