JPH04503521A - Asymmetric chemical synthesis and intermediates for producing antifungal compounds - Google Patents

Asymmetric chemical synthesis and intermediates for producing antifungal compounds

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JPH04503521A
JPH04503521A JP2-512298A JP51229890A JPH04503521A JP H04503521 A JPH04503521 A JP H04503521A JP 51229890 A JP51229890 A JP 51229890A JP H04503521 A JPH04503521 A JP H04503521A
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JP2-512298A
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ギリジャバラバーン,ヴィヨール・エム
ガングリー,アシット・ケイ
ピント,パトリック
サール,オルガ・ズィー
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シェリング・コーポレーション
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 抗真菌性化合物を製造するための不斉化学合成および中間体立型Q背景 欧州特許出願公開第178533号明細書および同第61835号明細書に、式 (式中、phは、フェニル基または、la若しくは2個のハロゲン原子で置換し C8シクロアルキルアルキル基または03〜C6シクロアルキル基であり:そし てnは0.1または2である) を有する2@の不斉中心を有するある種の抗真菌性化合物およびそれらの酸付加 塩が開示されている。若干のこれらの異性体は、それらが誘導されるラセミ混合 糊よりも好都合な性質を与えることが見出された。しかしながら、公開された出 願に、個々の異性体を製造するための何らかの不斉化学合成か開示されているも のはない0個々の純粋な異性体を経済的に且つ十分な収率で製造することができ る方法および中間体を堤供することは極めて好都合であると考えられる。[Detailed description of the invention] Asymmetric chemical synthesis and intermediate steric Q background for producing antifungal compounds In European Patent Application No. 178533 and European Patent Application No. 61835, the formula (In the formula, ph is a phenyl group, or substituted with la or two halogen atoms. It is a C8 cycloalkylalkyl group or a 03-C6 cycloalkyl group: (n is 0.1 or 2) Certain antifungal compounds with a 2@ chiral center and their acid additions Salt is disclosed. Some of these isomers are racemic mixtures from which they are derived. It has been found that it provides more favorable properties than glue. However, published Does the application disclose any asymmetric chemical synthesis for producing the individual isomers? It is not possible to produce individual pure isomers economically and in sufficient yields. It would be highly advantageous to provide methods and intermediates for the following.

米m特許第4,526.983号明細書に、式(式中、nは3または4の整数で ある)を有するある種の光学活性抗真菌性化合物およびその酸付加塩を、光学活 性カルボン酸エステルを用いるジアステレオマーの分離によって製造する方法が 開示されている。これは大規模な商業的合成には不適当である。それは労力を要 し、低収率で、しかも不経済である。U.S. Patent No. 4,526.983 describes the formula (where n is an integer of 3 or 4). Certain optically active antifungal compounds and their acid addition salts have optically active The production method involves separation of diastereomers using polycarboxylic acid esters. Disclosed. This is unsuitable for large scale commercial synthesis. it takes effort However, the yield is low and it is uneconomical.

本発明は、抗真菌性活性を有する化学的に純粋な鏡像異性体化合物を製造するの に有用な一連の重要な新規の中間体に関する6本発明の一つのB様は、式II式 IV (式中、Arは、フェニル、置換フェニル、3−チェニル装置lA3−チェニル 、3−フラニルまたは置換3−フラニルを表わし:Rは、アルキル、置換アルキ ルまたはシクロアルキルを表わし:R1は、Hまたはアルキルを表わし; Xは、りロウ、ブロモまたはヨードを表わし;Xlは、OH、クロロ、ブロモ、 ヨードまたはPlを表わし、但し、Plは、アルコキシZteiフェニルオキシ 、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ、アシルオキシ、アルキルチオ、フェニ ルチオ、置換フェニルチオまたは−NHP”を表わし、但し、R2は、アミノ保 護基、例えばフェニル、置換フェニル、ベンジル、置換ベンジル、アルカノイル 、γルコキシ力ルボニル、フェノキシカルボニルまたは置換フェノキシカルボニ ルであり:そしてPは、Hまたはヒドロキシ保護基を表わす)を有する中間体化 合物であって、前記の化合物は、単一星印(ネ)および二重星印(**)で示さ れる1@または複数個の不斉中心を有し且つその化合物は、同一の化学的構造を 有する1種類または複数種類の化合物を実質的に含まないが、星印をつけた炭素 中心で他の絶対立体化学配置を有する(例えば、式XITでの二重星印(木本) は双方とも絶対立体化字配yIRを表わし、このような化合物RRは、そのSS 型、RR型およびSR型を実質的に含まない)、前記の中間体化合物または薬学 的に許容し得るそれらの塩に関する。The present invention provides a method for producing chemically pure enantiomeric compounds with antifungal activity. 6 One aspect of the present invention relates to a series of important new intermediates useful for formula II. IV (where Ar is phenyl, substituted phenyl, 3-chenyl device lA3-chenyl , 3-furanyl or substituted 3-furanyl; R is alkyl, substituted alkyl R1 represents H or alkyl; R1 represents H or alkyl; X represents wax, bromo or iodo; Xl represents OH, chloro, bromo, represents iodine or Pl, where Pl is alkoxy phenyloxy , benzyloxy, substituted benzyloxy, acyloxy, alkylthio, phenyloxy ruthio, substituted phenylthio or -NHP'', where R2 is an amino group. Protecting groups such as phenyl, substituted phenyl, benzyl, substituted benzyl, alkanoyl , γ-alkoxycarbonyl, phenoxycarbonyl or substituted phenoxycarbonyl and P represents H or a hydroxy protecting group) compounds, said compounds are indicated by a single asterisk (ne) and a double asterisk (**). The compounds have one or more asymmetric centers and have the same chemical structure. Substantially free of one or more compounds with carbons marked with an asterisk with other absolute stereochemical configurations at the center (e.g. double asterisk (Kimoto) in formula XIT) both represent the absolutely steric configuration yIR, and such a compound RR has its SS (substantially free of type, RR type and SR type), said intermediate compound or pharmaceutical and their salts which are acceptable to the public.

本発明の好ましい中間体は、Ar、R,R’およびPが前記に定義の通りである 式XITを有するものである。好ましくは、式XTTを有する化合物において二 重星印(**)をつけた炭素原子は双方とも、それらの絶対立体化学配置Rであ る、すなわち、RR型の化合物である。しかしながら、式XIIを有するSS型 も、本発明の範囲内であることは注目される。Preferred intermediates of the invention are those in which Ar, R, R' and P are as defined above. It has the formula XIT. Preferably, in the compound having the formula Both carbon atoms marked with a double star (**) are in their absolute stereochemical configuration R. In other words, it is an RR type compound. However, the SS type with formula XII It is noted that also is within the scope of the present invention.

不発明のもう一つの好ましい中間体は、Ar、PおよびRが前記に定義の通りで ある式XIを有するものである0式XIを有する化合物の好ましい形態において 、−重星印(**)で示される炭素原子は、その絶対立体化字配TIRである。Another preferred intermediate of the invention is one in which Ar, P and R are as defined above. In a preferred form of the compound having formula XI, which is one having formula XI , - The carbon atom marked with a double star (**) is its absolute stereoconfiguration TIR.

式IIおよび式IIIを有する化合物おいて単一星印〈本)で示される不斉中心 は、それらの絶対立体化学配置Sであるのが好ましいが、式IVおよび式VlI Iを有する化合物において二重星印(**)で示される不斉中心は、それらの絶 対立体化学配置Rであるのが好ましい。Asymmetric centers indicated by a single asterisk in compounds having formula II and formula III are preferably in their absolute stereochemical configuration S, while formula IV and formula VlI Asymmetric centers marked with a double asterisk (**) in compounds with I are Preference is given to the allelic chemical configuration R.

前記の式において、好ましくは、Arは置換フェニルであり、更に好ましくは、 Arは一置換、二置換または三N、換ハロフェニル、例えば、2.4−ジフルオ ロ、2.6−ジフルオロ、4−フルオロ、2−フルオロ、2,4−ジクロロ、2 .6−ジクロロ、4−クロロまたは2−クロロ置換フェニルである。特に好まし い基Arは、2.4−ジフルオロフェニルである。好ましくは、Rはアルキル、 特に、メチルである。Pは、好ましくは、 アルキルオキシアルキル、アルキルチオアルキルまたはR′R″R′″シリルで あり、但し、R’ 、R″およびFL−は、同じであるかまたは異なってもよい し且つそれぞれ、アルキル、シクロアルキルまたはフェニルから選択される。更 に、好ましくは、Pは2−テトラヒドロピラニルである alは、好ましくは、 Hである。Xは、好ましくは、クロロまたはブロモである。Xlは、好ましくは 、クロ1−1、ブロモ、アルコキシ置換フェニルオキシ、ベンジルオキシまたは 置換ベンジルオキシである。In the above formula, preferably Ar is substituted phenyl, more preferably Ar is mono-substituted, di-substituted or tri-N-substituted halophenyl, e.g. 2,4-difluoro b, 2,6-difluoro, 4-fluoro, 2-fluoro, 2,4-dichloro, 2 .. 6-dichloro, 4-chloro or 2-chloro substituted phenyl. Especially preferred The group Ar is 2,4-difluorophenyl. Preferably R is alkyl, In particular, methyl. P is preferably Alkyloxyalkyl, alkylthioalkyl or R'R"R'"silyl Yes, but R', R'' and FL- may be the same or different and each selected from alkyl, cycloalkyl or phenyl. Change Preferably, P is 2-tetrahydropyranyl; al is preferably It is H. X is preferably chloro or bromo. Xl is preferably , chloro1-1, bromo, alkoxy-substituted phenyloxy, benzyloxy or Substituted benzyloxy.

前記の新規の中間体は、式XVT (式中、Arは、フェニル、置換フェニル、2−若しくは3−チェニル、置換2 −若しくは3−チェニル、2−若しくは3−フラニル、置換2−若しくは3−フ ラニル、2−14−若しくは5−イミダゾリル、3−若しくは5−(1,2,4 −トリアゾリル)、5−テトラゾリル、2−14−若しくは5−チアゾリル、2 −04−若しくは5−オキサシリル、3−14−若しくは5−インキサゾリル、 2−13−若しくは4−ピリジニル、2−若しくは3−ピロリル、3−若しくは 4−ピラゾリル、2−ベンズイミダゾリル、2−ベンズチアゾリルまたは2−1 4−若しくは6−ゲリニルを表わし、但し、前記のイミダゾリル基、トリアゾリ ル基、テトラゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基およびプリ ニル基土の飽和窒素原子は、H、アルキル、置換アルキル、シクロアルキル、置 換シクロアルキル、フェニルまたは置換フェニルで置換していてよいし;Ar1 は、1− (1,2,4−トリアゾリル)、1−(1,3,4−トリアゾリル) または1−イミダゾリルを表わし;R2は、アルキル、シクロアルキルまたはシ クロアルキルアルキルであり:そして nは1または2である) を有し、ここにおいて、星印(*)で示した不斉炭素中心を有し、その星印をつ けた炭素中心双方が同一の絶対立体化学配置を有し、そして前記の化合物は、こ のような炭素中心で他の絶対立体化学配置を有する化合物を実質的に含まない、 所望の抗真菌性最終生成物を製造するための極めて好都合な出発物質を提供する 。Said new intermediate has the formula XVT (wherein, Ar is phenyl, substituted phenyl, 2- or 3-chenyl, substituted 2 - or 3-chenyl, 2- or 3-furanyl, substituted 2- or 3-phenyl ranyl, 2-14- or 5-imidazolyl, 3- or 5-(1,2,4 -triazolyl), 5-tetrazolyl, 2-14- or 5-thiazolyl, 2 -04- or 5-oxasilyl, 3-14- or 5-inxazolyl, 2-13- or 4-pyridinyl, 2- or 3-pyrrolyl, 3- or 4-pyrazolyl, 2-benzimidazolyl, 2-benzthiazolyl or 2-1 represents 4- or 6-gelinyl, provided that the above-mentioned imidazolyl group, triazolyl group, tetrazolyl group, benzimidazolyl group, benzthiazolyl group and The saturated nitrogen atom of the nyl group is H, alkyl, substituted alkyl, cycloalkyl, substituted May be substituted with substituted cycloalkyl, phenyl or substituted phenyl; Ar1 is 1-(1,2,4-triazolyl), 1-(1,3,4-triazolyl) or 1-imidazolyl; R2 is alkyl, cycloalkyl or cycloalkyl; chloroalkylalkyl: and n is 1 or 2) has an asymmetric carbon center indicated by an asterisk (*), and has an asymmetric carbon center indicated by an asterisk (*). Both carbon centers have the same absolute stereochemical configuration, and the compound described above has the same absolute stereochemical configuration. substantially free of compounds having other absolute stereochemical configurations at the carbon center, such as Provides a highly convenient starting material for producing the desired antifungal end product .

下記に記載される方法において、Ar、R,R’、X、×1およびPは、特に断 らない限り、前記に定義の通りである。波線は(R/Sによっても示されるよう に)可能な異性体の混合物を示し、星印(*)は、(ここでおよび本明細書を通 して)その絶対立体化学R型またはS型における不斉炭素中心を示し、その対立 する鏡@異性体を実質的に含まない、下記に記載される方法において、二重星印 (**)は、反応スキームにおける革−星印(本)炭素に対立する絶対立体化学 配置を有する不斉炭素中心を表わす0例えば、星印(ネ)か絶対立体化学R型を 示す場合、二重星印(**)は、絶対立体化学S型を示し、逆の場合も同じであ る。In the method described below, Ar, R, R', X, x1 and P are particularly As defined above, unless otherwise specified. The wavy line is (as also indicated by R/S) ) indicates a mixture of possible isomers; an asterisk (*) indicates a mixture of possible isomers (here and throughout the specification); ) indicates the asymmetric carbon center in its absolute stereochemistry R or S form, and double asterisk in the method described below. (**) is the absolute stereochemistry opposite to the leather-asterisk (book) carbon in the reaction scheme. 0 representing an asymmetric carbon center with the configuration, for example, an asterisk (ne) or an absolute stereochemistry R type. Where indicated, a double asterisk (**) indicates absolute stereochemistry of the S form and vice versa. Ru.

したがって、本発明の一つの実施Ratは、式ArHを有する化合物と、その対 立する#i像異性体を実質的に含まない式Iし式中、星印(ネ)は(好ましくは 、その絶対立木化学配置Sの)不斉中心を示し、Lは、適当な脱離基、例えばハ ロ、酸無水物等を表わすコを有する化合物とを、ルイス酸、例えばAlCl3、 S n Cl 4等の存在下で反応させて、式II を有する化合物を生成し; 式IIを有する化合物を非塩基性還元剤と反応させて、式ITTを有する化合物 を生成し:そして 式ITTを有する化合物を塩基と反応させて、式IVを有する化合物を生成する ことを含み、二重星印(**)で示された不斉中心は、前記の革−星印(ネ)で 示された不斉中心に関して(好ましくは、R型に)反転する。この方法は、それ が、通常、商業的に入手可能なまたは容易に入手可能な式■を有する化合物を用 いて出発するという点において好都合である。意外にも、ArHとの反応におい て2ラセミ化は生じない、更に、鏡像異性体の保全性は、種々の還元剤を用いて 、式TIの化合物を式IIIの化合物に還元する場合に保持される。更に、その 方法では、式Iを有する化合物の基Xの炭素原子での反転が(式IVを有する化 合物の同じ炭素原子に関して)約100%の特異性で可能である。したがって、 式rにおいて星印(ネ)で示された炭素原子がその絶対立体化字配ISである場 合の前記の方法において、二重星印(**)で示された式IVの同じ炭素原子は 、その絶対立体化学配置Rであり、そして式Iの星印(*)が絶対立体化学配置 Rを表わす場合は、式IVの二重星印(*本)の炭素原子は、その絶対立体化字 配IFSである。同様に、下記に示されるそれ以後の反応において、星印(ネ) および二重星印(ネ*)によって表わされた立体化学は同一の関係を有する。Accordingly, one implementation of the present invention provides compounds having the formula ArH and their pairs. Formula I is substantially free of the #i image isomer, in which the asterisk (ne) represents (preferably , the asymmetric center of its absolute standing chemical configuration S, and L is a suitable leaving group, e.g. B, a compound having C representing an acid anhydride, etc., and a Lewis acid such as AlCl3, By reacting in the presence of S n Cl 4 etc., formula II producing a compound having; Reacting a compound having formula II with a non-basic reducing agent to form a compound having formula ITT generates: and Reacting a compound having formula ITT with a base to produce a compound having formula IV The asymmetric center indicated with a double asterisk (**) is Reversed (preferably to the R configuration) about the indicated asymmetric center. This method is However, usually a commercially available or easily available compound having the formula It is convenient in that you can leave the airport without leaving the airport. Surprisingly, the smell of reaction with ArH 2 Racemization does not occur; furthermore, enantiomeric integrity can be improved using various reducing agents. , is retained when reducing a compound of formula TI to a compound of formula III. Furthermore, that In the process, the inversion at a carbon atom of the group X of a compound of formula I (formula IV) with respect to the same carbon atom of the compound) with a specificity of approximately 100%. therefore, If the carbon atom marked with an asterisk (ne) in the formula r is in its absolute steric configuration IS, then In the above method of combination, the same carbon atom of formula IV marked with a double asterisk (**) , its absolute stereochemical configuration R, and the asterisk (*) in formula I is the absolute stereochemical configuration When R is represented, the carbon atom marked with a double asterisk (*) in formula IV is its absolute steric character. Distribution IFS. Similarly, in the subsequent reactions shown below, the asterisk (ne) and the stereochemistry represented by a double asterisk (ne*) have the same relationship.

もう一つの態様において、式IV [式中、二重星印(*本)は、(好ましくは、絶対立体化学配置Rの)不斉中心 を示す]を有する化合物を、エポキシド開環剤と反応させて、弐V、を有する化 合物を生成し、二重星印(*本)不斉中心での絶対立体化学配置は実質的に保持 される0次に、式■を有する化合物を、ヒドロキシ保護剤と反応させを有する化 合物を生成することができる。In another embodiment, formula IV [In the formula, the double asterisk (*) represents the asymmetric center (preferably of absolute stereochemical configuration R) is reacted with an epoxide ring-opening agent to form a compound having A compound is formed, and the absolute stereochemical configuration at the double asterisk (*) asymmetric center is substantially maintained. Next, a compound having the formula compounds can be produced.

次に、式VrlIを有する化合物を、一段階または二FANで酸化剤と反応させ て、式XI を有する化合物を生成することができる。The compound with formula VrlI is then reacted with an oxidizing agent in one step or in two FANs. , Formula XI A compound having the following can be produced.

Xlがハロ、OHまたはヒドロキシに誘導された脱離基、例えばメシレートであ る弐VTrIを有する化合物を、還元剤と反応させて、式IX式XI を有する化合物を生成することができる。Xl is a halo, OH or hydroxy-derived leaving group, e.g. mesylate. A compound having a VTrI of formula IX is reacted with a reducing agent to form formula IX A compound having the following can be produced.

本発明のもう一つの態様において、式IV[式中、二重星印(ネ率)は、(好ま しくは、絶対立体化学配置Rの)不斉中心を示すコを有する化合物を、酸化剤( および式VTを有する化合物のための加水分解剤、例えば水)と反応させて、式 Vlおよび/または式VTIを有する化合物を生成し、二重星印(*本)不斉中 心での絶対立体化学配置は実質的に保持される0次に、式Vlまたは式Vllを 有する化合物を、ヒドロキシ保護剤と反応させて、それぞれ式Xまたは式XIを 有する化合物を生成することができる。In another embodiment of the invention, the formula IV [wherein the double asterisk is (preferably) In other words, a compound having an asymmetric center (of absolute stereochemical configuration R) is treated with an oxidizing agent ( and a hydrolyzing agent, e.g. water) for a compound having the formula VT to Vl and/or a compound having the formula VTI, double asterisk (*) asymmetric medium The absolute stereochemical configuration at the heart is substantially preserved.0 order, then the formula Vl or the formula Vll is are reacted with a hydroxy protecting agent to form formula X or formula XI, respectively. It is possible to produce a compound having

式Xを有する化合物を酸化して式XIを有する化合物にしてもよい0次に、式X Iを有する化合物をエポキシ化剤、例えばジアルキルスルホキシド陰イオンと反 ノ5させて、式XII を有する化合物を生成することができる。A compound of formula X may be oxidized to a compound of formula XI. A compound having I is reacted with an epoxidizing agent, such as a dialkyl sulfoxide anion. 5, formula XII A compound having the following can be produced.

例えば、ジメチルスルホキシドを用いる場合、R1はHである。意外にも、Ar に対して結合した新たに形成された不斉中心での立体化学配置は、Rに結合した 中心での配置と実質的に同一である。For example, R1 is H when dimethyl sulfoxide is used. Surprisingly, Ar The stereochemical configuration at the newly formed asymmetric center bound to R substantially the same as the central location.

次に、式XIIを有する化合物を用いて請求核性Ar”陰イオンとの反応に続い て、任意の保護基Pを除去して、式XITI(式中、Ar1は、1− <1.2 .4−トリアゾリル)、1−<1.3.4−トリアゾリル)または1−イミダゾ リルを表わす)を有する化合物を生成することによって、式XvIを有する所望 の抗真菌性最終生成物を′H遺することができる。Next, following reaction with the claimed nuclear Ar” anion using a compound having formula XII and remove any protecting group P to obtain the formula XITI (wherein Ar1 is 1-<1.2 .. 4-triazolyl), 1-<1.3.4-triazolyl) or 1-imidazo by producing a compound having the formula The antifungal end product can be produced by H.

式X111を有するこの中間体化合物は、欧州特許出願公開¥!0178533 号明細書においてラセミ体で開示されている。This intermediate compound having the formula 0178533 It is disclosed in the specification in the racemic form.

次に、式XHTを有する化合物は、欧州特許公報に記載された方法などの式XI IIを有する化合物に対するそれ自体既知の方法を用いることによって式XVT を有する化合物に変換される、すなわち、例えば、XIIIを塩化メタンスルホ ニルなどのメタンスルホン化剤と反応させて、式XIVを有する化合物を生成し 、次に、これを、式SR2を有するメルカプタン陰イオンと反応させて、式XV (式中、R2は、アルキル、シクロアルキルまたはシクロアルキルアルキルであ る)を有する化合物を生成し、これを順次に、酸化剤と反応させて、式XVI( 式中、nは、1または2である)を有する化合物を生成する。Ar’は、好まし くは、1− (1,2,4−トリアゾリル)であり、Arは、好ましくは、2゜ 4−ジフルオロフェニルであり、RおよびR2は、好ましくは、メチルであり、 R1は、好ましくは、Hであり、nは、好ましくは、2であり、そして二重星印 (本*)で示された炭素原子は双方とも絶対立体化学配置Rである。同様の化学 を用い且つ絶対立体化学配置Rでの単一星印(*)の炭素を有する式Iの化合物 で出発すると、化合物XVTは、二重星印(*本)をつけた不斉炭素双方で絶対 立体化学配置Sを有して得ることができる。Compounds having formula XHT can then be prepared by formula By using methods known per se for compounds having the formula XVT i.e., for example, converting XIII to a compound having methanesulfonate chloride reaction with a methanesulfonating agent such as , which is then reacted with a mercaptan anion having formula SR2 to form formula XV (wherein R2 is alkyl, cycloalkyl or cycloalkylalkyl) ) which is then reacted with an oxidizing agent to form a compound of formula where n is 1 or 2). Ar' is preferred Ar is preferably 1-(1,2,4-triazolyl), and Ar is preferably 2° 4-difluorophenyl, R and R2 are preferably methyl, R1 is preferably H, n is preferably 2 and double asterisk Both carbon atoms indicated by (book*) have the absolute stereochemical configuration R. similar chemistry and a single asterisk (*) carbon in the absolute stereochemical configuration R Starting from , compound XVT has absolute It can be obtained with the stereochemical configuration S.

本発明は、実質的に純粋な鏡像異性体およびこのような実質的に純粋な鏡@異性 体を製造する方法に関する。実質的に純粋とは、本土U人は、このような化合物 の他の任意のfi像異性体を実質的に含まない、例えば、1種類の鏡@異性体が 、他の任意の鏡像異性体に関して約95モル%を越える量で、更に好ましくは、 約97モル%を越えて、最も好ましくは、約99モル%を越えて存在するという ことを意味している。The present invention provides substantially pure enantiomers and such substantially pure enantiomers. Relating to a method of manufacturing a body. Substantially pure means that such a compound For example, one mirror@isomer is substantially free of any other fi enantiomer of , more preferably in an amount greater than about 95 mole % with respect to any other enantiomer, said to be present in greater than about 97 mol%, most preferably in excess of about 99 mol%. It means that.

以下の用語は、本明細書中で用いる場合、特に断らない限り、下記に記載した意 味を有する。As used herein, the following terms have the meanings described below, unless otherwise specified. Has taste.

アシルは、アルカノイル、ハロー置換アルキルカルボニル、ベンゾイルおよび置 換ベンゾイルを表わし: アルキル(アルキルチオ、アルコキシ、アルキルオキシアルキル、アルキルチオ アルキル、アルカノイル、アルコキシカルボニル、ヒドロキシアルキル等のアル キル部分を含む)は、1〜12個、好ましくは、1〜6個の炭素原子を有する直 Hまたは分校状炭化水素鎖を表わし;置換アルキルは、1〜3個の水素原子がハ ロ、保護されたヒドロキシ、フェニル、ルイス酸と反応性でない置換フェニル等 で置換されている前記に定義のアルキル基を表わし; シクロアルキル(シクロアルキルアルキルのシクロアルキル部分を含む)は、3 〜8個、好ましくは、3〜6個の炭素原子を有する飽和炭素環式環を表わし;ハ ロは、フルオロ、クロロ、ブロモまたはヨードを表わし;アミン保護基は、前記 に記載した反応などの所望の化学反応中にアミノ基を保護する基を表わし、例え ば、適当なアミン保護基としては、ベンジル、置換ベンジル、アルコキシ置換フ ェニル、アシル、アルコキシカルボニル、ハロ置換アルコキシカルボニル、非置 換若しくは置換アリルオキシカルボニル等があり:ヒドロキシ保護基は、前記に 記載した反応などの所望の化学反応中にヒドロキシ基を保護する基を表わし、例 えば、適当なヒドロキシ保護基としては、ベンジル、置換ベンジル、アルコキシ 置換フェニル、アシル、アルコキシカルボニル、ハロー置換アルコキシカルボニ ル、非1換若しくは置換アリルオキシカルボニル、アルキル、アルキルオキシア ルキル、アルキルチオアルキルまたはR′R″R′″シリル(但し、R’ +  R″およびR′″は、同じであるかまたは異なって6よいし且つそれぞれ、アル キル、シクロアルキルまたはフェニルから選択される)かあり;そして 置換アリルオキシカルボニルは、アリル基がハロ、フェニル、置換フェニル等で 置換されているアリルオキシカルボニル基を表わし;置換フェニル、置換ベンジ ル、置換ベンゾイル、置換3−チェニルおよび置換3−フラニルは、それらのフ ェニル環、チェニル環またはフラニル環が、71口、アルキル、ヒドロキシアル キル、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキッドチオ、フェノキシ、アルカノイル、 ベンゾイル、アルカノイルオキシ、ベンゾイルオキシ、アミ人アルキルアミ人ジ アルキルアミノ等からそれぞれ独立して選択される1個または2個の置換基で置 換されている基を表わす。Acyl includes alkanoyl, halo-substituted alkylcarbonyl, benzoyl and substituted Representing benzoyl: Alkyl (alkylthio, alkoxy, alkyloxyalkyl, alkylthio Alkyl, alkanoyl, alkoxycarbonyl, hydroxyalkyl, etc. including the kill moiety) having 1 to 12 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms. H or branched hydrocarbon chain; substituted alkyl is a substituted alkyl in which 1 to 3 hydrogen atoms are b. Protected hydroxy, phenyl, substituted phenyl that is not reactive with Lewis acids, etc. represents an alkyl group as defined above, substituted with; Cycloalkyl (including the cycloalkyl part of cycloalkylalkyl) is 3 represents a saturated carbocyclic ring having ~8, preferably 3 to 6 carbon atoms; ro represents fluoro, chloro, bromo or iodo; the amine protecting group is represents a group that protects an amino group during a desired chemical reaction, such as the reaction described in For example, suitable amine protecting groups include benzyl, substituted benzyl, and alkoxy-substituted groups. phenyl, acyl, alkoxycarbonyl, halo-substituted alkoxycarbonyl, unsubstituted substituted or substituted allyloxycarbonyl, etc.: Hydroxy protecting groups are as described above. Represents a group that protects a hydroxyl group during a desired chemical reaction, such as the reactions described, e.g. For example, suitable hydroxy protecting groups include benzyl, substituted benzyl, alkoxy Substituted phenyl, acyl, alkoxycarbonyl, halo substituted alkoxycarbonyl aryl, non-monosubstituted or substituted allyloxycarbonyl, alkyl, alkyloxycarbonyl, alkyl, alkylthioalkyl or R'R''R'''silyl (however, R' + R'' and R'' may be the same or different and each selected from phenyl, cycloalkyl or phenyl; and Substituted allyloxycarbonyl is an allyl group in which the allyl group is halo, phenyl, substituted phenyl, etc. Represents a substituted allyloxycarbonyl group; substituted phenyl, substituted benzyl substituted benzoyl, substituted 3-chenyl and substituted 3-furanyl phenyl ring, chenyl ring or furanyl ring is 71-unit, alkyl, hydroxyalkyl Kyl, hydroxy, alkoxy, alkydthio, phenoxy, alkanoyl, benzoyl, alkanoyloxy, benzoyloxy, amine alkyl amine di substituted with one or two substituents each independently selected from alkylamino, etc. Represents a group that has been replaced.

本発明の新規の方法および中間体を、下記のスキームによる反応順序で例示し、 式中、Ar、Ar’、R,R’、R2、p、xおよびXlは、前記に定義の通り である。The novel process and intermediates of the invention are illustrated in the reaction sequence according to the scheme below, where Ar, Ar', R, R', R2, p, x and Xl are as defined above It is.

式■において単一星印(*)で示された不斉炭素中心は、好ましくは、その絶対 立体化学S型であり、したがって、二重星印(**)をつけた炭素中心の双方で 絶対立体化学配置Rを有する式XvIの最終生成物、すなわち、式XVIを有す る化合物のRR型が生じる0式Iを有する化合物が、単一星印(*)をつけた炭 素で絶対立体化学配置Rを有する場合、最終生成物XVIにおける二重星印(* *)で示された炭素原子の双方が、それらの絶対立体化学配置Sである、すなわ ち、式x■■を有する化合物のSS型である。The asymmetric carbon center indicated by a single asterisk (*) in formula ■ is preferably The stereochemistry is S-type and therefore both carbon centers marked with a double asterisk (**) The final product of formula XvI with absolute stereochemical configuration R, i.e. having formula XVI Compounds with formula I, in which the RR form of the compound occurs, are marked with a single asterisk (*). double asterisk (* *) both of the carbon atoms indicated are in their absolute stereochemical configuration S, i.e. In other words, it is the SS type of the compound having the formula x■■.

工程Aにおいて、Lは、任意の適当な脱離基、例えばハロ、酸無水物またはOH 5好ましくは、ハロ、例えばクロロであることができる0反応混合物は、適当な 溶媒、例えば非反応性、無極性溶媒、例えばArHそれ自体、CH2Cl2、メ タジクロロベンゼン、C82等を含むことができる。任意の適当な温度を用いる ことができる。好ましくは、反応混合物を、例えば、約0℃まで冷却し、適当な ルイス酸を加える0代表的なルイス酸としては、AlCl3、S n Cl 4 、F e C13等がある。ルイス酸は、約1当量〜約3当量、好ましくは、お よそ当量の量で存在することかできる6反応は、水、好ましくは、氷水を性態す ることによって急冷することができるし、生成物は適当な溶媒によって抽出され る。In step A, L is any suitable leaving group, such as halo, anhydride or OH 5 Preferably, the reaction mixture can be halo, e.g. chloro. Solvents such as non-reactive, non-polar solvents such as ArH itself, CH2Cl2, It can include tadichlorobenzene, C82, and the like. use any suitable temperature be able to. Preferably, the reaction mixture is cooled to, for example, about 0°C and heated to a suitable temperature. Add Lewis acid 0 Typical Lewis acids include AlCl3, SnCl4 , F e C13, etc. The Lewis acid contains about 1 equivalent to about 3 equivalents, preferably The 6-reactant, which can be present in approximately equivalent amounts, contains water, preferably ice water. The product can be quenched by extracting it with a suitable solvent. Ru.

工程Bにおいては、式IIを有するケトハロゲン化物を、適当な非塩基性還元剤 、例えばNaBH3CN、ボラン、アルキルボラン等と反応させる。好ましくは 、反応は適当な溶媒中、例えばメタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエー テル等中で行う、還元剤は、過剰に、例えば約0.5〜約1.0モル過剰で用い るのが好ましい9反応は、任意の適当な温度、例えば室温で行うことができる。In step B, a ketohalide having formula II is treated with a suitable non-basic reducing agent. , for example, NaBH3CN, borane, alkylborane, etc. Preferably , the reaction is carried out in a suitable solvent, e.g. methanol, tetrahydrofuran, diethyl ether. The reducing agent is used in excess, for example, about 0.5 to about 1.0 molar excess. The reaction can be carried out at any suitable temperature, such as room temperature.

工程Cにおいては、式IIIを有するハロヒドリンを、適当な塩基捕捉剤または 酸捕捉剤、例えばに2CO3,0H−5有機塩基等と反応させる6反応は、適当 な極性溶媒、例えばメタノール、エタノール、ジメチルスルホキシド<DMSO )等巾で行うのが好ましい1反応は、任意の適当な温度、例えば約0〜約80℃ で進行することができる。塩基は、約1〜約1.5モル量の量で、好ましくは、 およそ等モル量で用いるのが好ましい、典型的に、溶媒を除去し、残留物を水で 洗浄し、そしてCHCl 中で抽出する。この時点で、式ITIを有する化合物 の単一星印をつけた炭素(ネ)での立体化学は、式IVを有する化合物の二重星 印(ネ*)をつけた炭素で反転されたことに注目すべきである。In step C, a halohydrin having formula III is treated with a suitable base scavenger or The reaction with an acid scavenger, such as a 2CO3,0H-5 organic base, is a suitable method. polar solvents such as methanol, ethanol, dimethyl sulfoxide < DMSO ) One reaction which is preferably carried out at a constant temperature is at any suitable temperature, e.g. from about 0 to about 80°C. You can proceed with The base is preferably in an amount of about 1 to about 1.5 molar amounts. Preferably used in approximately equimolar amounts, typically the solvent is removed and the residue is diluted with water. Wash and extract in CHCl. At this point, a compound having the formula ITI The stereochemistry at the single asterisked carbon (ne) is the double asterisk of the compound having formula IV. It should be noted that the carbons marked (ne*) are inverted.

工程りにおいて、式IVを有するエポキシドは、任意の適当なエポキシド開環試 薬、例えばハロトリアルキルラン、フェノキシト、置換フェノキシト、アニリン 、1換アニリン、ベンジルアルコール、置換ベンジルアルコール、アシルアミン 、アルコキシカルボニルアミノ、アルキル若しくはアリールメルカプタン等を用 いることによってアリール置換した炭素で選択的に開環することができる0反応 は、適切にまたは適当な溶媒中で、例えば、ハロトリアルキルシラン、乾uk溶 媒、例えばCH2Cl2、またはメタノール中のアルコキシ置換ナトリウムフェ ノキシ塩等を用いて行うことかできる。任意の適当な温度を用いることができ、 好ましくは、約−20℃未満の低温度〜約80℃である。開環剤は、典型的に、 エポキシド溶液に対して約1.0当量〜約5,0当量の量で徐々に加えられる。In the process, the epoxide having formula IV is treated with any suitable epoxide ring-opening reagent. Drugs such as halotrialkyranes, phenoxytos, substituted phenoxytos, anilines , monovalent aniline, benzyl alcohol, substituted benzyl alcohol, acyl amine , alkoxycarbonylamino, alkyl or aryl mercaptan, etc. 0 reaction that can selectively open the ring at an aryl-substituted carbon by eg halotrialkylsilane, dry UK solution, in a suitable or suitable solvent. alkoxy-substituted sodium phenol in a medium such as CH2Cl2 or methanol. This can be done using a oxysalt or the like. Any suitable temperature can be used; Preferably, low temperatures below about -20<0>C to about 80<0>C. The ring opening agent typically is It is added gradually in an amount of about 1.0 equivalents to about 5.0 equivalents relative to the epoxide solution.

反応を中和し、そして生成物を適当な溶媒、例えば塩化メチレン中で抽出する。The reaction is neutralized and the product is extracted into a suitable solvent such as methylene chloride.

工程Fにおいて、式■を有する化合物を、適当な保護剤、例えばジヒドロフラニ ルエーテル、ジヒドロピラニルエーテル、アルコキシアルキル若しくはアルキル チオアルキルエーテルの不飽和若しくはハロ誘導体(例えば、ビニルアルキルエ ーテルまたはクロロアルキルアルキルエーテル)、ハロ三置換シリルエーテル等 と反応させる。好ましい保護剤は、例えばジヒドロピラニルエーテルである。In step F, the compound having formula ether, dihydropyranyl ether, alkoxyalkyl or alkyl Unsaturated or halo derivatives of thioalkyl ethers (e.g. vinyl alkyl ethers) ether or chloroalkylalkyl ether), halotrisubstituted silyl ether, etc. react with. A preferred protecting agent is, for example, dihydropyranyl ether.

典型的に、弐■を有する化合物を、過剰の11iic護剤と反応させる。ルイス 酸などの触媒を用いてもよい、好ましい触媒はPOCl3である0反応は、任意 の適当な温度、例えばO℃〜室温で進行することができる。典型的には、次に、 反応混合物を塩基、例えば水性炭酸ナトリウムで洗浄し且つ適当な溶媒で抽出す る。Typically, a compound with 2 is reacted with an excess of 11i protectant. Lewis A catalyst such as an acid may be used, the preferred catalyst is POCl3. The reaction is optional. The process can be carried out at a suitable temperature, for example from 0° C. to room temperature. Typically, then: The reaction mixture is washed with a base such as aqueous sodium carbonate and extracted with a suitable solvent. Ru.

工程Gにおいて、式VIIIを有する保護された化合物を、Xlがハロである場 合、DMSOなどの適当な酸化剤と反応させる。他の場合は、基X1を最初に水 酸化物に変換した後、ケト基に変換する1例えば、Xlが、例えばアルコキシフ ェノキシまたはジアルキルアミノフェノキシである場合、硝酸第二セリウムアン モニウムを用いることができ、そして得られたしドロキシ基を通常の酸化剤、例 えば二酸化マンガン、ジョーンズ試薬、三酸化クロム等によって酸化することが できる。Xlがアルキルメルカプト基またはアリールメルカプト基である場合、 酸化剤、例えば塩素または塩化スルフリルを用いることができ、その後の加水分 解に結果、式XIを有するケトンを生じる。Xlがアシルオキシ基である場合、 適当な加水分解剤、例えば水性水酸化ナトリウムによる加水分解を行うことがで き、そして得られたヒドロキシ基は、前記に記載の通常の酸化剤を用いて酸化し て、ケト基にすることができる。In step G, the protected compound having formula VIII is converted to If so, it is reacted with a suitable oxidizing agent such as DMSO. In other cases, the group X1 is first For example, if Xl is converted into an oxide and then converted into a keto group, e.g. If phenoxy or dialkylaminophenoxy, ceric ammonium nitrate Monium can be used, and the resulting droxy group can be replaced with a normal oxidizing agent, e.g. For example, it can be oxidized by manganese dioxide, Jones reagent, chromium trioxide, etc. can. When Xl is an alkylmercapto group or an arylmercapto group, Oxidizing agents such as chlorine or sulfuryl chloride can be used and subsequent hydrolysis The solution results in a ketone having formula XI. When Xl is an acyloxy group, Hydrolysis can be carried out with a suitable hydrolyzing agent, e.g. aqueous sodium hydroxide. and the resulting hydroxy groups are oxidized using the conventional oxidizing agents described above. can be converted into a keto group.

ケトンXIは、下記の工程已によって化合物IVがら製造することもできる。Ketone XI can also be prepared from compound IV by the following process steps.

ここでは、エポキシド■■と、ジアルキルスルホキシド、例えばジメチルスルホ キシドとを、ルイス酸、例えば三フッ化ホウ素、トリメチルシリルトリフレート (triflate)、Zn”、T14+、z 、 4 +、sn4+、Mg2 +などの金属ルイス酸等の存在下で反応させる1反応は、適切にか、DMSO中 がまたはCH2Cl□などの非関与溶媒中、約−20℃〜約60℃、好ましくは 、約り0℃〜約30℃の範囲の温度で進行することができる。ヒドロキシケトン VIIのジオール■■に対する比率は、反応条件およびルイス酸によって変化す る0次に、所望の生成物VIIと、ヒドロキシ保護剤とを(工程L)前記に論及 したように、非エノール化酸触媒存在下で反応させる。ケト基に対するキラリテ ィーアルファは、ヒドロキシルを保護する工程中にそのま1残ることに注目され たい。Here, epoxide ■■ and dialkyl sulfoxide, such as dimethyl sulfoxide, are used. oxide and Lewis acid, such as boron trifluoride, trimethylsilyl triflate. (triflate), Zn", T14+, z, 4+, sn4+, Mg2 One reaction in which the reaction is carried out in the presence of a metal Lewis acid such as from about -20°C to about 60°C, preferably in a non-participating solvent such as or CH2Cl□. , can proceed at temperatures ranging from about 0<0>C to about 30<0>C. hydroxyketone The ratio of VII to diol will vary depending on the reaction conditions and Lewis acid. The desired product VII and the hydroxy protecting agent (Step L) are then combined as mentioned above. The reaction is carried out in the presence of a non-enolizing acid catalyst as described above. Chirality towards keto groups It has been noted that alpha remains intact during the hydroxyl protection process. sea bream.

水などの加水分解剤が存在する場合、反応工程Eで生成される副生物vIは、前 記で論及したような適当なヒドロキシ保護剤を用いてヒドロキシ基を最初に選択 的に保護することによってケトンXIに変換して(工程U)、Rが基OPを有す る炭素に結合している式Xを有する化合物を生じることもできる0次に、Arを 結合している残りの非保護ヒドロキシル基を、通常の試薬、例えばMnO2、C rO3、ジョーンズ試薬、KMnO4等によって工程Kにおいて酸化してケトに 2Cr207、塩基(02+OH)等存在下の空気などの試薬を用いて、非関与 溶媒中、例えばアセトン、塩化メチレン(二相)アセトニトリル、DMF等、好 ましくは、アセトン中、約り℃〜約30℃の蛭囲の温度で酸化することによって 化合物IXから製造することもできる(工程J)、化合物IXは、基X1がハロ 、OHまたはヒドロキシに誘導された脱離基、例えばアシルオキシ若しくはメシ レートである場合、工程Hでの化合物VIIIから、当該技術分野で既知の適当 な溶媒中で、R2、トリアルキルスズまたは水素化物、亜鉛、スズ、ナトリウム 若しくはマグネシウム金属等のような試薬によって還元してメチレン基にするこ とによって製造することができる。When a hydrolyzing agent such as water is present, the by-product vI produced in reaction step E is First select the hydroxy group using a suitable hydroxy protecting agent as mentioned in to the ketone XI (step U), where R has a group OP Ar is of order 0, which can also give rise to compounds with the formula The remaining unprotected hydroxyl groups attached are removed using conventional reagents such as MnO2, C Oxidized to keto in step K with rO3, Jones reagent, KMnO4, etc. Using reagents such as air in the presence of 2Cr207, base (02+OH), etc. in a solvent, such as acetone, methylene chloride (biphasic) acetonitrile, DMF, etc. Preferably, by oxidizing in acetone at a temperature of about 30°C to about 30°C. Compound IX can also be prepared from compound IX (step J), where the group X1 is halo , OH or hydroxy-derived leaving groups, such as acyloxy or methy from compound VIII in step H, as appropriate as known in the art. R2, trialkyltin or hydride, zinc, tin, sodium in a suitable solvent. Alternatively, it can be reduced to a methylene group using a reagent such as magnesium metal. It can be manufactured by

工程Mにおいて、ケト化合物XIを、R1が水素または前記に定義のアルキルと 反応させる。典型的には、反応は、非関与極性溶媒中、例えばジメチルホルムア ミド(DMF)、ジメチルスルホキシド等中で行うことができる9反応は、0℃ 〜50℃、好ましくは、0℃〜10℃の適当な温度で進行することができる。In step M, the keto compound Make it react. Typically, the reaction is carried out in a non-participating polar solvent, such as dimethylforma 9 reactions that can be carried out in DMF, dimethyl sulfoxide, etc. at 0°C. It can proceed at any suitable temperature of -50<0>C, preferably 0<0>C to 10<0>C.

スルホキシドの陰イオンは、強塩基、例えば水素化ナトリウム、リチウム若しく はナトリウムヘキサアルキルジシラザン、ナトリウム若しくはカリウムアミド等 を、適切にまたはケト化合物XIと同じ溶離液中で用いることによって製造する ことができる1反応が完了した時点で、それを、例えばpH7まで中和し、そし てエポキシドXIIを、適当な溶媒、例えば二塩化メチレンまたは酢酸エチルで 抽出することによって単離する。この時点で、エポキシ環に結合しfS炭素で形 成された新規のキラル中心は、基OPに結合した炭素と同じ相対的立体化学を有 することに注目すべきである0例えば、式XIを有するケトンの立体化学が二重 星印(率本)で示されたところでRである場合、エポキシ基に結合した炭素そ・ 新規に形成された中心も、Rの立体化学を有し、ケトンXIが二重星印(**) で示されたところでSである場合、新規の生成物は、池の二重星印(ネ*)をつ けた中心でSの立体化学を有する。したがって、式Iを有する化合物の適当なR 型まなはS型を用いて出発することによって、式XII、式XI I I、式X IV、式X■および式XVIを有する化合物の立体化学を、望ましいように予め 決定することができる。The sulfoxide anion is a strong base such as sodium hydride, lithium or is sodium hexaalkyldisilazane, sodium or potassium amide, etc. is prepared by using it appropriately or in the same eluent as keto compound XI. Once a reaction is complete, it can be neutralized, e.g. to pH 7, and then epoxide XII in a suitable solvent such as methylene dichloride or ethyl acetate. Isolate by extraction. At this point, bond to the epoxy ring and form the fS carbon. The new chiral center created has the same relative stereochemistry as the carbon attached to the group OP. It is noteworthy that, for example, the stereochemistry of the ketone with formula XI is double If R is indicated with an asterisk (rate), the carbon bonded to the epoxy group is The newly formed center also has R stereochemistry, with ketone XI marked with a double asterisk (**) If it is S where indicated by It has S stereochemistry at the center of the digit. Therefore, a suitable R of a compound having formula I By starting with the S form, formula XII, formula XI I I, formula X The stereochemistry of the compounds having IV, formula X and formula XVI can be determined in advance as desired. can be determined.

工程Nでは、エポキシドXIIを、Ar’陰イオンと反応させる6反応は、R1 を結合している中心でのレジオ選択性(regioselectivity)に 好都合である。Ar”が1− (1,2,4−トリアゾリル)、1−(1,3゜ 4−トリアゾリル)またはイミダゾリルなどのへテロ環である場合、陰イオンは 、強塩基、例えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、カリウムアミド、水酸 化セシウム等との反応によって生成される。溶媒の選択17III類は、極性の 非関与溶媒、例えば、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノン、ヘキサ メチルホスホルアミド(触媒量)、ジメチルスルホキシド等で、約り℃〜約12 0℃の範囲の温度であり、好ましくは、ジメチルホルムアミド中、70℃〜80 ℃である。In step N, the 6 reaction in which epoxide XII is reacted with Ar' anion is R1 regioselectivity at the center that connects the It's convenient. Ar” is 1-(1,2,4-triazolyl), 1-(1,3゜ 4-triazolyl) or imidazolyl, the anion is , strong bases such as sodium hydride, sodium amide, potassium amide, hydroxy acid Produced by reaction with cesium chloride, etc. Solvent Selection Class 17III is polar Non-participating solvents such as dimethylformamide, N-methylpyrrolidinone, hexa Methylphosphoramide (catalytic amount), dimethyl sulfoxide, etc., to approx. 0°C, preferably 70°C to 80°C in dimethylformamide. It is ℃.

反応が終了したら、それを、工程Nにおいて強酸、例えば水性HCI、H2SO 4、リン酸またはトリフルオロ酢酸を用いて酸性にする。この方法は、酸素保護 基の開裂を可能にして、遊離ヒドロキシル基を生じさせる。化合物XIIIは、 反応のPHを、例えば約8〜9のPHに調整し且つ生成物を適当な溶媒中で抽出 することによって単離される。或いは、生成物XIIIを、pHを8〜9の値に 調整する際に媒質から沈殿させることができる。Once the reaction is complete, it is treated with a strong acid such as aqueous HCI, H2SO in step N. 4. Acidify using phosphoric acid or trifluoroacetic acid. This method provides oxygen protection Allowing cleavage of the group to yield a free hydroxyl group. Compound XIII is The pH of the reaction is adjusted to, for example, a pH of about 8-9 and the product is extracted in a suitable solvent. isolated by Alternatively, product XIII may be prepared at a pH of 8-9. It can be precipitated from the medium during preparation.

工程P、QおよびWは、欧州特許出願公開第0178533号明細書に記載され たように行うことができる0例えば、式XIITを有する化合物と、塩化メタン スルホニルなどのメタンスルホン化剤とを、不活性溶媒(例えば、ベンゼン、ジ クロロメタン等)中、塩基存在下、約り℃〜約30℃で反応させて、式XI■を 有するメタンスルホン酸塩を生じる。典型的に、スルホン化剤は過剰で(1〜2 当量)用いられる。塩基は、例えば有機アミン、例えばピリジンであることがで きる。Steps P, Q and W are described in European Patent Application No. 0178533. For example, a compound having formula XIIT and methane chloride methanesulfonating agents such as sulfonyl in an inert solvent (e.g., benzene, chloromethane, etc.) in the presence of a base at about 30°C to about 30°C to convert formula yields methanesulfonate with Typically, the sulfonating agent is in excess (1-2 equivalent) used. The base can be, for example, an organic amine, such as pyridine. Wear.

次に、式XIVを有するメタンスルホン酸塩と、式R25−を有し、式中、R2 がアルキル、シクロアルキルまたはシクロアルキルアルキルであるメルカプタン 陰イオンとを反応させる。好ましくは、対イオンはアルカリ金属塩であり、そし て溶媒は不活性であるのが好ましい(例えば、DMSOlDMF等)、チオール 塩は過剰で(2〜10当量ン用いることができるし、温度は、典型的に、0〜8 0℃である。Next, a methanesulfonate having the formula XIV and a methanesulfonate having the formula R25-, where R2 mercaptans in which is alkyl, cycloalkyl or cycloalkylalkyl React with anions. Preferably the counterion is an alkali metal salt and The solvent is preferably inert (e.g. DMSOlDMF etc.), thiol The salt can be used in excess (2 to 10 equivalents) and the temperature typically ranges from 0 to 8 It is 0°C.

次に、式XVを有するスルフィドを、工程Wにおいて過酸などの酸化剤、例えば メタクロロ過安息香酸を用いて不活性溶媒、例えばクロロホルム中、約−30℃ 〜還流温度で酸化させる。The sulfide having formula XV is then treated in step W with an oxidizing agent such as a peracid, e.g. using metachloroperbenzoic acid in an inert solvent, e.g. chloroform, at about -30°C. Oxidize at ~reflux temperature.

下記の実施例は、本発明を例示するためのものであるが制限するためのものでは ない。The following examples are intended to illustrate but not limit the invention. do not have.

塞施医1 S−(−)−2−クロログロピオン酸1g、m−ジフルオロベンゼン1.5g、 ジメチルホルムアミド(DMP)0.35m1をフラスコに入れ、0℃まで冷却 する。塩化オキサリル1.28gを徐々に加え且つ約16時間攪拌する。得られ た反応混合物を、m−ジフルオロベンゼン1.05g中のAlCl31.25g に加える。0℃で約6時間撹拌し、塩化メチレン50m1を加え、そして氷水中 に注加する。1時間放置する。CH2Cl2層を分離し且つH20、ブラインで 洗浄する。 N a 2 S O4上で乾燥させる。溶媒をロータリーエバポレ ーターで蒸発させることによって除去して、前記の弐Aを有する生成物1.78 gを生成する。Obstruction doctor 1 1 g of S-(-)-2-chloroglopionic acid, 1.5 g of m-difluorobenzene, Pour 0.35ml of dimethylformamide (DMP) into a flask and cool to 0°C. do. Gradually add 1.28 g of oxalyl chloride and stir for about 16 hours. obtained The reaction mixture was mixed with 31.25 g of AlCl in 1.05 g of m-difluorobenzene. Add to. Stir at 0°C for about 6 hours, add 50 ml of methylene chloride, and cool in ice water. Add to. Leave for 1 hour. Separate the CH2Cl2 layer and brine with H20. Wash. Dry over N a 2 S O4. Rotary evaporation of solvent Removed by evaporation in a generate g.

X組伝l 前記の実施例1の生成物Aを1.5g、THFを15m1. 酢a1.5mlを 加え、それに対してN a B H3CNを1.83g加え、そして−晩生撹拌 する。Group X Legend 1.5 g of the product A from Example 1 above and 15 ml of THF. 1.5ml of vinegar a Add 1.83g of N a B H3CN to it, and - late stirring do.

溶媒をロータリーエバポレーターで除去し、塩化メチレン25m1および75% 飽和ブライン水溶液10m1を加え、そして約25分間撹拌する。塩化メチレン を分離し、75%飽和ブラインで2回洗浄する。塩化メチレン溶液をNa2SO 4上で乾燥させる。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して、前記の弐Bを 有する所望の生成物1.53gが得られる。The solvent was removed on a rotary evaporator and 25 ml of methylene chloride and 75% Add 10 ml of saturated aqueous brine solution and stir for about 25 minutes. methylene chloride Separate and wash twice with 75% saturated brine. methylene chloride solution with Na2SO 4. Dry on top. The solvent was removed on a rotary evaporator to obtain the above 2B. 1.53 g of the desired product are obtained.

衷旌区旦 前記の実施例2からの弐Bを有する生成物15.1g、(Ca H2上で蒸留し た)メチルアルコール150m1および粉末のに2C03をIO,Ig加え、そ して薄層クロマトグラフィーによって出発物質の消失が示されるまで、室温で撹 拌する。KHCO3をP去し且つメチルアルコールを、ロータリーエバポレータ ーでの真空下約40℃で除去する。塩化メチレンを残留物に加え、水で2回、続 いてブラインで洗浄し、そしてNa2SO4上で乾燥させる。塩化メチレンをロ ータリーエバポレーターで留去して、前記の弐〇を有する生成物11.28gが 油として得られる。Ying Chong District Dan 15.1 g of the product with NiB from Example 2 above, (distilled over Ca H2) ) Add IO, Ig of 2C03 to 150ml of methyl alcohol and the powder, and Stir at room temperature until disappearance of starting material as shown by thin layer chromatography. Stir. Remove KHCO3 and remove methyl alcohol using a rotary evaporator. Remove under vacuum at about 40°C. Add methylene chloride to the residue, followed by two portions with water. Wash with brine and dry over Na2SO4. methylene chloride - Distilled with a tally evaporator to obtain 11.28 g of the product having the above 2〇 Obtained as an oil.

去月−1生 実施例3からの前記の弐〇を有する化合物2g、iM化メチレンIon百を加え 、この混合物を氷/アセトン浴を用いて冷却する。ブロモトリメチルシラン1. 7mlを10分間にわたって徐々に加えた後、0℃まで加温しながら約45分間 撹拌する。得られた反応混合物を、50%飽和ブライン溶液と一緒に撹拌し、分 離し、飽和ブラインで洗浄し、そしてNa2SO4上で乾燥させる。溶媒をロー タリーエバポレーターで除去して、前記の式りを有する一群の生成物2.79g が得られる。Last month - 1st birthday Add 2 g of the above compound with 2〇 from Example 3, 100 iM methylene ion , cool the mixture using an ice/acetone bath. Bromotrimethylsilane1. Gradually add 7ml over 10 minutes, then heat to 0℃ for about 45 minutes. Stir. The resulting reaction mixture was stirred with 50% saturated brine solution and separated. Remove, wash with saturated brine and dry over Na2SO4. Low solvent Removal in a tally evaporator gives 2.79 g of a group of products having the above formula. is obtained.

ml 実施例4からの前記の式りを宥する化合物0.5g、乾燥CH2Cl。を1゜m l、ジヒドロピラフ1.81m1およびPOCl3を15mgフラスコに入れ、 室温で4時間撹拌する。飽和重炭酸ナトリウム溶液を加え、5分間撹拌し1分離 し、水で洗浄し、そしてN a 2 S O4上で乾燥させる。得られた生成物 を一連のシリカカラムに流し、2.5%CH2Cl2/ヘキサンAE30%CH 2Cl2/ヘキサンの勾配を用いてmMすることによってそれをm製して、前記 の弐Eを有する所望の生成物498mgが得られる。ml 0.5 g of the compound satisfying the above formula from Example 4, dry CH2Cl. 1゜m 1, dihydropiraf 1.81 ml and POCl3 were placed in a 15 mg flask, Stir at room temperature for 4 hours. Add saturated sodium bicarbonate solution, stir for 5 minutes and 1 min. , washed with water, and dried over N a 2 S O 4 . the product obtained was run through a series of silica columns and 2.5% CH2Cl2/hexane AE 30% CH It was prepared by making it mM using a gradient of 2Cl2/hexane and 498 mg of the desired product with an E of 2 are obtained.

X旌凹旦 前記の実施例5からの弐Eを有する化合物1g、ジメチルスルホキシド5mlお よび安息香a銀752mgをフラスコに入れる1反応混合物を60°Cで2時間 加熱し、室温まで冷却する。エーテル50m1を加え、重炭酸ナトリウム275 mgを含む水、水、そして次にブラインで洗浄し、そしてNa2SO4上で乾燥 させる。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して淡黄色油が得られ、その生 成物を一連のシリカゲルカラムに流し、10%AE50%CH2Cl2/ヘキサ ンの勾配を溶離剤として用いて、前記の弐Fを有する所望の生成Th350mg が得られる。X 1 g of the compound with 2E from Example 5 above, 5 ml of dimethyl sulfoxide and 1. Add 752 mg of silver and benzoate a to a flask.The reaction mixture was heated at 60°C for 2 hours. Heat and cool to room temperature. Add 50 ml of ether and 275 ml of sodium bicarbonate. mg of water, washed with water and then brine, and dried over Na2SO4. let Removal of the solvent on a rotary evaporator yielded a pale yellow oil; The product was run through a series of silica gel columns, containing 10% AE, 50% CH2Cl2/Hex. Using a gradient of is obtained.

大1印11 油中50%のNa836mgをバイアルに入れ且つヘキサン0.5mlで2回洗 浄する。ヘキサンを傾瀉し且つN2流で乾燥させる。乾燥DMSOを0.5ml 加え且つ5分間撹拌する。(CH3) 3S (0)Iを163mg加え、約2 時間撹拌する。前記の実施例6からの弐Fを有する化合!iJI1100mgお よび乾燥THF0.5mlを加え、約3時間撹拌する。氷水5mlに注加する0 反応混合物をジエチルエーテルで抽出する。エーテルを水およびブラインで洗浄 し且つNa2SO4上で乾燥させる。濾過し且つ溶媒をロータリーエバポレータ ーで除去して、前記の弐Gを有する生成物88mgを生じる。large 1 mark 11 Put 836 mg of 50% Na in oil into a vial and wash twice with 0.5 ml of hexane. Purify. Decant the hexane and dry with a stream of N2. 0.5ml dry DMSO Add and stir for 5 minutes. (CH3) Add 163 mg of 3S (0) I, approx. 2 Stir for an hour. Compound with 2F from Example 6 above! iJI1100mg and 0.5 ml of dry THF and stirred for about 3 hours. Pour into 5ml of ice water0 The reaction mixture is extracted with diethyl ether. Wash ether with water and brine and dry over Na2SO4. Filter and rotary evaporate the solvent. to yield 88 mg of the product with the above-mentioned 2G.

X組区旦 ナトリウムトリアゾール85mgおよび乾燥DMF0.5+nlをフラスコに入 れ、30分間撹拌する。前記の実施例7からの弐Gを有する化合物88mgをD MFo、5ml中に加え、90℃で4時間撹拌する0反応混合物を室温まで冷却 し、トルエンを加え、水、続いてブラインで洗浄し、そしてNa25o4上で乾 燥させて、前記の式Hを有する化合物82mgを生じる。Class X Ward Dan Add 85mg of sodium triazole and 0.5+nl of dry DMF to the flask. and stir for 30 minutes. 88 mg of the compound with 2G from Example 7 above was Add in 5 ml of MFo and stir at 90 °C for 4 h. Cool the reaction mixture to room temperature. Add toluene, wash with water then brine, and dry over Na25o4. Drying yields 82 mg of the compound with formula H above.

因應区旦 前記の実施例8からの式Hを有する化合物82mgを、4N−MCIの0.2m 1に、菫素ブランケット下で加え、室温で約4時間撹拌する。25%水性水酸化 ナトリウムをpH9まで満願することによって作用させ且つ沈殿を生成する。Ino Ward Dan 82 mg of the compound having formula H from Example 8 above was dissolved in 0.2 m of 4N-MCI. 1 under a violet blanket and stirred at room temperature for about 4 hours. 25% aqueous hydroxide Sodium is activated by increasing the pH to 9 and forms a precipitate.

塩化メチレン約5mlを加える。塩化メチレン溶液を無水[6ナトリウムを用い て乾燥させて水を除去した後、塩化メチレン溶液を傾瀉し、そして残留物を塩化 メチレンで2回抽出する。塩化メチレン溶液を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、 ロータリーエバポレーターで濃縮して乾固させ、粗生成物81mgを生じる。生 成物を、最初の塩化メチレンを1%〜2%のメタノール/塩化メチレンに、次に 、3%のメタノール/塩化メチレンにする勾配を用いるシリカゲルカラムでのク ロマトグラフィーによって精製して、前記の式Jを有する化合物22.9mgを 生犬肢区上旦 前記の式Jを有する化合!Ig259mg、乾燥塩化メチレン2.5rnlおよ びトリエチルアミン0.4mlを加える。得られた溶液を5℃まで冷却し且つ塩 化メシルO,1mlを満願する。冷却浴を除去し、そして薄層クロマトグラフィ ーによって示されるように反応が完了するまで室温で撹拌する1反応混合物を塩 化メチレンで稀釈し、水で2回洗浄し、そしてtEaナトリウム上で乾燥させる 。溶媒をロータリーエバポレーターで除去して、前記の弐Kを有するメシル化化 合物372mgを生成する。Add approximately 5 ml of methylene chloride. Methylene chloride solution is anhydrous [using sodium chloride] After drying to remove water, the methylene chloride solution is decanted and the residue is chlorinated. Extract twice with methylene. Dry the methylene chloride solution over magnesium sulfate, Concentrate to dryness on a rotary evaporator to yield 81 mg of crude product. Living The composition was first diluted with methylene chloride to 1% to 2% methanol/methylene chloride and then , on a silica gel column using a gradient of 3% methanol/methylene chloride. Purification by chromatography yielded 22.9 mg of the compound having formula J above. Ikuinujiku Kamidan A compound having the above formula J! 259 mg of Ig, 2.5 rnl of dry methylene chloride and and 0.4 ml of triethylamine. The resulting solution was cooled to 5°C and salted. I requested 1 ml of Mesyl O. Remove cooling bath and thin layer chromatography 1. Stir the reaction mixture at room temperature until the reaction is complete as indicated by Dilute with methylene chloride, wash twice with water, and dry over sodium tEa. . The solvent was removed on a rotary evaporator and the mesylation with K yielding 372 mg of compound.

ス施区上上 前記の式Kを有するメシレート372mgを、ジメチルスルホキシド1.3ml に加える。15%水性メチル硫化ナトリウム1.4mlを室温で加える。温間撹 拌する。生成物は溶液から沈殿する。薄層クロマトグラフィーによって示される ように反応が完了した時点で、氷水3.3mlを加える0反応混合物を−ら℃で 15分間撹拌する。生成物を濾過し、氷水で、続いてヘキサンで1回洗浄する。Sushi Ward Kamigami 372 mg of the mesylate having formula K above were added to 1.3 ml of dimethyl sulfoxide. Add to. Add 1.4 ml of 15% aqueous sodium methyl sulfide at room temperature. Warm stirring Stir. The product precipitates out of solution. indicated by thin layer chromatography When the reaction is complete, add 3.3 ml of ice water to the reaction mixture at - 0°C. Stir for 15 minutes. The product is filtered and washed once with ice water and then with hexane.

生成物を真空オープン中40℃で乾燥させて、前記の式りを有する化合物232 mgを生成する。The product was dried at 40° C. in open vacuum to give compound 232 with the above formula. Produce mg.

犬施区1λ る、溶液を5℃まで冷却し且つメタ−クロロ過安息香酸(85%)299mgを 少量ずつ加える。怜却浴E除去、し、反応混合物を室温で2時間撹拌する。薄層 クロマトグラフィーによって反応が完了したことが示されたら、不溶性物質をP 去する。沈殿を塩化メチレンで1回洗浄する。P液を10%重炭酸ナトリウム溶 液で、続いてブラインで洗浄する。溶液を硫酸ナトリウム上で乾燥させ且つロー タリーエバポレーターで蒸発乾固させる。残留物をエチレエーテルで磨砕して白 色結晶性固体を生じ、これを−過して粗生成物223mgを生成する。@生成物 をアセトニトリル中で結晶化して、前記の弐Mを有する化合物117mgを生成 する。Inuse Ward 1λ The solution was cooled to 5°C and 299 mg of meta-chloroperbenzoic acid (85%) was added. Add little by little. Remove bath E and stir the reaction mixture at room temperature for 2 hours. thin layer When chromatography shows that the reaction is complete, remove the insoluble material from P leave Wash the precipitate once with methylene chloride. P solution with 10% sodium bicarbonate solution Wash with solution, followed by brine. Dry the solution over sodium sulfate and Evaporate to dryness using a tally evaporator. Triturate the residue with ethyl ether to give a white A colored crystalline solid is produced which is filtered to yield 223 mg of crude product. @product was crystallized in acetonitrile to produce 117 mg of the compound with 2M as described above. do.

本発明を前述の実施例に間して記載したが、多くの変更および変法が可能である 。このような変更および変法を全て、下記の特許請求の範囲の範囲内であるとす る。Although the invention has been described in terms of the foregoing examples, many modifications and variations are possible. . It is intended that all such modifications and variations be within the scope of the following claims. Ru.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.式II▲数式、化学式、表等があります▼II,式III▲数式、化学式、 表等があります▼III,式IV▲数式、化学式、表等があります▼IV,式V III▲数式、化学式、表等があります▼VIII,式XI▲数式、化学式、表 等があります▼XIまたは式XII▲数式、化学式、表等があります▼XII( 式中、Arは、フェニル、置換フェニル、3−チエニル、置換3−チェニル、3 −フラニルまたは置換3−フラニルを表わし;Rは、アルキルまたはシクロアル キルを表わし;R1は、Hまたはアルキルを表わし; Xは、クロロ、ブロモまたはヨードを表わし;X1は、OH、クロロ、ブロモ、 ヨードまたはP1を表わし、但し、P1は、アルコキシ置換フェニルオキシ、ベ ンジルオキシ、置換ベンジルオキシ、アシルオキシ、アルキルチオ、フェニルチ オ、置換フェニルチオまたは−NHP2を表わし、但し、P2は、アミノ保護基 であり;そしてPは、Hまたはヒドロキシ保護基を表わす)を有する化合物であ って、前記の化合物は、単一星印(*)および二重星印(**)によって示され る1個または複数個の不斉中心を有し且つその化合物は、同一の化学的構造を有 する1種類または複数種類の化合物を実質的に含まないが、星印をつけた炭素中 心で他の絶対立体化学配置を有する、前記の化合物または薬学的に許容し得るそ の塩。1. Formula II▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼II, Formula III▲Mathematical formulas, chemical formulas, There are tables, etc.▼III, Formula IV▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼IV, Formula V III▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼VIII, Formula XI▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. etc.▼XI or Formula XII▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼XII ( In the formula, Ar is phenyl, substituted phenyl, 3-thienyl, substituted 3-thienyl, 3 -furanyl or substituted 3-furanyl; R is alkyl or cycloalkyl; represents kyl; R1 represents H or alkyl; X represents chloro, bromo or iodo; X1 represents OH, chloro, bromo, represents iodine or P1, where P1 is alkoxy-substituted phenyloxy, benzyloxy, substituted benzyloxy, acyloxy, alkylthio, phenylthio represents a substituted phenylthio or -NHP2, where P2 is an amino protecting group and P represents H or a hydroxy protecting group). Thus, the compounds mentioned above are indicated by a single asterisk (*) and a double asterisk (**). have one or more asymmetric centers and the compounds have the same chemical structure. The carbons marked with an asterisk are substantially free of one or more compounds that Compounds as described above or pharmaceutically acceptable thereof having other absolute stereochemical configurations in the heart salt. 2.単一星印(*)で示された炭素原子がそれらの絶対立体化学配置Sであり、 二重星印(**)で示された炭素原子がそれらの絶対立体化学配置Rである請求 項1に記載の化合物。2. Carbon atoms marked with a single asterisk (*) are in their absolute stereochemical configuration S; Claims that the carbon atoms indicated with a double asterisk (**) are in their absolute stereochemical configuration R A compound according to item 1. 3.式XII ▲数式、化学式、表等があります▼XII(式中、Ar、P、RおよびR1は請 求項1に定義の通りである)を有する請求項1に記載の化合物。3. Formula XII ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼XII (In the formula, Ar, P, R and R1 are 2. A compound according to claim 1, having the formula (as defined in claim 1). 4.Arが2,4−ジフルオロフェニルであり、Rがメチルであり、Pが2一テ トラヒドロビラニルであり、R1がHであり、そしてXがクロロまたはブロモで ある請求項1、2または3に記載の化合物。4. Ar is 2,4-difluorophenyl, R is methyl, and P is 2-difluorophenyl. trahydrobilanyl, R1 is H, and X is chloro or bromo; 4. A compound according to certain claims 1, 2 or 3. 5.式ArHを有し、式中、Arがフェニル、置換フェニル、3−チェニル、置 換3−チェニル、3−フラニルまたは置換3−フラニルを表わす化合物と、式I ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、星印(*)は不斉中心を示し、Rは、アルキルまたはシクロアルキルを 表わし、しは、脱離基を表わし、そしてXは、クロロ、ブロモまたはヨードを表 わす) を有する実質的に純粋な鏡像異性体化合物とを、ルイス酸存在下で反応させて、 式II▲数式、化学式、表等があります▼IIを有する化合物を生成し; 式IIを有する化合物を非塩基性選元剤と反応させて、式III▲数式、化学式 、表等があります▼IIIを有する化合物を生成し;そして 式IIIを有する化合物を塩基と反応させて、式IV▲数式、化学式、表等があ ります▼IVを有する化合物を生成することを含み;二重星印(**)で示され た式IVを有する化合物での不斉中心が、前記の式I〜IIIの化合物において 単一星印(*)で示された不斉中心に関して反転する、請求項1に記載の式IV を有する化合物の製造方法。5. has the formula ArH, where Ar is phenyl, substituted phenyl, 3-chenyl, a compound representing substituted 3-chenyl, 3-furanyl or substituted 3-furanyl and a compound of formula I ▲Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, the asterisk (*) indicates an asymmetric center, and R represents alkyl or cycloalkyl. represents a leaving group, and X represents chloro, bromo or iodo. Was) in the presence of a Lewis acid, Formula II▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼Produce a compound with II; A compound having formula II is reacted with a non-basic selection agent to form formula III▲mathematical formula, chemical formula , there are tables etc.▼Produce a compound having III; and A compound having formula III is reacted with a base to form formula IV▲ which has a mathematical formula, chemical formula, table etc. ▼Involves producing compounds with IV; indicated with double asterisk (**) The asymmetric center in the compound having formula IV is Formula IV according to claim 1, inverted about the asymmetric center indicated by a single asterisk (*) A method for producing a compound having 6.式IV、 ▲数式、化学式、表等があります▼IV(式中、二重星印(**)は、不斉中心 を表わし、Arは、フェニル、置換フェニル、3−チエニル、置換3−チエニル 、3−フラニルまたは置換3−フラニルを表わし、そしてRは、アルキルまたは シクロアルキルを表わす)を有する化合物を、エポキシド開環剤と反応させて、 式V▲数式、化学式、表等があります▼V (式中、X1は、OH、クロロ、ブロモ、ヨードまたはP1を表わし、但し、p 1は、アルコキシ、フェニルオキシ、置換フェニルオキシ、ベンジルオキシ、置 換ベンジルオキシ、アシルオキシ、アルキルチオ、フェニルチオ、置換フェニル チオまたは−NHP2を表わし、但し、P2は、アミノ保護基である)を有する 化合物を生成することを含み、そして二重星印(**)をつけた不斉中心での絶 対立体化学が実質的に保持されている、請求項1に記載の式Vを有する化合物の 製造方法。6. Formula IV, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼IV (In the formula, the double asterisk (**) indicates the asymmetric center. represents phenyl, substituted phenyl, 3-thienyl, substituted 3-thienyl , 3-furanyl or substituted 3-furanyl, and R is alkyl or cycloalkyl) with an epoxide ring-opening agent, Formula V▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼V (wherein, X1 represents OH, chloro, bromo, iodo or P1, provided that p 1 is alkoxy, phenyloxy, substituted phenyloxy, benzyloxy, substituted substituted benzyloxy, acyloxy, alkylthio, phenylthio, substituted phenyl thio or -NHP2, where P2 is an amino protecting group) including the formation of compounds and extinctions at asymmetric centers marked with a double asterisk (**). of a compound having formula V according to claim 1, wherein the allelic chemistry is substantially conserved. Production method. 7.(a)式Vを有する化合物をヒドロキシ保護剤と反応させて、式VIII 3▲数式、化学式、表等があります▼VIII(式中、Pは、Hまたはヒドロキ シ保護基であり、Ar、X1およびRは、請求項6に定義の通りである)を有す る化合物を生成し;(b)(1)式VIIIを有する化合物を酸化剤と反応させ て、式XI▲数式、化学式、表等があります▼XIを有する化合物を生成し;ま たは (b)(2)式VIIIを有する化合物を選元剤と反応させて、式IX▲数式、 化学式、表等があります▼IXを有する化合物を生成し;そして次に、式IXを 有する化合物を酸化剤と反応させて、式XI▲数式、化学式、表等があります▼ XIを有する化合物を生成し;または (b)(3)式VIIIを有する化合物を酸化剤と反応させて、式X▲数式、化 学式、表等があります▼X を有する化合物を生成し;そして次に、式Xを有する化合物を酸化剤と反応させ て、式XI▲数式、化学式、表等があります▼XIを有する化合物を生成するこ と; を含む、式Vを有する化合物から式XIを有する化合物を製造するための請求項 6に記載の方法。7. (a) Reacting a compound of formula V with a hydroxy protecting agent to form a compound of formula VIII 3▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼VIII (in the formula, P is H or hydroxy a protecting group in which Ar, X1 and R are as defined in claim 6) (b) (1) reacting the compound of formula VIII with an oxidizing agent; to produce a compound having the formula Taha (b) (2) Reacting a compound having formula VIII with a selection agent to obtain formula IX▲ There are chemical formulas, tables, etc. ▼ Generate a compound with IX; and then generate the formula IX By reacting the compound with an oxidizing agent, formula XI▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ producing a compound having XI; or (b) (3) Reacting a compound having formula VIII with an oxidizing agent to There are academic formulas, tables, etc. ▼X and then reacting the compound having formula X with an oxidizing agent. Therefore, there are formulas, chemical formulas, tables, etc. to produce a compound having formula XI. and; A claim for the preparation of a compound of formula XI from a compound of formula V, comprising: The method described in 6. 8.式IV▲数式、化学式、表等があります▼IV(式中、二重星印(**)は 、不斉中心を示し、Arは、フェニル、置換フェニル、3−チエニル、置換3− チエニル、3−フラニルまたは置換3−フラニルを表わし、そしてRは、アルキ ルまたはシクロアルキルを表わす)を有する化合物を酸化剤と反応させて、式V Iおよび/または式VII▲数式、化学式、表等があります▼ を有する化合物を生成し; 式VIおよび/または式VIIを有する化合物に関する二重星印(**)不斉中 心での絶対立体化学配置は、式IVを有する化合物のその配置に関して実質的に 保持され; (b)(1)式VIを有する化合物をヒドロキシ保護剤と反応させて、式X▲数 式、化学式、表等があります▼X を有する化合物を生成し;または (b)(2)式VIIを有する化合物をヒドロキシ保護剤と反応させて、式XI 、 ▲数式、化学式、表等があります▼XIを有する化合物を生成し; (c)式XIを有する化合物をエポキシ化剤と反応させて、式XII▲数式、化 学式、表等があります▼XII(式中、R1はHまたはアルキルである)を有す る化合物を生成し;そして(d)式XIIを有する化合物を、求核性Ar1陰イ オンと反応させて、式XIII、 ▲数式、化学式、表等があります▼XIII(式中、Ar1は、1−(1,2, 4−トリアゾリル)、1−(1,3,4−トリアゾリル)または1−イミダゾリ ルを表わす)を有する化合物を生成すること; を含む、式XIIIを有する化合物の製造方法。8. Formula IV▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼IV (In the formula, double asterisks (**) are , represents an asymmetric center, and Ar represents phenyl, substituted phenyl, 3-thienyl, substituted 3- represents thienyl, 3-furanyl or substituted 3-furanyl, and R is alkyl or cycloalkyl) with an oxidizing agent to form a compound of formula V I and/or Formula VII▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ producing a compound having; Double asterisk (**) asymmetric medium for compounds having formula VI and/or formula VII The absolute stereochemical configuration at heart is substantially the same with respect to that configuration of a compound having formula IV. held; (b) (1) Reacting a compound having formula VI with a hydroxy protecting agent to obtain formula There are formulas, chemical formulas, tables, etc.▼X or (b) (2) Reacting a compound having formula VII with a hydroxy protecting agent to obtain formula XI , ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼Produce a compound with XI; (c) reacting a compound having formula XI with an epoxidizing agent to form a compound having formula XII▲, There are scientific formulas, tables, etc.▼XII (in the formula, R1 is H or alkyl) and (d) converting the compound of formula XII to a nucleophilic Ar1 anion. Formula XIII, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼XIII (In the formula, Ar1 is 1-(1, 2, 4-triazolyl), 1-(1,3,4-triazolyl) or 1-imidazolyl to produce a compound having A method for producing a compound having formula XIII, comprising: 9.式XVI ▲数式、化学式、表等があります▼XVIを有する化合物の製造方法であって、 式XIII▲数式、化学式、表等があります▼XIII(式中、Arは、フエニ ル、置換フェニル、2−若しくは3−チエニル、置換2−若しくは3−チエニル 、2−若しくは3−フラニル、置換2−若しくは3−フラニル、2−,4−若し くは5−イミダゾリル、3−若しくは5−(1,2,4−トリアゾリル)、5− テトラゾリル、2−,4−若しくは5−チアゾリル、2−,4−若しくは5−オ キサゾリル、3−,4−若しくは5−イソキサゾリル、2−,3−若しくは4− ピリジニルまたは2−,4−若しくは6−プリニルを表わし、但し、飽和窒素原 子および前記のイミダシリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、ベンズイミ ダゾリル基、ベンズチアゾリル基およびプリニル基は、H、アルキル、置換アル キル、シクロアルキル、置換シクロアルキル、フェニルまたは置換フェニルで置 換されていてよいし;Ar1は、1−(1,2,4−トリアゾリル)、1−(1 ,3,4−トリアゾリル)または1−イミダゾリルを表わし;Rは、アルキル、 置換アルキルまたはシクロアルキルを表わし;R1は、Hまたはアルキルを表わ し; R2は、アルキル、シクロアルキルまたはシクロアルキルアルキルであり;そし て nは、1または2である) を有する化合物に対してそれ自体既知の方法を用いることを含み:不斉炭素中心 は、二重星印(**)によって示され、星印炭素中心(**)双方が、同一の絶 対立体化学配置を有し、そして前記の化合物が、このような炭素中心で他の絶対 立体化学配置を有する化合物を実質的に含まない、前記の方法。9. Formula XVI ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼A method for producing a compound having XVI, Formula XIII ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ substituted phenyl, 2- or 3-thienyl, substituted 2- or 3-thienyl , 2- or 3-furanyl, substituted 2- or 3-furanyl, 2-, 4- or or 5-imidazolyl, 3- or 5-(1,2,4-triazolyl), 5- Tetrazolyl, 2-, 4- or 5-thiazolyl, 2-, 4- or 5-o xazolyl, 3-, 4- or 5-isoxazolyl, 2-, 3- or 4- represents pyridinyl or 2-,4- or 6-purinyl, provided that the saturated nitrogen source and the above-mentioned imidasilyl group, triazolyl group, tetrazolyl group, benzimide Dazolyl group, benzthiazolyl group and purinyl group are H, alkyl, substituted alkyl substituted with phenyl, cycloalkyl, substituted cycloalkyl, phenyl or substituted phenyl Ar1 may be substituted with 1-(1,2,4-triazolyl), 1-(1 , 3,4-triazolyl) or 1-imidazolyl; R is alkyl, represents substituted alkyl or cycloalkyl; R1 represents H or alkyl; death; R2 is alkyl, cycloalkyl or cycloalkylalkyl; and hand n is 1 or 2) using methods known per se for compounds having: an asymmetric carbon center is indicated by a double asterisk (**), where both asterisk carbon centers (**) are identical absolute have an allelic chemical configuration, and the said compound has such a carbon center that the other absolute The above method is substantially free of compounds having a stereochemical configuration. 10.請求項9に記載のそれ自体既知の方法が、(a)式XIIIを有する化合 物をメタンスルホン化剤と反応させて、式XIV ▲数式、化学式、表等があります▼XIVを有する化合物を生成し; (b)式XIVを有する化合物を、式R2Sを有するメルカプタン陰イオンと反 応させて、式XV ▲数式、化学式、表等があります▼XVを有する化合物を生成し;そして (c)式XVを有する化合物を酸化剤と反応させて、式XVI▲数式、化学式、 表等があります▼XVIを有する化合物を生成することを含み、R、R1、R2 、Ar、Ar1およびnは、請求項9に記載の通りである、請求項9に記載の方 法。10. A method known per se according to claim 9, comprising: (a) a compound having formula XIII; reacting with a methanesulfonating agent to form formula XIV ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼Produce a compound with XIV; (b) reacting a compound having formula XIV with a mercaptan anion having formula R2S; Correspondingly, formula XV ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼Produce a compound with XV; and (c) reacting a compound having formula XV with an oxidizing agent to obtain formula XVI▲mathematical formula, chemical formula, There are tables etc. ▼Including producing a compound having XVI, R, R1, R2 , Ar, Ar1 and n are as described in claim 9. Law.
JP2-512298A 1989-09-01 1990-08-30 Asymmetric chemical synthesis and intermediates for producing antifungal compounds Pending JPH04503521A (en)

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