JPH0444246A - Semiconductor wafer carrying device - Google Patents

Semiconductor wafer carrying device

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JPH0444246A
JPH0444246A JP2149377A JP14937790A JPH0444246A JP H0444246 A JPH0444246 A JP H0444246A JP 2149377 A JP2149377 A JP 2149377A JP 14937790 A JP14937790 A JP 14937790A JP H0444246 A JPH0444246 A JP H0444246A
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JP
Japan
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wafer
light
cassette
sensor
elevator
Prior art date
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Application number
JP2149377A
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Japanese (ja)
Inventor
Masato Fukushima
正人 福島
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NIPPON DENKI LASER KIKI ENG KK
Original Assignee
NIPPON DENKI LASER KIKI ENG KK
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PURPOSE:To eliminate the need for retract operation function for avoiding interference with a carrying arm and enable structure and control system of carrying and placement to be simplified by providing a wafer carrying arm for installing two or two pairs or more reflection mirrors for leading light which is radiated from an optic sensor for detecting wafer or from the emission side in a side surface direction of the wafer. CONSTITUTION:An elevator 1 is gradually lowered while detecting output of optic sensor light-receiving elements 17 and 18. While the output of the optic sensor light-receiving elements 17 and 18 stays at 'H' level, it is judged that no wafers exist and the elevator 1 descends. When a wafer 6 within a cassette 2 reaches a height of light paths 12 and 13, light of optic sensor light-emitting elements 7 and 8 is screened by the wafer 6, thus enabling the output to be at 'L' level. This signal allows the elevator 1 to stop at a proper position and allows a carrying arm 14 to be inserted into the cassette 2. Then, while suctioning air from vacuum holes 15 and 16, the elevator 1 is lowered, the wafer 6 is subjected to vacuum deposition onto the carrying arm 14, and at the same time the wafer 6 is lifted up, thus allowing the wafer 6 to be taken out of the cassette 2 in chucked state.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体ウェハーの搬送装置に関し、特にウェ
ハーカセットを上下動作させることの可能なエレベータ
機構部と、カセット内のウェハーを検出するための光セ
ンサを用いたウェハー検出機構部およびカセット内のウ
ェハーをカセット外部に取り出すことのできる搬送アー
ム機構部を有する半導体ウェハー搬送装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor wafer transport device, and in particular an elevator mechanism capable of vertically moving a wafer cassette, and an elevator mechanism for detecting wafers in the cassette. The present invention relates to a semiconductor wafer transfer device that includes a wafer detection mechanism using an optical sensor and a transfer arm mechanism that can take out a wafer in a cassette to the outside of the cassette.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、この種の半導体ウェハー搬送装置は、エレベータ
機構部と発光側、受光側の1対の光センサを有するウェ
ハー検出機構部および搬送アーム機構部が独立に構成さ
れており、カセット内のウェハーを検出するとき、ウェ
ハー検出機構部の光センサまたは反射ミラー等が一旦、
検出位置まで移動し、ウェハーを検出した後、元の位置
に待避し、その後搬送アームがカセット内に挿入されウ
ェハーをカセット外に取り出す動作となっていた。
Conventionally, this type of semiconductor wafer transfer device has an elevator mechanism, a wafer detection mechanism that has a pair of light sensors on the light emitting side and a light receiving side, and a transfer arm mechanism that are configured independently, and the wafer in the cassette is When detecting, the optical sensor or reflective mirror of the wafer detection mechanism first
After moving to the detection position and detecting the wafer, it is evacuated to the original position, and then the transfer arm is inserted into the cassette and the wafer is taken out of the cassette.

第6図は、従来の半導体ウェハー搬送装置の斜視図であ
る。
FIG. 6 is a perspective view of a conventional semiconductor wafer transport device.

図において、エレベータ37はZ軸方向に上下動作する
機構になっている。
In the figure, the elevator 37 has a mechanism that moves up and down in the Z-axis direction.

カセット38は、エレベータ37の上に置かれ、カセッ
ト38のスロット溝39にウェハー40が収納されてい
る。光センサ発光素子41および反射ミラー42、光セ
ンサ受光素子43は、それぞれセンサ固定台45に取付
けられており、センサ固定台45は、上下用エアーシリ
ンダ44により上下動作する機構になっている。また、
光センサ発光素子41から出た光は、反射ミラー42に
より反射され光センサ受光素子43に導かれる様にそれ
ぞれ配置されている。搬送アーム46は、Y軸方向に前
後動作する機構となっており、先端にはウェハーを真空
吸着するためのバキュームホール47が設けられている
The cassette 38 is placed on the elevator 37, and the wafers 40 are stored in the slot grooves 39 of the cassette 38. The optical sensor light emitting element 41, the reflecting mirror 42, and the optical sensor light receiving element 43 are each attached to a sensor fixing base 45, and the sensor fixing base 45 has a mechanism that is moved up and down by an air cylinder 44 for up and down. Also,
The light emitted from the light sensor light emitting element 41 is reflected by a reflecting mirror 42 and guided to the light sensor light receiving element 43, respectively. The transfer arm 46 has a mechanism that moves back and forth in the Y-axis direction, and a vacuum hole 47 for vacuum suctioning the wafer is provided at the tip.

次にウェハー搬送の動作説明を行う。それぞれの機構部
は、制御部の信号によりシーケンス動作する。第7図(
a)、 (b)は1、第6図の左側面図である。第7図
(a)に示すようにウェハー検出前の動作ではまずエア
ーシリンダ44によりセンサ固定台が矢印■の方向に上
昇する。この時、光センサ発光素子41から出た光は、
センサ光路48を通り、反射ミラー42により、光セン
サ受光素子43へ入射している(センサ光路48上にウ
ェハーがないため)。次にカセット38が乗ったエレベ
ータ37が矢印■の方向へ下降するが、カセット38の
一番下段に収納されているウェハー40がセンサ光路4
8に通っている光を遮断した時点(位置)で下降動作を
停止する(ウェハー検出動作)。
Next, the operation of wafer transport will be explained. Each mechanism section operates in sequence based on signals from the control section. Figure 7 (
a) and (b) are left side views of Fig. 1 and Fig. 6; As shown in FIG. 7(a), in the operation before wafer detection, the sensor fixing table is first raised by the air cylinder 44 in the direction of the arrow (■). At this time, the light emitted from the photosensor light emitting element 41 is
The light passes through the sensor optical path 48 and is incident on the photosensor light receiving element 43 by the reflecting mirror 42 (because there is no wafer on the sensor optical path 48). Next, the elevator 37 with the cassette 38 on it descends in the direction of the arrow ■, but the wafer 40 stored in the lowest stage of the cassette 38 is placed in the sensor optical path 4.
The lowering operation is stopped at the point (position) where the light passing through 8 is blocked (wafer detection operation).

ウェハー検出動作後、第7図(b)に示すようにエアー
シリンダ44によりセンサ固定台45は、矢印■の方向
に下降する。この後、搬送アーム46が矢印■の方向に
、斜線で示したウニノ・−40の底部まで移動しウニ・
・−40を真空吸着後矢印■の方向へ移動する。
After the wafer detection operation, the sensor fixing table 45 is lowered in the direction of the arrow ■ by the air cylinder 44, as shown in FIG. 7(b). After this, the transport arm 46 moves in the direction of the arrow ■ to the bottom of the sea urchin-40 indicated by diagonal lines.
- Move -40 in the direction of arrow ■ after vacuum suction.

以上の様にしてカセット38に収納されているウェハー
40をカセット38の外部へ取り出すようになっていた
As described above, the wafers 40 stored in the cassette 38 are taken out of the cassette 38.

口発明が解決しようとする課題〕 上述した従来のウニノ・−搬送装置は、エレベータ機構
部、ウニノ・−検出機構部、搬送アーム機構の3つの動
作をする機構部が必要なため装置の構造が複雑になり、
これらの制御および位置調整が難しくなる他、装置のコ
ストが高くなるという欠点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] The above-mentioned conventional UNINO-transport device requires three mechanical units that operate: an elevator mechanism, a UNINO-detection mechanism, and a transfer arm mechanism, so the structure of the device is complicated. It becomes complicated,
There are disadvantages in that control and position adjustment of these devices becomes difficult, and the cost of the device increases.

また、ウェハー検出機構部において、カセ+7 )内部
のウェハーを検出する光センサが1対しかないため、カ
セット内のスロットにウニノー−が誤って斜めに挿入さ
れていた場合に、この誤りをアラームとして検出するこ
とができず正常動作を行ってしまう。そのため搬送アー
ムがカセット内に挿入された時に、ウェハーを破損して
しまうという欠点がある。
In addition, in the wafer detection mechanism, there is only one pair of optical sensors that detect the wafer inside the cassette, so if the unicorn is accidentally inserted diagonally into the slot in the cassette, this error will be detected as an alarm. Unable to do so, it continues to operate normally. Therefore, there is a drawback that the wafer may be damaged when the transfer arm is inserted into the cassette.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明の半導体ウェハー搬送装置は、ウニ・・−検出用
の光センサ(発光側または受光側センサもしくはこの両
者共)または発光側から放出された光を受光側センサへ
導くための反射ミラーがウェハー側面方向に2個または
2対以上設置されたウェハー搬送アームを有している。
In the semiconductor wafer transfer device of the present invention, the wafer is equipped with a light sensor for detection (the light emitting side sensor, the light receiving side sensor, or both) or a reflecting mirror for guiding the light emitted from the light emitting side to the light receiving side sensor. It has two or more pairs of wafer transfer arms installed in the lateral direction.

〔実施例〕〔Example〕

次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実旅例を示す斜視図、第2図はその
左側面図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of the present invention, and FIG. 2 is a left side view thereof.

図において、エレベータ1は制御部100の制御により
Z軸方向に上下移動する機構になっている。カセット2
は、エレベータlの上に置かれてし・る。またカセット
2のスロット溝3にウェハー4、ウェハー5、ウェハー
6が収納されている。
In the figure, the elevator 1 has a mechanism that moves up and down in the Z-axis direction under the control of a control unit 100. Cassette 2
is placed on top of elevator l. Furthermore, wafers 4, 5, and 6 are housed in the slot groove 3 of the cassette 2.

光センサ発光素子7、発光素子8は、X方向に並んでセ
ンサ固定台9に取付けられており、それぞれのスリブ)
10.スリブ)11を通し、光路12、光路13方向に
光を発する。搬送アーム14はX方向に前後移動する機
構となっており、2つのバキュームホール15、バキュ
ームホール16がおいている。光センサ受光素子17、
受光素子18は、搬送アーム14上にX方向に並んで取
付いている。受光素子17は、発光素子7から出た光を
光路12を通って受光する様な1対の光センサであり、
受光素子18は、発光素子8から出た光を光路13を通
って受光し、前者とは別の1対の光センサと構成する。
The optical sensor light emitting element 7 and the light emitting element 8 are attached to the sensor fixing base 9 in line with the X direction, and the respective sleeves)
10. Light is emitted in the optical path 12 and optical path 13 directions through the sleeve) 11. The transport arm 14 has a mechanism that moves back and forth in the X direction, and has two vacuum holes 15 and 16. optical sensor light receiving element 17,
The light receiving elements 18 are mounted on the transport arm 14 in line in the X direction. The light receiving element 17 is a pair of optical sensors that receive the light emitted from the light emitting element 7 through the optical path 12.
The light receiving element 18 receives the light emitted from the light emitting element 8 through the optical path 13, and constitutes a pair of optical sensors different from the former.

以上の様な構成において、光センサ受光素子17゜18
の出力を制御部で検出しながら、エレベータlを徐々に
下降する。光センサ受光素子17.18の圧力が“H”
レベル(光センサ発光素子7,8からの光を受光してい
る)の間は、ウェハーが無いと判断しエレベータ1が下
降する。カセット2内のウェハー6が、光路12.13
の高さになった時、ウェハー6により光センサ発光素子
7,8の光が遮断され光センサ受光素子17.18の出
力がL”レベル(光を受光していない)になる。
In the above configuration, the optical sensor light receiving element 17°18
The elevator l is gradually lowered while the control unit detects the output of the elevator l. The pressure of the optical sensor light receiving elements 17 and 18 is “H”
During the level (light is being received from the photosensor light emitting elements 7 and 8), it is determined that there is no wafer and the elevator 1 descends. The wafer 6 in the cassette 2 is placed in the optical path 12.13.
When the height reaches , the light from the light sensor light emitting elements 7 and 8 is blocked by the wafer 6, and the outputs of the light sensor light receiving elements 17 and 18 become L'' level (not receiving light).

この信号によりエレベータlの下降を適度な位置におい
て停止し、搬送アーム14をカセット2内に挿入する。
This signal causes the elevator l to stop descending at an appropriate position, and the transport arm 14 is inserted into the cassette 2.

次にバキュームホール15,16から空気を吸引しなが
ら、エレベータlを下降し、搬送アーム14にウェハー
6を真空吸着すると同時に、スロット溝3より、ウェハ
ー6を持ち上げ、チャックした状態でカセット2の外部
へウェハー6を取り圧す。
Next, while sucking air from the vacuum holes 15 and 16, the elevator 1 is lowered, and the wafer 6 is vacuum-adsorbed onto the transfer arm 14. At the same time, the wafer 6 is lifted from the slot groove 3, and the chucked state is placed outside the cassette 2. The wafer 6 is taken and pressed.

この実施例では、ウェハー検出部の上下移動動作機構が
ないため、装置の構造が簡単でかつ装置コストが実測に
できるという利点がある。また、ウェハーを検出する際
において、例えば、第3図の様にカセット19にウェハ
ーC23が誤って斜め(左端と右端においてスロット溝
20の段数がずれている)に挿入さhていた場合、第4
A図に示す様に光センサ受光素子17と光センサ受光素
子18の検出時間にΔtだけのずれが生ずる。このため
、第4B図の様なEX−NORとRSフリップフロップ
からなるアラーム検出部200を光センサ受光素子17
,18の出力側に設けることで、第3図の様な誤りを制
御部100を介して装置のオペレータ等に知らせること
ができると同時に、制御部100を通してエレベータ機
構部や、搬送アーム機構にインターロックながけ動作を
停止させることができるという利点もある。
This embodiment has the advantage that the structure of the apparatus is simple and the cost of the apparatus can be measured because there is no mechanism for moving the wafer detection section up and down. In addition, when detecting a wafer, for example, if the wafer C23 is accidentally inserted diagonally into the cassette 19 as shown in FIG. 4
As shown in FIG. A, a difference of Δt occurs between the detection times of the optical sensor light receiving element 17 and the optical sensor light receiving element 18. For this reason, an alarm detection section 200 consisting of EX-NOR and RS flip-flops as shown in FIG. 4B is connected to the light sensor light receiving element 17.
, 18 on the output side, it is possible to notify the operator of the equipment via the control unit 100 of errors such as those shown in FIG. Another advantage is that the locking operation can be stopped.

〔実施例2〕 第5図は1本発明の実施例2の平面図である。[Example 2] FIG. 5 is a plan view of Embodiment 2 of the present invention.

エレベータ25は、紙面に対して垂直方向に移動する機
構となっている。カセット26はエレベータ25の上に
置かれ、カセット26内部には、ウェハー27が収納さ
れている。光センサ発光素子28.29はカセット26
の後部にX方向に並んで配置され、紙面に対して垂直方
向は、同じ高さになっている。また、搬送アーム32は
、カセット26の前方にありX方向に前後移動動作しウ
ェハー27をカセット26外部に搬送する機構となって
いる。反射ミラー33.34は、搬送アーム32の上部
に光路30,31に対しそれぞれ45°に傾いて取付け
られており、光センサ発光素子28.29から比だ光を
それぞれ90”に反射し光センサ受光素子35.36へ
導く役割をしている。光センサ受光素子35.36は、
P点の位置にX軸方向に並んで固定されている。
The elevator 25 is a mechanism that moves in a direction perpendicular to the paper surface. The cassette 26 is placed on the elevator 25, and a wafer 27 is stored inside the cassette 26. The optical sensor light emitting elements 28 and 29 are connected to the cassette 26.
They are arranged side by side in the X direction at the rear of the paper, and are at the same height in the direction perpendicular to the plane of the paper. Further, the transport arm 32 is located in front of the cassette 26 and has a mechanism that moves back and forth in the X direction to transport the wafer 27 to the outside of the cassette 26. Reflection mirrors 33 and 34 are mounted on the upper part of the transport arm 32 at an angle of 45 degrees with respect to the optical paths 30 and 31, and reflect the specific light from the optical sensor light emitting elements 28 and 29 to 90'', respectively. It plays the role of guiding the light to the light receiving elements 35 and 36.The light sensor light receiving elements 35 and 36 are
They are fixed in line in the X-axis direction at the position of point P.

以上の第2の実施例の構成において、次にウェハー検量
動作を説明する。
Next, the wafer calibration operation in the configuration of the second embodiment described above will be explained.

まず、搬送アーム32がP点に移動した後、エレベータ
25が下降しウェハー27が光路30゜31上の光を遮
断した時点(光センサ受光素子35.361光センサ発
光素子28.29からの光が入射されない状態)で停止
する。ウェハー搬送動作は実施例1と同様である。
First, after the transfer arm 32 moves to point P, the elevator 25 descends and the wafer 27 blocks the light on the optical path 30° 31 (light from the optical sensor light receiving element 35, 361 and the optical sensor light emitting element 28, 29). stops in a state where no light is incident). The wafer transport operation is the same as in the first embodiment.

この実施例では、搬送アーム上に設置するものが反射ミ
ラーであるため、搬送アーム形状を小形化および簡単化
できるという利点がある。また、光センサを搬送アーム
上に設置しないため光センサの形状、大きさ等の選択も
容易になるという利点がある。
In this embodiment, since the reflecting mirror is installed on the transport arm, there is an advantage that the shape of the transport arm can be made smaller and simpler. Furthermore, since the optical sensor is not installed on the transport arm, there is an advantage that the shape, size, etc. of the optical sensor can be easily selected.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明は、ウニノ・−検出用の光セ
ンサ(発光側または、受光側センサもしくは、この両者
共)または、発光側から放出された光を受光側センサへ
導くための反射ミラーをウェハー搬送アームに設置する
ことにより、ウェハー検出機構部がウェハーを検出した
後、搬送アームとの干渉を避けるための待避動作機能が
不用になり、裁置の構造および制御系、位置調整等が簡
略化できかつ、装置のコストが安価にできるという効果
がある。
As explained above, the present invention provides an optical sensor for detection (a light-emitting side sensor, a light-receiving side sensor, or both) or a reflecting mirror for guiding light emitted from the light-emitting side to a light-receiving side sensor. By installing the wafer on the wafer transfer arm, after the wafer detection mechanism detects the wafer, the evacuation function to avoid interference with the transfer arm becomes unnecessary, and the storage structure, control system, position adjustment, etc. This has the effect that it can be simplified and the cost of the device can be reduced.

また、ウェハー検出用の光センサが、ウェハー側面方向
に向って、2個または2対以上あるため、カセット内の
スロットにウェハーが誤って斜めに挿入されていた場合
に、個々のウェハー検出センサのウェハー検出信号のタ
イミングずれにより、これをアラームとして検出するこ
とが可能となる。
In addition, since there are two or more optical sensors for wafer detection toward the side of the wafer, if the wafer is accidentally inserted diagonally into the slot in the cassette, each wafer detection sensor Due to the timing shift of the wafer detection signal, it becomes possible to detect this as an alarm.

したがって、カセット内に搬送アームが挿入される前段
階で装置の動作を停止させ、ウェハーを破損することな
く外部(装置オペレータ等)へウェハー挿入ミスを知ら
せることができる効果もある。
Therefore, it is possible to stop the operation of the apparatus before the transfer arm is inserted into the cassette, and to notify the outside (equipment operator, etc.) of a wafer insertion error without damaging the wafer.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例の斜視図、第2図は、第1図
の左側面図、第3図はカセット内に誤ってウェハーが挿
入されている場合のカセットの正面図、第4A図は本発
明の装置により第3図のカセット内部のウェハーを検出
した場合のタイミングチャート、第4B図は、その場合
のアラーム検量回路の一例を示すブロック図、第5図は
本発明のもう一つの実施例の平面図、第6図は従来の半
導体ウェハー搬送装置の斜視図、第7図(a)、 (b
)は第6図の左側面図であり、(a)は、ウニノ・−検
出前の動作図、(b)はウェハー検出後の動作図である
。 l・・・・・・エレベータ、2・・・・・カセット、3
・・・・・・スロット溝、4,5.6・・・・・・ウェ
ハー 7・・・・・・光センサ発光素子、8・・・・・
・光センサ受光素子、9・・・・センサ固定台、10.
11・・・・・・スリブ)b、12・・・・・・光路、
13・・・・・・光路、14・・・・・・搬送アーム、
15.16・・・・・バキュームホール、17.18・
・・・・光センサ受光素子、19・・・・・カセッ)、
20・・・・・・スロッ)L  21,22,23.2
4・・川・ウェハー、25・・・・・エレベータ、26
・・・・・・カセット、27・・・・ウェハー、28.
29・・・・・・光センサ発光素子、30.31・・印
・光路、32・・印・搬送アーム、33.34・・・・
反射ミラー 35.36・・・・・光センサ受光素子、
37・・用エレベータ、38・・・用カセット、39・
・・・・・スロット溝、5o・・団・ウェハー41・・
・・光センサ発光素子、42・・・・・・反射ミラー4
3・・・・・光センサ受光素子、44・・・・・・エア
ーシリンダ、45・・・・・・センサ固定台、46・・
川・搬送アーム、47・・・・・・バキュームホール呟
 48・旧・・センサ光路。 代理人 弁理士  内 原   晋 第 1 図 箒 圓 Aieフェ八−へ1の利1七−1d 芥4Δ回 箒 乙 ■
FIG. 1 is a perspective view of one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a left side view of FIG. 1, FIG. 3 is a front view of the cassette when a wafer is incorrectly inserted into the cassette, and FIG. 4A is a timing chart when the wafer inside the cassette of FIG. 3 is detected by the apparatus of the present invention, FIG. 4B is a block diagram showing an example of an alarm calibration circuit in that case, and FIG. FIG. 6 is a plan view of one embodiment, and FIG. 7 is a perspective view of a conventional semiconductor wafer transfer device, and FIGS.
) is a left side view of FIG. 6, (a) is a diagram of the operation before detection, and (b) is a diagram of the operation after wafer detection. l...Elevator, 2...Cassette, 3
...Slot groove, 4,5.6...Wafer 7...Photo sensor light emitting element, 8...
- Optical sensor light receiving element, 9...Sensor fixing base, 10.
11... Slab) b, 12... Light path,
13... Optical path, 14... Transfer arm,
15.16... Vacuum hole, 17.18.
... light sensor light receiving element, 19 ... cassette),
20...slot) L 21, 22, 23.2
4...River/Wafer, 25...Elevator, 26
...Cassette, 27...Wafer, 28.
29... Optical sensor light emitting element, 30.31... Mark/light path, 32... Mark/transport arm, 33.34...
Reflection mirror 35.36...Photo sensor light receiving element,
Elevator for 37..., cassette for 38..., 39...
...Slot groove, 5o...Group, wafer 41...
... Optical sensor light emitting element, 42 ... Reflection mirror 4
3... Optical sensor light receiving element, 44... Air cylinder, 45... Sensor fixing base, 46...
River/transport arm, 47...vacuum hole 48/old...sensor light path. Agent Patent Attorney Susumu Uchihara 1 Zuhoen Aie Fe 8-he 1 no Ri 17-1d Aku 4Δ times Hoki Otsu■

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)半導体ウェハーを収納したカセットを上下移動動
作させるエレベータ機構部と、前記カセットに収納され
たウェハーの有無を1枚ずつ検出することのできる光セ
ンサを有するウェハー検出機構部と、前記カセットから
前記ウェハーを取り出すことのできる搬送アーム機構部
とを有するウェハー搬送装置において、 ウェハー検出用光センサ(発光側または受光側センサも
しくは発光側、受光側の両方のセンサ)または、発光側
から放出された光を受光側センサへ導くための反射ミラ
ーが前記ウェハー搬送アームにウェハー側面に向かって
2個または2対以上設置されていることを特徴とする半
導体ウェハーの搬送装置。
(1) An elevator mechanism unit that moves a cassette containing semiconductor wafers up and down; a wafer detection mechanism unit that has an optical sensor that can detect the presence or absence of wafers housed in the cassette one by one; In a wafer transport device having a transport arm mechanism capable of taking out the wafer, a wafer detection optical sensor (a light emitting side sensor or a light receiving side sensor or a sensor on both the light emitting side and a light receiving side) or a sensor emitted from the light emitting side is provided. 1. A semiconductor wafer transfer device, characterized in that two or more pairs of reflecting mirrors for guiding light to a light-receiving sensor are installed on the wafer transfer arm toward a side surface of the wafer.
(2)前記カセット内のウェハーによって前記発光側セ
ンサから前記受光側センサへの光路が遮断されたとき、
前記エレベータ機構部が停止し前記搬送アーム機構が前
記ウェハーを取り出すことを特徴とする特許請求の範囲
第(1)項記載の半導体ウェハーの搬送装置。
(2) when the optical path from the light emitting side sensor to the light receiving side sensor is blocked by the wafer in the cassette;
The semiconductor wafer transport apparatus according to claim 1, wherein the elevator mechanism stops and the transport arm mechanism takes out the wafer.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6648587B1 (en) * 1999-08-25 2003-11-18 Maxtor Corporation Material delivery system for clean room-like environments
JP2010032242A (en) * 2008-07-25 2010-02-12 Yamatake Corp Substrate detecting apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6648587B1 (en) * 1999-08-25 2003-11-18 Maxtor Corporation Material delivery system for clean room-like environments
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