JPH0440849Y2 - - Google Patents

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JPH0440849Y2
JPH0440849Y2 JP1986154850U JP15485086U JPH0440849Y2 JP H0440849 Y2 JPH0440849 Y2 JP H0440849Y2 JP 1986154850 U JP1986154850 U JP 1986154850U JP 15485086 U JP15485086 U JP 15485086U JP H0440849 Y2 JPH0440849 Y2 JP H0440849Y2
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JP
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carrier plate
groove
lap
round bar
polishing liquid
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Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この考案は、立て型ラツプ盤によつて丸棒を研
磨する際に用いられるキヤリアプレートに関する
ものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] This invention relates to a carrier plate used when polishing a round bar with a vertical lapping machine.

[従来の技術] 第7図および第8図は、従来の立て型ラツプ盤
を示すものである。この立て型ラツプ盤は、図示
しない本体に回転自在に設けられた下部ラツプ板
1と、この下部ラツプ板1に相対向して回転自在
に配置された上部ラツプ板2と、上下のラツプ板
1,2の間に、これらの軸線と偏心させて回転自
在に配置されたキヤリアプレート3とを主な構成
要素とするものであつて、キヤリアプレート3
は、円板状のキヤリアプレート本体4に長手方向
を半径方向に向けた複数の長孔5……を形成した
構成になつている。そして、この立て型ラツプ盤
は、上記長孔5に丸棒6を、その軸線を長手方向
に向けて装入し、上記ラツプ板1,2を丸棒6の
表面に接触させた状態で、ラツプ板1,2の中央
部からそれらの表面に研磨液を供給するととも
に、ラツプ板1,2およびキヤリアプレート3を
互いに相対的に回転させることにより、丸棒6を
研磨するものである。
[Prior Art] FIGS. 7 and 8 show a conventional vertical lap board. This vertical lap board consists of a lower lap plate 1 rotatably provided on a main body (not shown), an upper lap plate 2 rotatably arranged opposite to the lower lap plate 1, and upper and lower lap plates 1. , 2, the main component is a carrier plate 3 which is rotatably arranged eccentrically with respect to these axes.
has a configuration in which a plurality of long holes 5 are formed in a disc-shaped carrier plate main body 4 with the longitudinal direction oriented in the radial direction. In this vertical lapping machine, a round bar 6 is inserted into the elongated hole 5 with its axis facing the longitudinal direction, and with the lapping plates 1 and 2 in contact with the surface of the round bar 6, The round bar 6 is polished by supplying a polishing liquid to the surfaces of the lap plates 1 and 2 from the center thereof and rotating the lap plates 1 and 2 and the carrier plate 3 relative to each other.

ここで、研磨液は、遠心力によつてキヤリアプ
レート3とラツプ板1,2との間の隙間を伝わつ
てキヤリアプレート3の外周方向に送られ、長孔
5の回転方向を向く壁部によつて掻き集められて
長孔5内に充填され、これがラツプ板1,2に付
着して長孔5の側縁から取り出される。このよう
にして、研磨液は、遠心力によつて外周側へ極端
に飛散することなくキヤリアプレート3とラツプ
板1,2との隙間に介在し、この研磨液が丸棒6
の表面とラツプ板1,2との間に介在することに
より、丸棒の表面を研磨できるようになつてい
る。
Here, the polishing liquid is sent to the outer circumferential direction of the carrier plate 3 through the gap between the carrier plate 3 and the lap plates 1 and 2 by centrifugal force, and is sent to the wall portion of the elongated hole 5 facing the rotation direction. The material is then scraped up and filled into the elongated hole 5, adheres to the lap plates 1 and 2, and is taken out from the side edge of the elongated hole 5. In this way, the polishing liquid is present in the gap between the carrier plate 3 and the lap plates 1 and 2 without being extremely scattered toward the outer periphery due to centrifugal force.
By being interposed between the surface of the round bar and the lap plates 1 and 2, the surface of the round bar can be polished.

[考案が解決しようとする問題点] ところで、上記のような湿式のラツプ盤では、
丸棒とラツプ板とを相対移動させ、丸棒の表面と
ラツプ板との間に介在する研磨液によつて丸棒を
研磨するように構成されているため、研磨液をラ
ツプ板とキヤリアプレートとの隙間の全体に渡つ
て均一に介在させる必要がある。
[Problems that the invention attempts to solve] By the way, in the wet lapping board as mentioned above,
The round bar and the lap plate are moved relative to each other, and the round bar is polished using the polishing liquid interposed between the surface of the round bar and the lap plate, so that the polishing liquid is transferred between the lap plate and the carrier plate. It is necessary to intervene uniformly throughout the gap between the

ところが、上記キヤリアプレートでは、長孔の
壁部によつて掻き集められた研磨液が遠心力によ
つて長孔の外周側に偏つて充填されるため、ラツ
プ板に付着して長孔から取り出される研磨液の量
は外周側に比して内周側の方が少ない。このた
め、研磨液がラツプ板の外周側に偏つて介在し、
丸棒の内周側の端部が他端部に比して研磨量が少
なくなり、必要な円筒度を得ることができないと
いう問題があつた。
However, in the above-mentioned carrier plate, the polishing liquid scraped up by the walls of the long holes is biased towards the outer periphery of the long holes due to centrifugal force, so it adheres to the lap plate and is taken out from the long holes. The amount of polishing liquid is smaller on the inner circumferential side than on the outer circumferential side. For this reason, the polishing liquid is biased towards the outer circumference of the lap plate.
There was a problem in that the inner end of the round bar was polished less than the other end, making it impossible to obtain the necessary cylindricity.

この考案は、上記問題を解決するためになされ
たもので、研磨液をラツプ板とキヤリアプレート
との間に均一に介在させることができ、したがつ
て、丸棒をその全長にわたつて均一に研磨するこ
とができ、高精度の円筒度を得ることができるキ
ヤリアプレートを提供することを目的とする。
This invention was made to solve the above problem, and the polishing liquid can be uniformly interposed between the lap plate and the carrier plate, so that the round bar can be uniformly distributed over its entire length. The purpose of the present invention is to provide a carrier plate that can be polished to obtain highly accurate cylindricity.

[問題点を解決するための手段] この考案は、上記目的を達成するためになされ
たもので、キヤリアプレート本体の少なくとも一
端面に上記長孔の長手方向側縁から円周方向に延
びる複数の溝を形成したものである。
[Means for solving the problem] This invention was made to achieve the above object, and includes a plurality of holes extending circumferentially from the longitudinal side edge of the elongated hole on at least one end surface of the carrier plate main body. It has grooves formed therein.

[作用] 上記溝は、長孔の側縁からキヤリアプレート本
体の半径方向へ延びるように形成されているの
で、長孔の側壁によつて掻き集められ、溝内に充
填された研磨液が遠心力によつて外周側に移動す
ることがなく、これが溝の延出方向先端部におい
てラツプ板に付着して均一に取り出される。
[Function] Since the grooves are formed to extend in the radial direction of the carrier plate body from the side edges of the long holes, the polishing liquid filled in the grooves is scraped up by the side walls of the long holes and is subjected to centrifugal force. Because of this, it does not move toward the outer periphery, and it adheres to the lap plate at the tip of the groove in the extending direction and is uniformly taken out.

[実施例] 第1図および第2図は本考案の一実施例を示す
図である。
[Embodiment] FIGS. 1 and 2 are diagrams showing an embodiment of the present invention.

第1図において符号7はキヤリアプレート本体
である。キヤリアプレート本体7は、円板状をな
すものであつて、その壁部には、一端面から他端
面まで貫通し、かつ、長手方向を半径方向に向け
た複数の長孔8……が円周を等分するように形成
されている。また、キヤリアプレート本体7の両
端面には、長孔8の長手方向両側縁8a,8bか
ら円周方向へ延びる複数の溝9……が形成されて
いる。
In FIG. 1, reference numeral 7 indicates a carrier plate main body. The carrier plate main body 7 has a disc shape, and a plurality of long holes 8 penetrating from one end surface to the other end surface and having the longitudinal direction oriented in the radial direction are circularly formed in the wall of the carrier plate main body 7. It is formed to equally divide the circumference. Further, a plurality of grooves 9 are formed on both end surfaces of the carrier plate main body 7, extending in the circumferential direction from both longitudinal side edges 8a, 8b of the elongated hole 8.

溝9は、その外周側の壁部がキヤリアプレート
本体7の軸線を曲率中心とするR曲面に形成さ
れ、内周側の壁部が上記壁部よりも大きな曲率半
径のR曲面に形成されている。そして、これら2
つの壁部はそれらの先端部において一致し、平面
視において先端部が鋭角な針状となつている。ま
た、溝9は、その軸断面形状がU字状に形成され
るとともに、長手方向において深さが一定に形成
されている。これによつて、溝9の軸断面積は、
長孔8側から延出方向に向かうに従つて漸次小さ
くなつている。
The groove 9 has an outer circumferential wall formed in an R-curved surface whose center of curvature is the axis of the carrier plate main body 7, and an inner circumferential wall formed in an R-curved surface with a larger radius of curvature than the wall. There is. And these 2
The two walls coincide at their tips, and the tips are needle-shaped with an acute angle in plan view. Further, the groove 9 has a U-shaped axial cross-sectional shape, and has a constant depth in the longitudinal direction. As a result, the axial cross-sectional area of the groove 9 is
It gradually becomes smaller as it goes in the extending direction from the elongated hole 8 side.

以上の構成からなるキヤリアプレートにおいて
は、丸棒10の研磨作業に際して、遠心力によつ
て外周側に移動した研磨液が、上記長孔8の回転
方向(図において矢印A方向)を向く側縁8aに
よつて掻き集められて長孔8の壁部に沿つて内周
側に移動し、これが側縁8aから延出する溝9…
…内に充填されるので、研磨液が外周側に移動す
ることがない。そして、溝9内の研磨液は、ラツ
プ板に付着して溝9の先端部から均一に取り出さ
れるので、研磨液をラツプ板とキヤリアプレート
との間に均一に介在させることができる。したが
つて、丸棒10をその全長にわたつて均一に研磨
することができ、高精度の円筒度のものとするこ
とができる。
In the carrier plate having the above structure, when polishing the round bar 10, the polishing liquid moved toward the outer circumference by centrifugal force is transferred to the side edge of the elongated hole 8 facing in the rotational direction (direction of arrow A in the figure). 8a and move toward the inner circumferential side along the wall of the elongated hole 8, and this groove 9 extends from the side edge 8a.
...Since the polishing liquid is filled inside, the polishing liquid does not move to the outer circumferential side. Since the polishing liquid in the groove 9 adheres to the lap plate and is uniformly taken out from the tip of the groove 9, the polishing liquid can be uniformly interposed between the lap plate and the carrier plate. Therefore, the round bar 10 can be polished uniformly over its entire length, and can have highly accurate cylindricity.

さらに、上記実施例では、溝9の軸断面積が長
孔8側から延出方向に向つて漸次小さくなるよう
に構成しているので、研磨液がラツプ板に付着し
て溝9の先端部から間断なく糸を引くように取り
出される。これによつて、研磨液をラツプ板とキ
ヤリアプレートとの間の円周方向においても均一
に介在させることができるので、真円度について
も高精度の丸棒を得ることができる。
Furthermore, in the above embodiment, since the axial cross-sectional area of the groove 9 is configured to gradually decrease from the elongated hole 8 side toward the extending direction, the polishing liquid may adhere to the lap plate and the tip of the groove 9. It is taken out as if pulling a thread without interruption. As a result, the polishing liquid can be evenly distributed between the lap plate and the carrier plate in the circumferential direction, so that a round bar with high accuracy in roundness can be obtained.

また、上記実施例では、溝9を長孔8の両側に
設けているので、キヤリアプレートをいずれの回
転方向にも使用することができる。
Furthermore, in the above embodiment, since the grooves 9 are provided on both sides of the elongated hole 8, the carrier plate can be used in either direction of rotation.

なお、上記実施例では、キヤリアプレート本体
7の両端面に溝9を形成しているが、一方の端面
のみに溝9を形成しても上記と同様の効果を得る
ことができる。また、溝9の軸断面積は、内周側
から外周側に向つて漸次小さくなるように構成し
ているが、溝9の幅方向寸法を一定にして軸断面
積を一定にしてもよい。
In the above embodiment, the grooves 9 are formed on both end surfaces of the carrier plate main body 7, but the same effect as described above can be obtained even if the grooves 9 are formed only on one end surface. Further, although the axial cross-sectional area of the groove 9 is configured to gradually decrease from the inner circumferential side to the outer circumferential side, the axial cross-sectional area may be made constant by keeping the widthwise dimension of the groove 9 constant.

さらに、溝9の軸断面形状は、U字状に限るも
のではなく、V字状あるいはコ字状としてもよ
い。また、上記実施例では、溝9の長手方向にお
ける深さを一定にしているが、第3図に示すよう
に、溝9の底面を長孔8側から延出方向に向つて
登り勾配となる傾斜面とし、また、第4図に示す
ように溝9の先端部において溝9の底面からキヤ
リアプレート本体の表面に至る壁面をR曲面に形
成することによつて、溝9から取り出される研磨
液の量を調整してもよい。また、溝9は、キヤリ
アプレート本体7の一端面から他端面まで貫通さ
せてもよい。
Further, the axial cross-sectional shape of the groove 9 is not limited to the U-shape, but may be V-shape or U-shape. Further, in the above embodiment, the depth in the longitudinal direction of the groove 9 is constant, but as shown in FIG. 3, the bottom surface of the groove 9 has an upward slope from the long hole 8 side toward the extending direction The polishing liquid taken out from the groove 9 is made into an inclined surface, and by forming the wall surface from the bottom of the groove 9 to the surface of the carrier plate body at the tip of the groove 9 into an R curved surface as shown in FIG. You may adjust the amount. Further, the groove 9 may penetrate from one end surface of the carrier plate main body 7 to the other end surface.

また、第5図ないし第6図はそれぞれ本考案の
さらに他の実施例を示す図である。
Further, FIGS. 5 and 6 are diagrams showing still other embodiments of the present invention, respectively.

第5図に示すキヤリアプレートは、これを矢印
A方向に回転させて使用するものであり、第6図
に示すキヤリアプレートは、これを矢印B方向に
回転させて使用するものであつて、上記実施例と
同様の効果を奏するものである。
The carrier plate shown in FIG. 5 is used by rotating it in the direction of arrow A, and the carrier plate shown in FIG. 6 is used by rotating it in the direction of arrow B. This provides the same effects as the embodiment.

[考案の効果] 以上説明したようにこの考案による丸棒研磨用
キヤリアプレートにおいては、キヤリアプレート
本体の少なくとも一端面に、長孔の長手方向側縁
から円周方向に延びる複数の溝を形成しているの
で、研磨液をラツプ板とキヤリアプレートとの間
に均一に介在させることができ、したがつて、丸
棒をその全長にわたつて均一に研磨することがで
き、高精度の円筒度を得ることができるという効
果が得られる。
[Effects of the invention] As explained above, in the carrier plate for round bar polishing according to the invention, a plurality of grooves extending in the circumferential direction from the longitudinal side edge of the elongated hole are formed on at least one end surface of the carrier plate main body. As a result, the polishing liquid can be uniformly interposed between the lap plate and the carrier plate, and therefore the round bar can be polished uniformly over its entire length, achieving high-precision cylindricity. You can get the effect that you can.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図はこの考案の一実施例を示
す図であつて、第1図はキヤリアプレートを示す
平面図、第2図は第1図の−線視断面図、第
3図および第4図はそれぞれ溝の断面形状の適用
例を示す図であつて、第3図は第1図における
−線視断面図、第4図は第1図における−
線視断面図、第5図および第6図はそれぞれ本考
案のさらに他の実施例を示す図であつて、キヤリ
アプレートを示す平面図、第7図および第8図は
従来のキヤリアプレートを示す図であつて、第7
図は立て型ラツプ盤を示す側断面図、第8図はキ
ヤリアプレートを示す平面図である。 3……キヤリアプレート、4……キヤリアプレ
ート本体、5……長孔、7……キヤリアプレート
本体、8……長孔、9……溝。
1 and 2 are views showing an embodiment of this invention, in which FIG. 1 is a plan view showing a carrier plate, FIG. FIG. 4 is a diagram showing an example of application of the cross-sectional shape of the groove, in which FIG. 3 is a sectional view taken along the - line in FIG. 1, and FIG. 4 is a - line sectional view in FIG. 1.
A line sectional view, FIGS. 5 and 6 are views showing still other embodiments of the present invention, respectively, and a plan view showing a carrier plate, and FIGS. 7 and 8 show a conventional carrier plate. Figure 7
The figure is a side sectional view showing the vertical lapping board, and FIG. 8 is a plan view showing the carrier plate. 3... Carrier plate, 4... Carrier plate body, 5... Long hole, 7... Carrier plate main body, 8... Long hole, 9... Groove.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 (1) 円板状をなすキヤリアプレート本体に、その
一端面から他端面まで貫通し、かつ、長手方向
を半径方向に向けた長孔が形成されてなるキヤ
リアプレートにおいて、上記キヤリアプレート
本体の少なくとも一端面に、上記長孔の長手方
向側縁から円周方向に延びる複数の溝を形成し
てなることを特徴とする丸棒研磨用キヤリアプ
レート。 (2) 上記溝の軸断面積は、上記長孔側よりも延出
方向側の方が小さく設定されていることを特徴
とする実用新案登録請求の範囲第1項記載の丸
棒研磨用キヤリアプレート。
[Claims for Utility Model Registration] (1) A carrier plate in which a long hole is formed in a disc-shaped carrier plate body, penetrating from one end face to the other end face, and with the longitudinal direction oriented in the radial direction. A carrier plate for polishing round bars, characterized in that a plurality of grooves extending circumferentially from the longitudinal side edge of the elongated hole are formed on at least one end surface of the carrier plate main body. (2) A carrier for polishing a round bar according to claim 1 of the utility model registration claim, wherein the axial cross-sectional area of the groove is set smaller on the extending direction side than on the elongated hole side. plate.
JP1986154850U 1986-10-08 1986-10-08 Expired JPH0440849Y2 (en)

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JPS6360549U JPS6360549U (en) 1988-04-22
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