JPH0440705B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 イ 発明の目的 （産業上の利用分野） 本発明は写真製版用殖版機の自動マスク方法及
びその装置に関し、詳細には殖版機において製版
寸法に応じて自動的に遮光マスクを形成し必要な
場合には焼落しマスクも同時に自動的に形成する
殖版機の自動遮光・焼落しマスク形成方法及び装
置に関する。

（従来の技術） 殖版機は主として写真原板をセツトする写真原
板ホルダーと、感光版をセツトするプレートホル
ダーと、写真原板を感光版に焼付ける光源とから
成り、写真原板ホルダーを送り機構によつてプレ
ートホルダーに対して左右及び上下にそれぞれ必
要量連動させて感光版の所定の位置に正しい間隔
を保ちつつ一回毎に適正な光量をもつて繰り返し
写真的に焼付けを行なつて、１枚の写真原板を感
光版に正確に１面焼あるいは多面焼きする機械で
ある。刷版製版は一連の印刷工程において原板製
版と印刷工程との間に位置し、校了した原板の画
像を印刷可能な状態に準備する工程である。

第４図は従来の遮光マスクを説明する図であ
り、第５図は従来の焼落しマスクを説明する図で
ある。自動殖版機による焼付作業の前の準備とし
て、(1)殖版機の機械的チエツク、(2)遮光マスクの
作成、(3)送り寸法の作成、(4)焼落しマスクの作成
等が必要である。遮光マスクは多面焼付を行なう
場合必要な絵柄と必要なトンボのみが焼付けられ
るように、製版寸法外の部分を覆つて遮光し露光
されることを防止するマスクである。この遮光マ
スクは例えば第４図Ａに示すように半透明のルミ
ラーベースフイルム９７の上にセンタートンボ９
９を決め、次に製版寸法をボールペン等で印をつ
け、この製版寸法に沿つて遮光テープ９８を貼り
寸法外を遮光する。この遮光マスクは写真原板毎
に製版寸法通りに作成される。また、第４図Ｂの
左側に示すように、透明ベースフイルム９６上に
製版寸法、センタトンボ９９を決定し、遮光部９
８及びトンボ付けを行ない、これを第４図Ｂの右
側に示すようにプリンターでリスフイルムに反転
して遮光マスクを作成することもできる。一方、
焼落しマスクはポジタイプの原板つまりPS版等
の感光版を焼付ける時に絵柄の周辺部の未露光部
を焼き落とすために使用されるものである。第５
図Ａに示す原板１００の画像を殖版機によつて例
えば第５図Ｂに示すように８面焼として殖版され
た画像となる。これに第５図Ｃに示す焼落しマス
ク１０１で殖版された画像を覆い露光、つまり焼
落しを行なうと第５図Ｄに示す絵柄と必要なトン
ボとが残つている感光版１０２が出来上がる。

第６図は従来の自動マスク（自動焼落し）装置
を例示する図である。第６図Ａは従来の自動マス
ク装置の平面図であり、第６図Ｂは遮光膜の移動
量設定部を示す図である。必要な製版寸法及び位
置に遮光マスク及び焼落しマスクを形成するため
に、４つの遮光膜１０３，１０３，１０４，１０
４の位置が上設定カウンタ１０６、下設定カウン
タ１０８、左設定カウンタ１０７及び右設定カウ
ンタ１０９によつて手動で設定される。殖版機は
入力されたプログラムに従つて各設定値を読み取
り、水平・垂直軸の２軸をステツプモータによつ
て同時に駆動してマスクを形成し、殖版と同時に
画像周辺の焼きとばしも行なうことができる。切
替スイツチ１１１は自動、停止及び単動を切り替
えるスイツチであり、自動の場合はこのマスク装
置がプログラム運転され、単動の場合には４つの
遮光膜を１枚ずつ手動によつて設定できる。

また、第６図の従来技術より更に発展した装置
も開発された。これは遮光膜がパルスモータを介
したローラに巻きつけられており、パルスモータ
を作動させローラを回転させる事により遮光膜を
延ばしたり、縮めたりして遮光膜の長さを調節
し、このローラを前、後、左、右、四方に取り付
ける事により遮光マスクとして活用させるもので
ある。

（発明が解決しようとする問題点） 前述したように、従来の自動殖版機にあつては
焼付作業に先行して写真原板１枚毎に写真原板の
トンボ合わせをして未遮光フイルムを製版寸法に
合わせて遮光マスクを準備することが必要であ
る。多面焼付の場合には割付寸法、ドブ寸法ある
いはくわえ寸法等も考慮する必要がある。従来は
この遮光マスクの作成は刷版製版の基本技術であ
るにもかかわらず手作業に頼つていた。つまり、
この遮光マスクは通常は、熟練工がルーペをのぞ
いて拡大しながら写真原板１枚毎に製版寸法に応
じて未遮光フイルムを精度良く切り抜き、センタ
ートンボの３点合わせによつて例えば70ミクロン
以内というミクロンオーダーの誤差範囲でトンボ
を目印に写真原板と遮光マスクとの位置合わせを
行ない、次に写真原板に遮光マスクを貼り付ける
ことによつて作成されている。他の方法による遮
光マスクの作成の場合もほぼ同様である。このた
め、一つの従来例のように遮光板もしくは遮光紙
を使用すると遮光マスクが写真原板の枚数だけ必
要であるので、手間がかかり、遮光マスクが高価
なものとなる問題点がある。また遮光マスクの作
成が手作業により熟練を必要とするので作業効率
が悪く、精度にバラツキがあるという問題点もあ
る。位置ずれを起こすとカラー印刷の場合には色
ずれ現象が発生する。

第６図に示す従来の自動マスク装置にあつて
も、写真原板毎に手動によつて設定カウンタに遮
光膜の位置を入力しなければならないために、写
真原板が変わる都度手動で各設定カウンタを設定
しなければならず手間がかかる、作業能率がよく
ないという問題点がある。また、写真原板毎に入
力することから、殖版機に入力されているプログ
ラムのシーケンスを確認しながらその写真原板に
ついて設定しなければならず、この点でも手間が
かかり、作業能率が良くなかつた。

更にまた、従来、焼枠のガラス板面の上面（即
ち光源側）に沿つて遮光膜を設けたものもある
が、ガラス板には真空吸着で破壊されない或る程
度の強度が必要であり、そのためには或る厚さで
形成されるので遮光膜の縁を通過した光が、ガラ
ス板の厚さにより屈折、乱反射、拡散され、遮光
されるべき端部外に光が入り露光され、PS板の
端部が不鮮明となる、という欠点がある。

従つて、本発明の目的は、殖版機において一面
焼付あるいは多面焼付を行なうために製版寸法に
応じて自動的に遮光マスクを形成し同時に必要な
場合には焼落しマスクも形成して、写真製版用殖
版機を連続的に完全自動運転を可能にしかつ、い
うまでもなく端部まで鮮明な画像が得られる殖版
機の自動マスク方法及びその装置を提供すること
である。

ロ 発明の構成 （問題点を解決するための手段） 本発明の殖版機の自動マスク方法にあつては、
写真原板を焼枠部のガラス板面に真空吸着させる
こと、次に、該写真原板に表示されたマークを焼
枠部に設けられた読取り手段により読取らせ、該
読取りの内容に応じて、焼付の信号を発生させ、
その信号にもとづいて、前記写真原板を吸着した
焼枠部のガラス板面を上昇させること、更にそれ
により生じた前記写真原板の下部の感光版との間
隙において、焼枠部の４辺に設けた前後左右の遮
光膜を焼枠の４辺と中心の間を移動させ遮光マス
クを自動的に形成すること、而る後写真原版を吸
着したガラス板面を焼枠に対して下降させ、写真
原板と感光版とを真空吸着させて露光すること、
を含む各工程が実行される。

本発明の殖版機の自動マスク装置は、 遮光膜制御用及び殖版機制御用プログラムが組
み込まれている制御装置と、四辺形の枠状の焼枠
と、前記焼枠内に上下移動可能に設けられたガラ
ス板と、前記焼枠の内部に設けられた写真原板を
前記ガラス板に吸着するための真空吸着手段と、
前記ガラス板をを上下移動させるためのエヤシリ
ンダ機構と、前記ガラス板に吸着された写真原板
の下面に沿つて前記焼枠の中心との間を移動でき
るように前記焼枠の４辺の内部に巻きとり機構に
巻かれて配置された前後左右の４つの遮光膜と、
前記各遮光膜を前記焼枠の各辺と焼枠の中心との
間で駆動するための４つのステツプモータと、写
真原板に表示されているマークを読取るための読
取り手段と、前記焼枠底部外周部に沿つて配設さ
れた真空気密保持のための弾性部材とを有する焼
枠部と、を有し、 写真原板に表示されたマークの読取り内容にも
とずく前記制御装置からの指令によつて焼枠部の
遮光膜を移動させることを、特徴として構成され
ている。

エヤシリンダは通常の構造で、内部にピストン
とロツドを有し、コンプレツサから空気管で送ら
れたエヤにより作動する。更にガラス板面と焼枠
の一部に夫々連結されて、該ガラス板面と焼枠を
所定距離だけ上下に移動させる。

（作用） 本発明は主として焼枠のガラス板面の内面（光
源の反対側）に沿い、必要部分の縁部にまで、該
ガラス板面より下方に離して、前後左右に移動
し、焼付の際には、真空吸着により該ガラス板面
の下側に密着する４つの遮光膜の位置を自動的に
制御することにより各写真原板に必要とされる遮
光マスク及び焼落しマスクを自動的に形成し殖版
機の連続的は完全自動運転を可能にするものであ
る。

（実施例） 第１図は本発明の殖版機の自動マスク装置の概
略を示す図である。遮光・焼落しマスク制御装置
１はプログラムに基づいて、指令された大きさの
感光版（PS版）ストツカーを出し、その感光版
に対する写真原板の焼付面付数に応じて第２図
Ａ，Ｂに示すガラス板１１の内部（下部）に沿わ
せて設けた遮光膜５〜８を所定の位置に順次移動
し、焼枠２も面付数に応じて所定の位置に移動さ
せる。焼枠２は主に焼枠部、遮光膜、ステツプモ
ータ及びガラス面から成り、真空吸着用のエアー
出入口Ａ，Ｂ，Ｃを備えている。この焼枠２は遮
光・焼落しマスク制御装置１からガラス面上下移
動信号及び遮光膜位置制御信号も受け取る。３は
遮光膜の後退位置であり、遮光膜はこの点線より
も外側に収納される。尚このマスク制御装置１は
焼枠２の自動／手動の切換えも行なう。この手動
の場合にはデジタルスイツチによつて焼枠の中心
を基準として各遮光膜の位置が設定できる。

第２図Ａは第１図における焼枠部の拡大上面図
であり、第２図Ｂはその断面図である。焼枠２の
底面の周囲には感光版１３と焼枠２との間の真空
を維持するゴムドテ４が固着されており、中央部
分はガラス面１１で構成されている。第２図Ｂの
断面図に示された如く、ガラス板１１の内部（下
部）に設けられた、上、下、左、右の４つの遮光
膜８，６，５，７は遮光・焼落しマスク制御装置
１の指令に応答して、各遮光膜について焼枠部に
設置された水平・垂直ステツプモータ１０によつ
て駆動され、製版寸法および焼付面付数に応じて
その位置を変える。焼枠２自体も焼付面付数に応
じて殖版機によつて移動され連動される。９は遮
光膜の先端に設けられた遮光箔である。焼枠部は
それぞれガラス面１１の上下移動用、ガラス面１
１と写真原板１４との真空密着用、及び焼枠２と
感光版１３との真空吸着用のエアー出入口Ａ，
Ｂ，Ｃを備えている。真空室１２は焼枠部の内側
の周囲に沿つて設けられており、真空ポンプによ
つてエアシリンダ（図示せず）を介してガラス面
１１を上下に移動させるためのものである。この
真空室は焼枠２と感光版１３との真空吸着とは別
個に動作される。写真原板１４は第２図Ｂに示す
ように焼枠部の内側の大きさとほゞ同じ大きさで
ある。

第３図は本発明の殖版機の自動マスク方法を説
明する図である。まず、第３図Ａに例示する２面
焼付の場合を説明する。本発明にあつては、殖版
機の写真原板ストツカーが上昇し、焼枠２がこの
写真原板１５上に移動した後下降して、写真原板
１５が焼枠２のガラス面１１に真空吸着される。
ここで、写真原板ストツカーが下降し同時に焼枠
２が上昇し感光版１３の焼付面の所定の位置に移
動される。この時に写真原板１５に貼付されてい
る必要な処理内容を表示するマークがマークリー
ダ（図示せず）により読み取られコンピユータに
より判別される。次に、焼枠２のガラス面１１が
エアシリンダにより上昇される。まず、写真原板
１５のＡ面を感光版１３に焼付ける場合には遮
光・焼落しマスク制御装置１の指令に基づいて焼
枠２にたいして左遮光膜５、下遮光膜６及び上遮
光膜８が第２図に点線で示す遮光膜後退位置３ま
で後退し、右遮光膜７が写真原板１５のＡ面とＢ
面との境界まで前進する。遮光膜及びガラス面１
１が一緒に感光版１３に真空吸着され、写真原板
１５のＡ面が露光され焼付けられる際に第３図Ａ
に斜線で示す部分も焼落しされる。つまり、Ａ面
焼付けと焼落しとが同時に行なわれる。次に、写
真原板と感光版との間の真空が解除された後焼枠
２に対して下遮光膜６、右遮光膜７及び上遮光膜
８が後退位置３まで後退し同時に遮光膜５がＡ面
とＢ面との境界まで前進して、同様に写真原板１
５のＢ面が焼付けられ同時に画像及び必要なトン
ボ以外の焼落しが行なわれる。Ａ，Ｂ両面の焼付
が完了した後、写真原板１５と感光版１３との間
の真空吸着が解除されて、全ての遮光膜が後退位
置３まで後退し全開状態になり、焼枠２が写真原
板ストツカーの真上に移動し、真空が解除され写
真原板が写真原板ストツカーの上に移動して来て
いる写真原板収納箱の中に落下する。その後、写
真原板収納箱がもとの位置に戻る。以上で焼付・
殖版作業が完了する。

第３図Ｂは４面焼付の場合を例示している。同
様の動作によつて、写真原板１６のＡ面を焼付け
る場合には左遮光膜５及び下遮光膜６が後退位置
３まで後退し、上遮光膜８がＡ面とＣ面との境界
まで前進し右遮光膜７がＡ面とＢ面との境界まで
前進した状態で露光され焼付と焼落しが同時に行
なわれる。Ｂ面を焼付ける場合には下遮光膜６及
び右遮光膜７が後退位置３まで後退し、左遮光膜
５及び上遮光膜８がそれぞれの境界まで前進した
状態で焼付と焼落しが同時に行なわれる。Ｃ面及
びＤ面についても同様である。第３図Ｃは８面焼
付の場合を例示している。写真原板１７のＡ面を
焼付ける場合には、左遮光膜５及び下遮光膜６が
後退位置３まで後退し、上遮光膜８がＡ面とＥ面
との境界まで、右遮光膜７がＡ面とＢ面との境界
までそれぞれ前進して焼付を焼落しが同時に行な
われる。Ｂ面を焼付ける場合には下遮光膜６が後
退位置３まで後退し、左遮光膜５がＢ面とＡ面と
の境界まで、右遮光膜７がＢ面とＣ面との境界ま
で、上遮光膜８がＢ面とＦ面との境界まで前進し
て、焼付と焼落しが同時に行なわれる。以下、Ｃ
面、Ｈ面についても同様に焼付と焼落しが同時に
行なわれ、写真原板の全ての面の焼付けが完了し
た時には焼落しも完了している。更に、16面焼付
及び32面焼付の場合についても同様に説明でき
る。尚、本発明は焼付面指定がある刷版製版にも
適用できることは言うまでもない。

ハ 発明の効果 本発明によれば、コンピユータ制御によつて自
動的に遮光マスク及び焼落しマスクが遮光膜によ
つて形成されるので焼付作業の前に各写真原板毎
に遮光マスク及び焼落しマスクを手作業によつて
作成する必要がないこと、手動によつて写真原板
毎に４つの遮光膜の位置を設定カウンタで設定す
る必要がなく殖版機を完全に自動運転可能にする
こと、という効果を奏する。

更に、従来技術では、遮光板を用いるものは版
の寸法に合わせた非常に多数組の遮光板を必要と
する大欠点があり、またガラス板の外部上面に遮
光膜を設けたものはガラス板の厚さによる光の散
乱により、画面の端部が不鮮明となる大欠点があ
るが、本発明では遮光膜をガラス板の内部に設け
る（最近ではこれを「内マスク」という）ので、
膜の巻きとりにより遮光膜は１組で済み、また光
の散乱がないので画面の端部が、鮮明となるか、
上記従来技術の２大欠点がいずれも除去される、
という甚だ顕著なる効果を併有するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の殖版機の自動マスク装置の概
略を示す図、第２図Ａは第１図における焼枠部の
拡大上面図、第２図Ｂはその断面図、第３図Ａ〜
Ｃは本発明の殖版機の自動マスク方法を説明する
図、第４図は従来の遮光マスクを説明する図、第
５図は従来の焼落しマスクを説明する図、第６図
は従来の自動マスク装置を例示する図である。 １……遮光・焼落しマスク制御装置、２……焼
枠、３……遮光膜後退位置、４……ゴムドテ、５
〜８，１０３，１０４……遮光膜、９，１０５…
…遮光箔、１０……ステツプモータ、１１……ガ
ラス板、１２……真空室、１３……感光版、１４
〜１７……写真原板、９６……透明ベースフイル
ム、９７……ルミラーベースフイルム、９８……
遮光部、９９……センタートンボ、１００……写
真原板、１０１……焼落しマスク、１０２……感
光版、１０６〜１０９……設定カウンタ、１１０
……単独切替スイツチ、１１１……切替スイツ
チ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 写真原板を焼枠部のガラス板面に真空吸着さ
   せること、次に、該写真原板に表示されたマーク
   を焼枠部に設けられた読取り手段により読取ら
   せ、該読取りの内容に応じて、焼付の信号を発生
   させ、上記信号にもとづいて前記写真原板を吸着
   した焼枠部のガラス板面を上昇させること、更に
   それにより生じた前記写真原板の下方に位置する
   感光版との間隙において、焼枠部の４辺に設けた
   前、後、左、右の遮光膜を焼枠の４辺と中心の間
   を移動させ遮光マスクを自動的に形成すること、
   而る後写真原板を吸着したガラス板面を焼枠に対
   して下降させ、写真原板と感光版とを真空吸着さ
   せて露光することの各工程を含むことを特徴とす
   る殖版機の自動マスク方法。 ２ 遮光膜制御用及び殖版機制御用プログラムが
   組み込まれている制御装置と、 四辺形の枠状の焼枠と、前記焼枠内に上下移動
   可能に設けられたガラス板と、前記焼枠の内部に
   設けられた写真原板を前記ガラス板に吸着するた
   めの真空吸着手段と、前記ガラス板をを上下移動
   させるためのエヤシリンダ機構と、前記ガラス板
   に吸着された写真原板の下面に沿つて前記焼枠の
   各辺と中心との間を移動できるように前記焼枠の
   ４辺の内部に巻きとり機構に巻かれて配置された
   前後左右の４つの遮光膜と、前記各遮光膜を前記
   焼枠の各辺と焼枠の中心との間で駆動するための
   ４つのステツプモータと、写真原板に表示されて
   いるマークを読取るための読取り手段と、前記焼
   枠底部外周部に沿つて配設された真空気密保持の
   ための弾性部材とを有する焼枠部と、を有し、 写真原板に表示されたマークの読取り内容にも
   とずく前記制御装置からの指令によつて焼枠部の
   遮光膜を移動させることを、特徴とする、 殖版機の自動マスク装置。