JPH0440536U - - Google Patents

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JPH0440536U
JPH0440536U JP8141390U JP8141390U JPH0440536U JP H0440536 U JPH0440536 U JP H0440536U JP 8141390 U JP8141390 U JP 8141390U JP 8141390 U JP8141390 U JP 8141390U JP H0440536 U JPH0440536 U JP H0440536U
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recess
metal
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JP8141390U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、本考案の一実施例に係るFET増幅
装置の概略を示す部分斜視図、第2図は第1図の
一部拡大斜視図、第3図は本考案の別の実施例を
示す拡大図、第4図は本考案のさらに別な実施例
を示す横断面図、第5図は第4図の一部拡大斜視
図、第6図は従来のFET増幅装置の一例を示す
部分斜視図である。 1……誘電体基板、1a……導体膜、1b……
導通穴、2……FETパツケージ、2a,2b,
2c……リード、3……金属ケース、4……ねじ
、5……金属台、5a……ねじ穴、5b……段差
、6……蓋、7……高周波遮蔽板、10……凹部
、11……半田付部、12……溝。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) FETを収納し接地用リードを有したFE
    Tパツケージと、高周波回路基板を形成する誘電
    体基板と、誘電体基板に付設される金属ケースと
    を備え、上記FETパツケージの接地用リードを
    金属ケースに設置させるようにしたFET増幅装
    置において、 FETパツケージが入る凹部を有するとともに
    この凹部の開放端部に上記接地用リードがハンダ
    付けされるハンダ付部を形成した金属台を備え、
    誘電体基板には金属ケースが露出する溝を形成し
    、この溝内で露出した金属ケースに上記金属台を
    固定したことを特徴とするFET増幅装置。 (2) 金属台のハンダ付部は、金属台の一般面よ
    り下位に位置する段差部で構成したことを特徴と
    する請求項1記載のFET増幅装置。 (3) 金属台は凹部内のFETパツケージを覆う
    高周波遮蔽板を有したことを特徴とする請求項1
    または2記載のFET増幅装置。
JP8141390U 1990-07-31 1990-07-31 Pending JPH0440536U (ja)

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JP8141390U JPH0440536U (ja) 1990-07-31 1990-07-31

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JP8141390U JPH0440536U (ja) 1990-07-31 1990-07-31

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JPH0440536U true JPH0440536U (ja) 1992-04-07

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ID=31627339

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