JPH04370730A - Semicondcutor pressure sensor - Google Patents

Semicondcutor pressure sensor

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JPH04370730A
JPH04370730A JP17598391A JP17598391A JPH04370730A JP H04370730 A JPH04370730 A JP H04370730A JP 17598391 A JP17598391 A JP 17598391A JP 17598391 A JP17598391 A JP 17598391A JP H04370730 A JPH04370730 A JP H04370730A
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JP
Japan
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pressure
pedestal
pressure sensor
diaphragm
introduction hole
Prior art date
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Pending
Application number
JP17598391A
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Japanese (ja)
Inventor
Hirokazu Hashimoto
廣和 橋本
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Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain the sensor whose breakdown strength is high and measurement region is wide. CONSTITUTION:A silicon chip 6 is joined on a base 2 and the pressure from a measurement medium is applied to a diaphragm 7 through a pressure introduction hole 3. In this case, the area of the pressure introduction hole 3 of the base 2 is largely set, compared with the opening area of a recess part 7a of the silicon chip 6. In the case where the pressure is applied, stress is concentrated on the end of the recess part 7a. The damage of the base 2 can be controlled because the part of the stress concentration is isolated from the joint part between the silicon chip 6 and the base 2.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は自動車及び工業計測等の
分野において使用される半導体圧力センサに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor pressure sensor used in fields such as automobiles and industrial measurement.

【0002】0002

【従来の技術】図3は従来の半導体圧力センサの一例を
示す断面図である。
2. Description of the Related Art FIG. 3 is a sectional view showing an example of a conventional semiconductor pressure sensor.

【0003】金属容器21の上面には凹部が設けられて
おり、シリコンセンサ22はこの凹部の中央にダイボン
ド樹脂24を介して固定されている。また、このシリコ
ンセンサ22の近傍には、接続ピン26が配設されてい
る。この接続ピン26は金属容器21の下方にまで導出
しており、この接続ピン26と金属容器21とは、両者
の間に介在する絶縁性部材27により電気的に絶縁され
ている。
[0003] A recess is provided on the upper surface of the metal container 21, and the silicon sensor 22 is fixed in the center of this recess via a die-bonding resin 24. Further, a connecting pin 26 is provided near the silicon sensor 22. The connecting pin 26 extends below the metal container 21, and the connecting pin 26 and the metal container 21 are electrically insulated by an insulating member 27 interposed between them.

【0004】シリコンセンサ22はその上面側にシリコ
ンダイヤフラム23を備えており、このダイヤフラム2
3にはピエゾ素子(図示せず)が形成されている。そし
て、このピエゾ素子の電極は金属細線29を介して接続
ピン26に電気的に接続されている。
The silicon sensor 22 is equipped with a silicon diaphragm 23 on its upper surface.
3 is formed with a piezo element (not shown). The electrodes of this piezo element are electrically connected to connection pins 26 via thin metal wires 29.

【0005】また、金属容器21の前記凹部にはシリコ
ンオイル28が装入されており、金属容器21の上部に
はステンレス製の金属ダイヤフラム25が配設されてい
る。この金属ダイヤフラム25は、金属容器21に液密
的に溶接されている。
[0005] Furthermore, silicone oil 28 is charged into the recessed portion of the metal container 21, and a metal diaphragm 25 made of stainless steel is disposed in the upper part of the metal container 21. This metal diaphragm 25 is welded to the metal container 21 in a liquid-tight manner.

【0006】このように構成された圧力センサにおいて
、測定媒体から金属ダイヤフラム25に圧力が印加され
ると、この圧力はシリコンオイル28を介してシリコン
ダイヤフラム23に伝達される。これにより、ダイヤフ
ラム23が湾曲し、ピエゾ素子から圧力に応じた電気信
号が出力される。この信号は、接続ピン26を介して外
部に伝達される。
In the pressure sensor configured as described above, when pressure is applied to the metal diaphragm 25 from the measurement medium, this pressure is transmitted to the silicon diaphragm 23 via the silicone oil 28. This causes the diaphragm 23 to curve, and the piezo element outputs an electrical signal according to the pressure. This signal is transmitted to the outside via the connection pin 26.

【0007】この半導体圧力センサには、測定媒体が直
接ピエゾ素子に接触しないため、測定媒体によるセンサ
の汚染及び腐食等の不都合の発生を回避できて、種々の
測定媒体に適用することができるという利点がある。
This semiconductor pressure sensor has the advantage that since the measurement medium does not come into direct contact with the piezo element, problems such as contamination and corrosion of the sensor by the measurement medium can be avoided, and it can be applied to a variety of measurement media. There are advantages.

【0008】しかしながら、上述の半導体圧力センサに
は、金属ダイヤフラム25として、厚さが約30μmの
ステンレス薄板を製造する工程、このステンレス薄板を
金属容器21に液密的に溶接する工程及びシリコンオイ
ル28を充填する工程等が必要であり、製造が煩雑であ
ると共に製造コストが高くなるという欠点がある。また
、温度が上昇すると、シリコンオイル28の体積が膨張
してシリコンダイヤフラム23に応力が印加されるため
、センサの出力が変動してしまうという問題点もある。
However, the semiconductor pressure sensor described above requires a step of manufacturing a thin stainless steel plate with a thickness of approximately 30 μm as the metal diaphragm 25, a step of welding the thin stainless steel plate to the metal container 21 in a liquid-tight manner, and a step of welding the thin stainless steel plate to the metal container 21, and a step of welding the thin stainless steel plate to the metal container 21, and a step of welding the thin stainless steel plate to the metal container 21. This method requires a filling process, etc., and has the disadvantage that manufacturing is complicated and manufacturing costs are high. Furthermore, when the temperature rises, the volume of the silicone oil 28 expands and stress is applied to the silicone diaphragm 23, resulting in a problem in that the output of the sensor fluctuates.

【0009】図4は、このような問題点が解消された従
来の半導体圧力センサを示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing a conventional semiconductor pressure sensor in which such problems have been solved.

【0010】ステム31上にはガラス製の台座32が接
合されており、ステム31及び台座32には、夫々圧力
導入孔33,34が設けられている。また、ステム31
の下面側には、圧力導入孔34に整合して、測定媒体導
入管35が配設されている。
A glass pedestal 32 is bonded onto the stem 31, and pressure introduction holes 33 and 34 are provided in the stem 31 and the pedestal 32, respectively. In addition, stem 31
A measuring medium introducing pipe 35 is arranged on the lower surface side of the measuring medium in alignment with the pressure introducing hole 34 .

【0011】台座32上にはシリコンチップ36が配設
されている。このシリコンチップ36は、下面中央に凹
部37aを設けることにより形成されたダイヤフラム3
7を備えている。また、このシリコンチップ36は、ダ
イヤフラム37の周辺部で台座32に陽極接合されてい
る。
A silicon chip 36 is placed on the pedestal 32. This silicon chip 36 has a diaphragm 3 formed by providing a recess 37a in the center of the lower surface.
It has 7. Further, this silicon chip 36 is anodically bonded to the pedestal 32 at the periphery of the diaphragm 37.

【0012】シリコンダイヤフラム37の上面側にはピ
エゾ素子(図示せず)が設けられている。そして、この
ピエゾ素子の電極は、金属細線38を介して接続ピン3
9に電気的に接続されている。この接続ピン39はステ
ム31の下方に導出している。
A piezo element (not shown) is provided on the upper surface side of the silicon diaphragm 37. The electrode of this piezo element is connected to the connecting pin 3 via the thin metal wire 38.
It is electrically connected to 9. This connecting pin 39 is led out below the stem 31.

【0013】ステム31上には金属キャップ40が設け
られており、シリコンチップ36及び台座32等はこの
金属キャップ40内に収納されている。
A metal cap 40 is provided on the stem 31, and the silicon chip 36, pedestal 32, etc. are housed within this metal cap 40.

【0014】なお、この種の半導体圧力センサにおいて
は、金属キャップ40内が真空のものと、キャップ40
に孔が設けられてキャップ40内が大気圧になっている
ものとがある。また、台座32とステム31とは、量産
性を考慮して、半田により接合されている。更に、シリ
コンチップ36を支持する台座32は、熱膨張係数がシ
リコン単結晶に近いことから、通常はガラスが使用され
ている。
Note that in this type of semiconductor pressure sensor, there is one in which the inside of the metal cap 40 is vacuum, and one in which the interior of the metal cap 40 is vacuum.
Some caps are provided with holes so that the inside of the cap 40 is at atmospheric pressure. Further, the base 32 and the stem 31 are joined by solder in consideration of mass productivity. Further, the pedestal 32 that supports the silicon chip 36 is usually made of glass because its coefficient of thermal expansion is close to that of single crystal silicon.

【0015】このように構成された半導体圧力センサに
おいて、測定媒体導入管35を介してシリコンダイヤフ
ラム37に圧力が印加されると、ダイヤフラム37はキ
ャップ40内の圧力と測定媒体導入管35を介して印加
された圧力との差圧に基づいて変形し、ピエゾ素子から
圧力に応じた電気信号が出力される。
In the semiconductor pressure sensor configured as described above, when pressure is applied to the silicon diaphragm 37 via the measurement medium introduction pipe 35, the diaphragm 37 reacts with the pressure inside the cap 40 via the measurement medium introduction pipe 35. The piezo element deforms based on the pressure difference between the piezo element and the applied pressure, and the piezo element outputs an electric signal corresponding to the pressure.

【0016】この半導体圧力センサにおいては、ダイヤ
フラム37の下面側が測定媒体に接触するのに対し、ピ
エゾ素子はダイヤフラム37の上面側に設けられている
ため、測定媒体との接触によるセンサの劣化を回避する
ことができると共に、図3に示す構造のセンサに比して
、製造が容易であり、製造コストが低いという利点があ
る。
In this semiconductor pressure sensor, the bottom side of the diaphragm 37 comes into contact with the measurement medium, whereas the piezo element is provided on the top side of the diaphragm 37, thereby avoiding deterioration of the sensor due to contact with the measurement medium. In addition, compared to the sensor having the structure shown in FIG. 3, it has the advantage of being easier to manufacture and having lower manufacturing costs.

【0017】[0017]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図4に
示す構造の従来の半導体圧力センサにおいては、測定媒
体の圧力が高い場合に、シリコンチップ36を台座32
から引き剥がす方向に応力が働くため破損しやすく、測
定可能な圧力範囲が狭いという問題点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the conventional semiconductor pressure sensor having the structure shown in FIG.
There is a problem that stress is applied in the direction of peeling it off, so it is easily damaged, and the measurable pressure range is narrow.

【0018】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、測定媒体との接触によるセンサの劣化を回
避できると共に、測定範囲が広い半導体圧力センサを提
供することを目的とする。
The present invention has been made in view of these problems, and it is an object of the present invention to provide a semiconductor pressure sensor that can avoid deterioration of the sensor due to contact with a measuring medium and has a wide measurement range.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体圧力
センサは、圧力導入孔が設けられた台座と、前記圧力導
入孔に整合する位置に凹部を形成することによりダイヤ
フラムが設けられこのダイヤフラムの周辺部で前記台座
に接合された半導体チップとを有し、前記圧力導入孔の
面積は前記凹部の開口面積に比して大きいことを特徴と
する。
[Means for Solving the Problems] A semiconductor pressure sensor according to the present invention includes a base provided with a pressure introduction hole, and a diaphragm provided by forming a recessed portion at a position aligned with the pressure introduction hole. and a semiconductor chip joined to the pedestal at a peripheral portion, and the area of the pressure introduction hole is larger than the opening area of the recess.

【0020】[0020]

【作用】本願発明者等は、従来に比して耐圧が高く、測
定範囲が広い半導体圧力センサを得るべく種々実験研究
を行なった。その結果、台座の圧力導入孔の面積を半導
体チップの凹部の開口面積に比して大きくすることによ
り、半導体圧力センサの耐圧が向上するとの知見を得た
。一般的には、圧力導入孔の面積を半導体チップの凹部
の開口面積よりも大きくすると、台座と半導体チップと
の接合面積が減少するため、耐圧が低下するように考え
られる。しかしながら、本願発明者等が種々の半導体圧
力センサを製造して耐圧テストを行なった結果、以下の
ことが判明した。
[Operation] The inventors of the present invention have conducted various experimental studies in order to obtain a semiconductor pressure sensor that has a higher pressure resistance and a wider measurement range than conventional pressure sensors. As a result, it was found that the withstand pressure of the semiconductor pressure sensor can be improved by making the area of the pressure introduction hole of the pedestal larger than the opening area of the recess of the semiconductor chip. Generally, it is thought that if the area of the pressure introduction hole is made larger than the opening area of the recess of the semiconductor chip, the bonding area between the pedestal and the semiconductor chip decreases, and the breakdown voltage decreases. However, as a result of manufacturing various semiconductor pressure sensors and conducting pressure tests by the inventors of the present application, the following was found.

【0021】圧力によりガラス製の台座から剥離した半
導体チップを観察すると、その台座側にはガラスが付着
している。即ち、半導体圧力センサにおいては、台座と
半導体チップとの接合部分が剥離して破損するのではな
く、台座の特定の部分に応力が集中して台座が破損する
。この場合に、半導体チップと台座との接合強度は十分
に高い。
When a semiconductor chip that has been peeled off from a glass pedestal due to pressure is observed, glass is adhered to the pedestal side. That is, in a semiconductor pressure sensor, the pedestal is not damaged due to peeling of the bonded portion between the pedestal and the semiconductor chip, but the pedestal is damaged due to stress being concentrated on a specific portion of the pedestal. In this case, the bonding strength between the semiconductor chip and the pedestal is sufficiently high.

【0022】つまり、従来の半導体圧力センサにおいて
は、図5に示すように、台座41の圧力導入孔42を介
してダイヤフラム44に圧力が印加されると、ダイヤフ
ラム44は破線で示すように変形する。そうすると、凹
部44aの縁部(図中矢印Aで示す部分)に応力が集中
する。これにより、この部分のガラス(台座41)が破
損して、半導体チップ43が台座41から剥離する。
That is, in the conventional semiconductor pressure sensor, as shown in FIG. 5, when pressure is applied to the diaphragm 44 through the pressure introduction hole 42 of the pedestal 41, the diaphragm 44 deforms as shown by the broken line. . As a result, stress concentrates on the edge of the recess 44a (the portion indicated by arrow A in the figure). As a result, the glass (pedestal 41) in this portion is damaged, and the semiconductor chip 43 is peeled off from the pedestal 41.

【0023】一方、本発明に係る半導体圧力センサにお
いては、例えば図6に示すように、台座45の圧力導入
孔46の面積が半導体チップ47に設けられた凹部48
aの開口面積に比して大きいため、圧力によりダイヤフ
ラム48が変形しても、応力が集中する部分(図中矢印
Bで示す部分)が半導体チップ47と台座45との接合
部分から離隔している。これにより、台座45の破損が
抑制できて、半導体圧力センサの耐圧が従来に比して向
上する。従って、本発明に係る半導体圧力センサは、圧
力測定範囲が広い。
On the other hand, in the semiconductor pressure sensor according to the present invention, for example, as shown in FIG.
Since the area of the opening is large compared to the opening area of a, even if the diaphragm 48 is deformed by pressure, the part where stress is concentrated (the part indicated by arrow B in the figure) is separated from the joint part between the semiconductor chip 47 and the pedestal 45. There is. As a result, damage to the pedestal 45 can be suppressed, and the withstand pressure of the semiconductor pressure sensor is improved compared to the conventional one. Therefore, the semiconductor pressure sensor according to the present invention has a wide pressure measurement range.

【0024】[0024]

【実施例】次に、本発明の実施例について添付の図面を
参照して説明する。
Embodiments Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

【0025】図1は本発明の第1の実施例に係る半導体
圧力センサを示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a semiconductor pressure sensor according to a first embodiment of the present invention.

【0026】ステム1上にはガラス製の台座2が接合さ
れている。このステム1にはその上面から下面に貫通す
る圧力導入孔4が設けられている。また、台座2には、
圧力導入孔4に整合する位置に、その上面から下面に貫
通する圧力導入孔3が設けられている。更に、ステム1
の下面側には、圧力導入孔4に整合して、測定媒体導入
管5が配設されている。
A glass pedestal 2 is bonded onto the stem 1. This stem 1 is provided with a pressure introduction hole 4 penetrating from its upper surface to its lower surface. Also, on pedestal 2,
A pressure introduction hole 3 is provided at a position aligned with the pressure introduction hole 4 and penetrates from the upper surface to the lower surface. Furthermore, stem 1
A measuring medium introducing pipe 5 is arranged on the lower surface side of the measuring medium in alignment with the pressure introducing hole 4 .

【0027】台座2上にはシリコンチップ6が接合され
ている。このシリコンチップ6の下面側の中央には凹部
7aが形成されており、これによりシリコンダイヤフラ
ム7が設けられている。なお、圧力導入孔3の直径は、
凹部7aの開口部の直径よりも大きく設定されている。
A silicon chip 6 is bonded onto the pedestal 2. A recess 7a is formed in the center of the lower surface of the silicon chip 6, and a silicon diaphragm 7 is provided thereby. Note that the diameter of the pressure introduction hole 3 is
The diameter is set larger than the diameter of the opening of the recess 7a.

【0028】ダイヤフラム7の上面にはピエゾ素子(図
示せず)が設けられている。そして、このピエゾ素子の
電極は、金属細線8を介して接続ピン9に電気的に接続
されている。この接続ピン9はステム1を挿通し、ステ
ム1の下方に導出している。また、ステム1上にはキャ
ップ10が配設されており、シリコンチップ6及び台座
2等はこのキャップ10内に収納されている。
A piezo element (not shown) is provided on the upper surface of the diaphragm 7. The electrodes of this piezo element are electrically connected to connection pins 9 via thin metal wires 8. This connecting pin 9 is inserted through the stem 1 and led out below the stem 1. Further, a cap 10 is disposed on the stem 1, and the silicon chip 6, the pedestal 2, etc. are housed within this cap 10.

【0029】本実施例においては、圧力導入孔3の直径
が凹部7aの開口部の直径に比して大きい。このため、
測定媒体からの圧力が測定媒体導入管5を介してダイヤ
フラム7に印加された場合に応力が集中する部分(即ち
、凹部7aの縁部)が接合部分から離隔しており、これ
により台座2の破損を回避することができる。従って、
本実施例に係る半導体圧力センサは、従来に比して耐圧
が高く、測定範囲が広い。
In this embodiment, the diameter of the pressure introduction hole 3 is larger than the diameter of the opening of the recess 7a. For this reason,
When the pressure from the measurement medium is applied to the diaphragm 7 through the measurement medium introduction pipe 5, the part where stress is concentrated (i.e., the edge of the recess 7a) is separated from the joint part, so that the pedestal 2 Damage can be avoided. Therefore,
The semiconductor pressure sensor according to this embodiment has a higher withstand pressure and a wider measurement range than conventional ones.

【0030】上述の構造の半導体圧力センサを実際に製
造してシリコンチップと台座との剥離強度を測定した。 その結果、剥離強度は 150乃至200kg/cm2
 であった。 一方、図4に示す従来構造の圧力センサを製造し、その
シリコンチップと台座との剥離強度を測定した。その結
果、剥離強度は30乃至40kg/cm2 であった。 一般的には、圧力センサはフルスケールの1.5 倍の
耐圧を保証する必要がある。このため、従来の半導体圧
力センサではフルスケールが約20乃至30kg/cm
2 程度であるのに対し、本実施例に係る圧力センサは
フルスケールを約 100kg/cm2 以上とするこ
とができる。
A semiconductor pressure sensor having the above structure was actually manufactured and the peel strength between the silicon chip and the pedestal was measured. As a result, the peel strength was 150 to 200 kg/cm2.
Met. On the other hand, a pressure sensor having the conventional structure shown in FIG. 4 was manufactured, and the peel strength between the silicon chip and the pedestal was measured. As a result, the peel strength was 30 to 40 kg/cm2. Generally, a pressure sensor must guarantee a pressure resistance of 1.5 times the full scale. For this reason, the full scale of conventional semiconductor pressure sensors is approximately 20 to 30 kg/cm.
2, whereas the pressure sensor according to this embodiment can have a full scale of approximately 100 kg/cm2 or more.

【0031】図2は本発明の第2の実施例に係る半導体
圧力センサの台座及びシリコンチップを示す断面図であ
る。
FIG. 2 is a sectional view showing a pedestal and a silicon chip of a semiconductor pressure sensor according to a second embodiment of the present invention.

【0032】本実施例が第1の実施例と異なる点は、台
座12に設けられた圧力導入孔13の形状が異なること
にある。
This embodiment differs from the first embodiment in that the shape of the pressure introduction hole 13 provided in the pedestal 12 is different.

【0033】即ち、本実施例においては、ガラス製の台
座12に設けられた圧力導入孔13のシリコンチップ1
6側の端部の部分が拡大されている。一方、シリコンチ
ップ16には、圧力導入孔13に整合する位置に凹部1
7aを形成することによりダイヤフラム17が設けられ
ている。そして、台座12の圧力導入孔13の面積は、
シリコンチップ16に設けられた凹部17aの開口面積
に比して大きく設定されている。
That is, in this embodiment, the silicon chip 1 in the pressure introduction hole 13 provided in the glass pedestal 12 is
The end portion on the 6th side is enlarged. On the other hand, the silicon chip 16 has a recess 1 at a position aligned with the pressure introduction hole 13.
A diaphragm 17 is provided by forming 7a. The area of the pressure introduction hole 13 of the pedestal 12 is
It is set larger than the opening area of the recess 17a provided in the silicon chip 16.

【0034】本実施例においても、圧力が印加された場
合に応力が集中する部分(凹部17aの縁部)がシリコ
ンチップ16と台座12との接合部分から離隔している
ため、第1の実施例と同様の効果を得ることができる。
In this embodiment as well, the part where stress is concentrated when pressure is applied (the edge of the recess 17a) is separated from the joint part between the silicon chip 16 and the pedestal 12. The same effect as in the example can be obtained.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上説明したように本発明においては、
台座の圧力導入孔の面積がシリコンチップの凹部の開口
面積に比して大きく設定されているから、圧力の印加に
よる台座の破損を抑制できる。このため、本発明に係る
半導体圧力センサは、耐圧が高くて圧力測定範囲が広い
[Effects of the Invention] As explained above, in the present invention,
Since the area of the pressure introduction hole of the pedestal is set larger than the opening area of the recess of the silicon chip, damage to the pedestal due to the application of pressure can be suppressed. Therefore, the semiconductor pressure sensor according to the present invention has a high withstand pressure and a wide pressure measurement range.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の第1の実施例に係る半導体圧力センサ
を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a semiconductor pressure sensor according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施例に係る半導体圧力センサ
の台座及びシリコンチップを示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a pedestal and a silicon chip of a semiconductor pressure sensor according to a second embodiment of the present invention.

【図3】従来の半導体圧力センサの一例を示す断面図で
ある。
FIG. 3 is a sectional view showing an example of a conventional semiconductor pressure sensor.

【図4】従来の半導体圧力センサの他の例を示す断面図
である。
FIG. 4 is a sectional view showing another example of a conventional semiconductor pressure sensor.

【図5】従来の半導体圧力センサにおける破損の発生を
示す模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing the occurrence of damage in a conventional semiconductor pressure sensor.

【図6】本発明に係る半導体圧力センサの作用効果を示
す模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram showing the effects of the semiconductor pressure sensor according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,31;ステム 2,12,32,41,45;台座 3,4,13,33,34,42,46;圧力導入孔5
,35;測定媒体導入管 6,16,36,43,47;シリコンチップ7,17
,23,25,37,44,48;ダイヤフラム 7a,17a,37a,44a,48a;凹部8,29
,38;金属細線 9,26,39;接続ピン 10,40;キャップ 21;金属容器 28;シリコンオイル
1, 31; Stem 2, 12, 32, 41, 45; Pedestal 3, 4, 13, 33, 34, 42, 46; Pressure introduction hole 5
, 35; measurement medium introduction tube 6, 16, 36, 43, 47; silicon chip 7, 17
, 23, 25, 37, 44, 48; diaphragm 7a, 17a, 37a, 44a, 48a; recess 8, 29
, 38; thin metal wires 9, 26, 39; connection pins 10, 40; cap 21; metal container 28; silicone oil

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  圧力導入孔が設けられた台座と、前記
圧力導入孔に整合する位置に凹部を形成することにより
ダイヤフラムが設けられこのダイヤフラムの周辺部で前
記台座に接合された半導体チップとを有し、前記圧力導
入孔の面積は前記凹部の開口面積に比して大きいことを
特徴とする半導体圧力センサ。
1. A pedestal provided with a pressure introduction hole, a diaphragm provided by forming a recess at a position aligned with the pressure introduction hole, and a semiconductor chip bonded to the pedestal around the periphery of the diaphragm. a semiconductor pressure sensor, wherein the area of the pressure introduction hole is larger than the opening area of the recess.
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