JPH04369847A - Semiconductor assembly - Google Patents

Semiconductor assembly

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JPH04369847A
JPH04369847A JP14620891A JP14620891A JPH04369847A JP H04369847 A JPH04369847 A JP H04369847A JP 14620891 A JP14620891 A JP 14620891A JP 14620891 A JP14620891 A JP 14620891A JP H04369847 A JPH04369847 A JP H04369847A
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JP
Japan
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engagement surface
die
base
planar engagement
planar
Prior art date
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Pending
Application number
JP14620891A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Jerrold L King
ジェロルド・エル・キング
Jerry M Brooks
ジェリー・エム・ブルックス
Warren M Farnworth
ウォーレン・エム・ファーンワース
George P Mcgill
ジョージ・ピー・マクギル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Micron Technology Inc
Original Assignee
Micron Technology Inc
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Publication date
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  • Structures For Mounting Electric Components On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

PURPOSE: To provide a semiconductor assembly utilizing an elastomer sheet having anisotropic conductivity as parts of an interconnection between at least one die (wafer) and a plurality of externally accessible edge part conductors. CONSTITUTION: A semiconductor assembly includes at least one die 10 having substantially flat first and second engaging surfaces and an outer side edge part defining a die configuration. A base part with an opening formed and receives a die. A mutual connection plate 15 has at least one substantially flat engaging surface facing to the substantially flat first engaging surface of the die received in the substrate opening. At least one of conductive pads 12, 16 on the engaging surface of the flat plate is spatially aligned or positioned with respect to a corresponding conductive pad on the first engaging surface of the die. A sheet of an elastomer material 20 having anisotropic conductivity resides between the first engaging surface of the die and the engaging surface of the mutual connection flat.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は半導体ダイ(ウェーハ)
のパッケージ化に関する。本発明は異方性の導電性をも
ったエラストマーシートを1つ以上のダイ(ウェーハ)
と複数個の外部接近可能な縁部導体との間のインタコネ
クトの部品として利用する半導体組立体に関する。
[Industrial Application Field] The present invention applies to semiconductor die (wafer)
Regarding packaging. The present invention uses an anisotropically conductive elastomer sheet to attach to one or more dies (wafers).
and a plurality of externally accessible edge conductors.

【0002】0002

【従来の技術】1つ以上のダイを含む半導体組立体は典
型的には関連したプリント回路板へはんだ付けられ又は
別の方法で接続されることができる必要な電気接点又は
コネクタを提供するように各ダイについて個々のパッケ
ージ化を必要とする。電子機器産業による新しいコネク
タ形式の探究は高い接点パッド密度、高い周波数動作、
減少された寸法、低コスト、及び交換の容易さを有する
接続の必要によって駆り立てられている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Semiconductor assemblies that include one or more die are typically soldered or otherwise connected to an associated printed circuit board to provide the necessary electrical contacts or connectors. requires individual packaging for each die. The electronics industry's search for new connector formats is driven by high contact pad densities, high frequency operation,
Driven by the need for connections with reduced size, low cost, and ease of replacement.

【0003】0003

【発明が解決しようとする課題】本発明は単一のインラ
イン記憶モジュール(SIMM)を再設計する努力から
生じた。そのようなモジュールでは、複数個の集積記憶
回路が通常の縁部導体へ導くトレースを含む基板上で相
互接続され、該縁部導体はモジュールがコンピュータ又
は他の特別の応用機器内の親板中へ嵌め込まれることを
可能にする。集積回路に対する現在のパッケージ化の要
求は外部接点を有する個々のパッケージ内にダイを配置
することを含む。パッケージはプリント回路板へしっか
り取付けられねばならず、集積回路接点はプリント回路
板のパッド及びトレースへの相互接続を行うためにはん
だ付けされねばならない。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention arose from an effort to redesign the single inline memory module (SIMM). In such modules, a plurality of integrated storage circuits are interconnected on a substrate containing traces leading to conventional edge conductors, where the module is connected to a motherboard in a computer or other special application. allows it to be fitted into the Current packaging requirements for integrated circuits include placing the die in individual packages with external contacts. The package must be securely attached to the printed circuit board, and the integrated circuit contacts must be soldered to make interconnections to the printed circuit board pads and traces.

【0004】現行のSIMM技術の一般的な例が図2に
示されている。多数のパッケージ化された記憶集積回路
27が支持プリント回路板13に沿ってインライン取付
けされている。集積回路接点28は板13上のトレース
29へはんだ付けされ且つ一列の縁部導体14へ導かれ
る。そのようなモジュールの生産は図2に示した板の組
立を必要とするのみならず、個々の集積回路自体のパッ
ケージ化及び組立を必要とする。SIMMの製作は集積
回路及び回路板13の回路構成を係止し且つ接続するた
めの幾つかのステップを必要とする。完成された組立体
内での交換回路27の取り替えは困難であるのみならず
時間を消費する。
A general example of current SIMM technology is shown in FIG. A number of packaged storage integrated circuits 27 are mounted in-line along supporting printed circuit board 13. Integrated circuit contacts 28 are soldered to traces 29 on board 13 and routed to a row of edge conductors 14. Production of such modules not only requires assembly of the plates shown in FIG. 2, but also requires packaging and assembly of the individual integrated circuits themselves. Fabrication of SIMMs requires several steps to lock and connect the integrated circuit and circuitry on circuit board 13. Replacing the replacement circuit 27 within the completed assembly is not only difficult but time consuming.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】SIMM応用機器に制限
されないが、本発明は、1つの表面に沿って導電性パッ
ドを有する個々のダイとダイの導電性パッドと位置合せ
状態に整列された対応する導電性パッドを有する相互接
続板との間に多数の電気的経路を形成するために異方性
の導電性をもったエラストマーシートを利用する。パッ
ド及び相互接続板は介在されたエラストマー材料のシー
トを圧縮し、所望の電気的接続を完成する。相互接続板
は通常の縁部コネクタ要素へ導くトレースを含むことが
できる。これらのダイを含むその結果生じた物理的なモ
ジュールは構造が比較的簡単である。それは個々のダイ
のパッケージ化を必要とせず、且つモジュール内でのダ
イの取り替えをこれが必要となる時に容易にする。
SUMMARY OF THE INVENTION Although not limited to SIMM applications, the present invention provides a method for each die having conductive pads along one surface and a corresponding one aligned in registration with the conductive pads of the die. Anisotropically conductive elastomeric sheets are utilized to form multiple electrical paths between interconnect plates having conductive pads. The pads and interconnect plates compress the intervening sheets of elastomeric material to complete the desired electrical connections. The interconnect plate may include traces leading to conventional edge connector elements. The resulting physical module containing these dies is relatively simple in construction. It does not require packaging of individual dies and facilitates replacement of dies within a module when this is required.

【0006】本発明は1つ以上の形式の半導体ダイの多
チップ組立体に適用されることができる。ダイは別々の
ユニットとして又はウェーハの形で利用されることがで
きる。本書との関連においては、用語「ダイ」は、ウェ
ーハ全体から並びに集積回路構成のウェーハ全体から単
独にされた個々のチップを包含することを意図される。 本発明との関連においては、多数のダイはそのようなダ
イへ適用されるワイヤ結合、テープ自動結合又は他の通
常の相互接続技術なしで高密度パッケージ化で組立てら
れることができる。本発明はダイを相互接続板に対して
位置合せするための新規な構造を含む。
The present invention can be applied to multi-chip assemblies of more than one type of semiconductor die. Dies can be utilized as separate units or in wafer form. In the context of this document, the term "die" is intended to encompass individual chips singulated from an entire wafer as well as from an entire wafer of integrated circuit configurations. In the context of the present invention, large numbers of die can be assembled in high density packaging without wire bonding, tape autobonding or other conventional interconnection techniques applied to such die. The present invention includes a novel structure for aligning the die with respect to the interconnect plate.

【0007】本発明の好適な実施例が添付図面に示され
る。
A preferred embodiment of the invention is illustrated in the accompanying drawings.

【0008】[0008]

【実施例】本発明に従えば、半導体組立体は、ほぼ平ら
な第1及び第2の係合表面、それらの間に画成された厚
さを有し、且つダイ外側形状を画成する外側縁部を有し
、第1の係合表面が1つ以上の導電性パッドを含むダイ
と、開口を中に形成して有する基部であって、基部開口
がダイ外側形状に相補した開口形状を画成する周囲縁部
を有し、開口がダイを受入れ且つそれと係合するように
寸法付けられ、ダイがそのように基部開口内に受入れら
れ、開口縁部がダイ縁部と係合してダイをダイの第1の
平らな係合表面と平行な平面で選択された配向で空間的
に固定する基部と、基部開口内に受入れられたダイの第
1の平らな係合表面に対面する少なくとも1つのほぼ平
らな係合表面を有する相互接続板であって、該板の平ら
な係合表面がその上に形成された1つ以上の導電性パッ
ド及び導電性トレースを有し、板の平らな係合表面の少
なくとも1つの導電性パッドが基部開口内に受入れられ
たダイの第1の係合表面上の1つの導電性パッドと空間
的に整列された相互接続板と、シートの厚さを横切る方
向に導電性を有する異方性の導電性を有するエラストマ
ー材料のシートであって、該シートがダイの第1の相互
係合表面と相互接続板の相互係合表面との間で基部と相
互接続板との間に介在されたシートと、ダイの少なくと
も1つの導電性パッドを異方性の導電性を有するエラス
トマー材料のシートを通して相互接続板の少なくとも1
つの導電性パッドと導電的に係合するようにダイ及び板
を空間的に位置合せ状態で互いの方へ押圧するために基
板及び相互接続板を係合するクランプ手段とを含む。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In accordance with the present invention, a semiconductor assembly has substantially planar first and second engagement surfaces, a defined thickness therebetween, and defines a die outer shape. a die having an outer edge and a first engagement surface including one or more conductive pads; and a base having an aperture formed therein, the base aperture having an aperture shape complementary to the die outer shape. a peripheral edge defining a base aperture, the aperture being dimensioned to receive and engage the die, the die being so received within the base aperture, the aperture edge engaging the die edge; a base for spatially fixing the die in a selected orientation in a plane parallel to the first planar engagement surface of the die, and facing the first planar engagement surface of the die received within the base opening; an interconnection plate having at least one substantially planar engagement surface, the planar engagement surface of the plate having one or more conductive pads and conductive traces formed thereon; an interconnect plate with at least one conductive pad on the flat engagement surface of the sheet spatially aligned with one conductive pad on the first engagement surface of the die received within the base aperture; a sheet of anisotropically conductive elastomeric material having cross-thickness conductivity between the first interengaging surface of the die and the interengaging surface of the interconnect plate; a sheet interposed between the base and the interconnect plate and at least one conductive pad of the die through the sheet of elastomeric material having anisotropic conductivity;
and clamping means for engaging the substrate and interconnect plate to urge the die and plate toward each other in spatial alignment so as to conductively engage the two conductive pads.

【0009】本発明は最初に本発明による組立体の基本
的要素を概略的に例示する図1及び図12〜図15を参
照して基本的に説明される。これらの図面に示されたパ
ッケージ化された半導体組立体はほぼ平らな第1の係合
表面60及びほぼ平らな第2の係合表面61(図13及
び図14)を有するダイ10の周りに設計され且つそれ
らの間に画成された厚さを有する。ダイ10はダイの外
側形状を画成する外側縁部62を有する。図示した実施
例では、外側形状は正方形または矩形の形である。第1
の係合表面60は1つ以上の導電性パッドを含み、単一
の導電性パッド12だけが図面の明瞭化のために図12
〜図15に例示されている。ダイ10は所望の形式の半
導体ダイであることができる。それは単一のユニットで
あることができる。より一般的には、パッケージ化され
た組立体は複数個のダイ10を含み、該ダイは互いに同
じであることができ又は種々の集積回路及び/又は構成
要素及び/又は形状を含むことができる。
The invention will first be explained in principle with reference to FIGS. 1 and 12-15, which schematically illustrate the basic elements of an assembly according to the invention. The packaged semiconductor assembly shown in these figures includes a die 10 having a substantially planar first engagement surface 60 and a substantially planar second engagement surface 61 (FIGS. 13 and 14). designed and have thicknesses defined therebetween. Die 10 has an outer edge 62 that defines the outer shape of the die. In the illustrated embodiment, the outer shape is square or rectangular in shape. 1st
The engagement surface 60 of includes one or more conductive pads, with only a single conductive pad 12 shown in FIG. 12 for clarity of the drawing.
~Illustrated in FIG. Die 10 can be any desired type of semiconductor die. It can be a single unit. More generally, the packaged assembly includes a plurality of dies 10, which can be identical to each other or can include a variety of integrated circuits and/or components and/or shapes. .

【0010】ダイ10はそれぞれの開口63を中に形成
して有する支持ハウジング又は基部11内に取付けられ
る。基部開口63は周辺縁部64(図13及び図14)
を有し、該周辺縁部はダイの縁部62によって画成され
たダイ10の外側形状に相補する開口63の形状を画成
する。開口縁部64は拡大の程度のために図12で見る
ことができない。なお、開口63はダイ10をとまり嵌
め状態で受入れ且つそれと係合するように寸法付けられ
る。特に、ダイ10は開口縁部64がダイ縁部62と係
合するように基部開口63内に受入れられ、ダイをダイ
の第1の平らな係合表面60と平行な平面において選択
された配向で空間的に固定する。好適な嵌め合いはダイ
を受入れるに充分なだけ大きいが、開口63内でのダイ
10の感知可能な運動を妨げるに充分にとまり嵌めにな
っている。
Dies 10 are mounted within a support housing or base 11 having respective apertures 63 formed therein. The base opening 63 has a peripheral edge 64 (FIGS. 13 and 14).
, the peripheral edge defining the shape of the aperture 63 complementary to the outer shape of the die 10 defined by the edge 62 of the die. Opening edge 64 is not visible in FIG. 12 due to the degree of magnification. Note that opening 63 is sized to receive and engage die 10 in a snug fit. In particular, the die 10 is received within the base aperture 63 such that the aperture edge 64 engages the die edge 62, positioning the die in a selected orientation in a plane parallel to the first planar engagement surface 60 of the die. to fix it spatially. The preferred fit is large enough to receive the die, but sufficiently snug to prevent appreciable movement of the die 10 within the opening 63.

【0011】更に詳しくは、基部11は第1の平らな係
合表面70と対向した第2の平らな係合表面72とを含
む。基部開口63は基部の第1の平らな係合表面70か
ら基部11中へ形成された凹部の形である。該凹部は平
らな凹部底表面75(図13)を有し、該凹部底表面は
ダイ10の厚さにほぼ等しい凹部又は開口の深さを画成
する(図15)。ダイ10は凹部又は開口63内に受入
れられ、ダイの第2の平らな係合表面61は平らな凹部
底表面75に接して受入れられ、ダイの第1の平らな係
合表面60は基部の第1の平らな係合表面70とほぼ同
一平面になる(図15)。
More particularly, base 11 includes a first planar engagement surface 70 and an opposing second planar engagement surface 72 . Base opening 63 is in the form of a recess formed into base 11 from base first flat engagement surface 70 . The recess has a flat recess bottom surface 75 (FIG. 13) that defines a recess or opening depth approximately equal to the thickness of die 10 (FIG. 15). The die 10 is received within the recess or aperture 63, the die second flat engagement surface 61 is received against the flat recess bottom surface 75, and the die first flat engagement surface 60 is received against the base flat recess bottom surface 75. It is substantially coplanar with the first flat engagement surface 70 (FIG. 15).

【0012】また、パッケージ化された半導体組立体は
相互接続板15を含む。板15は対向した平らな第1の
係合表面66及び第2の係合表面67を有する。第1の
平らな係合表面66は基部開口63内に受入れられたダ
イ10の第1の平らな係合表面60に対して対面する。 板の第1の平らな係合表面66はダイ10に対して空間
的に位置合せされた領域69(図1)を有する。領域6
9は1つ以上の導電性パッド16と関連した導電性トレ
ース17とを有する。図面から明らかなように、板の平
らな係合表面66上の図1に示された導電性パッド16
は開口63内に受入れられたダイ10の第1の係合表面
60上の導電性パッド12と空間的に整列される。導電
性トレース17は縁部コネクタ18の通常のパターンの
形(図1)で1つの領域から別の領域へ又は入力/出力
接続へ導くことができる。トレース17の部分はそれら
のそれぞれの経路に沿う短絡を防止するために電気絶縁
材料の層19(図12)で覆われることができる。
The packaged semiconductor assembly also includes an interconnect plate 15. Plate 15 has opposed planar first engagement surfaces 66 and second engagement surfaces 67 . First planar engagement surface 66 faces first planar engagement surface 60 of die 10 received within base opening 63 . The first planar engagement surface 66 of the plate has a region 69 (FIG. 1) spatially aligned with the die 10. Area 6
9 has one or more conductive pads 16 and associated conductive traces 17. As is apparent from the drawings, the conductive pad 16 shown in FIG. 1 on the flat engagement surface 66 of the plate.
are spatially aligned with conductive pads 12 on first engagement surface 60 of die 10 received within aperture 63 . The conductive traces 17 can be led from one area to another in the form of a conventional pattern of edge connectors 18 (FIG. 1) or to input/output connections. Portions of traces 17 may be covered with a layer of electrically insulating material 19 (FIG. 12) to prevent short circuits along their respective paths.

【0013】ダイ10及び板15の間に、符号20で全
体的に示された異方性の導電性をもったエラストマー材
料のシートが介在される。エラストマーのシート20は
商業的に入手可能な製品である。それはその厚さを横切
る方向に導電性を有し、その幅及び長さを横切る方向に
非導電性を有する。この形式の材料は一般に「エラスト
マー単軸導電性インタコネクト」又はECPIとして知
られる。ダイ10及び板15の間の適当なインタコネク
ト材料の例は、応用物理誌の1988年11月15日号
の6008〜6010頁にジンほかによる「新しいZ方
向異方性の導電性複合材料」と題する論文で説明されて
おり、該論文は参考としてここに組入れられる。同等の
導電特性を有する他の入手可能な材料が特に説明された
材料の代わりに置き換えられることができる。
Interposed between die 10 and plate 15 is a sheet of anisotropically conductive elastomeric material, indicated generally at 20. Elastomeric sheet 20 is a commercially available product. It is conductive across its thickness and non-conductive across its width and length. This type of material is commonly known as "elastomeric uniaxial conductive interconnect" or ECPI. Examples of suitable interconnect materials between die 10 and plate 15 are given in "New Z-Direction Anisotropic Conductive Composite Materials" by Jin et al. in the November 15, 1988 issue of Applied Physics, pages 6008-6010. , which is incorporated herein by reference. Other available materials with equivalent conductive properties can be substituted for the specifically described materials.

【0014】図示した実施例では、エラストマーのシー
ト20はエラストマーの絶縁材料26によって分離され
た導電性球体25の平行な縦列で構成される(図12)
。球体25の各縦列又はチェーンは絶縁材料26を通る
導電性経路を形成し、例えば導電性パッド12と導電性
パッド16とを電気的に相互接続する。球体25の縦列
の密度は空間的に位置合せされたパッド12、16の各
対を横切る多数の導電性経路が存在するようにすべきで
ある。
In the illustrated embodiment, the elastomeric sheet 20 is comprised of parallel columns of conductive spheres 25 separated by elastomeric insulating material 26 (FIG. 12).
. Each column or chain of spheres 25 forms a conductive path through insulating material 26, for example electrically interconnecting conductive pads 12 and 16. The density of the columns of spheres 25 should be such that there are multiple conductive paths across each pair of spatially aligned pads 12,16.

【0015】ダイ10及び板15を空間的に位置合せ状
態で互いの方へ押圧するために基部11及び相互接続板
15を係合するためのクランプ手段が設けられ、異方性
の導電性をもつエラストマー材料のシート20を通して
ダイ10の少なくとも1つの導電性パッド12を相互接
続板15の少なくとも1つの導電性パッド16と導電的
に係合する。換言すれば、エラストマーのシート20は
好ましくはそれと接触状態になる対向する表面の小さな
表面変化を吸収するようにダイ10及び板15の間で圧
縮される。その結果生じた電気的接続はトレース17を
通して導体18へ導き、該導体は通常のコネクタ技術に
よって外側回路板へ又は他の電子装置(図示せず)へ取
付けられることができる。図示した実施例では、クラン
プ手段は一対の剛固な外方裏当て板22を含む。一方の
板22は相互接続板15の第2の平らな係合表面67の
上に重なり、その他方の板は基部11の平らな係合表面
72の上に重なる。板12を互いに対して内方へ圧縮す
るための手段は、他の実施例に関する引き続いての検討
から明らかになるようにねじ又は他のクランプによって
提供されることができた。
Clamping means are provided for engaging the base 11 and the interconnect plate 15 to force the die 10 and the plate 15 toward each other in spatial alignment and to provide anisotropic electrical conductivity. At least one conductive pad 12 of the die 10 is conductively engaged with at least one conductive pad 16 of the interconnect plate 15 through a sheet 20 of elastomeric material. In other words, the elastomeric sheet 20 is preferably compressed between the die 10 and the plate 15 so as to absorb small surface variations of the opposing surfaces that come into contact with it. The resulting electrical connection is routed through traces 17 to conductors 18, which can be attached to an external circuit board or to other electronic devices (not shown) by conventional connector techniques. In the illustrated embodiment, the clamping means includes a pair of rigid outer backing plates 22. One plate 22 overlies the second flat engagement surface 67 of the interconnect plate 15 and the other plate overlies the flat engagement surface 72 of the base 11. Means for compressing the plates 12 inwardly relative to each other could be provided by screws or other clamps, as will become clear from the subsequent discussion of other embodiments.

【0016】図3〜図5は単一インライン記憶モジュー
ル(SIMM)の電子記憶装置の生産に対する本発明の
応用を示す。そのようなモジュールはパーソナルコンピ
ュータで記憶拡張板として使用される。それらは通常の
縁部導体による親板への取付けのために支持回路板へ取
付けられた複数個の記憶回路を含む。この開示に従って
構成された単一インライン記憶モジュールは基板36(
上述した相互接続板に対応する)と凹んだ開口37を中
に形成して有する重なる圧力板30(上述の基板に対応
する圧力板30)とを含むことができた。圧力板30は
基板36の1つの縁部以外の全てを覆い、基板36上に
形成された縁部導体34を関連した回路板又は通常のコ
ネクタ(図示せず)への相互接続のために露出したまま
にする。所望の記憶回路構成要素を含むダイ31の列は
圧力板30の1つの係合表面を横切って形成された相補
した凹部37内に個々に配置されることができる。介在
されたエラストマーのインタコネクトが33で図示され
ている。適当な締着具(図示せず)が圧力板30及び基
板36を結合し、適当な圧縮力をインタコネクト33へ
加えることができた。モジュール全体は接点のはんだ付
け又は結合をせずに容易に構成されることができる。 ダイ31は永久的な取付具なしで相補した凹部37内に
支持されることができ且つ試験、修理又は取り替えのた
めに容易に相互交換することができる。
3-5 illustrate the application of the present invention to the production of single in-line memory module (SIMM) electronic storage devices. Such modules are used as storage expansion boards in personal computers. They include a plurality of memory circuits attached to a supporting circuit board for attachment to the mother board by conventional edge conductors. A single in-line storage module constructed in accordance with this disclosure includes substrate 36 (
(corresponding to the interconnect plate described above) and an overlapping pressure plate 30 (corresponding to the substrate described above) having a recessed opening 37 formed therein. Pressure plate 30 covers all but one edge of board 36, exposing edge conductors 34 formed on board 36 for interconnection to an associated circuit board or conventional connector (not shown). Leave it as is. Rows of dies 31 containing desired storage circuitry components can be individually placed within complementary recesses 37 formed across one engagement surface of pressure plate 30. An interposed elastomeric interconnect is illustrated at 33. Appropriate fasteners (not shown) could couple pressure plate 30 and substrate 36 to apply appropriate compressive forces to interconnect 33. The entire module can be easily constructed without soldering or bonding contacts. Die 31 can be supported within complementary recesses 37 without permanent fixtures and can be easily interchanged for testing, repair or replacement.

【0017】図6及び図7は代替的な構造を示す。この
組立体では、基部相互接続板40は縁部導体41を設け
ている。圧力板は3つの構成要素で、即ちフレーム42
、穿孔された挿入体43及び剛固な裏当てシート又は板
44で構成される。穿孔された挿入体43はそのそれぞ
れの対向する平らな係合表面の間で挿入体43全体を通
して形成された孔又は開口79を含む。種々の孔79が
その中に位置決めされたそれぞれの個々のダイ47と形
状及び寸法で相補している。基体43の厚さはそれぞれ
のダイ厚さとほぼ同じである。エラストマーのインタコ
ネクト45が穿孔された挿入体43内に位置決めされた
ダイ47と支持相互接続基体40との間に介在される。 基体40は導電性パッドと縁部コネクタへ導くトレース
(図示せず)とを含む。ボルト46の形の締着具(図7
)が組立体の構成要素を構造的に接続し、それらを互い
に位置合せ状態で維持し且つ圧縮力をエラストマーのイ
ンタコネクト45へ加える。
FIGS. 6 and 7 show an alternative structure. In this assembly, base interconnect plate 40 is provided with edge conductors 41 . The pressure plate has three components: a frame 42;
, a perforated insert 43 and a rigid backing sheet or plate 44. Perforated insert 43 includes a hole or aperture 79 formed through insert 43 between its respective opposing planar engagement surfaces. The various holes 79 are complementary in shape and size to each individual die 47 positioned therein. The thickness of the substrate 43 is approximately the same as the thickness of each die. An elastomeric interconnect 45 is interposed between die 47 positioned within perforated insert 43 and supporting interconnect substrate 40 . Substrate 40 includes conductive pads and traces (not shown) leading to edge connectors. A fastener in the form of a bolt 46 (Fig.
) structurally connects the components of the assembly, maintains them in alignment with each other, and applies compressive force to the elastomeric interconnect 45.

【0018】図8〜図11はウェーハ全体を利用する実
施例を示す。これは多数の記憶回路チップを必要とする
応用機器に特に適用することができるが、他の形のチッ
プへ適用されることができる。図8に示す積層された半
導体組立体は多数の別々のチップ54と一体のウェーハ
51の形の対向した相互接続板とを含む回路ウェーハ5
0を含み、最初に縁部導体52へ導く導電性経路及びワ
イヤを含む。ウェーハ50を横切るウェーハフラット5
5は縁部コネクタ52をその後の組立のために露出した
ままにするように短く切り取られる。また、ウェーハ5
1は必要によりダイ及び/又は回路装置を含むことがで
きる。
FIGS. 8-11 illustrate embodiments that utilize the entire wafer. This is particularly applicable to applications requiring a large number of memory circuit chips, but can be applied to other types of chips. The stacked semiconductor assembly shown in FIG. 8 includes a circuit wafer 5 that includes a number of separate chips 54 and opposed interconnect plates in the form of an integral wafer 51.
0 and initially includes the conductive paths and wires leading to the edge conductor 52. Wafer flat 5 across wafer 50
5 is cut short to leave the edge connector 52 exposed for subsequent assembly. Also, wafer 5
1 may optionally include a die and/or circuit device.

【0019】2つのウェーハ50、51はエラストマー
のインタコネクト53の両側に取付けられ且つ外方裏当
て板56の凹部内で支持される(図8)。この実施例で
は、それぞれのチップ54の個々の取扱は必要とされな
い。使用可能なモジュール組立体中に記憶チップを高密
度で取付けることが低コストで達成されることができる
Two wafers 50, 51 are mounted on opposite sides of an elastomeric interconnect 53 and supported within a recess in an outer backing plate 56 (FIG. 8). In this embodiment, individual handling of each chip 54 is not required. High density mounting of storage chips in usable module assemblies can be achieved at low cost.

【0020】本発明は構造的な特徴に関して多少特別の
言語で説明された。しかしながら、本発明はここで開示
した手段及び構造が発明を実施する好適な形からなるの
で図示及び説明された特別の特徴に制限されないことは
理解されるべきである。それ故、本発明は均等の原理に
従って適当に解釈される特許請求の範囲の適正な範囲内
の発明の形及び修正のどれでも請求される。
The invention has been described in somewhat specific language with respect to structural features. However, it is to be understood that the invention is not limited to the specific features shown and described, since the instrumentalities and structures disclosed herein constitute preferred forms of carrying out the invention. The invention is therefore claimed in any of its forms and modifications within the proper scope of the appended claims appropriately interpreted in accordance with the doctrine of equivalents.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の基本的要素の分解概略斜視図。FIG. 1 is an exploded schematic perspective view of the basic elements of the invention.

【図2】前記「従来の技術」の項で説明した従来技術の
単一インライン記憶モジュール(SIMM)の概略平面
図。
FIG. 2 is a schematic plan view of the prior art single inline storage module (SIMM) described in the Prior Art section above.

【図3】本発明に従って作られたSIMMの分解斜視図
FIG. 3 is an exploded perspective view of a SIMM made in accordance with the present invention.

【図4】図3のSIMMの分解立面図。FIG. 4 is an exploded elevational view of the SIMM of FIG. 3.

【図5】図3の線5−5の位置で切った組立てられたS
IMMの拡大横断面図。
[Figure 5] Assembled S cut at the line 5-5 in Figure 3
An enlarged cross-sectional view of the IMM.

【図6】本発明の第2の実施例の分解斜視図。FIG. 6 is an exploded perspective view of a second embodiment of the invention.

【図7】図6の線7−7の位置で切った組立てられた図
6の構成要素の拡大横断面図。
7 is an enlarged cross-sectional view of the assembled components of FIG. 6 taken along line 7-7 of FIG. 6;

【図8】第3の実施例の組立てられた側面図。FIG. 8 is an assembled side view of the third embodiment.

【図9】図8の構造の平面図。FIG. 9 is a plan view of the structure of FIG. 8;

【図10】図8の線10−10に沿った断面図。FIG. 10 is a cross-sectional view taken along line 10-10 of FIG. 8.

【図11】ウェーハスケールが一体化されたウェーハの
平面図。
FIG. 11 is a plan view of a wafer with an integrated wafer scale.

【図12】図1の半導体組立体の基本的要素を示す拡大
分解破断断面図。
FIG. 12 is an enlarged exploded cross-sectional view showing the basic elements of the semiconductor assembly of FIG. 1;

【図13】図1の導体組立体の基本的要素を示す拡大分
解破断断面図であるが図12ほどには拡大されていない
図。
13 is an enlarged exploded cross-sectional view showing the basic elements of the conductor assembly of FIG. 1, but not as enlarged as FIG. 12;

【図14】図1、図12及び図13の組立体に組入れら
れた単一のダイ及び基板の拡大平面図。
FIG. 14 is an enlarged plan view of a single die and substrate assembled into the assembly of FIGS. 1, 12, and 13;

【図15】図1、図12及び図13の拡大図の若干の部
分の拡大破断断面図。
FIG. 15 is an enlarged cutaway sectional view of some portions of the enlarged views of FIGS. 1, 12, and 13;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10  ダイ    11  ハウジング又は基部  
  12、16  導電性パッド 15  相互接続板    17  導電性トレース 
   18  縁部コネクタ 19  電気絶縁材料の層 20  異方性の導電性を有するエラストマー材料のシ
ート 25  導電性球体    26  エラストマー絶縁
材料    30  圧力板 31、47  ダイ    34、41、52  縁部
導体    36  基板 37  開口    40  基部相互接続板    
42  フレーム 43  挿入体    44  裏当てシート又は板4
5、53  インタコネクト    46  ボルト 
   50  回路ウェーハ 51  ウェーハ    54  チップ    56
  外方裏当て板
10 die 11 housing or base
12, 16 conductive pad 15 interconnect board 17 conductive trace
18 Edge connector 19 Layer of electrically insulating material 20 Sheet of elastomeric material with anisotropic conductivity 25 Conductive spheres 26 Elastomeric insulating material 30 Pressure plate 31, 47 Die 34, 41, 52 Edge conductor 36 Substrate 37 Opening 40 Base interconnection plate
42 Frame 43 Insert 44 Backing sheet or plate 4
5, 53 interconnect 46 volts
50 circuit wafer 51 wafer 54 chip 56
outer backing plate

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  ほぼ平らな第1及び第2の係合表面、
それらの間に画成された厚さを有し、且つダイ外側形状
を画成する外側縁部を有し、第1の係合表面が1つ以上
の導電性パッドを含むダイと、開口を中に形成して有す
る基部であって、基部開口がダイ外側形状に相補した開
口形状を画成する周囲縁部を有し、開口がダイを受入れ
且つそれと係合するように寸法付けられ、ダイがそのよ
うに基部開口内に受入れられ、開口縁部がダイ縁部と係
合してダイをダイの第1の平らな係合表面と平行な平面
で選択された配向で空間的に固定する基部と、基部開口
内に受入れられたダイの第1の平らな係合表面に対面す
る少なくとも1つのほぼ平らな係合表面を有する相互接
続板であって、該板の平らな係合表面がその上に形成さ
れた1つ以上の導電性パッド及び導電性トレースを有し
、板の平らな係合表面の少なくとも1つの導電性パッド
が基部開口内に受入れられたダイの第1の係合表面上の
1つの導電性パッドと空間的に整列された相互接続板と
、シートの厚さを横切る方向に導電性を有する異方性の
導電性を有するエラストマー材料のシートであって、該
シートがダイの第1の相互係合表面と相互接続板の相互
係合表面との間で基部と相互接続板との間に介在された
シートと、ダイの少なくとも1つの導電性パッドを異方
性の導電性を有するエラストマー材料のシートを通して
相互接続板の少なくとも1つの導電性パッドと導電的に
係合するようにダイ及び板を空間的に位置合せ状態で互
いの方へ押圧するために基部及び相互接続板を係合する
クランプ手段とを含む半導体組立体。
1. First and second engagement surfaces that are substantially flat;
a die having an outer edge having a thickness defined therebetween and defining a die outer shape, the first engagement surface including one or more conductive pads; a base formed therein, the base aperture having a peripheral edge defining an aperture shape complementary to the die outer shape, the aperture being dimensioned to receive and engage the die; is so received within the base aperture and the aperture edge engages the die edge to spatially fix the die in a selected orientation in a plane parallel to the first planar engagement surface of the die. an interconnection plate having a base and at least one generally planar engagement surface facing a first planar engagement surface of a die received within the base opening, the planar engagement surface of the plate a first engagement of the die having one or more conductive pads and conductive traces formed thereon, the at least one conductive pad of the planar engagement surface of the plate being received within the base opening; a sheet of anisotropic electrically conductive elastomeric material having an interconnect plate spatially aligned with one conductive pad on a surface and electrically conductive in a direction across the thickness of the sheet; a sheet interposed between the base and the interconnect plate between the first interengaging surface of the die and the interengaging surface of the interconnect plate; and at least one conductive pad of the die. a base and a base for pressing the die and plate toward each other in spatial alignment so as to conductively engage at least one conductive pad of the interconnect plate through a sheet of elastomeric material having an electrical conductivity of and clamping means for engaging an interconnect plate.
【請求項2】  相互接続板がトレースへ動作可能に接
続された複数個の縁部導体を含む請求項1に記載された
半導体組立体。
2. The semiconductor assembly of claim 1, wherein the interconnect plate includes a plurality of edge conductors operably connected to the traces.
【請求項3】  相互接続板が1つの平らな係合表面に
対向する第2の平らな係合表面を含み、基体が平らな係
合表面を含み、組立体が相互接続板の第2の平らな係合
表面と基体の平らな係合表面との上に重なる剛固な裏当
て板を含む請求項1に記載された半導体組立体。
3. The interconnection plate includes a second planar engagement surface opposite the one planar engagement surface, the base includes the planar engagement surface, and the assembly includes a second planar engagement surface of the interconnection plate. The semiconductor assembly of claim 1 including a rigid backing plate overlying the planar engagement surface and the planar engagement surface of the substrate.
【請求項4】  基体が第1及び第2の係合表面とその
間に画成された厚さとを含み、基体開口が基体の第1及
び第2の係合表面の間で基体全体を通して延びる請求項
1に記載された半導体組立体。
4. The base body includes first and second engagement surfaces and a thickness defined therebetween, the base aperture extending through the base body between the first and second engagement surfaces of the base body. The semiconductor assembly described in item 1.
【請求項5】  相互接続板が1つの平らな係合表面に
対向する第2の平らな係合表面を含み、組立体が相互接
続板の第2の平らな係合表面と基体の第2の平らな係合
表面との上に重なる剛固な裏当て板を含む請求項4に記
載された半導体組立体。
5. The interconnection plate includes a second planar engagement surface opposite the one planar engagement surface, and the assembly includes a second planar engagement surface of the interconnection plate and a second planar engagement surface of the substrate. 5. The semiconductor assembly of claim 4 including a rigid backing plate overlying the flat engagement surface of the semiconductor assembly.
【請求項6】  基体が第1の平らな係合表面を含み、
基体開口が基体の第1の平らな係合表面から基体中へ形
成された凹部によって画成され、凹部が平らな凹部底表
面を有し、凹部がダイ厚さにほぼ等しい深さを有し、ダ
イが凹部内に受入れられ、ダイの第2の平らな係合表面
が平らな凹部底表面に接して受入れられ且つダイの第1
の平らな係合表面が基部の第1の平らな係合表面とほぼ
同一平面にある請求項1に記載された半導体組立体。
6. The substrate includes a first planar engagement surface;
a base opening defined by a recess formed into the base from the first flat engagement surface of the base, the recess having a flat recess bottom surface, and the recess having a depth approximately equal to the die thickness; , a die is received within the recess, a second planar engagement surface of the die is received against a planar recess bottom surface, and a first engagement surface of the die is received against a planar recess bottom surface.
2. The semiconductor assembly of claim 1, wherein the planar engagement surface of the base is substantially coplanar with the first planar engagement surface of the base.
【請求項7】  相互接続板が1つの平らな係合表面に
対向する第2の平らな係合表面を含み、基体が第2の平
らな係合表面を含み、組立体が相互接続板の第2の平ら
な係合表面と基体の第2の平らな係合表面との上に重な
る剛固な裏当て板を含む請求項6に記載された半導体組
立体。
7. The interconnection plate includes a second planar engagement surface opposite the one planar engagement surface, the base body includes the second planar engagement surface, and the assembly comprises: 7. The semiconductor assembly of claim 6 including a rigid backing plate overlying the second planar engagement surface and the second planar engagement surface of the substrate.
【請求項8】  ほぼ平らな第1及び第2の係合表面、
1つ以上の導電性パッドを含む係合表面、それらの間に
画成された厚さ、及びダイ外側形状を画成する外側縁部
を有し、且つダイ外側形状を画成する外側縁部を有し、
第1の係合表面が1つ以上の導電性パッドを含む複数個
のダイと、複数個の開口を中に形成して有する基部であ
って、基部開口がダイ外側形状に相補した開口形状を画
成する周囲縁部を有し、それぞれの開口がそれぞれのダ
イを受入れ且つそれと係合するように寸法付けられ、そ
れぞれのダイがそのようにそれぞれの基部開口内に受入
れられ、開口縁部がそれぞれのダイ縁部と係合してそれ
ぞれのダイをそれぞれのダイの第1の平らな係合表面と
平行な平面で選択された配向で空間的に固定する基部と
、基部開口内に受入れられたダイの第1の平らな係合表
面に対面する少なくとも1つのほぼ平らな係合表面を有
する相互接続板であって、該板の平らな係合表面がその
上に形成された複数個の導電性パッド及び導電性トレー
スを有し、板の平らな係合表面の導電性パッドが基部開
口内に受入れられたダイの第1の平らな係合表面上のそ
れぞれの導電性パッドと空間的に整列された相互接続板
と、シートの厚さを横切る方向に導電性を有する異方性
の導電性を有するエラストマー材料のシートであって、
該シートがダイの第1の相互係合表面と相互接続板の相
互係合表面との間で基部と相互接続板との間に介在され
たシートと、ダイの導電性パッドを異方性の導電性を有
するエラストマー材料のシートを通して相互接続板の導
電性パッドと導電的に係合するようにダイ及び板を空間
的に位置合せ状態で互いの方へ押圧するために基部及び
相互接続板を係合するクランプ手段とを含む半導体組立
体。
8. First and second engagement surfaces that are substantially flat;
an engagement surface including one or more conductive pads, a thickness defined therebetween, and an outer edge defining a die outer shape; and an outer edge defining a die outer shape. has
a base having a first engagement surface having a plurality of dies including one or more conductive pads and a plurality of apertures formed therein, the base apertures having an aperture shape complementary to an outer shape of the die; a peripheral edge defining a peripheral edge, each aperture dimensioned to receive and engage a respective die, each die being so received within the respective base aperture, the aperture edge defining a peripheral edge; a base that engages a respective die edge to spatially secure the respective die in a selected orientation in a plane parallel to the first planar engagement surface of the respective die; an interconnection plate having at least one substantially planar engagement surface facing a first planar engagement surface of the die, the planar engagement surface of the plate having a plurality of substantially planar engagement surfaces formed thereon; conductive pads and conductive traces, the conductive pads on the planar engagement surface of the plate being spaced apart with respective conductive pads on the first planar engagement surface of the die received within the base aperture. a sheet of anisotropic electrically conductive elastomeric material having interconnection plates aligned in a direction and electrically conductive in a direction across the thickness of the sheet;
The sheet is interposed between the base and the interconnect plate between the first interengaging surface of the die and the interengaging surface of the interconnect plate and conductive pads of the die in an anisotropic manner. the base and interconnect plate to force the die and plate toward each other in spatial alignment so as to conductively engage the conductive pads of the interconnect plate through the sheet of electrically conductive elastomeric material; and engaging clamping means.
【請求項9】  相互接続板がトレースへ動作可能に接
続された複数個の縁部導体を含む請求項8に記載された
半導体組立体。
9. The semiconductor assembly of claim 8, wherein the interconnect plate includes a plurality of edge conductors operably connected to the traces.
【請求項10】  相互接続板が1つの平らな係合表面
に対向する第2の平らな係合表面を含み、基体が平らな
係合表面を含み、組立体が相互接続板の第2の平らな係
合表面と基体の平らな係合表面との上に重なる剛固な裏
当て板を含む請求項8に記載された半導体組立体。
10. The interconnection plate includes a second planar engagement surface opposite the one planar engagement surface, the substrate includes a planar engagement surface, and the assembly comprises a second planar engagement surface of the interconnection plate. 9. The semiconductor assembly of claim 8, including a rigid backing plate overlying the planar engagement surface and the planar engagement surface of the substrate.
【請求項11】  基体が第1及び第2の係合表面とそ
の間に画成された厚さとを含み、基体開口が基体の第1
及び第2の係合表面の間で基体全体を通して延びる請求
項8に記載された半導体組立体。
11. The base body includes first and second engagement surfaces and a thickness defined therebetween, wherein the base aperture is connected to the first engagement surface of the base body.
9. The semiconductor assembly of claim 8, wherein the semiconductor assembly extends throughout the substrate between the first and second engagement surfaces.
【請求項12】  相互接続板が1つの平らな係合表面
に対向する第2の平らな係合表面を含み、組立体が相互
接続板の第2の平らな係合表面と基体の第2の平らな係
合表面との上に重なる剛固な裏当て板を含む請求項11
に記載された半導体組立体。
12. The interconnection plate includes a second planar engagement surface opposite the one planar engagement surface, and the assembly includes a second planar engagement surface of the interconnection plate and a second planar engagement surface of the substrate. Claim 11 comprising a rigid backing plate overlying the flat engagement surface of the
A semiconductor assembly described in .
【請求項13】  基体が第1の平らな係合表面を含み
、基体開口が基体の第1の平らな係合表面から基体中へ
形成された凹部によって画成され、凹部が平らな凹部底
表面を有し、凹部がそれぞれのダイ厚さにほぼ等しい深
さを有し、それぞれのダイがそれぞれの凹部内に受入れ
られ、ダイの第2の平らな係合表面が平らな凹部底表面
に接して受入れられ且つダイの第1の平らな係合表面が
基部の第1の平らな係合表面とほぼ同一平面にある請求
項8に記載された半導体組立体。
13. The base includes a first flat engagement surface, the base opening is defined by a recess formed into the base from the first flat engagement surface of the base, and the recess has a flat recess bottom. a surface, the recesses have a depth approximately equal to the respective die thickness, each die is received within the respective recess, and the second flat engagement surface of the die is in the flat recess bottom surface. 9. The semiconductor assembly of claim 8, wherein the semiconductor assembly is received abuttingly and wherein the first planar engagement surface of the die is substantially coplanar with the first planar engagement surface of the base.
【請求項14】  相互接続板が1つの平らな係合表面
に対向する第2の平らな係合表面を含み、基体が第2の
平らな係合表面を含み、組立体が相互接続板の第2の平
らな係合表面と基体の第2の平らな係合表面との上に重
なる剛固な裏当て板を含む請求項13に記載された半導
体組立体。
14. The interconnection plate includes a second planar engagement surface opposite the one planar engagement surface, the base body includes the second planar engagement surface, and the assembly comprises: 14. The semiconductor assembly of claim 13, including a rigid backing plate overlying the second planar engagement surface and the second planar engagement surface of the substrate.
【請求項15】  ダイが単一インライン記憶モジュー
ルに配置された電子記憶装置を含む請求項19に記載さ
れた半導体組立体。
15. The semiconductor assembly of claim 19, wherein the die includes electronic storage arranged in a single in-line storage module.
JP14620891A 1990-08-30 1991-06-18 Semiconductor assembly Pending JPH04369847A (en)

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US57517990A 1990-08-30 1990-08-30
US575179 1990-08-30
US672439 1991-03-29

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5815243A (en) * 1981-07-20 1983-01-28 Seiko Epson Corp Mounting structure for semiconductor integrated circuit
JPS616833A (en) * 1984-06-20 1986-01-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacture of material to be loaded

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