JPH04368754A - Ion source - Google Patents

Ion source

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JPH04368754A
JPH04368754A JP3143491A JP14349191A JPH04368754A JP H04368754 A JPH04368754 A JP H04368754A JP 3143491 A JP3143491 A JP 3143491A JP 14349191 A JP14349191 A JP 14349191A JP H04368754 A JPH04368754 A JP H04368754A
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JP
Japan
Prior art keywords
ion
slit
partition member
space
ion source
Prior art date
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Application number
JP3143491A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shuichi Maeno
修一 前野
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Nissin Electric Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nissin Electric Co Ltd filed Critical Nissin Electric Co Ltd
Priority to JP3143491A priority Critical patent/JPH04368754A/en
Publication of JPH04368754A publication Critical patent/JPH04368754A/en
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Abstract

PURPOSE:To sufficiently enhance an ionization efficiency (gas efficiency) and a power efficiency. CONSTITUTION:A partition member 6 containing a slit 8 is provided in an ion formation space in such a way that the ion formation space is divided into a gas introducing space 13, in which an ionized gas is introduced, and an ion extracting space 14, in which the generated ion being extracted; permanent magnets 7 are mounted on the partition member 6 in such a way that lines-of-magnetic-force 12 pass through the slit 8. When an ion source gas flows from the gas introducing space 13 to the ion extracting space 14, it is throttled in such a way that the flow of the ion source gas passes through the slit 8 in the partition member 6. The flow of a plasma formed in the gas introducing space 13 is also throttled by the action of the lines-of-magnetic-force 12 in such a way that it passes through the slit 8 in the partition member 6. As a result, when an arc discharge takes place through the slit 8 in the partition member 6, ionization of the ion source gas is accelerated at and about the slit 8.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】この発明は、低気圧アーク放電に
よってイオン源ガスをイオン化する長尺型あるいは大面
積型等のイオン源に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a long type or large area type ion source that ionizes an ion source gas by low-pressure arc discharge.

【0002】0002

【従来の技術】図5に大面積型のイオン源の従来例とし
て、いわゆるバケット型イオン源を示す。図5において
、アークチャンバ(陽極)81は、ガス導入口84およ
びイオン引出し口88を有し、外壁に棒状の永久磁石8
2を複数本整列配置し、内壁面近傍に局所的な多極磁界
を生成する構造としている。
2. Description of the Related Art FIG. 5 shows a so-called bucket-type ion source as a conventional example of a large-area ion source. In FIG. 5, an arc chamber (anode) 81 has a gas inlet 84 and an ion extraction port 88, and has a rod-shaped permanent magnet 8 on its outer wall.
2 are arranged in a row to create a local multipolar magnetic field near the inner wall surface.

【0003】アークチャンバ(陽極)81の内部には、
一次電子源となる熱電子放出用のフィラメント(陰極)
83を1本ないし複数本設けている。アークチャンバ(
陽極)81には、イオン引出し口88の前方にイオン引
出し電極系87を配設している。フィラメント(陰極)
83には、熱電子放出用のフィラメント電源85が接続
され、アークチャンバ(陽極)81とフィラメント(陰
極)83との間にはアーク放電用の放電電源86が接続
されている。
Inside the arc chamber (anode) 81,
A filament (cathode) for thermionic emission that serves as a primary electron source
One or more 83 are provided. Arc chamber (
An ion extraction electrode system 87 is disposed in front of an ion extraction port 88 in the anode (anode) 81 . Filament (cathode)
83 is connected to a filament power source 85 for thermionic emission, and a discharge power source 86 for arc discharge is connected between the arc chamber (anode) 81 and the filament (cathode) 83.

【0004】以上のような構成のイオン源において、プ
ラズマを生成するには、ガス導入口84からイオン源ガ
スを導入しながら、フィラメント(陰極)83を赤熱さ
せるとともに、アークチャンバ(陽極)81とフィラメ
ント(陰極)83との間で低気圧アーク放電させる。こ
の結果、フィラメント(陰極)83から放出された一次
電子(熱電子)は、イオン源ガスの原子もしくは分子に
衝突して、イオン源ガスをプラズマ化する。この際、上
記一次電子(熱電子)は、アークチャンバ(陽極)81
に対し外部磁界の作用で直線的に到達することができず
、その有効飛程を増すので、電子の閉じ込めは良い。
In the ion source configured as described above, in order to generate plasma, the filament (cathode) 83 is made red hot while introducing the ion source gas from the gas inlet 84, and the arc chamber (anode) 81 and A low-pressure arc discharge is caused between the filament (cathode) 83 and the filament (cathode) 83. As a result, the primary electrons (thermoelectrons) emitted from the filament (cathode) 83 collide with atoms or molecules of the ion source gas, turning the ion source gas into plasma. At this time, the primary electrons (thermoelectrons) are transferred to the arc chamber (anode) 81
Confinement of electrons is good because they cannot reach in a straight line due to the action of an external magnetic field, increasing their effective range.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
イオン源は、アークチャンバ(陽極)81の中心部の無
磁場領域では、電子の飛程が直線的であり、イオン化効
率(ガス効率),電力効率を十分に高めることは困難で
あった。したがって、この発明の目的は、イオン化効率
(ガス効率),電力効率を十分に高めることができるイ
オン源を提供することである。
However, in the above-mentioned ion source, the range of electrons is linear in the non-magnetic field region at the center of the arc chamber (anode) 81, and the ionization efficiency (gas efficiency) and power It has been difficult to sufficiently increase efficiency. Therefore, an object of the present invention is to provide an ion source that can sufficiently increase ionization efficiency (gas efficiency) and power efficiency.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明のイオン源は、
イオン生成空間をイオン源ガスが導入されるガス導入空
間と生成されたイオンが引き出されるイオン引出し空間
とに仕切るように、イオン生成空間に小孔またはスリッ
トを有する仕切部材を配置し、小孔またはスリットを磁
力線が通過するように、仕切部材に磁石を設け、小孔ま
たはスリットを放電経路の一部とするように陰極および
陽極を配置している。
[Means for Solving the Problems] The ion source of the present invention includes:
A partition member having a small hole or slit is arranged in the ion generation space so as to partition the ion generation space into a gas introduction space into which an ion source gas is introduced and an ion extraction space from which generated ions are extracted. A magnet is provided in the partition member so that lines of magnetic force pass through the slit, and a cathode and an anode are arranged so that the small hole or slit becomes part of the discharge path.

【0007】[0007]

【作用】この発明の構成によれば、イオン生成空間をイ
オン源ガスが導入されるガス導入空間と生成されたイオ
ンが引き出されるイオン引出し空間とに仕切るように、
イオン生成空間に小孔またはスリットを有する仕切部材
を配置したので、イオン源ガスがガス導入空間からイオ
ン引出し空間へ流れる際に、イオン源ガスの流れが仕切
部材の小孔またはスリットを通過するように絞り込まれ
、この小孔またはスリットの部分で密度が高くなる。 また、小孔またはスリットを磁力線が通過するように仕
切部材に磁石を設けたことにより、ガス導入空間で生成
されたプラズマの流れも磁力線の作用で仕切部材の小孔
またはスリットを通過するように絞り込まれる。この結
果、仕切部材の小孔またはスリットを通して陰極および
陽極間でアーク放電が行われる際、小孔またはスリット
の部分でイオン源ガスのイオン化が促進される。
[Operation] According to the configuration of the present invention, the ion generation space is divided into a gas introduction space where the ion source gas is introduced and an ion extraction space where the generated ions are extracted.
Since the partition member having small holes or slits is arranged in the ion generation space, when the ion source gas flows from the gas introduction space to the ion extraction space, the flow of the ion source gas passes through the small holes or slits in the partition member. The density increases at these small holes or slits. In addition, by providing a magnet in the partition member so that the lines of magnetic force pass through the small holes or slits, the flow of plasma generated in the gas introduction space also passes through the small holes or slits in the partition member due to the action of the lines of magnetic force. Narrowed down. As a result, when arc discharge is performed between the cathode and the anode through the small holes or slits of the partition member, ionization of the ion source gas is promoted in the small holes or slits.

【0008】[0008]

【実施例】この発明の第1の実施例のイオン源を図1に
基づいて説明する。この実施例は、スリットビームを発
生するイオン源を示すものである。図1において、陰極
チャンバ1は、前部を開放してあり、内部にフィラメン
ト(陰極)2を配設するとともに、ガス導入口3を設け
ている。陰極チャンバ1の前方位置には、スリット8を
有する金属製の仕切部材(中間電極となる)6を配置し
、スリット8を磁力線12が通過するように、仕切部材
6に磁石(永久磁石)7を内蔵配置している。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An ion source according to a first embodiment of the present invention will be explained based on FIG. This example shows an ion source that generates a slit beam. In FIG. 1, a cathode chamber 1 is open at the front, and has a filament (cathode) 2 disposed therein and a gas inlet 3. A metal partition member (to serve as an intermediate electrode) 6 having a slit 8 is arranged at the front position of the cathode chamber 1, and a magnet (permanent magnet) 7 is placed in the partition member 6 so that the lines of magnetic force 12 pass through the slit 8. It has a built-in location.

【0009】また、仕切部材6の前方位置に陽極9を配
置し、さらにその前方位置に引出し電極11を配置して
いる。フィラメント(陰極)2には、熱電子放出用のフ
ィラメント電源4を接続し、フィラメント(陰極)2と
陽極9との間に放電電源5を接続し、陽極9と仕切部材
6とを抵抗10を介して接続している。上記の仕切部材
6は、イオン生成空間を、陰極チャンバ1の空間つまり
ガス導入空間13と、陽極9の中央部の空間つまりイオ
ン引出し空間14とに仕切る機能を有する。また、磁石
7は、棒状であって長手方向と平行な相対する2面に磁
極を有し、2本の磁石7の同極が前方となった状態でス
リット8を挟んで両側に配置している。さらに、スリッ
ト8は、フィラメント(陰極)2と陽極9との間の放電
経路の一部となっている。
Further, an anode 9 is disposed in front of the partition member 6, and an extraction electrode 11 is further disposed in front of the anode 9. A filament power source 4 for thermionic emission is connected to the filament (cathode) 2, a discharge power source 5 is connected between the filament (cathode) 2 and the anode 9, and a resistor 10 is connected between the anode 9 and the partition member 6. Connected via. The partition member 6 has a function of partitioning the ion generation space into a space in the cathode chamber 1, that is, a gas introduction space 13, and a space in the center of the anode 9, that is, an ion extraction space 14. Further, the magnets 7 are rod-shaped and have magnetic poles on two opposing faces parallel to the longitudinal direction, and are arranged on both sides with the slit 8 in between, with the same poles of the two magnets 7 facing forward. There is. Furthermore, the slit 8 is part of the discharge path between the filament (cathode) 2 and the anode 9.

【0010】以上のような構成のイオン源において、陰
極チャンバ1に設けられたガス導入口3からイオン源ガ
スを導入して、フィラメント電源4により赤熱したフィ
ラメント(陰極)2と陽極9との間で、放電電源5によ
りアーク放電を開始させる。放電が生じると、イオン源
ガスがガス導入空間13からイオン引出し空間14へ流
れる際に、放電経路の一部となる仕切部材6のスリット
8にイオン源ガスの流れが絞り込まれてスリット8の部
分で密度が高くなると同時に、仕切部材6に埋め込まれ
た磁石7のなす磁場(磁力線12で示す)によってガス
導入空間13で生成されたプラズマの流れもスリット8
に絞り込まれることになる。したがって、仕切部材6の
スリット8を通してフィラメント(陰極)2および陽極
9間でアーク放電が行われる際、仕切部材6のスリット
8の内部で、イオン源ガスのイオン化が促進されること
になる。
In the ion source configured as described above, the ion source gas is introduced from the gas inlet 3 provided in the cathode chamber 1, and the ion source gas is fed between the red-hot filament (cathode) 2 and the anode 9 by the filament power source 4. Then, arc discharge is started by the discharge power source 5. When a discharge occurs, when the ion source gas flows from the gas introduction space 13 to the ion extraction space 14, the flow of the ion source gas is narrowed to the slit 8 of the partition member 6, which becomes a part of the discharge path, and the ion source gas flows through the slit 8. At the same time, the plasma flow generated in the gas introduction space 13 due to the magnetic field (indicated by magnetic lines of force 12) generated by the magnet 7 embedded in the partition member 6 also increases through the slit 8.
It will be narrowed down to. Therefore, when arc discharge is performed between the filament (cathode) 2 and the anode 9 through the slit 8 of the partition member 6, ionization of the ion source gas is promoted inside the slit 8 of the partition member 6.

【0011】この実施例のイオン源によれば、イオン生
成空間をイオン源ガスが導入されるガス導入空間13と
生成されたイオンが引き出されるイオン引出し空間14
とに仕切るように、イオン生成空間にスリット8を有す
る仕切部材6を配置したので、イオン生成空間における
イオン源ガスの流れを仕切部材6のスリット8を通過す
るように絞り込むことができる。また、スリット8を磁
力線12が通過するように仕切部材6に磁石7を設けた
ので、ガス導入空間13で生成されたプラズマの流れも
磁力線12の作用で仕切部材6のスリット8を通過する
ように絞り込むことができる。
According to the ion source of this embodiment, the ion generation space is divided into a gas introduction space 13 into which the ion source gas is introduced and an ion extraction space 14 into which the generated ions are extracted.
Since the partition member 6 having the slit 8 is arranged in the ion generation space so as to partition the ion generation space into two parts, the flow of the ion source gas in the ion generation space can be narrowed down so as to pass through the slit 8 of the partition member 6. Furthermore, since the magnet 7 is provided on the partition member 6 so that the magnetic lines of force 12 pass through the slit 8, the flow of plasma generated in the gas introduction space 13 is also caused to pass through the slit 8 of the partition member 6 by the action of the magnetic lines of force 12. can be narrowed down to.

【0012】この結果、仕切部材6のスリット8を通し
てフィラメント(陰極)2および陽極9間でアーク放電
が行われる際、仕切部材6のスリット8の部分でガスの
イオン化を促進することができ、少ないガス流量でかつ
少ない電力で動作させることが可能となる。つまり、イ
オン化効率および電力効率を向上させることができる。 さらに、ガス流量を少なくできることから、真空排気ポ
ンプの容量を小さくすることが可能となり、装置コスト
を低減することが可能となる。
As a result, when arc discharge occurs between the filament (cathode) 2 and the anode 9 through the slit 8 of the partition member 6, ionization of the gas can be promoted at the slit 8 of the partition member 6, resulting in less It becomes possible to operate with a small gas flow rate and low electric power. In other words, ionization efficiency and power efficiency can be improved. Furthermore, since the gas flow rate can be reduced, the capacity of the evacuation pump can be reduced, and the cost of the device can be reduced.

【0013】なお、上記実施例では、スリット8を有す
る仕切板6を用いたが、スリット8に代えて1列に並ん
だ多数の小孔を有する仕切板を用いてもよい。この発明
の第2の実施例のイオン源を図2に基づいて説明する。 この実施例は、面ビームを発生するイオン源を示すもの
である。図2において、21は陰極チャンバ、22はフ
ィラメント(陰極)、23はガス導入口、24はフィラ
メント電源、25は放電電源、26は金属製の仕切部材
(中間電極となる)、27は永久磁石等の平行配列した
棒状の多数本の磁石、28はスリット、29は陽極、3
0は抵抗、31はイオン引出し電極系、32は磁力線、
33はガス導入空間、34はイオン引出し空間である。
In the above embodiment, the partition plate 6 having the slits 8 is used, but instead of the slits 8, a partition plate having a large number of small holes arranged in a row may be used. An ion source according to a second embodiment of the invention will be explained based on FIG. This example shows an ion source that generates a plane beam. In FIG. 2, 21 is a cathode chamber, 22 is a filament (cathode), 23 is a gas inlet, 24 is a filament power source, 25 is a discharge power source, 26 is a metal partition member (becomes an intermediate electrode), and 27 is a permanent magnet. 28 is a slit, 29 is an anode, 3 is a large number of bar-shaped magnets arranged in parallel.
0 is a resistance, 31 is an ion extraction electrode system, 32 is a line of magnetic force,
33 is a gas introduction space, and 34 is an ion extraction space.

【0014】前記第1の実施例との構造の違いは、仕切
部材26に設けるスリット(当然、小孔列でもよい)2
8を複数本平行に設け、棒状の磁石27を各スリット2
8を挾むように配置した点、ならびに開口面積が広くな
った点であり、その他の構成は図1の実施例と同様であ
る。作用効果についても図1の実施例と同様である。こ
の発明の第3の実施例を図3に基づいて説明する。この
実施例は、第2の実施例と同様に面ビームを発生するイ
オン源を示すものである。図3において、41は陰極チ
ャンバ、42はフィラメント(陰極)、43はガス導入
口、44はフィラメント電源、45は放電電源、46は
金属製の仕切部材(中間電極となる)、47は電磁石を
形成する電線、48はスリット、49は陽極、50は抵
抗、51はイオン引出し電極系、52は磁力線、53は
ガス導入空間、54はイオン引出し空間である。
The difference in structure from the first embodiment is that the slits (of course, rows of small holes may also be used) 2 provided in the partition member 26
8 are provided in parallel, and a rod-shaped magnet 27 is inserted into each slit 2.
8 is placed between them, and the opening area is increased.Other than that, the other configuration is the same as that of the embodiment shown in FIG. The operation and effect are also similar to the embodiment shown in FIG. A third embodiment of this invention will be described based on FIG. This embodiment shows an ion source that generates a plane beam like the second embodiment. In FIG. 3, 41 is a cathode chamber, 42 is a filament (cathode), 43 is a gas inlet, 44 is a filament power source, 45 is a discharge power source, 46 is a metal partition member (becomes an intermediate electrode), and 47 is an electromagnet. The electrical wires to be formed include a slit 48, an anode 49, a resistor 50, an ion extraction electrode system 51, lines of magnetic force 52, a gas introduction space 53, and an ion extraction space 54.

【0015】前記第2の実施例との構造の違いは、仕切
部材46に永久磁石に代えて絶縁した電線47を内蔵し
、電線47に通電することにより、電線47により電磁
石を作って磁界を生成したものであり、その他の構成は
図2の実施例と同様であり、作用効果についても図2の
実施例と同様である。なお、上記の電線47は連続した
1本を折り返して配設したものであり、電流の通電方向
が交互に逆転していて、磁力線52の向きが各スリット
48で交互に逆方向となっている。
The difference in structure from the second embodiment is that an insulated electric wire 47 is built into the partition member 46 instead of a permanent magnet, and by energizing the electric wire 47, an electromagnet is created by the electric wire 47 and a magnetic field is generated. The other configuration is the same as that of the embodiment shown in FIG. 2, and the operation and effect are also the same as those of the embodiment shown in FIG. The electric wire 47 described above is a continuous wire that is folded back, and the current direction is alternately reversed, so that the direction of the magnetic lines of force 52 is alternately reversed in each slit 48. .

【0016】この発明の第4の実施例を図4に基づいて
説明する。この実施例は、第2および第3の実施例と同
様に面ビームを発生するイオン源を示すものである。図
4において、61は放電チャンバ、62はマイクロ波放
射用のアンテナ、63はガス導入口、64はマイクロ波
源、65は放電電源、66は金属製の仕切部材(陰極)
、67は磁石(永久磁石)、68はスリット、69は陽
極、70はイオン引出し電極系、71は磁力線、72は
ガス導入空間、73はイオン引出し空間である。
A fourth embodiment of the present invention will be explained based on FIG. 4. This embodiment shows an ion source that generates a plane beam like the second and third embodiments. In FIG. 4, 61 is a discharge chamber, 62 is an antenna for microwave radiation, 63 is a gas inlet, 64 is a microwave source, 65 is a discharge power source, and 66 is a metal partition member (cathode).
, 67 is a magnet (permanent magnet), 68 is a slit, 69 is an anode, 70 is an ion extraction electrode system, 71 is a line of magnetic force, 72 is a gas introduction space, and 73 is an ion extraction space.

【0017】この実施例の第2の実施例との違いは、ア
ーク放電のための一次電子源をフィラメントに代えて、
マイクロ波源64により励起されるアンテナ62とする
とともに、仕切部材66と陽極69との間に放電電源6
5を接続して、仕切部材66を陰極としてアーク放電を
行わせるようにしたものである。その他の構成は図2の
実施例と同様である。
The difference between this embodiment and the second embodiment is that the primary electron source for arc discharge is replaced with a filament.
The antenna 62 is excited by a microwave source 64, and a discharge power source 6 is connected between the partition member 66 and the anode 69.
5 are connected to cause arc discharge to occur using the partition member 66 as a cathode. Other configurations are similar to the embodiment shown in FIG.

【0018】この実施例では、マイクロ波源64からア
ンテナ62にマイクロ波電力を供給することにより、ガ
ス導入空間72内でマイクロ波放電を生じさせ、マイク
ロ波放電によってアーク放電用の一次電子を生成するも
のである。その他の動作は図2の実施例と同様であり、
効果についても前記各実施例と同様である。
In this embodiment, by supplying microwave power from the microwave source 64 to the antenna 62, a microwave discharge is generated within the gas introduction space 72, and primary electrons for arc discharge are generated by the microwave discharge. It is something. Other operations are similar to the embodiment shown in FIG.
The effects are also the same as in each of the above embodiments.

【0019】アーク放電を起こすための陰極は、熱陰極
,冷陰極,プラズマ陰極等、どのような構造でもよい。
The cathode for causing arc discharge may have any structure such as a hot cathode, a cold cathode, or a plasma cathode.

【0020】[0020]

【発明の効果】この発明のイオン源によれば、イオン生
成空間をイオン源ガスが導入されるガス導入空間と生成
されたイオンが引き出されるイオン引出し空間とに仕切
るように、イオン生成空間に小孔またはスリットを有す
る仕切部材を配置したので、イオン生成空間におけるイ
オン源ガスの流れを仕切部材の小孔またはスリットを通
過するように絞り込むことができる。また、小孔または
スリットを磁力線が通過するように仕切部材に磁石を設
けたので、ガス導入空間で生成されたプラズマの流れも
磁力線の作用で仕切部材の小孔またはスリットを通過す
るように絞り込むことができる。
Effects of the Invention According to the ion source of the present invention, a small space is provided in the ion generation space so as to divide the ion generation space into a gas introduction space into which ion source gas is introduced and an ion extraction space from which generated ions are extracted. Since the partition member having holes or slits is disposed, the flow of the ion source gas in the ion generation space can be narrowed down so as to pass through the small holes or slits of the partition member. In addition, since a magnet is installed in the partition member so that the lines of magnetic force pass through the small holes or slits, the flow of plasma generated in the gas introduction space is also narrowed down so that it passes through the small holes or slits in the partition member due to the action of the magnetic lines of force. be able to.

【0021】この結果、仕切部材の小孔またはスリット
を通して陰極および陽極間でアーク放電が行われる際、
仕切部材の小孔またはスリットの部分でガスのイオン化
を促進することができ、少ないガス流量でかつ少ない電
力で動作させることが可能となる。つまり、イオン化効
率および電力効率を向上させることができる。さらに、
ガス流量を少なくできることから、真空排気ポンプの容
量を小さくすることが可能となり、装置コストを低減す
ることが可能となる。
As a result, when arc discharge occurs between the cathode and the anode through the small holes or slits of the partition member,
Ionization of gas can be promoted in the small holes or slits of the partition member, and operation can be performed with a small gas flow rate and with low electric power. In other words, ionization efficiency and power efficiency can be improved. moreover,
Since the gas flow rate can be reduced, the capacity of the evacuation pump can be reduced, and the cost of the device can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】この発明の第1の実施例の構成を示す概略平面
図である。
FIG. 1 is a schematic plan view showing the configuration of a first embodiment of the present invention.

【図2】この発明の第2の実施例の構成を示す概略平面
図である。
FIG. 2 is a schematic plan view showing the configuration of a second embodiment of the invention.

【図3】この発明の第3の実施例の構成を示す概略平面
図である。
FIG. 3 is a schematic plan view showing the configuration of a third embodiment of the invention.

【図4】この発明の第4の実施例の構成を示す概略平面
図である。
FIG. 4 is a schematic plan view showing the configuration of a fourth embodiment of the invention.

【図5】従来のバケット型イオン源の一例の構成を示す
概略平面図である。
FIG. 5 is a schematic plan view showing the configuration of an example of a conventional bucket-type ion source.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1    陰極チャンバ 2    フィラメント(陰極) 3    ガス導入口 4    フィラメント電源 5    放電電源 6    仕切部材 7    磁石 8    スリット 9    陽極 10    抵抗 11    引出し電極 12    磁力線 13    ガス導入空間 14    イオン引出し空間 1 Cathode chamber 2 Filament (cathode) 3 Gas inlet 4 Filament power supply 5 Discharge power supply 6 Partition member 7 Magnet 8 Slit 9 Anode 10 Resistance 11 Extraction electrode 12. Lines of magnetic force 13 Gas introduction space 14 Ion extraction space

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  イオン生成空間における陰極と陽極と
の間のアーク放電によってイオン源ガスを電離してイオ
ンを生成するイオン源において、前記イオン生成空間を
イオン源ガスが導入されるガス導入空間と生成されたイ
オンが引き出されるイオン引出し空間とに仕切るように
前記イオン生成空間に小孔またはスリットを有する仕切
部材を配置し、前記小孔またはスリットを磁力線が通過
するように前記仕切部材に磁石を設け、前記小孔または
スリットを放電路の一部とするように前記陰極および前
記陽極を配置したことを特徴とするイオン源。
1. In an ion source that generates ions by ionizing an ion source gas by arc discharge between a cathode and an anode in an ion generation space, the ion generation space is used as a gas introduction space into which the ion source gas is introduced. A partition member having a small hole or slit is arranged in the ion generation space so as to partition it into an ion extraction space from which generated ions are extracted, and a magnet is attached to the partition member so that lines of magnetic force pass through the small hole or slit. An ion source characterized in that the cathode and the anode are arranged such that the small hole or slit is part of a discharge path.
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