JPH04342720A - Epoxy resin composition for wiring substrate - Google Patents

Epoxy resin composition for wiring substrate

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JPH04342720A
JPH04342720A JP14406591A JP14406591A JPH04342720A JP H04342720 A JPH04342720 A JP H04342720A JP 14406591 A JP14406591 A JP 14406591A JP 14406591 A JP14406591 A JP 14406591A JP H04342720 A JPH04342720 A JP H04342720A
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epoxy resin
phenolic hydroxyl
integer
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polybutadiene
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Abstract

PURPOSE:To obtain the subject composition, containing an epoxy resin, a polyfunctional-phenolic compound, an imidazole compound and a specified copolymer and excellent in heat resistance, withstand voltage properties, mechanical characteristics and adhesion with hardly any occurrence of smear. CONSTITUTION:The objective composition containing (A) an epoxy resin, (B) a polyfunctional phenolic compound (blended in an amount of preferably 0.5-1.5 equiv. phenolic hydroxyl groups based on the epoxy resin), (C) an imidazole compound such as 2-ethylimidazole (blended in an amount of preferably 0.01-10wt.% based on the epoxy resin) and (D) preferably 1-15wt.% phenolic hydroxyl group-containing aramid-polybutadiene-acrylonitrile block copolymer expressed by the formula {x is 3-7; (y) is 1-4; [y/(x+y)] is 0.1-0.3; (z) is 5-15; (m) is 1-400; (n) is 1-400; [n/(n+m)] is 0.01-0.50; (1) is 1-50; Ar<1> and Ar<3> are containing bifunctional aromatic group}.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、配線基板に用いられる
エポキシ樹脂組成物に係わり、特に耐熱性、耐電圧性、
機械特性等が改善され、接着性の良く絶縁性のエポキシ
樹脂組成物に関する。
[Industrial Application Field] The present invention relates to an epoxy resin composition used for wiring boards, and in particular, it has excellent heat resistance, voltage resistance,
The present invention relates to an epoxy resin composition with improved mechanical properties, good adhesiveness, and insulation properties.

【0002】0002

【従来の技術】近年、放熱性、電磁シールド性、耐熱性
、回路スペースの縮小化等の観点から基材に金属箔を接
着して構成するフレキシブル配線基板、回路基板、これ
らを多層化した多層回路基板等が広く使用されてきてい
る。これらはポリイミド樹脂板、エポキシ樹脂等をガラ
ス繊維等に含浸させたガラスエポキシ基板および金属板
に絶縁層を設けた基板等からなる基材に金属箔を設けて
エッチング法で回路を形成したもの、基板上に回路を直
接メッキして構成した物または導電性樹脂で回路を印刷
した物等が知られている。
[Prior Art] In recent years, flexible wiring boards and circuit boards, which are constructed by bonding metal foil to a base material, have been developed from the viewpoint of heat dissipation, electromagnetic shielding, heat resistance, reduction of circuit space, etc. Circuit boards and the like have been widely used. These are base materials such as polyimide resin plates, glass epoxy substrates with glass fibers impregnated with epoxy resin, etc., and substrates with insulating layers on metal plates, etc., with metal foil provided on them and circuits formed by etching. There are known devices in which a circuit is directly plated onto a substrate, or a circuit is printed with conductive resin.

【0003】0003

【発明が解決しようとする課題】これらのうち基材に銅
箔を貼り合わせて形成された配線基板においては、絶縁
性のある接着材料としてエポキシ樹脂が広く使用されて
いる。しかし、エポキシ樹脂は絶縁性、耐熱性、接着性
が優れるが、脆く、熱衝撃による割れ、外部衝撃による
剥離、スルホール時のスミアの発生、可撓性が不十分で
曲げた場合割れを発生し易い等の問題点がある。従来は
この熱衝撃や外部からの機械的衝撃や可撓性の不足等の
問題に対して、エポキシ樹脂に対してゴム状物質を添加
して解決しているが、このゴム状物質の添加は耐熱性の
低下、高温度加熱後の接着性の低下をたすほか、スミア
の発生等の問題も従来同様に発生している。
Problems to be Solved by the Invention Among these wiring boards formed by bonding copper foil to a base material, epoxy resin is widely used as an insulating adhesive material. However, although epoxy resin has excellent insulation, heat resistance, and adhesive properties, it is brittle and can crack due to thermal shock, peel off due to external impact, generate smear when through-hole, and crack when bent due to insufficient flexibility. There are problems such as being easy to use. Conventionally, problems such as thermal shock, external mechanical shock, and lack of flexibility have been solved by adding rubber-like substances to epoxy resin. In addition to a decrease in heat resistance and a decrease in adhesion after high-temperature heating, problems such as smear generation also occur as in the past.

【0004】0004

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記問題点
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、少なくともエポキ
シ樹脂、多官能フェノール化合物、イミダゾール化合物
および一般式(1)で示すフェノール性水酸基含有アラ
ミド−ポリブタジエン−アクリロニトリルブロック共重
合体とを含有することを特徴とする配線基板用エポキシ
樹脂組成物が配線基板用に有用であることを見いだした
[Means for Solving the Problems] As a result of extensive research to solve the above problems, the present inventors have discovered that at least an epoxy resin, a polyfunctional phenol compound, an imidazole compound and a phenolic hydroxyl group represented by the general formula (1) It has been found that an epoxy resin composition for wiring boards containing an aramid-polybutadiene-acrylonitrile block copolymer is useful for wiring boards.

【化2】 (式中x=3〜7の整数、y=1〜4の整数、y/(x
+y)=0.1〜0.3、z=5〜15の整数、m=1
〜400の整数、n=1〜400の整数、n/(m+n
)=0.01〜0.50、l=1〜50の整数、Ar1
 、Ar3 は二価の芳香族基、Ar2 はフェノール
性水酸基を含有する二価の芳香族基を示す)
[Formula 2] (where x = integer from 3 to 7, y = integer from 1 to 4, y/(x
+y) = 0.1 to 0.3, z = integer of 5 to 15, m = 1
~400 integer, n=1~400 integer, n/(m+n
) = 0.01 to 0.50, l = integer of 1 to 50, Ar1
, Ar3 is a divalent aromatic group, Ar2 is a divalent aromatic group containing a phenolic hydroxyl group)

【0005
】上記一般式(1)で示すフェノール性水酸基含有アラ
ミド−ポリブタジエン−アクリロニトリルブロック共重
合体をエポキシ樹脂に導入することにより、耐熱性の低
下をもたらすことなしに強靱性の改善が計られ、熱や外
部衝撃による割れや剥離、更には曲げ強度等を改善する
ことが出来ることが判った。また、この共重合体は、少
量の添加で高い効果が得られるので、エポキシ樹脂が持
つ絶縁性を損なうことがないばかりではなく、この共重
合体中のポリブタジエン−アクリロニトリル成分がエポ
キシマトリックス中にミクロン以下のサイズで少量存在
するので、スミア発生の改善ばかりでなく、熱や外部衝
撃に対する応力緩和剤として作用するものと推定される
。又、この共重合体中のアラミド成分はエポキシ樹脂中
に分子状で分散され、エポキシマトリックスの強靱性が
向上するばかりでなく、耐熱性の向上も計られる。更に
、このアラミド成分に、ポリブタジエン−アクリロニト
リル成分が固定化されているので、加熱によるブリーデ
ングアウトもなく、熱サイクルによる接着強度の変化も
少ない。更に、多官能性フェノール性化合物としてノボ
ラック型フェノール樹脂を使用することにより、高温で
の曲げ強度がより改善させる。以上により、本発明のエ
ポキシ樹脂組成物を絶縁層として用いる配線基板は従来
にない著しい改善効果が得られる。
0005
] By introducing the phenolic hydroxyl group-containing aramid-polybutadiene-acrylonitrile block copolymer represented by the above general formula (1) into an epoxy resin, toughness can be improved without reducing heat resistance. It has been found that cracking and peeling caused by external impact, as well as bending strength, etc. can be improved. In addition, this copolymer can achieve high effects even when added in small amounts, so not only does it not impair the insulation properties of epoxy resin, but the polybutadiene-acrylonitrile component in this copolymer can be added to the epoxy matrix with micronization. Since it exists in small quantities with the following sizes, it is presumed that it not only improves smear generation but also acts as a stress reliever against heat and external impact. Furthermore, the aramid component in this copolymer is dispersed in molecular form in the epoxy resin, which not only improves the toughness of the epoxy matrix but also improves its heat resistance. Furthermore, since the polybutadiene-acrylonitrile component is fixed to this aramid component, there is no bleeding out due to heating, and there is little change in adhesive strength due to thermal cycles. Furthermore, by using a novolac type phenolic resin as the polyfunctional phenolic compound, the bending strength at high temperatures is further improved. As a result of the above, the wiring board using the epoxy resin composition of the present invention as an insulating layer has a remarkable improvement effect that has not been seen before.

【0006】本発明において使用するエポキシ樹脂とし
ては、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有する
エポキシ樹脂であればどのようなものでもよく、このよ
うなものとして、例えば、グリシジルエーテル類、グリ
シジルエステル類、グリシジルアミン類、線状脂肪族エ
ポキシド類、脂環式エポキシド類、ヒダントイン型エポ
キシド類などのエポキシ樹脂が挙げられる。  ここに
、グリシジルエーテル類としては、例えばビスフェノー
ルのグリシジルエーテル、フェノールノボラックのポリ
グリシジルエーテル、アルキレングリコール又はポリア
ルキレングリコールのグリシジルエーテルなどが挙げら
れる。このビスフェノールのグリシジルエーテルとして
は、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノ
ールAD、ビスフェノールS、テトラメチルビスフェノ
ールA、テトラメチルビスフェノールF、テトラメチル
ビスフェノールAD、テトラメチルビスフェノールS、
テトラクロロビスフェノールA、テトラブロモビスフェ
ノールAなどの二価フェノール類のジグリシジルエーテ
ルが挙げられ、フェノールノボラックのポリグリシジル
エーテルとしては、例えばフェノールノボラック、クレ
ゾールノボラック、ブロム化フェノールノボラックなど
のノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルが挙げられ
、アルキレングリコール又はポリアルキレングリコール
のジグリシジルエーテルとしては、例えばポリエチレン
グリコール、ポリプロピレングリコール、ブタンジオー
ルなどのグリコール類のジグリシジルエーテルが挙げら
れる。又、前記グリシジルエステル類としては、例えば
ヘキサヒドロフタル酸のグリシジルエステルやダイマー
酸のグリシジルエステルなどが挙げられ、グリシジルア
ミン類としては、例えばトリグリシジルアミノジフェニ
ルメタン、トリグリシジルアミノフェノール、トリグリ
シジルイソシアヌレートなどが挙げられる。更に、線状
脂肪族エポキシド類としては、例えばエポキシ化ポリブ
タジエン、エポキシ化大豆油などが挙げられ、脂環式エ
ポキシド類としては、例えば3、4−エポキシ−6−メ
チルシクロヘキシルメチルカルボキシレート、3,4エ
ポキシシクロヘキシルメチルカルボキシレート、水素添
加型ビスフェノールエポキシなどが挙げられる。ヒダン
トイン型エポキシ類としては、ジグリシジルヒダントイ
ン、グリシジルグリシドオキシアルキルヒダントイン等
が挙げられる。
The epoxy resin used in the present invention may be any epoxy resin as long as it has at least two epoxy groups in one molecule, such as glycidyl ethers, glycidyl Examples include epoxy resins such as esters, glycidyl amines, linear aliphatic epoxides, alicyclic epoxides, and hydantoin type epoxides. Examples of the glycidyl ethers include glycidyl ether of bisphenol, polyglycidyl ether of phenol novolak, glycidyl ether of alkylene glycol or polyalkylene glycol, and the like. The glycidyl ethers of bisphenol include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, bisphenol S, tetramethylbisphenol A, tetramethylbisphenol F, tetramethylbisphenol AD, tetramethylbisphenol S,
Examples include diglycidyl ethers of dihydric phenols such as tetrachlorobisphenol A and tetrabromobisphenol A, and examples of polyglycidyl ethers of phenol novolacs include polyglycidyl ethers of novolak resins such as phenol novolak, cresol novolac, and brominated phenol novolak. Examples of diglycidyl ethers of alkylene glycols or polyalkylene glycols include diglycidyl ethers of glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and butanediol. Examples of the glycidyl esters include hexahydrophthalic acid glycidyl ester and dimer acid glycidyl ester, and examples of the glycidyl amines include triglycidyl amino diphenylmethane, triglycidylaminophenol, and triglycidyl isocyanurate. can be mentioned. Further, examples of linear aliphatic epoxides include epoxidized polybutadiene and epoxidized soybean oil, and examples of alicyclic epoxides include 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethylcarboxylate, 3, Examples include 4-epoxycyclohexylmethylcarboxylate and hydrogenated bisphenol epoxy. Examples of hydantoin-type epoxies include diglycidylhydantoin, glycidylglycidoxyalkylhydantoin, and the like.

【0007】本発明で使用する硬化剤としての多官能フ
ェノール化合物としては、1分子中に官能基が2個以上
あり、エポキシ樹脂と分子鎖を生成出来ればどのような
ものでもよく、例えば2,2’−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)プロパン、2,2’−ビス(2−メチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2’−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1’−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)エタン、1,1’−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)ヘキサン、1,1’−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)ドコシル、2、2’−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)ブタン、2、2’−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)ヘキサン、ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)スルフォン、ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシ
フェニル)スルフォン、ビス(3,5−ジメチル−4−
ヒドロキシフェニル)スルフォン、ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジブロモフェニル)スルフォン、ビス(4
−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(3−メチル
−4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、1、1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、4,4’
−ジヒドロキシベンゾフェノン、ジヒドロキシナフタレ
ン、1,4−(p−ヒドロキシクミル)ベンゼン、又は
フェノール、クレゾール、アルキルフェノール、カテコ
ール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のノボラ
ック樹脂およびこれらのフェノール樹脂のハロゲン化物
などがあげられる。これらフェノール化合物は何種類か
を併用することもできる。この配合量はエポキシ樹脂に
対してフェノール水酸基が0.5〜1.5当量の範囲で
あることがドリル加工性の点から好ましい。本発明にお
いては、ノボラック型フェノール樹脂が高温において高
い曲げ強度を与えるので好ましい。
The polyfunctional phenol compound used as a curing agent in the present invention may be any compound as long as it has two or more functional groups in one molecule and can form a molecular chain with the epoxy resin. 2'-bis(4-hydroxyphenyl)propane, 2,2'-bis(2-methyl-4
-hydroxyphenyl)propane, 2,2'-bis(4
-hydroxyphenyl)methane, 1,1'-bis(4-
hydroxyphenyl)ethane, 1,1'-bis(4-hydroxyphenyl)hexane, 1,1'-bis(4-hydroxyphenyl)docosyl, 2,2'-bis(4-hydroxyphenyl)butane, 2,2 '-Bis(4-hydroxyphenyl)hexane, bis(4-hydroxyphenyl)sulfone, bis(3-chloro-4-hydroxyphenyl)sulfone, bis(3,5-dimethyl-4-
hydroxyphenyl) sulfone, bis(4-hydroxy-3,5-dibromophenyl) sulfone, bis(4
-hydroxyphenyl) sulfide, bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl) sulfide, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane, 4,4'
-Dihydroxybenzophenone, dihydroxynaphthalene, 1,4-(p-hydroxycumyl)benzene, or novolak resins such as phenol, cresol, alkylphenol, catechol, bisphenol A, and bisphenol F, and halogenated products of these phenol resins. . Several types of these phenol compounds can also be used in combination. From the viewpoint of drill workability, it is preferable that the amount of phenol hydroxyl group added is in the range of 0.5 to 1.5 equivalents based on the epoxy resin. In the present invention, novolac type phenolic resin is preferred because it provides high bending strength at high temperatures.

【0008】本発明の配線基用エポキシ樹脂組成物には
、硬化促進剤としてイミダゾール化合物を配合する。 該イミダゾール化合物としてはイミダゾール、2−エチ
ルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール
、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾ
ール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−ヘ
プタデシルイミダゾール、2−イソプロピルイミダゾー
ル、2,4−ジメチルイミダゾール、2−フェニル−4
−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾリン、2−
エチルイミダゾリン、2−イソプロピルイミダゾリン、
2−フェニルイミダゾリン、2−ウンデシルイミダゾリ
ン、2,4ージメチルイミダゾリン、2−フェニル−4
−メチルイミダゾリン等又はこれらをマスクした化合物
が挙げられる。このマスク化剤としては、アクリロニト
リル、フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシ
アネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、メチレンジビスフェニルイソシア
ネート、メラミンアクリレート等がある。これらの硬化
促進剤は何種類か併用してもよく、配合量はエポキシ樹
脂に対して0.01〜10重量%が好ましい。
The epoxy resin composition for wiring bases of the present invention contains an imidazole compound as a curing accelerator. The imidazole compounds include imidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, and 2-isopropyl. Imidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-phenyl-4
-Methylimidazole, 2-methylimidazoline, 2-
Ethylimidazoline, 2-isopropylimidazoline,
2-phenylimidazoline, 2-undecylimidazoline, 2,4-dimethylimidazoline, 2-phenyl-4
-Methylimidazoline, etc., or compounds masking these may be mentioned. Examples of the masking agent include acrylonitrile, phenylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, methylene dibisphenyl isocyanate, and melamine acrylate. Several types of these curing accelerators may be used in combination, and the blending amount is preferably 0.01 to 10% by weight based on the epoxy resin.

【0009】本発明で使用するブロック共重合体(1)
は、下記の方法で合成できる。すなわち一般式(1)中
のフェノール性水酸基を有する二価の芳香族基Ar2 
を持つ芳香族ジカルボン酸と、一般式(1)中の二価の
芳香族基Ar1 を持ち、かつフェノール性水酸基を有
しない芳香族ジカルボン酸に対して、過剰量の一般式(
1)中に2価の芳香族基Ar3 を持つ芳香族ジアミン
を加え、これらを例えば、亜リン酸エステルとピリジン
誘導体の存在下、N−メチル−2−ピロリドンによって
代表される有機溶媒中で、窒素等の不活性雰囲気下に加
熱攪拌する。この結果得られる両末端がアミノアリール
基となったフェノール性水酸基含有ポリアラミドオリゴ
マー溶液に、両末端にカルボキシル基をもつポリブタジ
エン−アクリロニトリル共重合体を添加し、重縮合する
ことによりブロック共重合体が得られる。
Block copolymer (1) used in the present invention
can be synthesized by the following method. That is, the divalent aromatic group Ar2 having a phenolic hydroxyl group in general formula (1)
An excess amount of the aromatic dicarboxylic acid having the divalent aromatic group Ar1 in the general formula (1) and no phenolic hydroxyl group,
Add an aromatic diamine having a divalent aromatic group Ar3 into 1), and add these to, for example, an organic solvent represented by N-methyl-2-pyrrolidone in the presence of a phosphite ester and a pyridine derivative. Heat and stir under an inert atmosphere such as nitrogen. A polybutadiene-acrylonitrile copolymer having carboxyl groups at both ends is added to the resulting polyaramid oligomer solution containing aminoaryl groups at both ends, and polycondensation is performed to form a block copolymer. can get.

【0010】前記のフェノール性水酸基を有するジカル
ボン酸のとしては、5−ヒドロキシイソフタル酸、4−
ヒドロキシイソフタル酸、2−ヒドロキシフタル酸、3
−ヒドロキシフタル酸、2−ヒドロキシテレフタル酸が
挙げられ、又前記のフェノール性水酸基を有しないジカ
ルボン酸の具体例として、フタル酸、イソフタル酸、テ
レフタル酸、4,4’−ビフェニルジカルボン酸、3,
3’−メチレン二安息香酸、4,4’−メチレン二安息
香酸、4,4’−オキシ二安息香酸、4,4’−チオ二
安息香酸、3,3’−カルボニル二安息香酸、4,4’
−カルボニル二安息香酸、4,4’−スルホニル二安息
香酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフ
タレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸
等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
Examples of the dicarboxylic acids having a phenolic hydroxyl group include 5-hydroxyisophthalic acid and 4-hydroxyisophthalic acid.
Hydroxyisophthalic acid, 2-hydroxyphthalic acid, 3
-Hydroxyphthalic acid, 2-hydroxyterephthalic acid, and specific examples of the dicarboxylic acids without phenolic hydroxyl groups include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 4,4'-biphenyldicarboxylic acid, 3,
3'-methylene dibenzoic acid, 4,4'-methylene dibenzoic acid, 4,4'-oxydibenzoic acid, 4,4'-thiodibenzoic acid, 3,3'-carbonyl dibenzoic acid, 4, 4'
- Carbonyl dibenzoic acid, 4,4'-sulfonyl dibenzoic acid, 1,4-naphthalene dicarboxylic acid, 1,5-naphthalene dicarboxylic acid, 2,6-naphthalene dicarboxylic acid, etc., but are limited to these. It's not a thing.

【0011】更に、前記芳香族ジアミンの具体例として
はm−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、
メタトリレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニル
エーテル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジ
フェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエー
テル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4
’−ジアミノジフェニルチオエーテル、3,3’−ジメ
チル−4,4’−ジアミノジフェニルチオエーテル、3
,3’−ジエトキシ−4,4’−ジアミノジフェニルチ
オエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルチオエーテ
ル、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジ
メチル−4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’
−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフ
ェニルメタン、3,3’−ジメトキシ−4,4’−ジア
ミノジフェニルメタン、2,2’−ビス(3−アミノフ
ェニル)プロパン、2,2’−ビス(4−アミノフェニ
ル)プロパン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホキ
シド、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、ベンジ
ジン、3,3’−ジメチルベンジジン、3,3’−ジメ
トキシベンジジン、3,3’−ジアミノビフェニル、p
−キシリレンジアミン、m−キシリレンジアミン等が挙
げられ、これらを単独又は混合して使用することができ
る。
Further, specific examples of the aromatic diamine include m-phenylene diamine, p-phenylene diamine,
Metatolylene diamine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4
'-Diaminodiphenylthioether, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylthioether, 3
, 3'-diethoxy-4,4'-diaminodiphenylthioether, 3,3'-diaminodiphenylthioether, 4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobenzophenone, 3,3 '
-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2'-bis(3-aminophenyl)propane, 2,2'-bis(4- aminophenyl)propane, 4,4'-diaminodiphenylsulfoxide, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, benzidine, 3,3'-dimethylbenzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine, 3,3'-diaminobiphenyl, p
-xylylene diamine, m-xylylene diamine, etc., and these can be used alone or in combination.

【0012】又、両末端にカルボキシル基を持つポリブ
タジエン−アクリロニトリル共重合体は、Goodri
ch社からHycar  CTBNとして市販されてお
り、これらを使用することが出来る。
[0012] In addition, a polybutadiene-acrylonitrile copolymer having carboxyl groups at both ends is produced by Goodri
It is commercially available as Hycar CTBN from ch company, and these can be used.

【0013】本発明のプリント配線基板用絶縁層として
使用されるエポキシ樹脂組成物は、カップリング剤、染
料や顔料等の着色剤、酸化安定剤、光安定剤等を配合す
ることも出来る。
The epoxy resin composition used as the insulating layer for a printed wiring board of the present invention may contain a coupling agent, a coloring agent such as a dye or a pigment, an oxidation stabilizer, a light stabilizer, and the like.

【0014】カップリング剤としては、γ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルトリエトキシシラン等のシラン系カップリング剤、
イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプ
ロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート等の
チタネート系カップリング剤を使用して、更に銅箔との
接着強化を計ることが出来る。
Examples of the coupling agent include silane coupling agents such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and γ-glycidoxypropyltriethoxysilane;
The adhesion to the copper foil can be further strengthened by using a titanate coupling agent such as isopropyl triisostearoyl titanate or isopropyl tridodecylbenzenesulfonyl titanate.

【0015】プリント配線基板用絶縁層として使用され
る本発明のエポキシ樹脂組成物の作製方法として、上記
のエポキシ樹脂、多官能フェノール化合物、一般式(1
)の共重合体、その他必要なイミダゾール化合物等をア
セトン、メチルエチルケトン、トルエン、N,N−ジメ
チルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N
−メチル−2−ピロリドン等の溶媒に溶解させて、ワニ
ス化して基材に塗布、または繊維に含浸させた後、80
〜200℃の範囲で熱乾燥し、配線基板用プリプレグを
作製する。その際、エポキシ樹脂の一部と一般式(1)
のブロック共重合体を反応させて一旦エポキシ樹脂変成
体からなる反応生成物を作成し、然る後、該反応生成物
をエポキシ樹脂、多官能フェノール化合物およびイミダ
ゾール化合物等の添加剤と共に混合して前記溶媒に溶解
し、ワニス化する方法が強靱な接着性能を得るために好
ましい。前記反応生成物について更に詳述すると、次の
通りである。すなわち、本発明の前記エポキシ樹脂のエ
ポキシ基とブロック共重合体のフェノール性水酸基との
反応は、アミド系溶媒中で反応させることによりこれら
の反応生成物が得られる。アミド系溶媒としては、N,
Nージメチルホルムアミド、N,Nージメチルアセトア
ミド、N−メチル−2−ピロリドン等が用いられる。エ
ポキシ樹脂の使用量は、ブロック共重合体に対して1〜
20倍当量、好ましくは5〜15倍当量であえある。こ
の反応温度は50℃以上好ましくは70℃である。ブロ
ック共重合体の使用量は、本発明の配線基板用エポキシ
樹脂組成物に含有する全ポキシ樹脂に対して1〜15重
量%が好ましい。15重量%を超えて添加しても、大き
な塗膜の強靱性やエリクセン性能は得られないので、好
ましくはない。更に、このプリプレグまたはこのプリプ
レグを更に積層したプリプレグに銅箔を加熱加圧して接
着、本発明のプリント配線基板を製造することができる
。又、液状のエポキシ樹脂を使用して、これらの化合物
を溶解させた無溶媒のエポキシ樹脂組成物を基材に塗布
または繊維に含浸させることも可能である。
[0015] As a method for producing the epoxy resin composition of the present invention used as an insulating layer for a printed wiring board, the above epoxy resin, a polyfunctional phenol compound, a compound of the general formula (1
) and other necessary imidazole compounds such as acetone, methyl ethyl ketone, toluene, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N
- After dissolving in a solvent such as methyl-2-pyrrolidone and making it into a varnish and applying it to a base material or impregnating it into fibers,
A wiring board prepreg is produced by heat drying at a temperature of ~200°C. At that time, a part of the epoxy resin and the general formula (1)
A reaction product consisting of a modified epoxy resin is created by reacting a block copolymer of The method of dissolving it in the above-mentioned solvent to form a varnish is preferred in order to obtain strong adhesive performance. Further details of the reaction product are as follows. That is, the reaction between the epoxy group of the epoxy resin of the present invention and the phenolic hydroxyl group of the block copolymer can be carried out in an amide solvent to obtain a reaction product. As the amide solvent, N,
N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, etc. are used. The amount of epoxy resin used is 1 to 1 to 1 for the block copolymer.
The amount is 20 times equivalent, preferably 5 to 15 times equivalent. The reaction temperature is 50°C or higher, preferably 70°C. The amount of the block copolymer used is preferably 1 to 15% by weight based on the total poxy resin contained in the epoxy resin composition for wiring boards of the present invention. Even if it is added in an amount exceeding 15% by weight, it is not preferable because a large coating film toughness or Erichsen performance cannot be obtained. Furthermore, the printed wiring board of the present invention can be manufactured by bonding copper foil to this prepreg or a prepreg obtained by further laminating this prepreg by heating and pressurizing it. It is also possible to use a liquid epoxy resin to coat a base material or impregnate fibers with a solvent-free epoxy resin composition in which these compounds are dissolved.

【0016】このエポキシ樹脂組成物を塗布または含浸
する基材としては、カプトンに代表されるポリイミド樹
脂やアルミ基板などが使用され、繊維としては、セルロ
ース繊維、ガラス繊維、アラミド繊維、カーボン繊維等
が使用される。
[0016] As the base material to which this epoxy resin composition is applied or impregnated, polyimide resin represented by Kapton, aluminum substrate, etc. are used, and as the fiber, cellulose fiber, glass fiber, aramid fiber, carbon fiber, etc. are used. used.

【0017】[0017]

【実施例】以下、更に本発明を実施例を以て説明するが
、本発明はこれらに限定されるものではない。 合成例1 フェノール性水酸基含有アラミド−ポリブタジエン−ア
クリロニトリルブロック共重合体(アラミド部に含有す
るフェノール性水酸基が2モル%)の合成;イソフタル
酸19.60g(118mmol)、3、4’−オキシ
ジアニリン26.4g(132mmol)、5−ヒドロ
キシイソフタル酸0.41g(2.3mmol)、塩化
リチウム3.9g、塩化カルシウム12.1g、N−メ
チル−2−ピロリドン240ml、ピリジン54mlを
1リットルの4ツ口丸底フラスコの中に入れ、攪拌溶解
させた後、亜リン酸トリフェニル74gを加えて、90
℃で4時間反応させて、フェノール性水酸基含有アラミ
ドオリゴマー体を生成させた。これに両末端にカルボキ
シル基を持つポリブタジエン−アクリロニトリル共重合
体(Hycar  CTBN、BF  Goodric
h社製:ポリブタジエンアクリロニトリル部に含有する
アクリロニトリル成分が17モル%で、分子量が約36
00)48gを240mlのピリジンに溶解した液を加
えて、更に4時間反応させた後、室温に冷却、この反応
液をメタノール20リットルに投入して本発明に使用す
るポリブタジエン−アクリロニトリル共重合体部の含有
量が50重量%であるフェノール性水酸基を約2モル%
含有するアラミド−ポリブタジエン−アクリロニトリル
ブロック共重合体を析出させた。この析出ポリマーを更
にメタノール洗浄とメタノール還流により精製した。こ
のポリマーの固有粘度は0.85dl/g(ジメチルア
セトアミド、30℃)であった。ポリマー粉末を拡散反
射法により赤外スペクトルを測定したところ、1674
cm−1にアミドカルボニル基を、2856〜2975
cm−1にブタジエン部分のC−H結合に基づく吸収を
、2245cm−1にニトリル基に基づく吸収を認めた
[Examples] The present invention will be further explained below with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. Synthesis Example 1 Synthesis of phenolic hydroxyl group-containing aramid-polybutadiene-acrylonitrile block copolymer (2 mol% of phenolic hydroxyl groups contained in the aramid part); 19.60 g (118 mmol) of isophthalic acid, 3,4'-oxydianiline 26.4 g (132 mmol), 0.41 g (2.3 mmol) of 5-hydroxyisophthalic acid, 3.9 g of lithium chloride, 12.1 g of calcium chloride, 240 ml of N-methyl-2-pyrrolidone, and 54 ml of pyridine in 4 liters. Pour into a round-bottomed flask and stir to dissolve, then add 74 g of triphenyl phosphite and add 90 g of triphenyl phosphite.
The mixture was reacted at ℃ for 4 hours to produce a phenolic hydroxyl group-containing aramid oligomer. In addition, polybutadiene-acrylonitrile copolymer having carboxyl groups at both ends (Hycar CTBN, BF Goodric
Manufactured by Company H: The acrylonitrile component contained in the polybutadiene acrylonitrile part is 17 mol%, and the molecular weight is approximately 36.
00) Add a solution of 48 g dissolved in 240 ml of pyridine, react for another 4 hours, cool to room temperature, and add this reaction solution to 20 liters of methanol to prepare the polybutadiene-acrylonitrile copolymer used in the present invention. Approximately 2 mol% of phenolic hydroxyl groups with a content of 50% by weight
The aramid-polybutadiene-acrylonitrile block copolymer contained therein was precipitated. This precipitated polymer was further purified by methanol washing and methanol reflux. The intrinsic viscosity of this polymer was 0.85 dl/g (dimethylacetamide, 30°C). When the infrared spectrum of the polymer powder was measured using the diffuse reflection method, it was found that 1674
Amidocarbonyl group at cm-1, 2856-2975
An absorption based on the C-H bond of the butadiene moiety was observed at cm-1, and an absorption based on the nitrile group was observed at 2245 cm-1.

【0018】合成例2 フェノール性水酸基含有アラミド−ポリブタジエン−ア
クリロニトリルブロック共重合体(アラミド部に含有す
るフェノール性水酸基が14モル%)の合成;合成例1
において、イソフタル酸を19.93g(120mmo
l)、3、4’−オキシジアニリンを30.68g(1
53mmol)、5−ヒドロキシイソフタル酸を3.6
4(20mmol)、両末端にカルボキシル基を持つポ
リブタジエン−アクリロニトリル共重合体(Hycar
  CTBN、BF  Goodrich製。ポリブタ
ジエンアクリロニトリル部に含有するアクリロニトリル
が17モル%で、分子量が約3600)を55.5gに
代えた以外は合成例1と同様な操作をして重合を行い、
同様な後処理を行い、本発明に使用するフェノール性水
酸基を約14モル%含有するアラミド−ポリブタジエン
−アクリロニトリルブロック共重合体を析出させた。こ
のポリマーの固有粘度は0.82dl/g(ジメチルア
セトアミド、30℃)であった。ポリマー粉末を拡散反
射法により赤外スペクトルを測定したところ、1675
cm−1にアミドカルボニル基を、2854〜2971
cm−1にブタジエン部分のC−H結合に基づく吸収を
、2243cm−1にニトリル基に基づく吸収を認めた
Synthesis Example 2 Synthesis of phenolic hydroxyl group-containing aramid-polybutadiene-acrylonitrile block copolymer (14 mol% of phenolic hydroxyl groups contained in the aramid part); Synthesis Example 1
, 19.93 g (120 mmo
l), 30.68 g (1
53 mmol), 3.6 5-hydroxyisophthalic acid
4 (20 mmol), polybutadiene-acrylonitrile copolymer with carboxyl groups at both ends (Hycar
CTBN, manufactured by BF Goodrich. Polymerization was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1, except that the acrylonitrile contained in the polybutadiene acrylonitrile portion was 17 mol % and the molecular weight was approximately 3600) was replaced with 55.5 g.
A similar post-treatment was performed to precipitate an aramid-polybutadiene-acrylonitrile block copolymer containing about 14 mol% of phenolic hydroxyl groups used in the present invention. The intrinsic viscosity of this polymer was 0.82 dl/g (dimethylacetamide, 30°C). When the infrared spectrum of the polymer powder was measured using the diffuse reflection method, it was found that 1675
Amidocarbonyl group at cm-1, 2854-2971
An absorption based on the C-H bond of the butadiene moiety was observed at cm-1, and an absorption based on the nitrile group was observed at 2243 cm-1.

【0019】<エポキシ樹脂とブロック共重合体との反
応生成物(A)の生成>ジメチルホルムアミド200g
中に合成例1で得られたフェノール性水酸基を2モル%
含有したフェノール性水酸基含有アラミドーポリブタジ
エンアクリロニトリルブロック共重合体24gを溶解さ
せた後、エポキシ樹脂(AER667、ビスフェノール
A型エポキシ樹脂、平均分子量:2600、エポキシ当
量:2000、旭化成工業(株)製)5.7g、反応促
進剤であるトリフェニルホスフィン0.08gを加えて
90℃で2時間反応させた。これを水に添加して樹脂を
析出させ、温水で洗浄を繰り返し、更にテトラハイドロ
フランを加えて減圧下でこれらの溶媒を共沸させた後、
真空乾燥させ、アラミド部にエポキシ樹脂が反応した反
応生成物(A)を得た。この反応生成物(A)1mgを
約30mlのピリジンに溶解した溶液に、フェノール性
水酸基の呈色指示液(無水塩化−鉄(3価)1gをクロ
ロホルム100mlに溶かし、更にピリジン8mlを加
えて後、析出物をろ過して赤色溶液を調整して得られた
)を数滴加えて攪拌したが、全く変色は認められず、こ
の樹脂にはフェノール性水酸基が全てグリシジル基と反
応し、未反応フェノール残基が含有されていないことを
確認した。
<Production of reaction product (A) between epoxy resin and block copolymer> 200 g of dimethylformamide
2 mol% of the phenolic hydroxyl group obtained in Synthesis Example 1 in
After dissolving 24 g of the contained phenolic hydroxyl group-containing aramidopolybutadiene acrylonitrile block copolymer, epoxy resin (AER667, bisphenol A epoxy resin, average molecular weight: 2600, epoxy equivalent: 2000, manufactured by Asahi Kasei Corporation) 5 .7 g and 0.08 g of triphenylphosphine as a reaction accelerator were added, and the mixture was reacted at 90° C. for 2 hours. This was added to water to precipitate the resin, washed repeatedly with warm water, and then tetrahydrofuran was added to azeotrope these solvents under reduced pressure.
It was vacuum dried to obtain a reaction product (A) in which the epoxy resin reacted with the aramid part. To a solution in which 1 mg of this reaction product (A) was dissolved in about 30 ml of pyridine, 1 g of anhydrous chloride-iron (trivalent) was dissolved in 100 ml of chloroform, and 8 ml of pyridine was added. (obtained by filtering the precipitate and preparing a red solution) was added and stirred, but no discoloration was observed; all the phenolic hydroxyl groups in this resin had reacted with the glycidyl groups, and no unreacted It was confirmed that no phenol residues were contained.

【0020】<エポキシ樹脂とブロック共重合体との反
応生成物(B)の生成>合成例2で得られたフェノール
性水酸基が約14モル%含有したアラミドーポリブタジ
エンアクリロニトリルブロック共重合体24g、エポキ
シ樹脂14.4(AER667、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂、平均分子量:2600、エポキシ当量:2
000、旭化成工業(株)製)、硬化剤であるトリフェ
ニルホスフィン0.6mgをジメチルフォルムアミド2
00gに溶解させて樹脂組成物例1と同様な操作を行っ
て、アラミド−ポリブタジエンアクリロニトリルブロッ
ク共重合体とエポキシ樹脂との反応生成物(B)を得た
。この反応生成物(B)1mgを約30mlのピリジン
に溶解した溶液にフェノール性水酸基の呈色指示液(無
水塩化鉄(3価)1gをクロロホルム100mlに溶か
し、更にピリジン8mlを加えて後、析出物をろ過して
赤色溶液を調整して得られた)を数滴加えて攪拌したが
、全く変色は認められず、この樹脂にはフェノール性水
酸基が全てグリシジル基と反応し、未反応フェノール残
基が含有されていないことを確認した。
<Production of reaction product (B) of epoxy resin and block copolymer> 24 g of the aramidopolybutadiene acrylonitrile block copolymer containing about 14 mol% of phenolic hydroxyl groups obtained in Synthesis Example 2, epoxy Resin 14.4 (AER667, bisphenol A type epoxy resin, average molecular weight: 2600, epoxy equivalent: 2
000, manufactured by Asahi Kasei Industries, Ltd.), 0.6 mg of triphenylphosphine, a curing agent, was added with dimethylformamide 2
A reaction product (B) of an aramid-polybutadiene acrylonitrile block copolymer and an epoxy resin was obtained by dissolving the mixture in 0.0 g and performing the same operation as in Resin Composition Example 1. To a solution of 1 mg of this reaction product (B) dissolved in about 30 ml of pyridine, 1 g of anhydrous iron chloride (trivalent), anhydrous iron chloride (trivalent), was dissolved in 100 ml of chloroform, and 8 ml of pyridine was added, followed by precipitation. A few drops of the red solution (obtained by filtering the substance and preparing a red solution) were added and stirred, but no discoloration was observed; all the phenolic hydroxyl groups in this resin reacted with the glycidyl groups, and unreacted phenol remained. It was confirmed that no groups were contained.

【0021】実施例1   臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ
当量:550)  77g  反応生成物(A)   
                         
                  10g  フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量:20
0)    20g  フェノールノボラック樹脂  
                         
           30g  エチルアミン塩酸塩
                         
                     2g  
γ−グリシドキプロピルトリメトキシシラン     
                   2g  1−
シアノエチル−2−フェニルイミダゾール      
              0.2g上記の各化合物
をメチルエチルケトンに溶解し、不揮発分60%のワニ
スとした。このワニスを厚さ1mm、大きさ50×50
mmのガラス布に含浸後、130℃で10分間加熱乾燥
してプリプレグを得た。
Example 1 Brominated bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent: 550) 77g Reaction product (A)

10g phenol novolac type epoxy resin (epoxy equivalent: 20
0) 20g phenol novolak resin

30g ethylamine hydrochloride
2g
γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane
2g 1-
Cyanoethyl-2-phenylimidazole
0.2 g of each of the above compounds was dissolved in methyl ethyl ketone to prepare a varnish with a nonvolatile content of 60%. Apply this varnish to a thickness of 1 mm and a size of 50 x 50
A prepreg was obtained by impregnating a glass cloth with a diameter of 1.0 mm and then heating and drying it at 130° C. for 10 minutes.

【0022】実施例2 実施例1において使用した反応生成物(A)10gを反
応生成物(B)15gに代え、更に臭素化ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂77gを75gに代えた以外は全く
実施例1と同じ方法でプリプグを得た。
Example 2 Example 1 was completely repeated, except that 10 g of the reaction product (A) used in Example 1 was replaced with 15 g of the reaction product (B), and 77 g of the brominated bisphenol A epoxy resin was replaced with 75 g. I got prepug in the same way.

【0023】実施例3 実施例1において使用した反応生成物(A)10gを反
応生成物(B)30gに代え、更に臭素化ビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂77gを65gに代えた以外は実施
例1と全く同じ方法でプリプレグを得た。
Example 3 Same as Example 1 except that 10 g of the reaction product (A) used in Example 1 was replaced with 30 g of the reaction product (B), and 77 g of the brominated bisphenol A epoxy resin was replaced with 65 g. Prepreg was obtained in exactly the same way.

【0024】実施例4   臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ
当量:530)  75g  反応生成物(B)   
                         
                  15g  フェ
ノールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量:20
0)    20g  フェノールノボラック樹脂  
                         
           30g  エチルアミン塩酸塩
                         
                     2g  
γ−グリシドキプロピルトリメトキシシラン     
                   2g  1−
シアノエチル−2−フェニルイミダゾール      
              0.2g上記の化合物を
N−ジメチルアセトアミドに溶解し、不揮発分25%の
ワニスとした。このワニスを厚さ125μm、大きさ5
0×50mmのカプトンに塗布後、130℃で10分間
加熱乾燥してプリプレグを得た。
Example 4 Brominated bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent: 530) 75g Reaction product (B)

15g phenol novolac type epoxy resin (epoxy equivalent: 20
0) 20g phenol novolak resin

30g ethylamine hydrochloride
2g
γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane
2g 1-
Cyanoethyl-2-phenylimidazole
0.2 g of the above compound was dissolved in N-dimethylacetamide to prepare a varnish with a nonvolatile content of 25%. This varnish has a thickness of 125 μm and a size of 5
After coating on a 0x50 mm Kapton, it was heated and dried at 130°C for 10 minutes to obtain a prepreg.

【0025】実施例5 実施例4において使用した反応生成物(B)15gを3
0gに、更に、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂
75gを65gに代えた以外は全く実施例4と同じ方法
でプリプレグを得た。
Example 5 15 g of the reaction product (B) used in Example 4 was
A prepreg was obtained in exactly the same manner as in Example 4, except that 0 g of the brominated bisphenol A type epoxy resin was replaced with 65 g of the brominated bisphenol A epoxy resin.

【0026】比較例1 実施例1において使用した反応生成物(A)を除き、更
に、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂75gを8
0gに代えた以外は全く実施例1と同じ方法でプリプレ
グを得た。
Comparative Example 1 In addition to the reaction product (A) used in Example 1, 75 g of brominated bisphenol A type epoxy resin was added to 8
A prepreg was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount was changed to 0 g.

【0027】比較例2 実施例4において使用した反応生成物(B)を除き、更
に、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂75gを8
0gに代えた以外は全く実施例4と同じ方法でプリプレ
グを得た。
Comparative Example 2 In addition to the reaction product (B) used in Example 4, 75 g of brominated bisphenol A type epoxy resin was added to 8
A prepreg was obtained in the same manner as in Example 4 except that the amount was changed to 0 g.

【0028】比較例3 実施例4において使用した反応生成物(B)を除き、更
に、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂75gを8
0gに、フェノールノボラック樹脂30gをジシアミン
ジアミド4gに代えた以外は全く実施例4と同じ方法で
プリプレグを得た。
Comparative Example 3 In addition to the reaction product (B) used in Example 4, 75 g of brominated bisphenol A type epoxy resin was added to 8
A prepreg was obtained in the same manner as in Example 4, except that 30 g of the phenol novolac resin was replaced with 4 g of dicyamine diamide.

【0029】実施例1〜3、比較例1で得たプリプレグ
を3枚と厚さ35μm、大きさ50×50mmの銅箔2
枚を用いて、170℃、100分、50kg/cm2 
の条件で加熱加圧して銅張積層板を作製した。更に、こ
の銅張積層板の両側に前記したプリプレグを同じ条件で
積層、加熱加圧して、三層の配線基板を作製した。又、
実施例4と5、比較例2と3で得たカプトン上に形成し
たプリプレグに同じ35μmの銅箔を積層し、170℃
、100分、50kg/cm2 の条件で加熱加圧して
銅張積層板を作製した。これら銅箔回路配線基板に対し
て、スミア発生率状況観察、銅箔引き剥し強さ測定、折
り曲げ試験を行った。これらの結果を表1に示す。 スミア発生率評価:ドリル加工した配線基板にスルーホ
ールメッキを施し、スルーホール部の切断面を顕微鏡に
て穴の内層銅とスルーホールメッキ銅との接続部分を観
察し、スミア発生状況を調べた(実施例1〜3、比較例
1の試料に対してのみ行った)。 銅箔引き剥し強さ評価:配線基板上の銅箔に1mm幅の
ラインを形成した。このラインは、基板上の銅箔にネガ
型ドライフィルム(ヘキスト社製、OZAPECF52
5)を貼り合わせ、露光、現像後40Bёの塩化第二鉄
水溶液でエッチンッグして形成した。そのラインの90
度方向の引き剥し強さを50mm/minの引き剥し速
度で測定した(実施例1〜5、比較例1〜3の試料に対
して行った)。なお表1における常温とは25℃を、又
加熱とは155℃で240時間加熱処理後を示す。 折り曲げ試験:回路基板を180度折り曲げて、その折
り曲げ部分にクラックが形成されたか否かで可及び不可
の評価を下した(実施例4と5、比較例2と3の試料に
対して行った)。
[0029] Three prepreg sheets obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 and a copper foil 2 with a thickness of 35 μm and a size of 50 x 50 mm.
170℃, 100 minutes, 50kg/cm2
A copper-clad laminate was produced by heating and pressing under the following conditions. Further, the prepreg described above was laminated on both sides of this copper-clad laminate under the same conditions, and heated and pressed to produce a three-layer wiring board. or,
The same 35 μm copper foil was laminated on the prepreg formed on Kapton obtained in Examples 4 and 5 and Comparative Examples 2 and 3, and heated at 170°C.
A copper-clad laminate was produced by heating and pressing under the conditions of 100 minutes and 50 kg/cm2. These copper foil circuit wiring boards were subjected to observation of smear occurrence rate, measurement of copper foil peeling strength, and bending test. These results are shown in Table 1. Evaluation of smear occurrence rate: Through-hole plating was applied to a drilled wiring board, and the connection between the inner layer copper of the hole and the through-hole plated copper was observed using a microscope on the cut surface of the through-hole section, and the occurrence of smear was investigated. (This was carried out only for the samples of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1). Copper foil peel strength evaluation: A 1 mm wide line was formed on the copper foil on the wiring board. This line uses a negative dry film (manufactured by Hoechst, OZAPECF52) on the copper foil on the board.
5) were bonded together, exposed, developed, and etched with 40 Bё of ferric chloride aqueous solution. 90 of that line
The peel strength in the degree direction was measured at a peel rate of 50 mm/min (measured for the samples of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3). In Table 1, normal temperature means 25°C, and heating means after heat treatment at 155°C for 240 hours. Bending test: The circuit board was bent 180 degrees, and an evaluation of pass or fail was made based on whether or not a crack was formed at the bent part (this was done on samples of Examples 4 and 5 and Comparative Examples 2 and 3). ).

【0030】[0030]

【表1】[Table 1]

【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物を絶縁層と
する配線基板は、スミアの発生が少なく、銅箔との強い
接着性、強靱性を有するので好適に使用できる。
Effects of the Invention A wiring board having an insulating layer made of the epoxy resin composition of the present invention can be suitably used because it causes less smearing and has strong adhesion to copper foil and toughness.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  少なくともエポキシ樹脂、多官能フェ
ノール化合物、イミダゾール化合物および一般式(1)
で示すフェノール性水酸基含有アラミド−ポリブタジエ
ン−アクリロニトリルブロック共重合体とを含有するこ
とを特徴とする配線基板用エポキシ樹脂組成物。 【化1】 (式中x=3〜7の整数、y=1〜4の整数、y/(x
+y)=0.1〜0.3、z=5〜15の整数、m=1
〜400の整数、n=1〜400の整数、n/(m+n
)=0.01〜0.50、l=1〜50の整数、Ar1
 、Ar3 は二価の芳香族基、Ar2 はフェノール
性水酸基を含有する二価の芳香族基を示す)【請求項2
】  多官能フェノール化合物が、ノボラック型フェノ
ール樹脂であることを特徴とする請求項1記載の配線基
板用エポキシ樹脂組成物。
Claim 1: At least an epoxy resin, a polyfunctional phenol compound, an imidazole compound, and the general formula (1)
An epoxy resin composition for a wiring board, comprising a phenolic hydroxyl group-containing aramid-polybutadiene-acrylonitrile block copolymer. [Formula 1] (where x = integer from 3 to 7, y = integer from 1 to 4, y/(x
+y) = 0.1 to 0.3, z = integer of 5 to 15, m = 1
~400 integer, n=1~400 integer, n/(m+n
) = 0.01 to 0.50, l = integer of 1 to 50, Ar1
, Ar3 represents a divalent aromatic group, Ar2 represents a divalent aromatic group containing a phenolic hydroxyl group) [Claim 2
10. The epoxy resin composition for wiring boards according to claim 1, wherein the polyfunctional phenol compound is a novolac type phenol resin.
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