JPH04342443A - Article for building and building finish - Google Patents
Article for building and building finishInfo
- Publication number
- JPH04342443A JPH04342443A JP14141491A JP14141491A JPH04342443A JP H04342443 A JPH04342443 A JP H04342443A JP 14141491 A JP14141491 A JP 14141491A JP 14141491 A JP14141491 A JP 14141491A JP H04342443 A JPH04342443 A JP H04342443A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- building
- layer
- compound
- organic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims abstract description 46
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 85
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 64
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 61
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims description 43
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 20
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 13
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 9
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 9
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 9
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 claims description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N Nicotinamide Chemical group NC(=O)C1=CC=CN=C1 DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002344 aminooxy group Chemical group [H]N([H])O[*] 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 21
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 abstract description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 13
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 8
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 abstract description 8
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 abstract 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 50
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 44
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 26
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 239000002585 base Substances 0.000 description 17
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 11
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005328 architectural glass Substances 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 4
- BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloro-2,2,2-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)(Cl)Cl BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GXGJIOMUZAGVEH-UHFFFAOYSA-N Chamazulene Chemical group CCC1=CC=C(C)C2=CC=C(C)C2=C1 GXGJIOMUZAGVEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- CAEPKDWOZATEMI-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)COCC1CO1 CAEPKDWOZATEMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGCVEHIYVPDFMS-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl)silane Chemical compound C1C(C[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 HGCVEHIYVPDFMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFBULLRGNLZJAF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COCC1CO1 LFBULLRGNLZJAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROYZOPPLNMOKCU-UHFFFAOYSA-N 2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl-tripropoxysilane Chemical compound C1C(CC[Si](OCCC)(OCCC)OCCC)CCC2OC21 ROYZOPPLNMOKCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJNHMDMCAAKXHV-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl-(2,2,2-trimethoxyethoxy)silane Chemical compound COC(OC)(OC)CO[SiH2]CCCOCC1CO1 GJNHMDMCAAKXHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUXLAULAZDJOEK-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl-triphenoxysilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)CCCOCC1CO1 GUXLAULAZDJOEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAJFVZRDKCROQC-UHFFFAOYSA-N 3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl-tripropoxysilane Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)CCCOCC1CO1 DAJFVZRDKCROQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBNRBJNIYVXSQV-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCS MBNRBJNIYVXSQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEZMLECYELSZDC-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCCl KEZMLECYELSZDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropanenitrile Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC#N GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OTCOSAMIXUWQOA-UHFFFAOYSA-N COC(OC)(OC)CO[SiH2]C Chemical compound COC(OC)(OC)CO[SiH2]C OTCOSAMIXUWQOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBCKNNLUHJSRKY-UHFFFAOYSA-N O1C2CC(CCC21)CCC(C(OC)(OC)OC)O[Si](C)(C)C Chemical compound O1C2CC(CCC21)CCC(C(OC)(OC)OC)O[Si](C)(C)C XBCKNNLUHJSRKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 201000001880 Sexual dysfunction Diseases 0.000 description 1
- 229910007161 Si(CH3)3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007166 Si(NCO)4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOKSMMGULAYSTD-UHFFFAOYSA-N [SiH4].N=C=O Chemical compound [SiH4].N=C=O NOKSMMGULAYSTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)OC(C)=O RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDVQLGHYJSJBKA-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(3-chloropropyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)CCCCl YDVQLGHYJSJBKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(phenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N butyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)OC SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 125000004965 chloroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](CCl)(OCC)OCC ZDOBWJOCPDIBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](CCl)(OC)OC FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- JIOUJECYOVQAMA-UHFFFAOYSA-N dibutoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)CCCOCC1CO1 JIOUJECYOVQAMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GENZKBJGWAAVIE-UHFFFAOYSA-N diethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-phenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 GENZKBJGWAAVIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWHSEFXLFMRCOO-UHFFFAOYSA-N diethoxy-[5-(oxiran-2-ylmethoxy)pent-1-enyl]silane Chemical compound C(C1CO1)OCCCC=C[SiH](OCC)OCC OWHSEFXLFMRCOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODADONMDNZJQMW-UHFFFAOYSA-N diethoxy-ethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)CCCOCC1CO1 ODADONMDNZJQMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDXQFCXRDHAHNE-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C(C)OCC1CO1 NDXQFCXRDHAHNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTUJVDGSKMWKAN-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C(CC)OCC1CO1 FTUJVDGSKMWKAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUXUUPOAQMPKOK-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCOCC1CO1 FUXUUPOAQMPKOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUFWVNRUIVIGCH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CC(C)OCC1CO1 HUFWVNRUIVIGCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C1=CC=CC=C1 MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQPPMINVIMPSDP-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-[5-(oxiran-2-ylmethoxy)pent-1-enyl]silane Chemical compound C(C1CO1)OCCCC=C[SiH](OC)OC FQPPMINVIMPSDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLFWUGYBCZFNMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C(C)OCC1CO1 RLFWUGYBCZFNMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQODNYDIZIFQGO-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C(CC)OCC1CO1 KQODNYDIZIFQGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWPGWRIGYKWLEV-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCOCC1CO1 PWPGWRIGYKWLEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYPWIQUCQXCZCF-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CC(C)OCC1CO1 SYPWIQUCQXCZCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002168 ethanoic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- YCIAPTIZYCRWAU-UHFFFAOYSA-N ethyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-dipropoxysilane Chemical compound CCCO[Si](CC)(OCCC)CCCOCC1CO1 YCIAPTIZYCRWAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- DRXHEPWCWBIQFJ-UHFFFAOYSA-N methyl(triphenoxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(C)OC1=CC=CC=C1 DRXHEPWCWBIQFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUIXFHFVVWQXSW-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-diphenoxysilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(C)CCCOCC1CO1 CUIXFHFVVWQXSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOARQMXRPHXHID-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-dipropoxysilane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)CCCOCC1CO1 VOARQMXRPHXHID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000013535 sea water Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutan-2-yl silicate Chemical compound CCC(C)O[Si](OC(C)CC)(OC(C)CC)OC(C)CC OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCLLLHFGVQKVKL-UHFFFAOYSA-N tetratert-butyl silicate Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C BCLLLHFGVQKVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010257 thawing Methods 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- OAVPBWLGJVKEGZ-UHFFFAOYSA-N tributoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC)CCC2OC21 OAVPBWLGJVKEGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYWWLSIKWDAEC-UHFFFAOYSA-N tributoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)CCCOCC1CO1 FQYWWLSIKWDAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNKMHLWJZHLPPM-UHFFFAOYSA-N triethoxy(oxiran-2-ylmethoxymethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)COCC1CO1 UNKMHLWJZHLPPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHKFEBYBHZXHMM-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(CCC)OCC1CO1 OHKFEBYBHZXHMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJQPASOTJGFOMU-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(C)OCC1CO1 SJQPASOTJGFOMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFRRMEMOPXUROM-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(CC)OCC1CO1 NFRRMEMOPXUROM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVMMYGUCXRZVPJ-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CC(CC)OCC1CO1 FVMMYGUCXRZVPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFUDQABJYSJIQY-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CC(C)OCC1CO1 CFUDQABJYSJIQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLKPPXKQMJDBFO-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)propyl]silane Chemical compound C1C(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 NLKPPXKQMJDBFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPNCYSTUWLXFOE-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(C)OCC1CO1 KPNCYSTUWLXFOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSUKBUSXHYKMLU-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[4-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)butyl]silane Chemical compound C1C(CCCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 PSUKBUSXHYKMLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSUGNQKJVLXBHC-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCOCC1CO1 GSUGNQKJVLXBHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFJVMNHOSKMOSA-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CCCC([Si](OC)(OC)OC)OCC1CO1 FFJVMNHOSKMOSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAVVOFDYOGMLNQ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(C)OCC1CO1 DAVVOFDYOGMLNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNBIAJGPJUOAPB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(CC)OCC1CO1 FNBIAJGPJUOAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFKPRKYSBTUDV-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(CC)OCC1CO1 KKFKPRKYSBTUDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNXDCSVNCSSUNB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCOCC1CO1 ZNXDCSVNCSSUNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTVULPNMIHOVRU-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)OCC1CO1 HTVULPNMIHOVRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBUFXGVMAMMWSD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)propyl]silane Chemical compound C1C(CCC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DBUFXGVMAMMWSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQPNGHDNBNMPON-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(C)OCC1CO1 ZQPNGHDNBNMPON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUKYSRVOOIKHHB-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCOCC1CO1 GUKYSRVOOIKHHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は、水滴の付着が少ないあ
るいは付着した水滴の除去が容易な表面を有する建築・
建装用物品に関するものである。[Industrial Application Field] The present invention is applicable to buildings and buildings having surfaces to which water droplets are less likely to adhere or to which adhered water droplets can be easily removed.
This relates to construction goods.
【0002】0002
【従来の技術】家屋、ビルディング、その他の建築物の
外装部材や内装部材、または、建築物のインテリアやエ
クステリア、家具や什器、その他の建築・建装用物品、
または建築・建装用物品の構成要素である基材において
、その物品の表面は常に清浄であることが好ましい。
建築・建装用物品の表面に、雨滴、ほこり、汚れ等が付
着したり、大気中の温度や湿度の影響によって水分が凝
縮すると、その外観が損なわれる。それが人の目に直接
触れる表面であったり、人が接触する表面であると、不
快感や衛生上の問題も生じる。[Prior Art] Exterior and interior components of houses, buildings, and other buildings, interiors and exteriors of buildings, furniture and fixtures, and other architectural and construction products;
Alternatively, in the case of a base material that is a component of an article for building or construction, it is preferable that the surface of the article is always clean. 2. Description of the Related Art When raindrops, dust, dirt, etc. adhere to the surface of architectural and construction articles, or when moisture condenses due to the influence of atmospheric temperature and humidity, the appearance of the article is impaired. Discomfort and hygiene issues can also arise if it is a surface that is directly visible or comes into contact with people.
【0003】さらには、建築・建装用物品表面が有する
本来の機能を著しく低下させることにもなる。特に、建
築・建装用物品が透明性、透視野性を要求される物品(
例えば、窓ガラスや鏡等)である場合には、この種の現
象はその物品の本来の目的すら達成できないことに通じ
る。[0003]Furthermore, the original functions of the surfaces of articles for construction and construction are significantly degraded. In particular, architectural and construction products that require transparency and see-through visibility (
For example, in the case of objects (such as window glass and mirrors), this type of phenomenon can lead to the object not even being able to achieve its original purpose.
【0004】水滴等を除去するための手段(例えば、ふ
き取りやワイパーによる除去)は、ときとして表面に微
細な傷を付けることがある。また、水滴等に伴われる異
物粒子によってかかる損傷を一層著しいものとすること
もある。さらに、ガラス表面に水分が付着した場合には
、水分中にガラス成分が溶出し、表面が浸食されていわ
ゆる焼けを生じることはよく知られている。この焼けを
除去するために強く摩擦すると微細な凸凹を生じ易い。
焼けが激しく生じたガラスや表面に微細な凸凹を生じた
ガラスからなる透視野部は、本来の機能が低下し、また
、その表面で光の散乱が激しく視野確保の点で不都合が
生じるため安全性に問題がある。[0004]Means for removing water droplets and the like (for example, wiping or using a wiper) sometimes cause minute scratches on the surface. Further, foreign particles accompanying water droplets or the like may make such damage even more severe. Furthermore, it is well known that when moisture adheres to a glass surface, glass components dissolve into the moisture, causing the surface to erode and cause so-called burns. If strong friction is applied to remove this burn, fine irregularities are likely to occur. Transparent viewing areas made of glass that is severely burnt or has minute irregularities on its surface are not safe because their original function is degraded and the surface scatters light severely, making it difficult to maintain a clear field of view. I have a sexual problem.
【0005】その他にも、水分は、建築・建装用物品の
表面に有害な影響を与えて損傷、汚染、着色、腐食等を
促進させ、また、建築・建装用物品の電気的特性、機械
的特性、光学的特性等の変化を誘発することもある。[0005] In addition, moisture has a harmful effect on the surfaces of construction and construction products, promoting damage, contamination, coloring, corrosion, etc., and also impairs the electrical properties and mechanical properties of construction and construction products. It may also induce changes in properties, optical properties, etc.
【0006】このような現状において、建築・建装用物
品表面に水滴の付着が少ないあるいは付着した水滴の除
去が容易な性質(以下これらを単に水滴除去性という)
を付与することは強く求められているところである。従
来から表面を水滴除去性にするために、例えばシリコン
系ワックスやオルガノポリシロキサンからなるシリコン
油、界面活性剤などを直接塗布する表面処理剤が提案さ
れている。[0006] Under these current circumstances, it is necessary to have properties such that there are few water droplets attached to the surface of objects for construction and construction, or the attached water droplets can be easily removed (hereinafter, these are simply referred to as water droplet removability).
There is a strong need to provide this. In order to make the surface removable from water droplets, surface treatment agents have been proposed in which, for example, silicone waxes, silicone oils made of organopolysiloxane, surfactants, and the like are directly applied.
【0007】しかるに、これらは、塗布に伴う前処理を
必要とするものが多く、かつ塗布時に塗布ムラが発生し
易いという問題があった。また、処理剤自身の基材への
付着性が低いことにより、水滴除去性の長期持続性を満
足し得るには至らず、しかも処理剤の適用範囲が限定さ
れていた。However, many of these require pretreatment for coating, and there are problems in that coating unevenness tends to occur during coating. In addition, due to the low adhesion of the treatment agent itself to the substrate, long-term sustainability of water droplet removability has not been achieved, and the range of application of the treatment agent has been limited.
【0008】また、水分の悪影響を考慮した際には、今
後製作される建築・建装用物品はもちろんのこと、既に
使用されている建築・建装用物品に対しても対策を構じ
る必要がある。この場合には、各物品に常温で直接処理
するだけで水滴除去性を付与する必要がある。例えば、
既に建築物に取りつけられている窓ガラスにこうした処
理を行うことを考えた場合、経済的に窓ガラスを入れ替
えることは経済的に不利であり、また、塗布後その部分
を焼成することも現実的には不可能である。この観点か
らも従来提案されている処理剤では対応が困難であると
いうのが現状である。[0008] Furthermore, when considering the adverse effects of moisture, it is necessary to take measures not only for construction and construction products that will be manufactured in the future, but also for construction and construction products that are already in use. be. In this case, it is necessary to impart water droplet removability to each article simply by directly treating it at room temperature. for example,
When considering applying such a treatment to window glass that is already installed in a building, it is economically disadvantageous to replace the window glass, and it is also practical to bake the area after application. It is impossible. From this point of view as well, the current situation is that it is difficult to deal with this problem using the processing agents that have been proposed so far.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の如き
問題点に鑑みなされたものである。すなわち、本発明者
は、従来の提案が有していた欠点を解消し得る処理剤の
研究、検討の過程において、多種類の基材に応用が可能
であり、優れた水滴除去性を発現する処理剤を見い出し
、しかも、該処理剤で処理した各種基材は水滴除去性を
有する基材として、特に建築・建装用物品として極めて
好適であることを確認し、本発明を完成するに至った。
従って、本発明は、水滴除去性を有し、耐摩耗性、耐薬
品性、耐候性に優れることで、その効果が半永久的に持
続する建築・建装用物品の提供を目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems. That is, in the process of researching and considering a treatment agent that can eliminate the drawbacks of conventional proposals, the present inventor found that it can be applied to many types of substrates and exhibits excellent water droplet removal properties. We have discovered a treatment agent and confirmed that various substrates treated with the treatment agent are extremely suitable as substrates with water droplet removal properties, particularly as articles for construction and construction, leading to the completion of the present invention. . Therefore, an object of the present invention is to provide an article for construction and construction that has water droplet removability and is excellent in abrasion resistance, chemical resistance, and weather resistance, and whose effects last semi-permanently.
【0010】0010
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
した下記の発明である。少なくとも2層の表面処理層を
有する基材からなる、あるいはその基材を構成要素とす
る、建築・建装用物品であって、表面処理層の最外層で
ある第1層がイソシアネートシラン化合物(I) で処
理して得られる層であり、最外層に接する下層である第
2層が加水分解性シラン化合物(II)あるいはその部
分加水分解生成物で処理して得られる層である、建築・
建装用物品。[Means for Solving the Problems] The present invention is the following invention that achieves the above objects. An article for architecture and construction, consisting of a base material having at least two surface treatment layers, or having the base material as a constituent element, in which the first layer, which is the outermost layer of the surface treatment layers, is made of an isocyanate silane compound (I ), and the second layer, which is the lower layer in contact with the outermost layer, is a layer obtained by treating with the hydrolyzable silane compound (II) or its partial hydrolysis product.
Construction items.
【0011】本発明において、イソシアネートシラン化
合物(I) とは、少なくとも1つのイソシアネート基
がケイ素原子に直接結合した構造を有する化合物を意味
する。この化合物は少なくとも1つの有機基を有してい
てもよく、テトライソシアネートシランのような有機基
を有しない化合物であってもよい。好ましくは、ケイ素
原子に結合した少なくとも1つの有機基(有機基とケイ
素原子は炭素−ケイ素結合で結合している)を有するオ
ルガノイソシアネートシラン化合物である。In the present invention, the isocyanate silane compound (I) means a compound having a structure in which at least one isocyanate group is directly bonded to a silicon atom. This compound may have at least one organic group or may be a compound without an organic group such as tetraisocyanatesilane. Preferred is an organoisocyanate silane compound having at least one organic group bonded to a silicon atom (the organic group and the silicon atom are bonded via a carbon-silicon bond).
【0012】イソシアネートシラン化合物(I) で処
理された表面とは、イソシアネートシラン化合物(I)
が化学的にあるいは物理的に結合した第2層の表面を
いう。イソシアネート基が反応性であるので、イソシア
ネートシラン化合物(I) は主として化学的反応によ
り第2層の表面に結合するものと考えられる。即ち、結
合状態においてはイソシアネート基は変化しているもの
と考えられる。例えば、イソシアネート基はガラス表面
のシラノール基と反応すると考えられ、また、イソシア
ネート基が脱離して生成するシラノール基が反応すると
も考えられる。[0012] The surface treated with isocyanate silane compound (I) means
refers to the surface of the second layer to which are chemically or physically bonded. Since the isocyanate group is reactive, it is believed that the isocyanate silane compound (I) is bonded to the surface of the second layer mainly through a chemical reaction. That is, it is considered that the isocyanate group is changed in the bonded state. For example, it is thought that isocyanate groups react with silanol groups on the glass surface, and it is also thought that silanol groups that are generated when the isocyanate groups are eliminated react.
【0013】本発明において、処理された表面の水滴除
去性、耐摩耗性、耐薬品性、耐候性などの性能の少なく
とも一部はこのイソシアネート基の反応性によるもので
あり、他の一部はこのイソシアネート基と直接結合した
ケイ素原子によるものであると考えられる。また後述の
ように、オルガノイソシアネートシラン化合物(I)
の有機基を選択することによりこれら性能をさらに向上
することができるものである。また、第2層表面に対す
る結合性の面で、1個のケイ素原子に結合したイソシア
ネート基は2以上であることがより好ましい。[0013] In the present invention, at least part of the performance of the treated surface, such as water droplet removability, abrasion resistance, chemical resistance, and weather resistance, is due to the reactivity of this isocyanate group, and the other part is due to the reactivity of the isocyanate group. This is thought to be due to the silicon atom directly bonded to this isocyanate group. In addition, as described later, organoisocyanate silane compound (I)
These performances can be further improved by selecting organic groups. Further, from the viewpoint of bondability to the surface of the second layer, it is more preferable that the number of isocyanate groups bonded to one silicon atom is two or more.
【0014】本発明において建築・建装用物品とは、前
記の様に建築物に取り付けられる物品、すでに建築物に
取り付けられている物品、あるいは建築物に直接取り付
けられていなくともそれとともに使用される建築用物品
、家具や什器などの建装用物品、およびそれら物品の構
成要素である基材(ガラス板など)をいう。具体的には
、窓用ガラス板や窓ガラス、屋根用ガラス板やガラス屋
根、ドア用ガラス板やそれがはめ込まれたドア、間仕切
り用ガラス板、温室用ガラス板や温室、ガラスの代わり
に使用される透明プラスチック板やそれを有する上記の
ような建築用物品(窓材や屋根材など)、セラミックス
、セメント、金属その他の材料からなる壁材、鏡やそれ
を有する家具、陳列棚やショーケース用のガラスなどが
ある。[0014] In the present invention, articles for construction and construction are articles that are attached to a building as described above, articles that are already attached to a building, or articles that are used together with a building even if they are not directly attached to the building. Refers to architectural articles, architectural articles such as furniture and fixtures, and the base materials (glass plates, etc.) that are the constituent elements of these articles. Specifically, glass plates for windows and window glasses, glass plates for roofs and glass roofs, glass plates for doors and doors into which they are fitted, glass plates for partitions, glass plates for greenhouses and greenhouses, and used in place of glass. Transparent plastic plates and architectural articles such as those mentioned above (window materials, roofing materials, etc.), wall materials made of ceramics, cement, metals, and other materials, mirrors and furniture containing them, display shelves and showcases. There is glass for use.
【0015】物品は、表面処理された基材のみからなっ
ていてもよく、表面処理された基材が組み込まれたもの
であってもよい。例えば、前者として窓用ガラス板があ
り、後者としてガラス鏡が組み込まれた家具がある。[0015] The article may consist solely of a surface-treated substrate, or may incorporate a surface-treated substrate. For example, the former type includes window glass plates, and the latter type includes furniture with built-in glass mirrors.
【0016】建築・建装用物品の基材の種類は特に限定
されるものではない。例えば、金属、プラスチック、ガ
ラス、セラミックス、その他の無機質材料や有機質材料
、あるいはその組み合わせ(複合材料、積層材料等)が
ある。また基材の表面は、基材そのものの表面は勿論、
塗装金属板等の塗膜表面や表面処理ガラスの表面処理層
の表面など、基材表面に存在する基材とは異なる材質の
表面であってもよい。また、基材の形状としては平板に
限らず、全面に、あるいは部分的に曲率を有するものな
ど目的に応じた任意の形状であってよいことはもちろん
である。[0016] The type of base material for the building/construction article is not particularly limited. Examples include metals, plastics, glass, ceramics, other inorganic materials, organic materials, or combinations thereof (composite materials, laminated materials, etc.). In addition, the surface of the base material is not only the surface of the base material itself, but also the surface of the base material itself.
The surface may be made of a material different from the base material present on the base material surface, such as the surface of a coating film of a painted metal plate or the surface of a surface treatment layer of surface treated glass. Moreover, the shape of the base material is not limited to a flat plate, and it goes without saying that it may have any shape depending on the purpose, such as one having curvature on the entire surface or partially.
【0017】本発明において特に適当な基材は、ガラス
や透明プラスチック等の透明な材料からなる基材であり
、物品はその透明性を利用した物品である。例えば、ガ
ラスや透明プラスチック等からなる窓材、屋根材、鏡、
などである。これらは、雨滴、ほこり、汚れ等の付着に
より、透視野性が低下し易く、かつそれによる問題が発
生するおそれが大きいからである。基材としては特にガ
ラスが好ましい。第2層はガラスのシラノール基と反応
してその表面に強固に結合する。Particularly suitable substrates in the present invention are substrates made of transparent materials such as glass and transparent plastics, and the articles take advantage of their transparency. For example, window materials made of glass or transparent plastic, roofing materials, mirrors, etc.
etc. This is because the see-through visibility is likely to deteriorate due to adhesion of raindrops, dust, dirt, etc., and there is a great possibility that problems will occur due to this. Glass is particularly preferred as the base material. The second layer reacts with the silanol groups of the glass and bonds firmly to its surface.
【0018】第2層表面に対する表面処理は、通常イソ
シアネートシラン化合物(I) あるいはそれを含む組
成物を表面に塗布し、イソシアネートシラン化合物(I
) を表面に結合させることによって行なう。組成物と
しては溶剤を含む溶液であることが好ましい。この溶液
にはさらに他の成分を存在させることができる。他の成
分としては、例えば、後述のようなオルガノポリシロキ
サンや酸類がある。第2層表面への塗布あるいはその後
の溶剤の揮散によりイソシアネートシラン化合物(I)
が第2層表面に接触し結合が起こると考えられる。The surface treatment of the second layer is usually carried out by coating the surface with isocyanate silane compound (I) or a composition containing it.
) by bonding to the surface. The composition is preferably a solution containing a solvent. Further components may be present in this solution. Other components include, for example, organopolysiloxanes and acids as described below. The isocyanate silane compound (I) is applied to the surface of the second layer or the solvent is evaporated afterwards.
It is thought that the bonding occurs when the bonding layer comes into contact with the surface of the second layer.
【0019】この表面処理によって生成する第1層の厚
さは特に限定されるものではないが、きわめて薄いもの
であることが好ましい。好ましい層厚は、2μ以下であ
る。またその下限は単分子層厚である。本発明の1つの
特徴は第2層の表面を処理する際に特に高温を必要とし
ないことである。常温下に処理を行なうことができ、溶
剤の除去の際にもそれに必要な温度以上には高温を必要
としない。勿論、必要により、処理の効果が失われない
限りの高温を採用することもできる。Although the thickness of the first layer produced by this surface treatment is not particularly limited, it is preferably extremely thin. The preferred layer thickness is 2μ or less. Moreover, the lower limit is the monomolecular layer thickness. One feature of the present invention is that it does not require particularly high temperatures when treating the surface of the second layer. The treatment can be carried out at room temperature, and the removal of the solvent does not require a higher temperature than that required. Of course, if necessary, high temperatures can be used as long as the effects of the treatment are not lost.
【0020】イソシアネートシラン化合物(I) とし
て好ましい化合物は、イソシアネート基が結合したケイ
素原子を1〜2個有する化合物である。この化合物は、
イソシアネート基が結合していないケイ素原子を有して
いてもよい。しかし、加水分解性基が結合したケイ素原
子の存在は好ましいとはいえない。好ましいイソシアネ
ートシラン化合物(I) は、下記式(A)あるいは(
B)で表わされる化合物である。なお、以下において式
(A)で表わされる化合物を化合物(A)ともいい、式
(B)で表わされる化合物を化合物(B)ともいう。Preferred compounds as the isocyanate silane compound (I) are compounds having 1 to 2 silicon atoms to which isocyanate groups are bonded. This compound is
It may have a silicon atom to which no isocyanate group is bonded. However, the presence of a silicon atom to which a hydrolyzable group is bonded is not preferable. Preferred isocyanate silane compound (I) is represented by the following formula (A) or (
This is a compound represented by B). In the following, the compound represented by formula (A) is also referred to as compound (A), and the compound represented by formula (B) is also referred to as compound (B).
【0021】(A)
(OCN)3−a−b(R1)a(R2)bSi−Y−
Si(R3)c(R4)d(NCO)3−c−dただし
、R1、R2、R3、R4は独立に水素または炭素数1
から16の有機基、a、bは独立に0、1、2 であっ
て 0≦a+b ≦2 を満たす整数、c、d は独立
に0、1、2 であって 0≦c+d ≦2 を満たす
整数、および Yは2価の有機基を表わす。(A) (OCN)3-a-b(R1)a(R2)bSi-Y-
Si(R3)c(R4)d(NCO)3-c-d However, R1, R2, R3, R4 are independently hydrogen or carbon number 1
16 organic groups from An integer and Y represent a divalent organic group.
【0022】
(B) R5eR6gR7hSi(NCO)4−e−
g−hただし、R5、R6、R7は独立に水素または炭
素数1から16の有機基、e、g、h は独立に0、1
、2、3 であって 0≦e+g+h ≦3 を満たす
整数を表わす。(B) R5eR6gR7hSi(NCO)4-e-
gh However, R5, R6, R7 are independently hydrogen or an organic group having 1 to 16 carbon atoms, e, g, h are independently 0, 1
, 2, 3 and represents an integer satisfying 0≦e+g+h≦3.
【0023】化合物(A)はイソシアネート基が結合し
たケイ素原子を2個有する化合物であり、化合物(B)
はイソシアネート基が結合したケイ素原子を1個有する
化合物である。化合物(A)は前記オルガノイソシアネ
ートシラン化合物(I) の1種であり(Y が有機基
であることより)、化合物(B)は少なくとも1つの有
機基を有する場合前記オルガノイソシアネートシラン化
合物(I) の1種である。R1〜R7 は水素原子で
ある場合よりも有機基であることが好ましい。特に存在
するすべてのR1〜 R7 は有機基であることが好ま
しい。Compound (A) is a compound having two silicon atoms to which isocyanate groups are bonded, and compound (B)
is a compound having one silicon atom to which an isocyanate group is bonded. Compound (A) is one type of the organoisocyanate silane compound (I) (since Y is an organic group), and compound (B) is one of the organoisocyanate silane compounds (I) when it has at least one organic group. It is one type of R1 to R7 are preferably organic groups rather than hydrogen atoms. It is particularly preferred that all R1 to R7 present are organic groups.
【0024】化合物(A)および化合物(B)において
、ケイ素原子に結合したイソシアネート基はケイ素原子
当たり2以上が好ましい。イソシアネート基が多いほど
基材表面に対する結合が強固となると考えられるからで
ある。In compounds (A) and (B), the number of isocyanate groups bonded to silicon atoms is preferably two or more per silicon atom. This is because it is thought that the more isocyanate groups there are, the stronger the bond to the substrate surface becomes.
【0025】R1〜 R7 が有機基の場合、その有機
基はアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ア
リール基等の炭化水素基、クロロアルキル基、ポリフル
オロアルキル基等のハロゲン化炭化水素基、水酸基、エ
ポキシ基、アミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、
その他の官能基を有する(ハロゲン化)炭化水素基、お
よび炭素鎖の中間にエステル結合、エーテル結合、チオ
エーテル結合、イミノ結合、アミド結合、その他の連結
結合を有する(ハロゲン化)炭化水素基が好ましい。特
に好ましくは、炭化水素基とポリフルオロアルキル基を
有する有機基である。When R1 to R7 are organic groups, the organic group is a hydrocarbon group such as an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group; a halogenated hydrocarbon group such as a chloroalkyl group or a polyfluoroalkyl group; hydroxyl group, epoxy group, amino group, mercapto group, carboxyl group,
Preferred are (halogenated) hydrocarbon groups having other functional groups, and (halogenated) hydrocarbon groups having an ester bond, ether bond, thioether bond, imino bond, amide bond, or other linking bond in the middle of the carbon chain. . Particularly preferred is an organic group having a hydrocarbon group and a polyfluoroalkyl group.
【0026】上記の好ましい炭化水素基としては、炭素
数1〜16のアルキル基とアリール基が好ましい。特に
、R1〜 R7 のすべてが炭素数4以下のアルキル基
(以下、低級アルキル基という)であるか、1つのケイ
素原子に結合するR1〜R2、R3〜R4、あるいはR
5〜R7の内多くとも1つが低級アルキル基以外のアル
キル基であり他が低級アルキル基であるようなR1〜
R7 が好ましい。特に好ましい低級アルキル基はメチ
ル基である。The above-mentioned preferred hydrocarbon groups are preferably alkyl groups having 1 to 16 carbon atoms and aryl groups. In particular, all of R1 to R7 are alkyl groups having 4 or less carbon atoms (hereinafter referred to as lower alkyl groups), or R1 to R2, R3 to R4, or R
R1 to R7 in which at least one of 5 to R7 is an alkyl group other than a lower alkyl group and the others are lower alkyl groups;
R7 is preferred. A particularly preferred lower alkyl group is a methyl group.
【0027】さらに好ましい化合物(A)および化合物
(B)は、2以上のフッ素原子を有するオルガノイソシ
アネートシランである。すなわち、化合物(A)におい
て、Y が2以上のフッ素原子を有する2価の有機基で
あるか、あるいはそうでない場合存在するR1〜R4の
内少なくとも1つが2以上のフッ素原子を有する1価の
有機基である化合物である。勿論、Yと存在するR1〜
R4の内少なくとも1つのいずれもが2以上のフッ素原
子を有する有機基であってもよい。More preferred compound (A) and compound (B) are organoisocyanate silanes having two or more fluorine atoms. That is, in compound (A), Y is a divalent organic group having two or more fluorine atoms, or if not, at least one of R1 to R4 present is a monovalent organic group having two or more fluorine atoms. It is a compound that is an organic group. Of course, Y and R1~
At least one of R4 may be an organic group having two or more fluorine atoms.
【0028】化合物(B)においては、存在するR5〜
R7の少なくとも1つが2以上のフッ素原子を有する1
価の有機基である化合物である。これらの場合において
、フッ素原子を有しない有機基は前記の炭化水素基が好
ましい。なお、2以上のフッ素原子を有する有機基は、
ケイ素原子にフッ素原子を有しない炭素原子(例えば、
メチレン基)で結合することが好ましい。In compound (B), R5-
1 in which at least one of R7 has two or more fluorine atoms
It is a compound that is a valent organic group. In these cases, the organic group not having a fluorine atom is preferably the above-mentioned hydrocarbon group. In addition, the organic group having two or more fluorine atoms is
Carbon atoms that do not have fluorine atoms in silicon atoms (e.g.
It is preferable to bond with a methylene group).
【0029】Y が2以上のフッ素原子を有する2価の
有機基である場合、それはポリフルオロアルキレン基、
ポリフルオロオキサアルキレン基(アルキレン基の炭素
鎖の中間に少なくとも1つのエーテル結合が存在するも
の)、およびポリフルオロチオキサアルキレン基(アル
キレン基の炭素鎖の中間に少なくとも1つのチオエーテ
ル結合が存在するもの)が好ましい。特に、両末端のケ
イ素原子に結合する部分がポリメチレン基(特にジメチ
レン基)であり、それらの中間部分がパーフルオロアル
キレン基、パーフルオロオキサアルキレン基、あるいは
パーフルオロチオキサアルキレン基である2価の有機基
が好ましい。これらYの炭素数は6〜30、特に6〜1
6が好ましい。When Y is a divalent organic group having two or more fluorine atoms, it is a polyfluoroalkylene group,
Polyfluoroxaalkylene groups (at least one ether bond exists between the carbon chains of the alkylene group), and polyfluorothioxaalkylene groups (at least one thioether bond exists between the carbon chains of the alkylene group) is preferred. Particularly, the moieties bonded to the silicon atoms at both ends are polymethylene groups (particularly dimethylene groups), and the intermediate moiety between them is a perfluoroalkylene group, a perfluorooxaalkylene group, or a perfluorothioxaalkylene group. Organic groups are preferred. The carbon number of these Y is 6 to 30, especially 6 to 1
6 is preferred.
【0030】また、Y が2以上のフッ素原子を有する
2価の有機基でない場合、それはアルキレン基、オキサ
アルキレン基、およびチオキサアルキレン基であること
が好ましい。その炭素数は2〜30、特に2〜16が好
ましい。Further, when Y is not a divalent organic group having two or more fluorine atoms, it is preferably an alkylene group, an oxaalkylene group, or a thioxaalkylene group. The number of carbon atoms is preferably 2 to 30, particularly preferably 2 to 16.
【0031】R1〜 R7 のいずれかが2以上のフッ
素原子を有する1価の有機基である場合、それはポリフ
ルオロアルキル基、ポリフルオロオキサアルキル基、ポ
リフルオロチオキサアルキル基、またはこれらのいずれ
かの基とアルキレン基等の炭化水素基とがエステル結合
その他の前記したような連結結合で結合した有機基(炭
化水素基の他端でケイ素原子と結合する)が好ましい。
ポリフルオロアルキル基、ポリフルオロオキサアルキル
基、およびポリフルオロチオキサアルキル基はケイ素原
子と結合する端部あるいはその周辺がアルキレン基(特
に、ジメチレン基)であって他の部分がパーフルオロの
それらの基であることが好ましい。When any of R1 to R7 is a monovalent organic group having two or more fluorine atoms, it is a polyfluoroalkyl group, a polyfluorooxaalkyl group, a polyfluorothioxaalkyl group, or any of these. An organic group in which a group and a hydrocarbon group such as an alkylene group are bonded through an ester bond or other connecting bond as described above (the other end of the hydrocarbon group is bonded to a silicon atom) is preferable. A polyfluoroalkyl group, a polyfluorooxaalkyl group, and a polyfluorothioxaalkyl group are those groups in which the end bonded to the silicon atom or the vicinity thereof is an alkylene group (in particular, a dimethylene group), and the other part is perfluoro. It is preferable that
【0032】1価の有機基のパーフルオロ部分は炭素数
3以上のパーフルオロアルキル基、パーフルオロオキサ
アルキル基、あるいはパーフルオロチオキサアルキル基
が好ましく、特に炭素数3〜16のパーフルオロアルキ
ル基が好ましい。The perfluoro moiety of the monovalent organic group is preferably a perfluoroalkyl group having 3 or more carbon atoms, a perfluorooxaalkyl group, or a perfluorothioxaalkyl group, particularly a perfluoroalkyl group having 3 to 16 carbon atoms. is preferred.
【0033】これらY やR1〜 R7 の具体例につ
いては、下記の化合物(A)および化合物(B)の具体
例中の例がある。下記具体例中のRf基としては、特に
、CnF2n+1CmH2m− (ただし、この化学式
において、n は3〜16の整数、m は2〜4の整数
)で表されるパーフルオロアルキル基部分を有するポリ
フルオロアルキル基が、下記具体例中のRF基としては
、特に、CnF2n+1−(ただし、この化学式におい
て、n は3〜16の整数)が好ましい。Specific examples of Y and R1 to R7 are listed in the following specific examples of compound (A) and compound (B). In particular, the Rf group in the following specific examples is a polyfluorocarbon having a perfluoroalkyl group moiety represented by CnF2n+1CmH2m- (in this chemical formula, n is an integer of 3 to 16 and m is an integer of 2 to 4). As the RF group in the following specific examples, the alkyl group is particularly preferably CnF2n+1- (in this chemical formula, n is an integer of 3 to 16).
【0034】化合物(A)および化合物(B)の具体例
を下記に示す。しかし、化合物(A)および化合物(B
)はこれら具体例に限定されるものではない。なお、下
記化学式においてx 、n 、m はそれぞれ1以上の
整数を、R はアルキル基等を、Rfはポリフルオロア
ルキル基を、RFはパーフルオロアルキル基を示す。こ
れら化学式において、x は2〜8が、R は低級アル
キル基が、Rfはパーフルオロアルキル基を有するジメ
チレン基が好ましい。Specific examples of compound (A) and compound (B) are shown below. However, compound (A) and compound (B
) is not limited to these specific examples. In the chemical formula below, x, n, and m each represent an integer of 1 or more, R represents an alkyl group, Rf represents a polyfluoroalkyl group, and RF represents a perfluoroalkyl group. In these chemical formulas, x is preferably 2 to 8, R is a lower alkyl group, and Rf is preferably a dimethylene group having a perfluoroalkyl group.
【0035】化合物(A)の例示。Examples of compound (A).
【0036】[0036]
【化1】[Chemical formula 1]
【0037】[0037]
【化2】[Case 2]
【0038】[0038]
【化3】[Chemical formula 3]
【0039】[0039]
【化4】[C4]
【0040】[0040]
【化5】[C5]
【0041】[0041]
【化6】[C6]
【0042】[0042]
【化7】[C7]
【0043】[0043]
【化8】[Chemical formula 8]
【0044】[0044]
【化9】[Chemical formula 9]
【0045】[0045]
【化10】[Chemical formula 10]
【0046】化合物(B)の例示。Examples of compound (B).
【0047】[0047]
【化11】[Chemical formula 11]
【0048】[0048]
【化12】[Chemical formula 12]
【0049】[0049]
【化13】[Chemical formula 13]
【0050】さらに、本発明において、イソシアネート
シラン化合物(I) による表面処理の効果を高めるた
めに、イソシアネートシラン化合物(I)とともにオル
ガノポリシロキサンを使用することが好ましい。オルガ
ノポリシロキサンとしては、シリコーンオイルまたは変
性シリコーンオイルと呼ばれているものが適当である。
以下このオルガノポリシロキサンを化合物(D)ともい
う。
この化合物(D)は下記式(D)で表される重合単位を
有するものが好ましい。Furthermore, in the present invention, it is preferable to use an organopolysiloxane together with the isocyanate silane compound (I) in order to enhance the effect of surface treatment with the isocyanate silane compound (I). Suitable organopolysiloxanes include those called silicone oils or modified silicone oils. Hereinafter, this organopolysiloxane will also be referred to as compound (D). This compound (D) preferably has a polymerized unit represented by the following formula (D).
【0051】(D) [−SiR11(CH3)−O
−]なお、この式において、R11 は炭素数1〜16
の有機基を表す。この有機基は前記したR1〜 R7
と同様の有機基(ただし、フッ素原子を有しないものが
好ましい)であることが好ましい。特に、アルキル基、
アリール基、アリールアルキル基、アミノアルキル基、
ヒドロキシアルキル基、ポリオキシアルキレン鎖を有す
る炭化水素基などが好ましい。最も好ましくは、低級ア
ルキル基である。(D) [-SiR11(CH3)-O
-] In this formula, R11 has 1 to 16 carbon atoms.
represents an organic group. This organic group is the above-mentioned R1 to R7
An organic group similar to (however, one without a fluorine atom is preferable) is preferable. In particular, alkyl groups,
Aryl group, arylalkyl group, aminoalkyl group,
A hydroxyalkyl group, a hydrocarbon group having a polyoxyalkylene chain, etc. are preferred. Most preferred is a lower alkyl group.
【0052】化合物(D)は、前記イソシアネートシラ
ンの処理による被膜の水滴除去性や耐摩耗性を向上せし
める効果を有する。この化合物(D)は、加水分解性基
を有しないことが好ましい。化合物(D)はそのまま表
面処理用の組成物に使用してもよいし、また、硫酸、塩
酸、酢酸等の酸で分解してから組成物に添加することも
可能である。また、化合物(D)の粘度は化合物(A)
、化合物(B)との組み合せを考慮して決定することが
好ましく、特に25℃における粘度が0.5 〜500
センチストークス(CS)のものが好適である。Compound (D) has the effect of improving the water droplet removability and abrasion resistance of the coating formed by the isocyanate silane treatment. This compound (D) preferably does not have a hydrolyzable group. Compound (D) may be used as it is in a composition for surface treatment, or it may be added to the composition after being decomposed with an acid such as sulfuric acid, hydrochloric acid, or acetic acid. In addition, the viscosity of compound (D) is that of compound (A)
It is preferable to decide in consideration of the combination with compound (B), and in particular, the viscosity at 25°C is 0.5 to 500.
Centistokes (CS) are preferred.
【0053】化合物(D)の具体例を下記に例示するが
、化合物(D)はこれらに限定されるものではない。Specific examples of compound (D) are shown below, but compound (D) is not limited thereto.
【0054】[0054]
【化14】[Chemical formula 14]
【0055】[0055]
【化15】[Chemical formula 15]
【0056】本発明において、第2層表面の処理するた
めの第1層形成用の組成物は化合物(A)または化合物
(B)のどちらか一方の化合物が必須である。勿論、両
化合物が含有されていても問題はなく、その混合割合は
任意でよい。また、化合物(D)成分を添加する場合に
は化合物(D)と化合物(A)または/および化合物(
B)との割合は目的に応じて任意にすることが可能であ
る。好ましくは、化合物(A)、(B)、(D)の合計
に対して化合物(D)あるいはその分解物の存在量が1
〜40重量%とするのが好ましい。化合物(D)が少な
すぎると耐摩耗性、作業性が低下しやすく、また、多す
ぎるとやはり耐摩耗性が低下するばかりでなく、表面に
触れた際にべた付き感が残るおそれがある。In the present invention, the composition for forming the first layer for treating the surface of the second layer must contain either compound (A) or compound (B). Of course, there is no problem even if both compounds are contained, and their mixing ratio may be arbitrary. In addition, when adding compound (D) component, compound (D) and compound (A) or/and compound (
The ratio with B) can be set arbitrarily depending on the purpose. Preferably, the amount of compound (D) or its decomposition product is 1 relative to the total of compounds (A), (B), and (D).
It is preferable to set it as 40 weight%. If the amount of compound (D) is too small, the abrasion resistance and workability will tend to decrease, and if it is too large, not only will the abrasion resistance decrease, but there is also a risk that a sticky feeling will remain when the surface is touched.
【0057】また、化合物(D)は化合物(A)または
/および化合物(B)との相互作用で被膜の水滴除去性
の向上および膜の耐久性を向上するのに寄与する。この
詳細な機構は不明であるが、化合物(D)の分子鎖が、
化合物(A)や化合物(B)化合物と複雑に絡み合い、
表面に存在する各種有機基、特に極性基及びイオン性結
合のミクロな分布を結果的に制御し、水滴の除去に最適
な表面構造が達成されるためであると考えらる。また、
この選ばれた各化合物間での分子の絡み合いは耐久性を
一段と高めるのに大きく寄与していると考えられる。Compound (D) also contributes to improving the water droplet removability of the film and the durability of the film through interaction with compound (A) and/or compound (B). Although the detailed mechanism is unknown, the molecular chain of compound (D)
Complexly intertwined with compound (A) and compound (B),
This is thought to be due to the fact that the microscopic distribution of various organic groups, particularly polar groups and ionic bonds, present on the surface is controlled as a result, and a surface structure optimal for removing water droplets is achieved. Also,
It is thought that this molecular entanglement between the selected compounds greatly contributes to further increasing the durability.
【0058】また、化合物(A)、(B)、(D)はい
ずれも低表面自由エネルギーな物質であり、被膜中に一
部存在する遊離状態の化合物が極表面層を移動すること
によって表面での摩擦抵抗を低減することも耐摩耗性が
良好である原因の一部と考えられる。Compounds (A), (B), and (D) are all substances with low surface free energy, and some of the free compounds present in the coating move through the extreme surface layer, causing the surface to rise. Reducing the frictional resistance at the surface is also thought to be part of the reason for the good wear resistance.
【0059】本発明における処理剤には、目的に応じて
他の化合物や添加剤をなどが添加される。添加剤は各成
分との反応性、相溶性を考慮して選択すればよく、後述
のような各種金属酸化物の超微粒子、各種樹脂などの添
加も可能である。また、着色が必要であれば染料、顔料
等の添加も差し支えない。これらの添加剤は化合物(A
)、(B)、(D)の合計 100重量部に対して 0
.01 〜20重量部、特に 0.1〜5重量部が好適
である。過剰な添加は本発明が有する水滴除去性、耐摩
耗性等を低下させるので望ましくない。[0059] Other compounds and additives may be added to the processing agent in the present invention depending on the purpose. Additives may be selected in consideration of reactivity and compatibility with each component, and it is also possible to add ultrafine particles of various metal oxides, various resins, etc. as described below. Furthermore, if coloring is required, dyes, pigments, etc. may be added. These additives are compound (A
), (B), and (D) 0 per 100 parts by weight
.. 01 to 20 parts by weight, particularly 0.1 to 5 parts by weight are preferred. Excessive addition is undesirable because it reduces the water droplet removability, abrasion resistance, etc. of the present invention.
【0060】上記組成物は被覆対象の第2層上に直接手
拭き等の方法で塗布してもよいし、また、有機溶剤によ
って、溶解あるいは希釈して溶液状の形態に調製し使用
することも可能である。この有機溶剤による溶液におい
て、含まれる化合物(A)、(B)、(D)の合計量は
被膜の形成性(作業性)、安定性、被膜厚さ、経済性を
考慮して決定されるが 0.1〜30重量%であるのが
好ましい。The above composition may be applied directly onto the second layer to be coated by hand wiping or the like, or it may be dissolved or diluted with an organic solvent and used in the form of a solution. It is possible. In this organic solvent solution, the total amount of compounds (A), (B), and (D) contained is determined by taking into account film formation (workability), stability, film thickness, and economic efficiency. is preferably 0.1 to 30% by weight.
【0061】有機溶剤としては酢酸エステル類、芳香族
炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ケトン類、エーテ
ル類等各種溶剤の適用が可能であるが、反応性官能基(
水酸基など)を有しているものは化合物(A)や化合物
(B)成分が有しているイソシアネート基と反応するた
め望ましくない。ただし、イソプロピロアルコールなど
の反応性の低い官能基を有する有機溶剤は使用できる。
希釈溶剤は1種に限定されることなく、2種以上の混合
溶剤を使用することも可能である。As the organic solvent, various solvents such as acetic acid esters, aromatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ketones, and ethers can be used, but reactive functional groups (
Hydroxyl groups, etc.) are undesirable because they react with the isocyanate groups contained in compound (A) and compound (B). However, an organic solvent having a functional group with low reactivity such as isopropyl alcohol can be used. The diluting solvent is not limited to one type, and it is also possible to use a mixed solvent of two or more types.
【0062】第2層表面の処理にあたっては特別な前処
理は必要としない。被膜の形成は調製された組成物を含
む有機溶剤よりなる液状物を通常の処理方法によって表
面に塗布、例えば、はけ塗り、流し塗り、回転塗り、浸
漬塗り、スプレー塗布等の各種方法によって行い、大気
中あるいは窒素エアー中、常温で乾燥させればよい。特
に、乾燥速度を高める、耐久性を高めるなどの目的で加
熱することが好ましい。加熱温度は50〜250 ℃程
度が好ましく、加熱時間は5〜60分が適当である。加
熱する場合には第2層の材質や基材の耐熱性を加味して
温度、時間を設定すればよい。[0062] No special pretreatment is required for treating the surface of the second layer. The coating is formed by applying a liquid substance containing the prepared composition to the surface using a conventional treatment method, such as brush coating, flow coating, spin coating, dip coating, spray coating, etc. , in the atmosphere or nitrogen air at room temperature. In particular, it is preferable to heat for the purpose of increasing drying speed and durability. The heating temperature is preferably about 50 to 250°C, and the heating time is suitably 5 to 60 minutes. When heating, the temperature and time may be set in consideration of the material of the second layer and the heat resistance of the base material.
【0063】本発明において、第2層を形成するための
材料としてイソシアネートシラン化合物(I) 以外の
加水分解性シラン化合物(II)あるいはその部分加水
分解生成物が使用される。第1層の下層の第2層は第1
層の耐久性を向上させ、また基材との密着性を高める効
果もある。この第2層は通常基材表面に形成される。In the present invention, a hydrolyzable silane compound (II) other than the isocyanate silane compound (I) or a partial hydrolysis product thereof is used as a material for forming the second layer. The second layer below the first layer is the first layer.
It also has the effect of improving the durability of the layer and its adhesion to the base material. This second layer is usually formed on the surface of the substrate.
【0064】加水分解性シラン化合物(II)とは、少
なくとも1つの加水分解性基がケイ素原子に結合した構
造を有する化合物を意味する。この化合物は、ケイ素原
子に加水分解性基のみが結合している化合物(たとえば
、テトラアルコキシシラン)であってもよく、ケイ素原
子に少なくとも1つの有機基が結合している化合物であ
ってもよい。ただし、この場合の有機基はフッ素原子を
有する有機基ではない有機基であることが好ましい。。The hydrolyzable silane compound (II) means a compound having a structure in which at least one hydrolyzable group is bonded to a silicon atom. This compound may be a compound in which only a hydrolyzable group is bonded to a silicon atom (for example, a tetraalkoxysilane), or may be a compound in which at least one organic group is bonded to a silicon atom. . However, the organic group in this case is preferably an organic group other than an organic group having a fluorine atom. .
【0065】この化合物における加水分解性基は、ケイ
素原子に結合している基であって水と反応して脱離し、
ケイ素原子に結合した水酸基(シラノール基)を生じる
基である。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原
子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシ置換ア
ルコキシ基、アミノキシ基、アミド基、酸アミド基、ケ
トキシメート基などがある。好ましくは、アルコキシ基
、アルコキシ置換アルコキシ基、アシル等の酸素原子で
ケイ素原子と結合する加水分解性基である。これら加水
分解性基の炭素数は好ましくは8以下、特に4以下であ
る。好ましい加水分解性基は炭素数4以下のアルコキシ
基(以下低級アルコキシ基ともいう)である。The hydrolyzable group in this compound is a group bonded to a silicon atom, which reacts with water and is released.
A group that produces a hydroxyl group (silanol group) bonded to a silicon atom. Examples of the hydrolyzable group include a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, an alkoxy-substituted alkoxy group, an aminoxy group, an amide group, an acid amide group, and a ketoximate group. Preferred are alkoxy groups, alkoxy-substituted alkoxy groups, acyl, and other hydrolyzable groups that bond to silicon atoms through oxygen atoms. The number of carbon atoms in these hydrolyzable groups is preferably 8 or less, particularly 4 or less. A preferred hydrolyzable group is an alkoxy group having 4 or less carbon atoms (hereinafter also referred to as lower alkoxy group).
【0066】加水分解性シラン化合物(II)の部分加
水分解生成物とは、水や酸性水溶液中でこれらシラン化
合物を部分的に加水分解し、生成するシラノール基を有
する化合物あるいはそのシラノール基の反応により2以
上に分子が縮合した化合物をいう。酸としては、例えば
、塩酸、酢酸、りん酸、硝酸、硫酸、スルホン酸などを
使用することができる。The partial hydrolysis product of the hydrolysable silane compound (II) refers to a compound having a silanol group produced by partially hydrolyzing these silane compounds in water or an acidic aqueous solution, or a reaction product of the silanol group. refers to a compound in which two or more molecules are condensed. As the acid, for example, hydrochloric acid, acetic acid, phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfonic acid, etc. can be used.
【0067】以下、第2層を形成するに必須の成分であ
るこの加水分解性シラン化合物(II)を化合物(C)
ともいう。この化合物(C)は下記式(C)で表される
化合物が好ましい。Hereinafter, this hydrolyzable silane compound (II), which is an essential component for forming the second layer, will be referred to as compound (C).
Also called. This compound (C) is preferably a compound represented by the following formula (C).
【0068】(C) R8iR9jR10kSiX4
−i−j−kただし、X は加水分解性基、R8、R9
、R10 は独立に水素または有機基、i、j、kは独
立に0、1、2、3 であって 0≦i+j+k ≦3
を満たす整数を表わす。(C) R8iR9jR10kSiX4
-i-j-k where X is a hydrolyzable group, R8, R9
, R10 are independently hydrogen or an organic group, i, j, k are independently 0, 1, 2, 3, and 0≦i+j+k≦3
Represents an integer that satisfies.
【0069】R8〜R10 はそれが水素原子でない場
合には前記R1〜 R7 と同様の有機基である。有機
基としては、炭化水素基が適当であり、炭素数1〜6の
炭化水素基が好ましく、アルキル基が最も好ましい。こ
の有機基はフッ素原子を有しないことが好ましいが、必
ずしも有してはならないものではない。また、アミノ基
やエポキシ基等の官能基を有する有機基であってもよい
。また、i+j+k は0〜1が好ましい。When R8 to R10 are not hydrogen atoms, they are the same organic groups as R1 to R7 above. As the organic group, a hydrocarbon group is suitable, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms is preferable, and an alkyl group is most preferable. It is preferable that this organic group does not have a fluorine atom, but it does not necessarily have to have one. Further, it may be an organic group having a functional group such as an amino group or an epoxy group. Further, i+j+k is preferably 0 to 1.
【0070】特に好ましい化合物(C)はi+j+k=
0 の化合物である。最も好ましくは、テトラアルコキ
シシランである。これら加水分解性基のみを有するシラ
ン化合物、特にその部分加水分解生成物の使用は第1層
との相溶性や密着性の点で優れている。勿論この化合物
と他のシラン化合物の併用や後述添加成分の添加によっ
ても良好な第2層が形成される。Particularly preferred compound (C) is i+j+k=
0 compound. Most preferred is tetraalkoxysilane. The use of silane compounds having only these hydrolyzable groups, especially their partial hydrolysis products, is excellent in terms of compatibility and adhesion with the first layer. Of course, a good second layer can also be formed by using this compound in combination with other silane compounds or by adding additional components described below.
【0071】化合物(C)の具体例を下記に例示するが
、化合物(C)はこれらに限定されるものではない。Specific examples of compound (C) are shown below, but compound (C) is not limited thereto.
【0072】テトラメトキシシラン、テトラエトキシシ
ラン、テトラ(n−プロポキシ)シラン、テトラ(i−
プロポキシ)シラン、テトラ(n−ブトキシ)シラン、
テトラ(sec−ブトキシ)シラン、テトラ(t−ブト
キシ)シランなどのテトラアルコキシシラン類。Tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra(n-propoxy)silane, tetra(i-
propoxy) silane, tetra(n-butoxy) silane,
Tetraalkoxysilanes such as tetra(sec-butoxy)silane and tetra(t-butoxy)silane.
【0073】メチルトリメトキシシラン、メチルトリエ
トキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、
フェニルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリ
メトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラ
ン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシ
ラン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチル
トリエトキシシラン、Methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane,
Phenyltriethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, chloromethyltrimethoxysilane, chloromethyltriethoxysilane,
【0074】γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン
、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピル
トリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノエチル
トリエトキシシラン、γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β-(amino ethyl) -γ-
Aminopropyltrimethoxysilane, β-cyanoethyltriethoxysilane,
【0075】グリシドキシメチルトリメトキシシラン、
グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシ
メチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルト
リメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキ
シシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン
、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシド
キシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、Glycidoxymethyltrimethoxysilane,
Glycidoxymethyltrimethoxysilane, glycidoxymethyltriethoxysilane, α-glycidoxyethyltrimethoxysilane, α-glycidoxyethyltriethoxysilane, β-glycidoxyethyltrimethoxysilane, β-glycid xyethyltriethoxysilane, α-glycidoxypropyltrimethoxysilane, α-glycidoxypropyltriethoxysilane, β-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-glycidoxypropyltriethoxysilane,
【0076】γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシエトキシシラン、α−グリ
シドキシシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキ
シブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチル
トリメトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエト
キシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−
グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシド
キシブチルトリエトキシシラン、γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane,
γ-glycidoxypropyltripropoxysilane, γ-
Glycidoxypropyltributoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxyethoxysilane, α-glycidoxybutyltrimethoxysilane, α-glycidoxybutyltriethoxysilane, β-glycidoxybutyltrimethoxysilane, β -Glycidoxybutyltriethoxysilane, γ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, γ-glycidoxybutyltriethoxysilane, δ-
Glycidoxybutyltrimethoxysilane, δ-glycidoxybutyltriethoxysilane,
【0077】(3,4− エポキシシクロヘキシル)メ
チルトリメトキシシラン、(3,4− エポキシシクロ
ヘキシル)メチルトリメトキシシラン、β−(3,4−
エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン
、β−(3,4− エポキシシクロヘキシル)エチルト
リプロポキシシラン、β−(3,4− エポキシシクロ
ヘキシル)エチルトリブトキシシラン、β−(3,4−
エポキシシクロヘキシル)エチルトリメチルトリメト
キシエトキシシラン、(3,4-epoxycyclohexyl)methyltrimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl)methyltrimethoxysilane, β-(3,4-
Epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltripropoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltributoxysilane, β-(3,4-
epoxycyclohexyl)ethyltrimethyltrimethoxyethoxysilane,
【0078】γ−(3,4− エポキシシクロヘキシル
)プロピルトリメトキシシラン、γ−(3,4− エポ
キシシクロヘキシル)プロピルトリエトキシシラン、δ
−(3,4− エポキシシクロヘキシル)ブチルトリメ
トキシシラン、δ−(3,4− エポキシシクロヘキシ
ル)ブチルトリエトキシシランなどのトリアルコキシシ
ラン類。メチルトリアセトキシシラン、ビニルトリアセ
トキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−ク
ロロプロピルトリアセトキシシランなどのトリアシルオ
キシシラン類。γ-(3,4-epoxycyclohexyl)propyltrimethoxysilane, γ-(3,4-epoxycyclohexyl)propyltriethoxysilane, δ
Trialkoxysilanes such as -(3,4-epoxycyclohexyl)butyltrimethoxysilane and δ-(3,4-epoxycyclohexyl)butyltriethoxysilane. Triacyloxysilanes such as methyltriacetoxysilane, vinyltriacetoxysilane, phenyltriacetoxysilane, and γ-chloropropyltriacetoxysilane.
【0079】メチルトリフェノキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリフェノキシシラン、β−(3,4−
エポキシシクロヘキシル)エチルトリフェノキシシラ
ンなどのトリフェノキシシラン類。Methyltriphenoxysilane, γ-glycidoxypropyltriphenoxysilane, β-(3,4-
Triphenoxysilanes such as epoxycyclohexyl)ethyltriphenoxysilane.
【0080】ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチ
ルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェ
ニルメチルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチ
ルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエト
キシシラン、γ−メタアクリルオキシプロピルメチルジ
メトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチル
ジエトキシシラン、Dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane,
【0081】γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニル
ジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-
Aminopropylmethyldiethoxysilane, methylvinyldimethoxysilane, methylvinyldiethoxysilane,
【
0082】グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン
、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、α−グ
リシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシ
ドキシエチルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキ
シエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエ
チルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシプロピ
ルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピル
メチルジエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメ
チルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチ
ルジエトキシシラン、[
Glycidoxymethylmethyldimethoxysilane, glycidoxymethylmethyldimethoxysilane, α-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, α-glycidoxyethylmethyldiethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, β -Glycidoxyethylmethyldiethoxysilane, α-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, α-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, β-glycidoxypropylmethyldiethoxy silane,
【0083】γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジブトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシエト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジプロポキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシ
ランなどジアルコキシシラン類。γ-Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldipropoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldibutoxysilane, γ-glycid Xypropylmethyldimethoxyethoxysilane, γ-glycidoxypropylethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylethyldipropoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyldiethoxysilane, Dialkoxysilanes such as γ-glycidoxypropylphenyldiethoxysilane.
【0084】ジメチルジアセトキシシランやγ−グリシ
ドキシプロピルメチルジフェノキシシランなどのジアシ
ルオキシシラン類やジフェノキシシラン類。Diacyloxysilanes and diphenoxysilanes such as dimethyldiacetoxysilane and γ-glycidoxypropylmethyldiphenoxysilane.
【0085】上記のような加水分解性シラン化合物(I
I)やその部分加水分解生成物で処理された表面とは、
これらのシラン化合物が化学的にあるいは物理的に結合
した表面をいう。加水分解性基は水分により分解してシ
ラノール基となので、これらシラン化合物は主としてこ
のシラノール基の化学的反応により表面に結合するもの
と考えられる。即ち、例えば、このシラノール基はガラ
ス表面のシラノール基と脱水縮合反応すると考えられる
。また、第1層も第2層表面のシラノール基等と結合す
ると考えられるHydrolyzable silane compound (I
A surface treated with I) or its partial hydrolysis product is
This refers to the surface to which these silane compounds are chemically or physically bonded. Since the hydrolyzable group is decomposed by moisture to form a silanol group, it is thought that these silane compounds are bonded to the surface mainly through a chemical reaction of the silanol group. That is, for example, it is thought that this silanol group undergoes a dehydration condensation reaction with the silanol group on the glass surface. It is also thought that the first layer also bonds with the silanol groups on the surface of the second layer.
【0086】この第2層を形成するための組成物として
は加水分解性シラン化合物(II)あるいはその部分加
水分解生成物を有する溶液や分散液の使用が好ましい。
その組成物には溶剤や分散剤以外ににさらに他の添加剤
を添加することができる。溶剤としては、前記のような
溶剤の他、さらにイソシアネート基と反応しうる官能基
を持った溶剤も使用しうる。添加剤としては、具体的に
は、例えば前記したような金属酸化物の微粒子等の充填
剤、バインダー成分、界面活性剤などがある。それらの
使用割合も前記のような割合が適当である。また、使用
量も前記に準じた量であることが好ましい。なお、この
第2の組成物はイソシアネートシラン化合物(I) を
実質的に含有しない組成物であることが好ましい。As the composition for forming this second layer, it is preferable to use a solution or dispersion containing the hydrolyzable silane compound (II) or a partial hydrolysis product thereof. In addition to the solvent and dispersant, other additives may be added to the composition. As the solvent, in addition to the above-mentioned solvents, it is also possible to use a solvent having a functional group capable of reacting with an isocyanate group. Specific examples of the additive include fillers such as metal oxide fine particles as described above, binder components, and surfactants. The appropriate ratios for their use are as described above. Further, it is preferable that the amount used is also the same amount as described above. Note that this second composition is preferably a composition that does not substantially contain the isocyanate silane compound (I).
【0087】特に、添加剤としては、シリカ、酸化アル
ミニウム、酸化ジルコニウム等の金属酸化物の微粒子、
特にシリカゾルやアリミナゾル等のゾル中の超微粒子、
その他の充填剤成分、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステ
ル樹脂、ポリウレタン樹脂、(メタ)アクリレート類等
のバインダー成分等の使用が好ましい。In particular, as additives, fine particles of metal oxides such as silica, aluminum oxide, zirconium oxide, etc.
In particular, ultrafine particles in sols such as silica sol and arimina sol,
It is preferable to use other filler components, binder components such as epoxy resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, and (meth)acrylates.
【0088】基材の表面処理にあたっては特別な前処理
は必要ない。しかし、目的に応じて行うことは別段問題
なく、例えば、希釈したフッ酸、塩酸等による酸処理、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム水溶液等によるアル
カリ処理、あるいはプラズマ照射等による放電処理を行
うことができる。[0088] No special pretreatment is required for surface treatment of the base material. However, there is no particular problem in performing it depending on the purpose, for example, acid treatment with diluted hydrofluoric acid, hydrochloric acid, etc.
Alkali treatment using sodium hydroxide, potassium hydroxide aqueous solution, or the like, or discharge treatment using plasma irradiation or the like can be performed.
【0089】第2層の形成は調製された組成物を含む有
機溶剤よりなる液状物を通常の処理方法によって表面に
塗布、例えば、はけ塗り、流し塗り、回転塗り、浸漬塗
り、スプレー塗布等の各種方法によって行い、大気中あ
るいは窒素エアー中、常温であるいは加熱して乾燥させ
る。さらに焼成を行なう場合乾燥温度下あるいはさらに
高温に加熱する。加熱する場合には基材の耐熱性を加味
して温度、時間を設定することが好ましい。The second layer is formed by applying a liquid material containing the prepared composition in an organic solvent to the surface using a conventional treatment method, such as brush coating, flow coating, spin coating, dip coating, spray coating, etc. Drying is performed in the atmosphere or nitrogen air, at room temperature, or by heating. When further firing is performed, the material is heated at a drying temperature or at an even higher temperature. When heating, it is preferable to set the temperature and time taking into consideration the heat resistance of the base material.
【0090】基材表面への塗布あるいはその後の溶剤の
揮散によりシラン化合物が基材表面に接触し加水分解−
結合の反応が起こると考えられる。この場合、塗布後の
乾燥は常温であってもよく、加熱乾燥してもよく、また
、形成された層を焼成してもよい。加熱乾燥あるいは焼
成の温度は200 ℃以下が好ましく、その時間は12
0 時間以下が好ましい。余りに高温で、あるいはしか
も長時間加熱を行うと第1層との層の密着性に悪影響が
ある。[0090] When the silane compound is applied to the surface of the substrate or the solvent is evaporated after that, the silane compound comes into contact with the surface of the substrate and undergoes hydrolysis.
It is thought that a bonding reaction occurs. In this case, drying after coating may be performed at room temperature, heating and drying, or the formed layer may be baked. The temperature of heat drying or firing is preferably 200 °C or less, and the time is 12
0 hours or less is preferable. If heating is performed at too high a temperature or for a long time, the adhesion of the layer to the first layer will be adversely affected.
【0091】この表面処理によって生成する第2層の厚
さは特に限定されるものではないが、きわめて薄いもの
であってもよい。好ましい層厚は、第1層と同様、20
μ以下、特に2μ以下である。またその下限は単分子層
厚である。しかし、第2層はより厚くすることもできる
。
層厚は、溶液等の組成物の層形成成分の濃度、塗布条件
、加熱条件等により所望の厚さに調節できる。The thickness of the second layer produced by this surface treatment is not particularly limited, but may be extremely thin. Like the first layer, the preferred layer thickness is 20
It is less than μ, especially less than 2 μ. Moreover, the lower limit is the monomolecular layer thickness. However, the second layer can also be thicker. The layer thickness can be adjusted to a desired thickness by adjusting the concentration of layer-forming components of the composition such as a solution, coating conditions, heating conditions, etc.
【0092】形成される各層の厚さは組成物を含む液状
物の組成物濃度、塗布条件、加熱条件などによって適宜
制御し得る。本発明の第1層は比較的屈折率が低く、こ
れ故に低反射性も付与される。かかる効果を期待する場
合には第1層の膜厚を光学干渉が生じる膜厚に制御すれ
ば良い。特に、水滴除去性を発現するには理論的には被
膜の膜厚は単分子層以上あればよく、これに経済的効果
も加味して前記のように2μ以下であるのが望ましい。The thickness of each layer formed can be appropriately controlled by the composition concentration of the liquid containing the composition, coating conditions, heating conditions, etc. The first layer of the present invention has a relatively low refractive index and therefore also provides low reflectivity. If such an effect is expected, the thickness of the first layer may be controlled to a thickness at which optical interference occurs. In particular, in order to exhibit water droplet removability, the film thickness of the film should theoretically be at least a monomolecular layer, and taking economic effects into consideration, it is desirable that the film thickness be 2 μm or less as mentioned above.
【0093】かかる表面処理された基材においては、水
滴除去性により表面に接触した水滴がはじかれて付着し
難く、たとえ付着してもその量は少なく、また付着した
水滴の除去が容易である。また、水滴が氷結するような
環境下においても氷結することなく、仮に、氷結したと
しても解凍は著しく速い。さらには、水滴の付着がほと
んどないため定期的な清浄作業回数を低減し得て、しか
も、清浄は極めて容易で、美観保持の点からも非常に有
利である。[0093] In such a surface-treated base material, water droplets that come into contact with the surface are repelled due to the water droplet removability and are difficult to adhere to, and even if they do adhere, the amount is small, and the attached water droplets can be easily removed. . Further, even in environments where water droplets freeze, it does not freeze, and even if it does freeze, it thaws extremely quickly. Furthermore, since there is almost no adhesion of water droplets, the number of periodic cleaning operations can be reduced, and cleaning is extremely easy, which is very advantageous in terms of maintaining aesthetic appearance.
【0094】[0094]
【実施例】以下に、本発明を実施例により具体的に説明
するが本発明は実施例のみに限定されるものではない。
実施例において実施した各種評価方法は次ぎの通りであ
る。[Examples] The present invention will be explained in detail below using Examples, but the present invention is not limited to the Examples. The various evaluation methods implemented in the examples are as follows.
【0095】1.水滴除去性
1−a)直径2mmの大きさからなる水滴の転落角を測
定した。表面上の異なる5ヶ所にて測定を行ない、その
平均値で示した。1−b)サンプル面から20cmの距
離に保持したノズルから水を全面に約1時間スプレーし
た後に表面に残存する水滴を肉眼で観察し以下の評価基
準で評価した。1. Water droplet removability 1-a) The falling angle of a water droplet having a diameter of 2 mm was measured. Measurements were taken at five different locations on the surface, and the average value is shown. 1-b) After spraying water over the entire surface for about 1 hour from a nozzle held at a distance of 20 cm from the sample surface, water droplets remaining on the surface were observed with the naked eye and evaluated using the following evaluation criteria.
【0096】 A:サンプル表面に全く水が残らない。 B:サンプル表面に少し水が残る。 C:サンプル表面にかなり水滴が残る。 D:サンプル表面で水が濡れ広がる。[0096] A: No water remains on the sample surface. B: A little water remains on the sample surface. C: Considerable water droplets remain on the sample surface. D: Water wets and spreads on the sample surface.
【0097】2.耐摩耗性
試験機:テイバー式ロータリーアブレッサー(株式会社
東洋精機製作所)。
試験条件:摩耗輪H−22、荷重1kg、摩耗回数 3
00回。
上記方法で耐摩耗試験を実施し、試験後の撥水性を評価
した。2. Abrasion resistance tester: Taber type rotary abrader (Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.). Test conditions: wear wheel H-22, load 1kg, number of wear 3
00 times. A wear resistance test was conducted using the above method, and the water repellency after the test was evaluated.
【0098】3.耐候性試験
紫外線照射を8時間(70℃)、湿潤曝露を4時間(5
0℃)とする工程を1サイクルとして、 200サイク
ルで実施。
上記方法で耐候性試験を実施し、試験後の水滴除去性を
評価した。3. Weather resistance test UV irradiation for 8 hours (70°C), humidity exposure for 4 hours (5
One cycle is the process of lowering the temperature to 0°C), and the process is carried out in 200 cycles. A weather resistance test was conducted using the above method, and water droplet removability after the test was evaluated.
【0099】4.煮沸試験
沸騰水中に1時間浸漬した。試験後の水滴除去性を評価
した。4. Boiling test: Immersed in boiling water for 1 hour. Water droplet removability after the test was evaluated.
【0100】5.使用化合物
(a) Si(OCH3)4
(b) メタノール分散シリカゾル(固形分30重量%
、触媒化成(株)製)
(c) C8H17Si(NCO)3
(d) C8F17CH2CH2Si(NCO)3(e
) (OCN)3SiC2H4C6F12C2H4Si
(NCO)3(f) Si(NCO)4
(g) (CH3)3SiO−[Si(CH3)2−O
−]n−Si(CH3)3粘度50センチストークス0100 5. Compounds used (a) Si(OCH3)4 (b) Methanol-dispersed silica sol (solid content 30% by weight)
(manufactured by Catalysts Kasei Co., Ltd.) (c) C8H17Si(NCO)3 (d) C8F17CH2CH2Si(NCO)3(e
) (OCN)3SiC2H4C6F12C2H4Si
(NCO)3(f) Si(NCO)4 (g) (CH3)3SiO-[Si(CH3)2-O
-]n-Si(CH3)3 viscosity 50 centistokes
【0101】[処理剤1の調製]撹拌子および温度計が
セットされた3ツ口フラスコに、(a) 78.5g、
メチルアルコール1020.2g、イソプロピルアルコ
ール2000.0gを加え、1時間撹拌した。この溶液
の温度を5℃に維持しながら、1%塩酸水溶液37.2
gを徐々に滴下した。滴下終了後、液温を25℃に維持
しながら5日間撹拌を継続し処理剤1を得た。[Preparation of Processing Agent 1] In a three-necked flask equipped with a stirrer and a thermometer, (a) 78.5 g;
1020.2 g of methyl alcohol and 2000.0 g of isopropyl alcohol were added and stirred for 1 hour. While maintaining the temperature of this solution at 5°C, 1% aqueous hydrochloric acid solution 37.2
g was gradually added dropwise. After completion of the dropwise addition, stirring was continued for 5 days while maintaining the liquid temperature at 25° C. to obtain Treatment Agent 1.
【0102】[処理剤2の調製]撹拌子及び温度計がセ
ットされた3ツ口フラスコに、(a) 75.0g、(
b) 10.9g、メチルアルコール1203.5g、
イソプロピルアルコール2000.0gを加え、1時間
撹拌した。この溶液の温度を5℃に維持しながら、1%
塩酸水溶液35.5gを徐々に滴下した。滴下終了後、
液温を25℃に維持しながら5日間撹拌を継続し処理剤
2を得た。[Preparation of Treatment Agent 2] In a three-necked flask equipped with a stirrer and a thermometer, (a) 75.0 g, (
b) 10.9g, methyl alcohol 1203.5g,
2000.0 g of isopropyl alcohol was added and stirred for 1 hour. While maintaining the temperature of this solution at 5°C, 1%
35.5 g of an aqueous hydrochloric acid solution was gradually added dropwise. After the dripping is finished,
Stirring was continued for 5 days while maintaining the liquid temperature at 25° C. to obtain Treatment Agent 2.
【0103】[処理剤3の調製]撹拌子及び温度計がセ
ットされたフラスコに、(c) 20.0gと酢酸ブチ
ル1980.0gを加え、この溶液を液温を25℃に維
持しながら1昼夜撹拌を継続し処理剤3を得た。[Preparation of Treatment Agent 3] Add 20.0 g of (c) and 1980.0 g of butyl acetate to a flask equipped with a stirring bar and thermometer, and stir this solution for 1 hour while maintaining the liquid temperature at 25°C. Stirring was continued day and night to obtain Treatment Agent 3.
【0104】[処理剤4の調製]撹拌子及び温度計がセ
ットされたフラスコに、(d) 19.9gと(e)
10.3gを混合して加え、さらに酢酸エチル 985
.3g、イソプロピルアルコール54.2g、トリクロ
ロトリフルオロエタン( R−113)456.3 g
を加え、この溶液の液温を25℃に維持しながら5日間
撹拌を継続し処理剤4を得た。[Preparation of Treatment Agent 4] In a flask equipped with a stirrer and a thermometer, 19.9 g of (d) and (e) were added.
Mix and add 10.3g, and then add 985g of ethyl acetate.
.. 3g, isopropyl alcohol 54.2g, trichlorotrifluoroethane (R-113) 456.3g
was added, and stirring was continued for 5 days while maintaining the temperature of this solution at 25° C. to obtain Treatment Agent 4.
【0105】[処理剤5の調製]撹拌子及び温度計がセ
ットされたフラスコに、(c)9.8g、(f)2.4
g、および(d)9.8gを混合して加え、さらに酢酸
ブチル 970.0g、イソプロピルアルコール35.
5g、トリクロロトリフルオロエタン( R−113)
200.0 gを加え、この溶液の液温を25℃に維持
しながら1昼夜撹拌を継続し処理剤5を得た。[Preparation of Treatment Agent 5] In a flask equipped with a stirrer and a thermometer, (c) 9.8 g, (f) 2.4 g
g, and 9.8 g of (d) were mixed and added, and further 970.0 g of butyl acetate and 35.0 g of isopropyl alcohol were added.
5g, trichlorotrifluoroethane (R-113)
200.0 g of the solution was added, and stirring was continued for one day and night while maintaining the temperature of this solution at 25° C. to obtain Treatment Agent 5.
【0106】[処理剤6の調製]撹拌子及び温度計がセ
ットされたフラスコに、(d) 19.9gと(e)
10.3gを混合して加え、さらに酢酸エチル 985
.3g、イソプロピルアルコール54.2g、トリクロ
ロトリフルオロエタン( R−113)456.3 g
を加え、その後さらに(g)1.8gと硫酸 0.2g
を添加して、この溶液の液温を25℃に維持しながら5
日間撹拌を継続し処理剤6を得た。[Preparation of Treatment Agent 6] In a flask equipped with a stirrer and a thermometer, 19.9 g of (d) and (e) were added.
Mix and add 10.3g, and then add 985g of ethyl acetate.
.. 3g, isopropyl alcohol 54.2g, trichlorotrifluoroethane (R-113) 456.3g
and then further (g) 1.8g and sulfuric acid 0.2g
was added, and the temperature of this solution was maintained at 25°C.
Stirring was continued for several days to obtain Treatment Agent 6.
【0107】[実施例1]10cm×10cm(厚さ3
mm)のガラス板を処理剤1の溶液に浸漬させ、11c
m/分なる速度で引き上げ、80℃、10分間加熱した
。この試験片を室温にて30分放置した後、処理剤3の
溶液に浸漬し、11cm/分なる速度で引き上げ、 1
50℃、30分間加熱し、サンプル試験片を作成した。
この試験片を評価した結果を表1に示す。[Example 1] 10 cm x 10 cm (thickness 3
A glass plate of 11 mm) was immersed in a solution of treatment agent 1.
It was pulled up at a speed of m/min and heated at 80° C. for 10 minutes. After leaving this test piece at room temperature for 30 minutes, it was immersed in a solution of treatment agent 3 and pulled up at a speed of 11 cm/min.
A sample test piece was prepared by heating at 50° C. for 30 minutes. Table 1 shows the results of evaluating this test piece.
【0108】[実施例2]実施例1における処理剤3を
処理剤4に変更した他は実施例1と同様に試験、評価を
行った。結果は同じく表1に示す。[Example 2] Tests and evaluations were carried out in the same manner as in Example 1, except that the treatment agent 3 in Example 1 was changed to treatment agent 4. The results are also shown in Table 1.
【0109】[実施例3]実施例1における処理剤3を
処理剤5に変更した他は実施例1と同様に試験、評価を
行った。結果は同じく表1に示す。[Example 3] Tests and evaluations were conducted in the same manner as in Example 1, except that treatment agent 3 in Example 1 was changed to treatment agent 5. The results are also shown in Table 1.
【0110】[実施例4]実施例1における処理剤3を
処理剤6に変更した他は実施例1と同様に試験、評価を
行った。結果は同じく表1に示す。[Example 4] Tests and evaluations were carried out in the same manner as in Example 1, except that treatment agent 3 in Example 1 was changed to treatment agent 6. The results are also shown in Table 1.
【0111】[実施例5]実施例1における処理剤1を
処理剤2に変更した他は実施例1と同様に試験、評価を
行った。結果は同じく表1に示す。[Example 5] Tests and evaluations were carried out in the same manner as in Example 1, except that Treatment Agent 1 in Example 1 was changed to Treatment Agent 2. The results are also shown in Table 1.
【0112】[実施例6]実施例1における処理剤1を
処理剤2に、処理剤3を処理剤4変更した他は実施例1
と同様に試験、評価を行った。結果は同じく表1に示す
。[Example 6] Example 1 except that treatment agent 1 in Example 1 was changed to treatment agent 2, and treatment agent 3 was changed to treatment agent 4.
Tests and evaluations were conducted in the same manner. The results are also shown in Table 1.
【0113】[実施例7]実施例1における処理剤1を
処理剤2に、処理剤3を処理剤5変更した他は実施例1
と同様に試験、評価を行った。結果は同じく表1に示す
。[Example 7] Example 1 except that treatment agent 1 in Example 1 was changed to treatment agent 2, and treatment agent 3 was changed to treatment agent 5.
Tests and evaluations were conducted in the same manner. The results are also shown in Table 1.
【0114】[実施例8]実施例1における処理剤1を
処理剤2に、処理剤3を処理剤6変更した他は実施例1
と同様に試験、評価を行った。結果は同じく表1に示す
。[Example 8] Example 1 except that treatment agent 1 in Example 1 was changed to treatment agent 2, and treatment agent 3 was changed to treatment agent 6.
Tests and evaluations were conducted in the same manner. The results are also shown in Table 1.
【0115】[実施例9]実施例1における処理剤1の
浸漬後の加熱を80℃、10分間から300 ℃、30
分間に変更した以外は実施例1と同様に試験、評価を行
った。結果は同じく表1に示す。[Example 9] The treatment agent 1 in Example 1 was heated from 80°C for 10 minutes to 300°C for 30 minutes.
Tests and evaluations were conducted in the same manner as in Example 1 except that the time was changed to minutes. The results are also shown in Table 1.
【0116】[比較例1]10cm×10cm(厚さ3
mm)のガラス板を処理剤5の溶液に浸漬させ、11c
m/分なる速度で引き上げ、サンプル試験片を作成した
。この試験片を評価した結果を表1に示す。[Comparative Example 1] 10 cm x 10 cm (thickness 3
A glass plate of 11 mm) was immersed in a solution of treatment agent 5.
A sample test piece was prepared by pulling up at a speed of m/min. Table 1 shows the results of evaluating this test piece.
【0117】[0117]
【表1】[Table 1]
【0118】[実施例10]実施例3で得られた試験片
を第2表に示す薬品に24時間浸漬し、取り出して直ち
に洗浄した後、この試験片の外観変化および水滴除去性
を確認した。その結果を表2に示す。[Example 10] The test piece obtained in Example 3 was immersed in the chemicals shown in Table 2 for 24 hours, taken out and immediately washed, and the appearance change and water drop removability of the test piece were confirmed. . The results are shown in Table 2.
【0119】[0119]
【表2】[Table 2]
【0120】[実施例11]実施例3の方法で建築用ガ
ラス板の表面に処理剤を塗布し、2層の被膜を形成した
。かくして得られた建築用ガラス板を建築物に装着した
。この窓ガラスの曝露テストを1ヶ月間行い、日毎に窓
ガラス表面への汚れ、ほこりの付着状態、また、雨天時
においては水滴の付着状態を肉眼で観察した。[Example 11] A treatment agent was applied to the surface of an architectural glass plate by the method of Example 3 to form a two-layer film. The architectural glass plate thus obtained was attached to a building. This window glass was subjected to an exposure test for one month, and the state of adhesion of dirt and dust to the surface of the window glass, as well as the state of adhesion of water droplets in rainy weather, was observed with the naked eye every day.
【0121】その結果、汚れ、ほこりの付着、水滴の付
着による水垢の発生はまったく認められず、まれにそれ
らの発生が認められてもティシュペーパーで軽く拭うこ
とで容易に除去することができた。窓ガラスの洗浄の手
間も大幅に簡略化することができた。また、雨天時には
表面の水滴ははじかれ、水の濡れ広がりがなく、視野の
確保が容易であった。また、雨天時でかつ風の強い日に
は風圧との相互作用によって水滴が速やかに移動してし
まい一層視野の確保が容易であった。[0121] As a result, no water stains due to dirt, dust, or water droplets were observed, and even if they were found to occur, they could be easily removed by wiping lightly with tissue paper. . The time and effort required to clean window glass has also been greatly simplified. In addition, during rainy weather, water droplets on the surface are repelled, preventing water from spreading, making it easy to maintain a clear field of vision. Furthermore, on rainy and windy days, water droplets move quickly due to interaction with wind pressure, making it easier to secure a clear field of view.
【0122】さらに、未処理の窓ガラスに付着している
水滴が氷結する、あるいは空気中の水分が凝縮して窓ガ
ラスに氷結するような環境下(0℃〜−5℃)での曝露
テストにおいて窓ガラス表面への氷結はまったく認めら
れなかった。次いで、さらに厳しい低温環境下(−10
℃〜 −15℃)においては、窓ガラスでの氷結も認
められたが、温度上昇によるその解凍は速く、未処理の
窓ガラスに比較し著しい差があった。[0122] Furthermore, an exposure test was conducted in an environment (0°C to -5°C) where water droplets adhering to untreated window glass would freeze, or moisture in the air would condense and freeze on window glass. No ice formation was observed on the window glass surface. Next, under an even more severe low temperature environment (-10
(°C to -15°C), freezing was observed on the window glass, but the thawing was rapid due to the temperature rise, and there was a significant difference compared to untreated window glass.
【0123】[実施例12]実施例11の建築用ガラス
板を建築用熱線反射ガラス板(旭硝子(株)製「サンル
ックスSS8」)に変更して曝露試験を実施した。その
結果、実施例11と同様の効果が確認された。[Example 12] An exposure test was conducted by changing the architectural glass plate of Example 11 to a heat-reflecting architectural glass plate ("Sunlux SS8" manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.). As a result, the same effects as in Example 11 were confirmed.
【0124】[0124]
【発明の効果】本発明の建築・建装用基材や建築・建装
用物品には実施例に明かなように優れた効果が認められ
る。すなわち、
1.水滴除去性に優れており、ほこり、汚れ、水滴の付
着、あるいはそれによる水垢の発生などがなく、希にそ
れらの発生があっても、容易に除去可能で水が誘発する
悪影響を遮断することができるし、洗浄の簡略化が図れ
る。
2.水滴除去性の持続性に優れ、半永久的にその状態を
維持する。[Effects of the Invention] As is clear from the examples, the base material for architecture and construction and the article for construction and construction of the present invention have excellent effects. That is, 1. It has excellent water droplet removability, and there is no adhesion of dust, dirt, or water droplets, or the formation of limescale due to them, and even if they occur, they can be easily removed and block the harmful effects caused by water. This also simplifies cleaning. 2. It has excellent water droplet removal properties and maintains its state semi-permanently.
【0125】3.耐薬品性に優れ、海岸線沿いでの使用
、あるいは海水が直接触れる船舶においても効果を発揮
する。
4.特別な前処理を必要とせず、経済的効果も高い。以
上のような効果は従来の材料では期待できないものであ
り、これまで使用不可能であった分野にまでその適用範
囲をが拡大することが期待できる。3. It has excellent chemical resistance and is effective even when used along coastlines or on ships that come into direct contact with seawater. 4. It does not require any special pretreatment and is highly economical. The above-mentioned effects cannot be expected with conventional materials, and it is expected that the range of application will be expanded to fields where it could not be used until now.
Claims (12)
からなる、あるいはその基材を構成要素とする、建築・
建装用物品であって、表面処理層の最外層である第1層
がイソシアネートシラン化合物(I) で処理して得ら
れる層であり、最外層に接する下層である第2層が加水
分解性シラン化合物(II)あるいはその部分加水分解
生成物で処理して得られる層である、建築・建装用物品
。[Claim 1] An architectural product comprising a base material having at least two surface treatment layers, or having the base material as a constituent element.
The article is for construction, and the first layer, which is the outermost layer of the surface treatment layer, is a layer obtained by treating with an isocyanate silane compound (I), and the second layer, which is the lower layer in contact with the outermost layer, is a layer obtained by treating with an isocyanate silane compound (I). An article for construction and construction, which is a layer obtained by treatment with compound (II) or a partial hydrolysis product thereof.
ン化合物(II)、その部分加水分解生成物、あるいは
それらの少なくとも1種を含む組成物で処理して第2層
を形成し、次いで第2層表面をイソシアネートシラン化
合物(I)を含む組成物で処理して第1層を形成してな
る表面処理層である、請求項1の建築・建装用物品。2. The surface treatment layer is a second layer formed by treating the surface of the substrate with a hydrolyzable silane compound (II), a partial hydrolysis product thereof, or a composition containing at least one thereof. 2. The building/construction article according to claim 1, wherein the first layer is formed by treating the surface of the second layer with a composition containing the isocyanate silane compound (I).
からなる基材である、請求項1の建築・建装用物品。3. The building and construction article of claim 1, wherein the substrate having the treated surface is a substrate made of a transparent material.
装用物品。4. The building/construction article according to claim 3, wherein the base material is glass.
記式(A)または(B)で表される化合物である、請求
項1の建築・建装用物品。 (A) (OCN)3−a−b(R1)a(R2)bSi−Y−
Si(R3)c(R4)d(NCO)3−c−dただし
、R1、R2、R3、R4は独立に水素または炭素数1
から16の有機基、a、bは独立に0、1、2 であっ
て 0≦a+b ≦2 を満たす整数、c、d は独立
に0、1、2 であって 0≦c+d ≦2 を満たす
整数、および Yは2価の有機基を表わす。 (B) R5eR6gR7hSi(NCO)4−e−
g−hただし、R5、R6、R7は独立に水素または炭
素数1から16の有機基、e、g、h は独立に0、1
、2、3 であって 0≦e+g+h ≦3 を満たす
整数を表わす。5. The building/construction article according to claim 1, wherein the isocyanate silane compound (I) is a compound represented by the following formula (A) or (B). (A) (OCN)3-a-b(R1)a(R2)bSi-Y-
Si(R3)c(R4)d(NCO)3-c-d However, R1, R2, R3, R4 are independently hydrogen or carbon number 1
16 organic groups from An integer and Y represent a divalent organic group. (B) R5eR6gR7hSi(NCO)4-e-
gh However, R5, R6, R7 are independently hydrogen or an organic group having 1 to 16 carbon atoms, e, g, h are independently 0, 1
, 2, 3 and represents an integer satisfying 0≦e+g+h≦3.
り、ケイ素原子に結合した有機基が存在する場合はその
有機基の少なくとも1つはアルキル基であり、式(B)
においてケイ素原子に結合した有機基が存在する場合は
その有機基の少なくとも1つはアルキル基である、請求
項5の建築・建装用物品。6. In formula (A), Y is an alkylene group, and when there is an organic group bonded to a silicon atom, at least one of the organic groups is an alkyl group, and formula (B)
6. The building/construction article according to claim 5, wherein when an organic group bonded to a silicon atom is present in the organic group, at least one of the organic groups is an alkyl group.
子を有する2価の有機基であるか、またはケイ素原子に
結合した有機基が存在しかつその有機基の少なくとも1
つがポリフルオロアルキル基を有する有機基であり、式
(B)においてケイ素原子に結合した有機基が存在しか
つその有機基の少なくとも1つはポリフルオロアルキル
基を有する有機基である、請求項5の建築・建装用物品
。7. In formula (A), Y is a divalent organic group having two or more fluorine atoms, or there is an organic group bonded to a silicon atom, and at least one of the organic groups is present.
is an organic group having a polyfluoroalkyl group, and in formula (B) there is an organic group bonded to a silicon atom, and at least one of the organic groups is an organic group having a polyfluoroalkyl group. Architectural and construction goods.
キレン基であるか、またはケイ素原子に結合した有機基
が存在しかつその有機基の少なくとも1つがパーフルオ
ロアルキル基を有する有機基であり、式(B)において
ケイ素原子に結合した有機基が存在しかつその有機基の
少なくとも1つはパーフルオロアルキル基を有する有機
基である、請求項5の建築・建装用物品。8. In formula (A), Y is a polyfluoroalkylene group, or an organic group in which an organic group bonded to a silicon atom is present and at least one of the organic groups has a perfluoroalkyl group, 6. The building/construction article according to claim 5, wherein in formula (B), there is an organic group bonded to a silicon atom, and at least one of the organic groups is an organic group having a perfluoroalkyl group.
む組成物が、さらにオルガノポリシロキサンを含む、請
求項2の建築・建装用物品。9. The building/construction article according to claim 2, wherein the composition containing the isocyanate silane compound (I) further contains an organopolysiloxane.
)で表わされる繰り返し構造単位を有し、25℃におけ
る粘度が0.5 〜500 センチストークスのオルガ
ノポリシロキサンである、請求項9の建築・建装用物品
。 (D) [−SiR11(CH3)−O−]ただし、
R11 は炭素数1から16の有機基を表わす。10. The organopolysiloxane has the following formula (D
10. The building/construction article according to claim 9, which is an organopolysiloxane having a repeating structural unit represented by: (D) [-SiR11(CH3)-O-] However,
R11 represents an organic group having 1 to 16 carbon atoms.
記式(C)で表わされる化合物である、請求項1の建築
・建装用物品。 (C) R8iR9jR10kSiX4−i−j−k
ただし、X は加水分解性基、R8、R9、R10 は
独立に水素または有機基、i、j、kは独立に0、1、
2、3 であって 0≦i+j+k ≦3 を満たす整
数を表わす。11. The building/construction article according to claim 1, wherein the hydrolyzable silane compound (II) is a compound represented by the following formula (C). (C) R8iR9jR10kSiX4-i-j-k
However, X is a hydrolyzable group, R8, R9, R10 are independently hydrogen or organic groups, i, j, k are independently 0, 1,
2, 3 and represents an integer satisfying 0≦i+j+k≦3.
シ基、アシルオキシ基、アルコキシ置換アルコキシ基、
アミノキシ基、アミド基、酸アミド基、およびケトキシ
メート基より選ばれる加水分解性基である、請求項11
の建築・建装用物品。12. The hydrolyzable group is a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, an alkoxy-substituted alkoxy group,
Claim 11 is a hydrolyzable group selected from an aminoxy group, an amide group, an acid amide group, and a ketoximate group.
Architectural and construction goods.
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14141491A JP3207452B2 (en) | 1991-05-17 | 1991-05-17 | Building and construction goods |
EP19920107814 EP0513690B1 (en) | 1991-05-17 | 1992-05-08 | Surface-treated substrate |
DE69229924T DE69229924T2 (en) | 1991-05-17 | 1992-05-08 | Surface treated substrate |
DE69217574T DE69217574T2 (en) | 1991-05-17 | 1992-05-08 | Surface treated substrate |
EP19960111612 EP0759413B1 (en) | 1991-05-17 | 1992-05-08 | Surface-treated substrate |
US07/883,391 US5314731A (en) | 1991-05-17 | 1992-05-15 | Surface-treated substrate |
US08/183,299 US5464704A (en) | 1991-05-17 | 1994-01-19 | Surface-treated substrate |
US08/457,537 US5645939A (en) | 1991-05-17 | 1995-06-01 | Surface-treated substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14141491A JP3207452B2 (en) | 1991-05-17 | 1991-05-17 | Building and construction goods |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04342443A true JPH04342443A (en) | 1992-11-27 |
JP3207452B2 JP3207452B2 (en) | 2001-09-10 |
Family
ID=15291451
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14141491A Expired - Fee Related JP3207452B2 (en) | 1991-05-17 | 1991-05-17 | Building and construction goods |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3207452B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0891953A1 (en) * | 1997-07-15 | 1999-01-20 | Central Glass Company, Limited | Glass plate with water-repellent film and method for producing same |
JPWO2011126019A1 (en) * | 2010-04-08 | 2013-07-11 | 日産化学工業株式会社 | Thermosetting film forming composition having photo-alignment property |
-
1991
- 1991-05-17 JP JP14141491A patent/JP3207452B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0891953A1 (en) * | 1997-07-15 | 1999-01-20 | Central Glass Company, Limited | Glass plate with water-repellent film and method for producing same |
US6338905B1 (en) | 1997-07-15 | 2002-01-15 | Central Glass Company, Limited | Glass plate with water-repellent film and method for producing same |
JPWO2011126019A1 (en) * | 2010-04-08 | 2013-07-11 | 日産化学工業株式会社 | Thermosetting film forming composition having photo-alignment property |
JP5776906B2 (en) * | 2010-04-08 | 2015-09-09 | 日産化学工業株式会社 | Thermosetting film forming composition having photo-alignment property |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3207452B2 (en) | 2001-09-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5645939A (en) | Surface-treated substrate | |
JPH0781024B2 (en) | Water repellency. Antifouling transparent base material and structure equipped with the same | |
JP6305462B2 (en) | Sulfonate functional coatings and methods | |
US5605958A (en) | Composition for surface treatment | |
US6733892B1 (en) | Surface treatment composition, method of surface treatment, substrate and article | |
US5576109A (en) | Surface treating agent and surface-treated substrate | |
JP3155025B2 (en) | Surface-treated building / building article and method of manufacturing the article | |
JP2002121286A (en) | Fluorine-containing organosilicon compound, water- repelling composition containing the same, and surface- treated base and method for producing the same | |
JPH06220428A (en) | Surface-modified antifogging film | |
JP3207452B2 (en) | Building and construction goods | |
JP3315004B2 (en) | Surface-treated substrate and method for producing the same | |
JP3210045B2 (en) | Surface treated substrate | |
JP2001213643A (en) | Base material having surface treatment layer and its manufacturing method | |
JPH04342740A (en) | Article for transport device | |
JP3308282B2 (en) | Building and construction goods | |
JPH04342444A (en) | Article having treated surface for teansportation equipment | |
JPH0827456A (en) | Surface traeting agent and base subjected to surface treatment | |
JP3629755B2 (en) | Surface-treated substrate and method for producing the same | |
JP2001081445A (en) | Surface treatment composition and surface-treated substrate | |
JPH1180667A (en) | Surface treatment, surface treatment composition and surface-treated substrate board | |
JPH0718253A (en) | Surface-treated base material | |
JPH0718252A (en) | Base material having surface-treated layer | |
JPH04325445A (en) | Surface-treated articles for transportation equipment | |
JPH0913019A (en) | Composition for surface treatment |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |