JPH043413A - アライメント装置 - Google Patents

アライメント装置

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JPH043413A
JPH043413A JP2102999A JP10299990A JPH043413A JP H043413 A JPH043413 A JP H043413A JP 2102999 A JP2102999 A JP 2102999A JP 10299990 A JP10299990 A JP 10299990A JP H043413 A JPH043413 A JP H043413A
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ウェハ上のアライメントターゲット位置を、
常に高精度に検出する半導体露光装置のアライメント装
置に関するものである。
〔従来の技術〕
半導体素子の製造には、従来、ウェハを順次ステップ移
動させながら縮小投影露光を行うステッパが用いられて
いる。半導体素子はマスク上の回路パタンを順次重ねあ
わせて露光することによって製造される。こ、のため、
ウェハ上の回路パタンとマスク上の回路パタンは6短絡
、断線がないように、高精度にアライメントされる必要
がある。
通常、上記アライメントは、ウェハ上またはマスク上の
合わせ用ターゲットの信号波形を光学的に検出し、これ
から求めた位置情報に基づいて、ウェハステージまたは
マスクステージを移動させることによって行われる。し
たがって、アライメント精度はターゲットの検出精度に
依存する。
一方、ウェハ上のターゲットの検出信号波形番よ。
レジストの膜厚や塗布むら、ターゲットの段差形状や深
さ、下地膜の屈折率や吸収率などによって変化する。こ
れらの条件は半導体製造の各プロセスで異なるため、プ
ロセスによっては波形のコントラストや対称性が劣化し
、検出位置の精度が低下する場合を生じる。しかし、上
記の場合でも検出方式を変えることによって、波形形状
が向上し精度を向上させることができる。このため、複
数の検出方式をプロセスによって使%Nわける方法カス
提案されている。例えば、特開昭61−128106の
ように回折光検出と散乱光検出を併用する方法、特開昭
62−181429のように明視野検出と暗視野検出を
併用する方法、あるいは、特開昭63−70521のよ
うにアライメント照明光の波長を複数化する方法などが
開示されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来技術は、あるプロセスのターゲットに対して、
どれが最適な検出方式であるかを定量的に評価する手段
をもたず、判断は試行錯誤かオペレータの経験に頼って
いた。しかし、ASIC等の普及により少量多品種の半
導体素子へのニーズが高まるにつれプロセスは多様化し
、各プロセスに対する最適検出方式選択の迅速化が必要
に迫られている。
本発明は、このような点からなされたものであり、複数
の検出方式から最適なものを自動的に選択する機能を備
えた、アライメント装置を得ることを目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的は、複数のアライメント検出手段と、アライメ
ント波形の性質の評価手段と、該評価手段の結果とによ
り、上記複数のアライメント検出手段から所望の手段を
選択する選択手段を具備することによって達成される。
すなわち、複数の検出方式を備えたアライメント装置に
おいて、検出した波形の対称性、コントラスト、ノイズ
等を評価することにより、最適方式を自動的に選択する
ものである。
〔作用〕
本発明では複数の検出方式を備え、逐次または同時にタ
ーゲットを検出し、各方式での評価量を計算し、各方式
の中から最良の評価量をもつ方式を選択することにより
、最適方式を自動的に選択する。
〔実施例〕
つぎに本発明の実施例を図面とともに説明する。
第1図は本発明によるアライメント装置の一実施例を示
す図、第2図は上記実施例の制御・処理回路を示す図、
第3図は波形コントラストの求め方を示す図、第4図は
波長を変えた場合の明視野と暗視野の検出波形のコント
ラスト向上を示す図、第5図はガルバノミラ−の振れ角
を大きくしたときの波形ノイズ減少を示す図、第6図は
波長が異なる光で検出した波形を合成することによる波
形の対称性の向上を示す図、第7図は複数の検出方式で
検出した波形を記憶する手順を示す図、第8図は最適検
出方式および最適パラメータを決定する手順を示す図、
第9図は波形のノイズ量を算出する手順を示す図、第1
0図は対称性マツチング強度の求め方を示す図、第11
図は上記手順で得られた明視野と暗視野検出波形の例を
示す図、第12図は暗視野検出波形に対するしきい値法
によるターゲット位置の求め方を示す図、第13図は明
視野検出波形に対するしきい値法によるターゲット位置
の求め方を示す図、第14図は制御・処理回路が行う手
順を示す図である。本発明の一実施例を示す第1図は、
レチクル上に描かれた回路パタンを、縮小レンズ2を介
してウェハ3上に転写する縮小投影露光装置における、
複数の検出方式を備えたターゲットバタン検出系を示す
照明光源としては、波長514nmのArレーザ41と
波&543.5nmのHe−Neレーザ42を備え、ダ
イクロイックミラー43でArレーザ41の光は透過、
He−Neレーザ42の光は反射され、両者は同一光路
を進みガルバノミラ−44に入射する。ところで、縮小
レンズ2はアライメント照明光に対しては色収差を持つ
ため、ウェハ3の共役像は、Arレーザ光41の場合は
工、に、He−Neレーザ光42の場合は工2にできる
。 Arレーザ光で照明する場合はダイクロイックミラ
ー451.452がこの光を透過するので、ガルバノミ
ラ−44は結像レンズ47、ビームスプリッタ51.対
物レンズ52を介して、ウェハ3の共役像I□と共役の
位置に置かれている。一方、He−Neレーザ光42で
照明する場合は、まず、ダイクロイックミラー451で
反射され、光路迂回後、ミラー461,462、ダイク
ロイックミラー452を介して元の光路に戻る。上記光
路の迂回によりガルバノミラ−44は、He−Neレー
ザ光42に関してウェハ3の共役像工2と共役に置かれ
る。ガルバノミラ−44は紙面内の回転軸XX′を中心
に振れ、縮小レンズの入射瞳21上で軌跡22を描き、
照明光のウェハ3上のドツト状ターゲットマーク31へ
の入射光を、検出方向に01、θ2.θ、のように変化
させる。
ここで照明光の入射角範囲を与えるパラメータとして、
軌跡22の長さLと入射瞳21の径りの比をσ(=L/
D)と定義する。パラメータσはガルバノミラ−44の
振れ角で決まる。なお、ガルバノミラ−44とウェハ3
とは共役なので、ガルバノミラ−44が振れてもウェハ
3上の照明領域32は動かない。
ウェハ3で反射された光は、縮小レンズ2、ミラー53
、対物レンズ52を介してビームスプリッタ51を透過
し、結像レンズ54を介してダイクロイックミラー61
に入射する。上記ダイクロイックミラー61によりAr
レーザ光は透過され、一方、He−Neレーザ光は反射
され、ミラー71に入射する。ウェハの共役像I、、I
2は、対物レンズ52と結像レンズ54とにより1次拡
大像としてI工′、工2′に結像される。Arレーザ光
はハーフミラ−62によって分割され、結像レンズ63
1.632は1次拡大像11′をそれぞれ1次元撮像素
子661,662上に結像する。シリンドリカルレンズ
651,652は、検出方向と垂直に拡がった光を1次
元撮像素子661,662上に集光する。ハーフミラ−
62の一方の光路に空間フィルタ642が設置され、0
次光反射成分をカットし、1次元撮像素子662で検出
することによりArレーザ光の暗視野検出を実現してい
る。これに対して、空間フィルタがない1次元撮像素子
661側では、Arレーザ光の明視野検出を行う。
一方、ミラー71で反射されたHe−Neレーザ光は、
ハーフミラ−72によって分割され、結像レンズ731
,732は1次元拡大像■2 をそれぞれ1次元撮像素
子761,762上に結像する。シリンドリカルレンズ
751,752は、検出方向と垂直に拡がった光を1次
元撮像素子761.762上に集光する。ハーフミラ−
72後の一方の光路に空間フィルタ742が設置され、
0次光反射成分をカットし、1次元撮像素子762で検
出することにより、He−Neレーザ光の暗視野検出を
実現している。これに対して、空間フィルタがない1次
元撮像素子761側では、He−Neレーザ光の明視野
検出を行う。以上により、1次元撮像素子661,66
2,761゜762で検出した信号は、制御・処理回路
8に入力される。
つぎに制御・処理回路の詳細を第2図により説明する。
1次元撮像素子661,662,761゜762からの
各光電信号IA、IB、IC,IDは、プリアンプ84
1,842,843,844で増幅されたのち、利得制
御アンプ(以下、AGCと略す)851,852,85
3,854に入力される。上記AGC851,852,
853゜854は出力があらかじめ決められた大きさに
なるように、利得がコンピュータ演算処理部882(以
下、CPUと略す)により制御される。AGC851,
852,853,854より出力された信号IA’  
IB’  IC’  ID’はアナログ−デジタル変換
器(以下、ADCと略す)によりデジタル値に変換され
、入力メモリ881(以下、Rと略す)に入力される。
また、AGC851゜853の出力信号IA’、IC’
は加算器861によりIE’として出力され、ADC8
73でデジタル値に変換されたのち、R881に入力さ
れる。
R881のデータはCPU882によりメモリRAM8
83の所定のアドレスに記憶される。また、CPU88
2は演算結果に基づいてガルバノミラ−44の振れ角を
制御し、また、R881に入力される波形の最大値が所
定の値となるように、AGC851,852,853,
854の利得を制御する。
今、ここで検出した波形のコントラストCを、第3図に
示すように波形の最大値Y waxと最小値Y sin
を用いて と定義する。明視野、暗視野の検出波形は、それぞれ第
4図に示す901,902のようになるが、波長を変え
ると903,904のようにコントラストを向上させる
ことができる。また、明視野、暗視野とも、ガルバノミ
ラ−の振れ角で決まるσの値を太き(すると、波形は第
5図に示す905から906へと変化し、照度むらが減
少し波形のノイズを小さくすることができる。この時、
反面コントラストも減少する。また、明視野の時、バタ
ンの検出方向にレジストの塗布むらがあった場合には、
Arレーザ光、He−Neレーザ光それぞれの単一波長
の照明では、ガルバノミラ−44を揺動しても、第6図
の907,908に示すように波形が非対称になるが、
2波長の波形を合成すれば909に示すように対称性が
改善できる。上記現象を踏まえ最適な検出方法およびパ
ラメータを決定するため、制御・処理回路8内のCPU
882はつぎに示す手順を行う。
まず、第7図においてパラメータσの分割数N0を決め
る(例えば、N0=lO)。ステップ801でN=1と
おくことにより、ステップ802でσ=0(ガルバノミ
ラ−44が静止)の場合から順に検出する。つぎに第1
図に示す1次元撮像素子661,662,761,76
2によって撮像されたArレーザ明視野、暗視野、He
−Neレーザ明視野、暗視野の波形は、それぞれステッ
プ803,804,805,806で入力メモリ881
から取り出され、RAM883に記憶される。さらに、
ステップ807で入力メモリ881のデータを足し合わ
せることにより、ArレーザとHe−Neレーザの明視
野検出の合成波形がメモリに記憶される。上記操作はス
テップ808でNがN0+1に達するまで繰り返され、
達しない場合にはステップ809でN=N+1としたの
ち、ステップ802に戻る。上記操作で最適な検出方法
およびパラメータを決定するために、対象となる波形が
すべて(全部で、n、=5(N0+1)個)RAM88
3に記憶される。
つぎに波形の評価手順を第8図に示す。まず、CPU8
82はステップ811でi=1とおき、ステップ812
でRAM883の1番目に記憶されている波形を読み出
す、つぎに、ステップ813でこの波形のノイズ量Rを
算出する。ここで、上記ノイズ量Rの算呂法を第9図に
基づいて説明する。さきに波形データが検出方向にM個
にサンプリングされていたとし、原波形データがY 、
、、、 Y、、、・・・・・・Y、、Mで表されるとす
る。まず、CPU882はステップ821でに=1.ス
テップ822でi=2とおき、ステップ823゜824
.825のループでi = 2からM−1まで3点平均
を求める。つぎに上記3点平均化処理回数がK(例えば
に:5)に達するまで、ステップ826.827で同じ
操作を繰り返す。つぎにステップ828で、原波形デー
タとに回平均化処理後のデータの差の2乗の平均値にお
ける平方根を求めることにより、ノイズ量Rが求められ
る。
第8図に示すステップ814では、上記Rと基準量との
比較を行う。εとしては、例えば波形の最大値Y wa
xと最小値Y winとの差の10%の値、すなわち i  = (Ymax−Ymin)X  0.1を与え
る。ステップ814を満たさない場合は、ステップ81
5でi=i+1とし、つぎの波形を読み出す、ステップ
814を満たす場合は、ステップ816で評価量Vの算
出を行う。
上記評価量Vは、(1)式のコントラストCとつぎに定
義する対称性マツチング強度Sの関数、すなわち v=f(c、s)          (2)で定義す
る。特公昭56−2284によれば、第10図(a)に
示す波形910において、対称性関数Zi911は第1
0図(b)に示すように、対称折り返し点i点、加算幅
をm個とじてで定義される。対称性マツチング強度Sは
、このZiの最大値Z waxと最小値Z winを用
いてで定義する。上記Sが1に近いほど対称性の度合い
が大きいことになる。したがって、(2)式のf(C,
S)を例えばCとSとの積、すなわちv=cxs とすると、評価量Vはコントラストおよび対称性の度合
いが大きいほど1に近くなる。
第8図に示すステップ816,817の評価量■の算出
および評価量Vと波形番号iのRAM883への記憶は
、ステップ818,815によりiがn。に達するまで
繰り返される。この結果、ステップ814の条件を満た
すすべての波形の評価量Vが求められるため、この中か
らステップ819でVの最大値を求める。ステップ82
0で上記■に対応する波形番号iから検出方式およびパ
ラメータσが得られ、これが対象とするプロセスを検出
するための最適検出方式および最適パラメータを示す。
なお、実施例としてはArレーザ光、He−Neレーザ
光を用いたが、上記以外の波長の光を照明光として用い
てもよく、照明光源としてはレーザ光以外に、多波長の
光を発する水銀ランプ等を用いてもよい。また、波形の
ノイズ量R1評価量Vの算出は、ウェハ上の複数の位置
のターゲットの波形を検出し、これらの平均値として与
えてもよい。また、波形の性質を評価する値として、上
記RおよびV以外のものを用いてもよい。
つぎに、ターゲット位置を求めるための複数の算出手段
から最適な手段を選択する方法について説明する。評価
量VはCとSとの積であるから、上記により決定した最
適検出方式で得られる波形は、第11図(a)の明視野
波形912と(b)の暗視野波形913のようにコント
ラストは高いが対称性が悪い場合、および(C)に示す
明視野波形914と(d)に示す暗視野波形915のよ
うに対称性はよいが、コントラストが悪い場合が存在す
る。ターゲット位置の算出手段は、これらの場合に応じ
てそれぞれ選択する必要がある。特公昭56−2284
に開示されている対称性関数による位置算出方法は、波
形が対称である場合は有効であるが、非対称な場合は誤
差が発生する。
そこで、波形が非対称な場合は別の位置算出手段を選択
する。
第11図(b)に示すように暗視野で波形が913のよ
うに非対称な場合は、CPU882は例えば第12図に
おいてしきい値aを設定し、aが波形を切る点A1.A
2の中点C^、すなわちC^= (A1+ A2)/ 
2        (6)をターゲット位置とする。
また、第11図(a)の912のように明視野で波形が
非対称な場合にCPU882は、第13図に示すように
しきい値すを設定し、これが波形を切る点B工l Bi
t Bit Bet を求め、B□、B2の中点と、B
、、B4の中点との中点Ca、すなわち Ca=(B1+B2+B、+B、)/4    (7)
をターゲットの位置とする。
上記のようなしきい値法は、波形の非対称性の影響を受
けにくく、また、設定したしきい値にかかりやすいコン
トラストが高い波形に適する。なお、上記の位置算出手
段は、実行可能なプログラムまたは専用の演算回路のど
ちらでもよい。
上記複数の位置算出手段から波形に応じて最適な手段を
自動的に選択するため、CPU882は第14図に示す
手順を実行する。まず、ステップ830で最適検出方式
で検出した波形を読み込み、ステップ831で、この波
形の対称性マツチング強度Sがあらかじめ設定した基準
値T0より小さいかどうかを判断する。大きい場合は、
ステップ832で対称性関数を用いた位置算出法を選択
する。小さい場合は、ステップ833で明視野か暗視野
かを判断する。暗視野の場合は(6)式を用いたしきい
値法を選択し、明視野の場合は(7)式を用いたしきい
値法を選択する。なお、選択の対象となる位置算出法は
上記3例に限られたものではなく、他の位置算出法であ
ってもよい。また、選択の判断に用いられる波形の性質
の評価量は、上記の対称性マツチング強度Sに限られた
ものではない。
上記実施例を実行すれば、ウェハ上のターゲット位置を
プロセスによらず、常に高精度に検出することができる
〔発明の効果〕
上記のように本発明によるアライメント装置は、複数の
アライメント検出手段と、アライメント波形の性質の評
価手段と、該評価手段の評価結果とにより、上記複数の
アライメント検出手段から所望の手段を選択する、選択
手段を具備したことにより、複数の検出方法を有するア
ライメント装置において、最適検出方法と最適パラメー
タとを自動的に決定できるので、多数なプロセスに対し
て迅速に最適検査を行うことができ、また、検出された
波形に対して最適な位置算出手段を自動的に選択できる
ので、常に高精度にアライメントを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるアライメント装置の一実施例を示
す図、第2図は上記実施例の制御・処理回路を示す図、
第3図は波形コントラストの求め方を示す図、第4図は
波長を変えた場合の検出波形のコントラスト向上を示す
図で、(a)は明視野を示す図、(b)は暗視野を示す
図、第5図はガルバノミラ−の振れ角を大きくしたとき
の波形ノイズの減少を示す図、第6図は波長が異なる光
で検出した波形を合成することによる波形の対称性の向
上を示す図、第7図は複数の検出方式で検出した波形を
記憶する手順を示す図、第8図は最適検出方式および最
適パラメータを決定する手順を示す図、第9図は波形の
ノイズ量を算出する手順を示す図、第10図(a)およ
び(b)は対称性マツチング強度の求め方を説明する図
7第11図は上記手順で得られた明視野と暗視野検出波
形の例を示す図で、(a)および(c)は明視野波形を
示し、(b)および(d)は暗視野波形を示す図、第1
2図は暗視野検出波形に対するしきい値法によるターゲ
ット位置の求め方を示す図、第13図は明視野検出波形
に対するしきい値法によるターゲット位置の求め方を示
す図、第14図は制御・処理回路が行う手順を示す図で
ある。 1・・・レチクル     2・・・縮小レンズ3・・
・ウェハ      8・・・制御・処理回路21・・
・縮小レンズ入射瞳 31・・・ターゲットマーク 44・・・ガルバノミラ− 代理人弁理士  中 村 純之助 1:し針クル 2:縮ノ1ルンス   3゛ウェハ 31:ターケユソトマーク 44ニー17’ルバ°ノミラー 第 図 Q只1 第8 図 (α) (b) 第10図 (α) 第11 図 (b) 第13図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、複数のアライメント検出手段とアライメント波形の
    性質の評価手段と該評価手段の結果により、前記複数の
    アライメント検出手段から所望の手段を選択する選択手
    段を具備したことを特徴とするアライメント装置。 2、前記性質は、コントラスト、対称性、ノイズの少な
    くともいずれか一つであることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載のアライメント装置。 3、前記評価手段は基板上の複数の位置におけるアライ
    メント波形の性質を用いることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載のアライメント装置。 4、アライメント方法であって、複数の検出手段により
    、少なくとも一つのターゲットに対して異なる複数の波
    形を検出し、該複数の波形の性質を評価し、評価結果か
    ら最適検出手段を選択し、該最適検出手段によりアライ
    メントを行うアライメント方法。 5、前記波形の性質は、コントラスト、対称性、ノイズ
    の少なくともいずれか一つであることを特徴とする特許
    請求の範囲第4項記載のアライメント方法。 6、検出した波形の性質を評価し、評価結果より、複数
    あるアライメント位置算出手段から最適なアライメント
    位置算出手段を選択し、アライメント位置算出を行うこ
    とを特徴とする演算処理装置。 7、前記波形の性質は、コントラスト、対称性、ノイズ
    の少なくともいずれか一つであることを特徴とする特許
    請求の範囲第6項記載の演算処理装置。 8、前記アライメント位置算出手段は、実行可能なプロ
    グラム、または、専用の演算回路の少なくともいずれか
    一つであることを特徴とする特許請求の範囲第6項記載
    の演算処理装置。
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