JPH043394A - Semiconductor non-volatile storage device - Google Patents

Semiconductor non-volatile storage device

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JPH043394A
JPH043394A JP2102859A JP10285990A JPH043394A JP H043394 A JPH043394 A JP H043394A JP 2102859 A JP2102859 A JP 2102859A JP 10285990 A JP10285990 A JP 10285990A JP H043394 A JPH043394 A JP H043394A
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JP
Japan
Prior art keywords
erased
blocks
word line
circuit
erase
Prior art date
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Pending
Application number
JP2102859A
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Japanese (ja)
Inventor
Tatsuo Tsuchiya
達男 土屋
Takaaki Nozaki
孝明 野崎
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Citizen Watch Co Ltd
Original Assignee
Citizen Watch Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH043394A publication Critical patent/JPH043394A/en
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Abstract

PURPOSE:To collectively erase one or more selected blocks to shorten the erase time by providing a word line decoding circuit with latch circuits which can be selectively set by a block address. CONSTITUTION:A word line decoding circuit 101 is provided with latch circuits 102, 103, and 104. The block address is selected by an address decoder 114. When blocks 111 and 112 will be erased, latch circuits 102 and 103 are set by the block address, and blocks 111 and 112 are simultaneously erased with one erase operation. The block 113 is not erased in this case because the latch circuit 104 is not set, and plural blocks are selectively erased. Though two blocks are collectively erased, one or more arbitrary blocks can be selectively and collectively erased.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電気的に書き換え可能な半導体不揮発性記憶装
置に関し、とくに半導体不揮発性記憶装置の消去時間の
改善に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an electrically rewritable semiconductor non-volatile memory device, and more particularly to improving the erase time of a semiconductor non-volatile memory device.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

電気的に書き換え可能な半導体不揮発性記憶装置は、内
蔵する不揮発性記憶素子の電気的特性に起因して記憶し
たデータを消去する時間が長くかかる問題がある。従来
、この問題を解決するためページ消去方式、ブロック消
去方式およびチッフー括消去方式のように、1回の消去
動作で複数の不揮発性記憶素子を一括に消去することに
より等測的に消去時間を短縮する方式がとられている。
Electrically rewritable semiconductor nonvolatile memory devices have a problem in that it takes a long time to erase stored data due to the electrical characteristics of the built-in nonvolatile memory elements. Conventionally, in order to solve this problem, the erase time is reduced equimetrically by erasing multiple nonvolatile memory elements at once in a single erase operation, such as the page erase method, block erase method, and chip-batch erase method. A shortening method is being adopted.

ページ消去方式はページアドレスで選択された1本のワ
ード線に接続された不揮発性記憶素子の全てを一括に消
去する方式であり、ブロック消去方式はブロックアドレ
スで選択された1個のブロック(ブロックとは2本以上
のワード線の組を言う)内の全ての不揮発性記憶素子を
一括に消去する方式である。チップ−括消去方式は不揮
発性半導体記憶装置内の全ての不揮発性記憶素子を一括
に消去する方式である。
The page erase method is a method that erases all nonvolatile memory elements connected to one word line selected by a page address at once, and the block erase method is a method that erases all of the nonvolatile memory elements connected to one word line selected by a is a method of erasing all nonvolatile memory elements in a group of two or more word lines at once. The chip-batch erase method is a method for erasing all nonvolatile memory elements in a nonvolatile semiconductor memory device at once.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ブロック消去方式は1回の消去動作で1ブロックしか消
去できないため、複数ブロックを消去する場合には複数
回の消去動作が必要となり消去時間が長くなる。さらに
ページ消去方式は1回の消去動作で1ページしか消去で
きないため、複数ページを消去する場合には複数回の消
去動作が必要となり消去時間が長くなる。チップ−括消
去方式は消去する必要のないブロックあるいはページも
消去されるため、消去する必要のないブロックあるいは
ページを再度書き込みしなければならない。
In the block erase method, only one block can be erased in one erasing operation, so when erasing multiple blocks, multiple erasing operations are required, which increases the erasing time. Furthermore, since the page erase method can erase only one page in one erase operation, erasing multiple pages requires multiple erase operations, which increases the erase time. In the chip-batch erase method, blocks or pages that do not need to be erased are also erased, so the blocks or pages that do not need to be erased must be rewritten.

本発明の目的は、かかる欠点を除去し、消去時間の短い
半導体不揮発性記憶装置を提供するものである。
An object of the present invention is to eliminate such drawbacks and provide a semiconductor nonvolatile memory device with short erasing time.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明では、上記の目的を達成するために次のような装
置を提供する。(イ)ワード線デコーダ回路内にブロッ
クアドレスで選択的にセット可能なラッチ回路を設け、
選択された1ブロック以上の消去を一括に行うことを特
徴とする半導体不揮発性記憶装置。(ロ)ワード線デコ
ーダ回路内にページアドレスで選択的にセット可能なラ
ッチ回路を設け、選択された1ページ以上の消去を一括
に行うことを特徴とする半導体不揮発性記憶装置である
In order to achieve the above object, the present invention provides the following device. (a) A latch circuit that can be selectively set by block address is provided in the word line decoder circuit,
A semiconductor nonvolatile memory device characterized in that one or more selected blocks are erased at once. (b) A semiconductor nonvolatile memory device characterized in that a latch circuit that can be selectively set by a page address is provided in a word line decoder circuit, and one or more selected pages can be erased at once.

〔実施例〕〔Example〕

以下図面を用いて本発明の詳細な説明する。 The present invention will be described in detail below using the drawings.

第1図は本発明におけるワード線デコーダ回路内にブロ
ックアドレスで選択的にセット可能なランチ回路を設け
た半導体不揮発性記憶装置の回路構成の一例である。メ
モリセル回路はMNOS(Metal−Nitride
−Oxide−8emiconductor)型または
MONO8(Metal−Oxide−Nitride
−Oxide−8emiConduCtor)型の不揮
発性記憶素子116とアドレス素子117とを直列に接
続して構成した一例である。第1図は1ブロックが2ペ
ージ構成であるが、1ブロックが3ページ以上で構成さ
れている半導体不揮発性記憶装置まで拡張できることは
以下の説明から明白である。第1図はワード線デコーダ
回路101内にアドレスデコーダ回路114、ワード線
ドライバー回路115、ワード線105とワード線10
6とに接続されたランチ回路102、ワード線107A
’7−ド線108とに接続されたラッチ回路106、お
よびワード線109とワード線110とに接続されたラ
ッチ回路104を設けたものである。ブロックアドレス
はアドレスデコーダ回路114により選択する。ブロッ
ク111とブロック112とを消去する場合は、ラッチ
回路102とラッチ回路103とをブロックアドレスで
セットし、1回の消去動作でブロック111とブロック
112とを同時に消去する。この際、ラッチ回路104
がセットされていないブロック116は消去されず、複
数ブロックの選択的な消去が可能である。
FIG. 1 is an example of the circuit configuration of a semiconductor nonvolatile memory device in which a launch circuit that can be selectively set by a block address is provided in a word line decoder circuit according to the present invention. The memory cell circuit is MNOS (Metal-Nitride)
-Oxide-8emiconductor) type or MONO8 (Metal-Oxide-Nitride) type
This is an example in which a nonvolatile memory element 116 of a type (-Oxide-8emiConduCtor) and an address element 117 are connected in series. Although one block in FIG. 1 has a two-page structure, it is clear from the following description that it can be extended to a semiconductor nonvolatile memory device in which one block has three or more pages. In FIG. 1, a word line decoder circuit 101 includes an address decoder circuit 114, a word line driver circuit 115, a word line 105, and a word line 10.
6 and the launch circuit 102 connected to the word line 107A.
A latch circuit 106 is connected to a '7- word line 108, and a latch circuit 104 is connected to a word line 109 and a word line 110. The block address is selected by address decoder circuit 114. When erasing blocks 111 and 112, latch circuits 102 and 103 are set with block addresses, and blocks 111 and 112 are simultaneously erased in one erasing operation. At this time, the latch circuit 104
Blocks 116 for which the is not set are not erased, and multiple blocks can be selectively erased.

なお、上記実施例は2ブロック−括消去であるが、本発
明を用いれば1ブロック以上の任意のブロックを選択的
に一括に消去することが可能である。
In the above embodiment, two blocks are erased at once, but by using the present invention, it is possible to selectively erase one or more blocks at once.

第2図は本発明におけるワード線デコーダ回路内にペー
ジアドレスで選択的にセント可能なラッチ回路を設けた
半導体不揮発性記憶装置の回路構成の一例である。メモ
リセル回路はMNOS型またはMONO8型の不揮発性
記憶素子213とアドレス素子214とを直列に接続し
て構成した一例である。ワード線デコーダ回路201内
にアドレスデコーダ回路211、ワード線ドライバー回
路212、ワード線205に接続されたラッチ回路20
2、ワード線206に接続されたラッチ回路206、お
よびワード線207に接続されたランチ回路204を設
けたものである。ページアドレスはアドレスデコーダ回
路211により選択する。
FIG. 2 is an example of the circuit configuration of a semiconductor nonvolatile memory device in which a latch circuit that can be selectively sent by a page address is provided in a word line decoder circuit according to the present invention. The memory cell circuit is an example in which an MNOS type or MONO8 type nonvolatile memory element 213 and an address element 214 are connected in series. The word line decoder circuit 201 includes an address decoder circuit 211, a word line driver circuit 212, and a latch circuit 20 connected to the word line 205.
2. A latch circuit 206 connected to a word line 206 and a launch circuit 204 connected to a word line 207 are provided. The page address is selected by the address decoder circuit 211.

ページ208とページ209とを消去する場合は、ラッ
チ回路202とラッチ回路206とをページアドレスで
セットし、1回の消去動作でページ208とページ20
9とを同時に消去する。この際、ラッチ回路204がセ
ットされていないベジ210は消去されず、複数ページ
の選択的な消去が可能である。なお、上記実施例は2ペ
ージ−括消去であるが、本発明を用いれば1ページ以上
の任意のページを選択的に一括に消去することが可能で
ある。
When erasing page 208 and page 209, the latch circuit 202 and latch circuit 206 are set with the page address, and page 208 and page 209 are erased in one erase operation.
9 and 9 at the same time. At this time, pages 210 for which the latch circuit 204 is not set are not erased, and a plurality of pages can be selectively erased. In the above embodiment, two pages are erased at once, but by using the present invention, it is possible to selectively erase one or more arbitrary pages at once.

第3図は本発明におけるラッチ回路の回路構成の一例で
ある。第3図はインバータ回路601゜602、セット
入カドランジスタロ06、リセット入カドランジスタロ
04からなり、ブロックアドレスあるいはページアドレ
スでセントする。
FIG. 3 is an example of a circuit configuration of a latch circuit according to the present invention. FIG. 3 consists of inverter circuits 601 and 602, a set input quadrant register 06, and a reset input quadrant register 04, and the block address or page address is used.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上、本発明により従来に比較して半導体不揮発性記憶
装置における複数ブロックあるいは複数ページのデータ
を消去する時間を短くすることが可能となる。すなわち
、半導体不揮発性記憶装置の高速化が実現できる。
As described above, the present invention makes it possible to reduce the time required to erase multiple blocks or multiple pages of data in a semiconductor nonvolatile memory device compared to the conventional technology. In other words, the speed of the semiconductor nonvolatile memory device can be increased.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明における複数ブロックの一括消去が可能
な半導体不揮発性記憶装置の回路構成図、第2図は本発
明における複数ページの一括消去が可能な半導体不揮発
性記憶装置の回路構成図、第3図はラッチ回路の回路構
成図である。 101.201 ・・・・・ワード線デコーダ回路、1
02.103.104.202.203゜204・・・
・・ランチ回路、 111.112.113・・・・・・ブロック、208
.209.210・・・・・・ページ。 201 ワード腺す゛コータ゛回路 202、203.2Q4う2−f回路 208、209.21ON−ジ
FIG. 1 is a circuit diagram of a semiconductor non-volatile memory device according to the present invention that can erase multiple blocks at once, and FIG. 2 is a circuit diagram of a semiconductor non-volatile memory device that can erase multiple pages at once according to the present invention. FIG. 3 is a circuit diagram of the latch circuit. 101.201...Word line decoder circuit, 1
02.103.104.202.203°204...
...Launch circuit, 111.112.113...Block, 208
.. 209.210...page. 201 Word gland coater circuit 202, 203.2Q4 2-f circuit 208, 209.21 ON-di

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ワード線デコーダ回路内にブロックアドレスで選
択的にセット可能なラッチ回路を設け、選択された1ブ
ロック以上の消去を一括に行うことを特徴とする半導体
不揮発性記憶装置。
(1) A semiconductor nonvolatile memory device characterized in that a word line decoder circuit is provided with a latch circuit that can be selectively set by a block address, and one or more selected blocks are erased at once.
(2)ワード線デコーダ回路内にページアドレスで選択
的にセット可能なラッチ回路を設け、選択された1ペー
ジ以上の消去を一括に行うことを特徴とする半導体不揮
発性記憶装置。
(2) A semiconductor nonvolatile memory device characterized in that a latch circuit that can be selectively set by a page address is provided in a word line decoder circuit, and one or more selected pages are erased at once.
JP2102859A 1990-04-20 1990-04-20 Semiconductor non-volatile storage device Pending JPH043394A (en)

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0559213A2 (en) * 1992-03-05 1993-09-08 Kabushiki Kaisha Toshiba Nonvolatile semiconductor memory device
JPH05325576A (en) * 1992-03-05 1993-12-10 Toshiba Corp Nonvolatile semiconductor storage device
EP0691008A1 (en) * 1993-03-26 1996-01-10 Lexar Microsystems, Inc. Flash memory mass storage architecture
JP2007250186A (en) * 2007-07-09 2007-09-27 Renesas Technology Corp Nonvolatile semiconductor memory device
JP2010519674A (en) * 2007-02-27 2010-06-03 モサイド・テクノロジーズ・インコーポレーテッド Decoding control by detecting address change in page erase function
US8305806B2 (en) 2009-05-06 2012-11-06 Samsung Electronics Co., Ltd. Nonvolatile memory device and method for controlling word line or bit line thereof
CN112825261A (en) * 2019-11-20 2021-05-21 合肥格易集成电路有限公司 Erasing method of nonvolatile memory and nonvolatile memory

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0559213A2 (en) * 1992-03-05 1993-09-08 Kabushiki Kaisha Toshiba Nonvolatile semiconductor memory device
JPH05325576A (en) * 1992-03-05 1993-12-10 Toshiba Corp Nonvolatile semiconductor storage device
EP0559213A3 (en) * 1992-03-05 1995-05-24 Tokyo Shibaura Electric Co
EP0691008A1 (en) * 1993-03-26 1996-01-10 Lexar Microsystems, Inc. Flash memory mass storage architecture
EP0691008A4 (en) * 1993-03-26 1998-03-25 Cirrus Logic Inc Flash memory mass storage architecture
JP2010519674A (en) * 2007-02-27 2010-06-03 モサイド・テクノロジーズ・インコーポレーテッド Decoding control by detecting address change in page erase function
JP2013168211A (en) * 2007-02-27 2013-08-29 Mosaid Technologies Inc Decoding control with address transition detection in page erase function
KR101469295B1 (en) * 2007-02-27 2014-12-04 컨버전트 인텔렉츄얼 프로퍼티 매니지먼트 인코포레이티드 Decoding control with address transition detection in page erase function
JP2007250186A (en) * 2007-07-09 2007-09-27 Renesas Technology Corp Nonvolatile semiconductor memory device
JP4712769B2 (en) * 2007-07-09 2011-06-29 ルネサスエレクトロニクス株式会社 Nonvolatile semiconductor memory device
US8305806B2 (en) 2009-05-06 2012-11-06 Samsung Electronics Co., Ltd. Nonvolatile memory device and method for controlling word line or bit line thereof
CN112825261A (en) * 2019-11-20 2021-05-21 合肥格易集成电路有限公司 Erasing method of nonvolatile memory and nonvolatile memory

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