JPH04332912A - Manufacture of fixed magnetic disk - Google Patents

Manufacture of fixed magnetic disk

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JPH04332912A
JPH04332912A JP10241891A JP10241891A JPH04332912A JP H04332912 A JPH04332912 A JP H04332912A JP 10241891 A JP10241891 A JP 10241891A JP 10241891 A JP10241891 A JP 10241891A JP H04332912 A JPH04332912 A JP H04332912A
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JP
Japan
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organometallic compounds
organometallic
magnetic disk
fixed magnetic
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Pending
Application number
JP10241891A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akiyuki Fujii
映志 藤井
Hideo Torii
秀雄 鳥井
Masaki Aoki
正樹 青木
Masuzo Hattori
服部 益三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide the manufacturing method of a fixed magnetic disk whose reliability is excellent and which can comply with a high-density magnetic recording operation. CONSTITUTION:A fixed magnetic disk having a structure where an amorphous oxide thin film 8 is formed on a disk substrate 7 by means of X-rays and, in addition, an iron oxide thin film 9 by a spinel-type structure containing cobalt having a pillar-shaped structure is formed on it is manufactured in the following manner: the vapor of a beta-diketone metal complex and ozone or N2O as a reaction gas or the mixed gas of steam with oxygen are decomposed and reacted in a plasma.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、信頼性に優れ、高密度
磁気記録対応を可能にする固定磁気ディスクの製造方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a fixed magnetic disk that is highly reliable and compatible with high-density magnetic recording.

【0002】0002

【従来の技術】近年の高度情報化社会において、記憶す
べき情報の量は年々増加の一途をたどり、記憶装置の大
容量化、高密度化に対する要望も高まっている。
2. Description of the Related Art In the recent highly information-oriented society, the amount of information to be stored continues to increase year by year, and there is also an increasing demand for larger capacity and higher density storage devices.

【0003】このような状況のもと、コンピュ−タ周辺
機器として用いられる固定磁気ディスクに用いられる記
録媒体は、従来のアルミディスク基板上にガンマ酸化鉄
系の針状磁性粉などをを塗布した塗布型から、めっき法
やスパッタ法などによるCo−Ni/Cr合金の薄膜型
へと変化し、高密度化が図られてきた。
Under these circumstances, recording media used in fixed magnetic disks used as computer peripherals are made by coating a conventional aluminum disk substrate with gamma iron oxide-based acicular magnetic powder. The coating type has changed to a Co-Ni/Cr alloy thin film type using plating or sputtering methods, and higher density has been achieved.

【0004】0004

【発明が解決しようとする課題】しかし、Co−Ni/
Cr薄膜は合金であるがゆえ耐久性などに問題があるた
め、磁気ディスクの構造としては、(潤滑層/保護層/
Co−Ni磁性層/Cr層/Ni−Pめっき層/アルミ
ニウム基板)の5層構造になっており、製造工程が複雑
であるといった欠点がある。
[Problem to be solved by the invention] However, Co-Ni/
Since the Cr thin film is an alloy, there are problems with durability, etc., so the structure of the magnetic disk is (lubricating layer/protective layer/
It has a five-layer structure (Co--Ni magnetic layer/Cr layer/Ni--P plating layer/aluminum substrate), and has the drawback that the manufacturing process is complicated.

【0005】(図6)は従来の固定磁気ディスクである
Co−Ni/Cr合金の薄膜型の固定磁気ディスクの断
面を示すものである。図において、1はアルミニウム基
板、2はNi−Pめっき層、3はCr層、4はCo−N
i磁性層、5は保護層、6は潤滑層である。
FIG. 6 shows a cross section of a thin film type fixed magnetic disk made of a Co--Ni/Cr alloy, which is a conventional fixed magnetic disk. In the figure, 1 is an aluminum substrate, 2 is a Ni-P plating layer, 3 is a Cr layer, and 4 is a Co-N
i is a magnetic layer, 5 is a protective layer, and 6 is a lubricating layer.

【0006】また、上記固定磁気ディスクはCo−Ni
磁性層4が面内記録媒体であるため、さらに記録密度を
上げるために記録波長を短くしていくと減磁界の影響で
記録が困難になってくる。
[0006] Furthermore, the fixed magnetic disk is made of Co-Ni.
Since the magnetic layer 4 is a longitudinal recording medium, if the recording wavelength is shortened to further increase the recording density, recording becomes difficult due to the influence of the demagnetizing field.

【0007】そこで、磁気記録方式の上で、上記欠点を
改善した記録方式である垂直記録を可能とする磁気記録
媒体として、磁気ヘッドと媒体が接触状態ではあるがC
o−Cr薄膜媒体の研究が盛んになされてきた。しかし
、(図6)に示すCo−Ni/Cr合金の薄膜型の記録
媒体の場合と同様Co−Cr媒体にも合金であるがゆえ
、信頼性に問題があるためCo−Cr薄膜表面にアモル
ファスカ−ボン膜やCo酸化物の保護層5を設けなくて
はならないという課題がある。
[0007] Therefore, as a magnetic recording medium that enables perpendicular recording, which is a recording method that improves the above-mentioned drawbacks, a C
Research on o-Cr thin film media has been actively conducted. However, as in the case of the Co-Ni/Cr alloy thin film type recording medium shown in Figure 6, since the Co-Cr medium is also an alloy, there is a reliability problem, so an amorphous layer is formed on the surface of the Co-Cr thin film. There is a problem in that a protective layer 5 of carbon film or Co oxide must be provided.

【0008】一方、固定磁気ディスク装置において、磁
気ヘッドの磁気ディスクに対する走行高さ(フライング
ハイト)をできるだけ低くすることは、磁気ヘッドと磁
気ディスクスペ−シングによる出力の損失(スペ−シン
グ損失)を軽減するため、記録密度向上につながるもの
であり、最近では高記録密度を可能にするために、0.
05〜0.1μm程度のフライングハイト量での走行が
必要とされている。
On the other hand, in a fixed magnetic disk drive, reducing the flying height of the magnetic head relative to the magnetic disk as much as possible reduces output loss (spacing loss) due to spacing between the magnetic head and the magnetic disk. In order to reduce the noise, it leads to an improvement in recording density.Recently, in order to enable high recording density, 0.
It is required to run with a flying height of about 0.05 to 0.1 μm.

【0009】しかしながら、上記従来のCo−Ni/C
r合金の薄膜記録媒体、Co−Cr薄膜型記録媒体いず
れにおいても、耐久性などに問題があるため、信頼性確
保のため薄膜表面に保護膜5(数10nm)を形成しな
ければならず、したがってどうしてもスペ−シング損失
が増えてしまうという課題が残る。
However, the above conventional Co-Ni/C
Both R-alloy thin film recording media and Co-Cr thin film recording media have problems with durability, so a protective film 5 (several tens of nanometers) must be formed on the thin film surface to ensure reliability. Therefore, the problem remains that the spacing loss inevitably increases.

【0010】また、固定磁気ディスクの場合、高速で磁
気ディスクを回転(3600回転/分)させるため、磁
性層の硬度が高いことも信頼性確保と言った点では非常
に重要である。しかしCo−Cr薄膜のような合金の場
合どうしても硬度的に問題がある。
Furthermore, in the case of a fixed magnetic disk, since the magnetic disk is rotated at high speed (3600 revolutions/minute), it is very important for the magnetic layer to have high hardness in order to ensure reliability. However, alloys such as Co--Cr thin films inevitably have problems in terms of hardness.

【0011】本発明は上記問題点を解決するものであり
、信頼性に優れ、かつ高密度磁気記録対応が可能である
垂直磁気記録の成分を持った固定磁気ディスクの製造方
法を提供するものである。
The present invention solves the above problems and provides a method for manufacturing a fixed magnetic disk having perpendicular magnetic recording components that is highly reliable and compatible with high-density magnetic recording. be.

【0012】0012

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、ディスク基板上にX線的にアモルファスな
酸化物薄膜を形成し、さらに前記酸化物薄膜上にディス
ク基板表面に対して垂直方向に柱状構造を有するコバル
トを含むスピネル型結晶構造の酸化鉄磁性薄膜を形成し
た構造を有する固定磁気ディスクを、プラズマの活性さ
とCVD反応を利用した製造方法により作製するといっ
た構成を備えたものである。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention forms an oxide thin film that is X-ray amorphous on a disk substrate, and further provides a method for forming an oxide thin film on the disk substrate surface. A fixed magnetic disk having a structure in which an iron oxide magnetic thin film with a spinel-type crystal structure containing cobalt having a columnar structure in the vertical direction is formed, manufactured by a manufacturing method that utilizes plasma activation and CVD reaction. It is.

【0013】[0013]

【作用】したがって本発明によれば、反応ガスに用いる
オゾンやN20や水蒸気がプラズマ中で活性なラジカル
を生成するため、耐久性や硬度などの信頼性に優れ、か
つ高密度磁気記録ができる固定磁気ディスクを、比較的
容易にかつ低温で製造できる。
[Function] Therefore, according to the present invention, since ozone, N20, and water vapor used as reaction gases generate active radicals in plasma, the fixing device has excellent reliability such as durability and hardness, and is capable of high-density magnetic recording. Magnetic disks can be manufactured relatively easily and at low temperatures.

【0014】[0014]

【実施例】以下、本発明の一実施例のプラズマCVD法
による固定磁気ディスクの製造方法について図面を参照
しながら説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A method of manufacturing a fixed magnetic disk by plasma CVD according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0015】(実施例1)(図1)は本発明の製造方法
により作製した固定磁気ディスクの構成を示すものであ
り、図において7はディスク基板、8はCoZnFe酸
化物層、9はCoフェライト膜、10は潤滑層である。
(Example 1) (FIG. 1) shows the structure of a fixed magnetic disk manufactured by the manufacturing method of the present invention. In the figure, 7 is a disk substrate, 8 is a CoZnFe oxide layer, and 9 is a Co ferrite layer. The membrane 10 is a lubricating layer.

【0016】(図2)は本発明の一実施例におけるプラ
ズマCVD装置の概略図を示すものである。
(FIG. 2) shows a schematic diagram of a plasma CVD apparatus in an embodiment of the present invention.

【0017】(図2)において11は反応チャンバ−、
12は電極、13は反応チャンバ−内を低圧に保つため
の排気系で、14は下地基板(ガラスディスク基板)、
15は高周波電源(13.56MHz)、16、17、
18は原料の入った気化器で、19、20、21はキャ
リアガスの気化器内への導入の有無を制御するためのバ
ルブ、22、23、24は原料ガスとキャリアガスの反
応チャンバ−内への導入の有無を制御するためのバルブ
、25はキャリアガスボンベ(窒素)、26は酸素ボン
ベ、27はオゾナイザー、28はN2Oボンベ、29は
水の入った気化器、30は基板回転機構のついた基板加
熱ヒ−タ−である。
In FIG. 2, 11 is a reaction chamber;
12 is an electrode, 13 is an exhaust system for keeping the inside of the reaction chamber at low pressure, 14 is a base substrate (glass disk substrate),
15 is a high frequency power supply (13.56MHz), 16, 17,
18 is a vaporizer containing the raw material; 19, 20, and 21 are valves for controlling whether or not carrier gas is introduced into the vaporizer; and 22, 23, and 24 are valves for controlling the introduction of the raw material gas and carrier gas into the reaction chamber. 25 is a carrier gas cylinder (nitrogen), 26 is an oxygen cylinder, 27 is an ozonizer, 28 is a N2O cylinder, 29 is a vaporizer containing water, and 30 is a substrate rotation mechanism. This is a substrate heating heater.

【0018】出発原料には、鉄アセチルアセトナ−ト〔
Fe(C5H7O2)3〕,亜鉛アセチルアセトナ−ト
〔Zn(C5H7O2)2・H2O〕,コバルトアセチ
ルアセトナ−ト〔Co(C5H7O2)3〕をもちいた
The starting materials include iron acetylacetonate [
Fe(C5H7O2)3], zinc acetylacetonate [Zn(C5H7O2)2.H2O], and cobalt acetylacetonate [Co(C5H7O2)3] were used.

【0019】気化器16に脱水処理を行った亜鉛アセチ
ルアセトナ−ト(空気中100℃で2時間)、17にコ
バルトアセチルアセトナ−ト、18に鉄アセチルアセト
ナ−トを入れ、それぞれ80℃、130℃、120℃に
加熱し保持しておく。バルブ19およびバルブ22を開
き窒素キャリア(気化器16、17、18にそれぞれ流
量10SCCM)とともに上記亜鉛、コバルト、鉄のそ
れぞれのアセチルアセトナ−トの蒸気と、反応ガスとし
てオゾナイザー27より発生させたオゾン(流量6SC
CM)を排気系13により減圧された反応チャンバ−1
1内に導入し、プラズマを発生(電力1.5W/cm2
)させ、2分間減圧下(0.11Torr)で反応を行
い、350℃に加熱したガラスディスク基板(120回
転/分)上にCoZnFe酸化物膜を成膜し、バルブ1
9およ22を閉じた。
Dehydrated zinc acetylacetonate (in air at 100°C for 2 hours) was placed in the vaporizer 16, cobalt acetylacetonate was placed in the vaporizer 17, and iron acetylacetonate was placed in the vaporizer 18. ℃, 130℃, and 120℃ and keep it there. Valves 19 and 22 were opened to generate vapors of acetylacetonate of zinc, cobalt, and iron together with nitrogen carrier (flow rate 10 SCCM in vaporizers 16, 17, and 18, respectively) and reactant gases from ozonizer 27. Ozone (flow rate 6SC
CM) is depressurized by the exhaust system 13 in the reaction chamber 1.
1 to generate plasma (power 1.5W/cm2
), a reaction was carried out under reduced pressure (0.11 Torr) for 2 minutes, and a CoZnFe oxide film was formed on a glass disk substrate (120 rotations/min) heated to 350°C.
9 and 22 closed.

【0020】さらに引き続き、同様の成膜条件で9分間
減圧下(0.08Torr)で反応を行い、Coフェラ
イト/CoZnFe酸化物の二層膜を作製した。そして
、二層膜を形成したガラスディスク基板を真空チャンバ
−から取り出し、裏面にも同様の方法で、同じ二層膜を
形成し、両面に磁性薄膜面をもつCoフェライト/Co
ZnFe酸化物ディスクを作製した。
[0020] Subsequently, a reaction was carried out under the same film-forming conditions for 9 minutes under reduced pressure (0.08 Torr) to produce a two-layer film of Co ferrite/CoZnFe oxide. Then, the glass disk substrate on which the two-layer film was formed was taken out from the vacuum chamber, and the same two-layer film was formed on the back side using the same method.
A ZnFe oxide disk was fabricated.

【0021】次に、このディスクを300℃の空気中で
3時間熱処理を行った後、フッソ系有機物の潤滑剤の入
った液槽に沈めて塗布することによって、固定磁気ディ
スク(Aタイプ)を作製した。
Next, after heat-treating this disk in air at 300°C for 3 hours, the fixed magnetic disk (A type) is coated by submerging it in a bath containing a fluorocarbon organic lubricant. Created.

【0022】作製した本発明の固定磁気ディスク(Aタ
イプ)は、ギャプ長(GL)が0.25μm,トラック
幅(Tw)が10μmのMIGヘッドを用いて、50m
Aのヘッド電流値を選んで電磁変換特性の評価を行った
。 固定磁気ディスク(Aタイプ)を3600回転/分 の
速度で回転させ、ディスクの中心から20.0mmの円
周トラックで評価を行った。なお、固定磁気ディスク(
Aタイプ)と磁気ヘッドの相対速度は、7.5m/se
cであり、磁気ヘッドのフライングハイトは0.15μ
mであった。
The manufactured fixed magnetic disk (type A) of the present invention was manufactured using a MIG head having a gap length (GL) of 0.25 μm and a track width (Tw) of 10 μm.
The head current value of A was selected to evaluate the electromagnetic conversion characteristics. A fixed magnetic disk (type A) was rotated at a speed of 3600 revolutions/min, and evaluation was performed on a circumferential track 20.0 mm from the center of the disk. Note that fixed magnetic disks (
The relative speed between A type) and the magnetic head is 7.5 m/sec.
c, and the flying height of the magnetic head is 0.15μ.
It was m.

【0023】次に、比較のために、Hc=1000Oe
で、Ms=800emu/ccの磁性層膜厚が80nm
で、その上に保護層としてカ−ボン膜を60nm形成し
、本発明と同様の潤滑剤被膜層を設けた従来のCo−N
i/Cr合金薄膜の固定磁気ディスク(Bタイプ)(ア
ルミ基板で面内方向に磁化配向)と、本発明と同様の条
件(基板温度350℃)で、反応ガスとして酸素を用い
て、Coフェライト/NiOディスク(固定磁気ディス
ク(Cタイプ))を作製し、本発明の固定磁気ディスク
(Aタイプ)と同じ条件で電磁変換特性の評価を行った
Next, for comparison, Hc=1000Oe
So, when Ms=800emu/cc, the magnetic layer thickness is 80nm.
A conventional Co-N film was formed with a carbon film of 60 nm thick as a protective layer thereon, and a lubricant film layer similar to that of the present invention was provided.
A fixed magnetic disk (B type) of i/Cr alloy thin film (aluminum substrate with magnetization oriented in the in-plane direction) and Co ferrite were prepared using oxygen as a reactive gas under the same conditions as the present invention (substrate temperature 350°C). /NiO disks (fixed magnetic disks (C type)) were prepared, and their electromagnetic conversion characteristics were evaluated under the same conditions as the fixed magnetic disks (A type) of the present invention.

【0024】得られた本発明の製造方法による固定磁気
ディスク(Aタイプ)、Co−Ni/Cr合金薄膜固定
磁気ディスク(Bタイプ)および反応ガスに酸素のみを
用いて作製した固定磁気ディスク(Cタイプ)の記録密
度と再生出力の関係を(図3)に示す。
The obtained fixed magnetic disk (A type) produced by the manufacturing method of the present invention, the Co-Ni/Cr alloy thin film fixed magnetic disk (B type), and the fixed magnetic disk (C Figure 3 shows the relationship between recording density and playback output for the following types.

【0025】(図3)において、横軸が記録密度(記録
波長)で、縦軸が再生出力である。また(a)が本発明
の製造方法による固定磁気ディスク(Aタイプ)、(b
)が比較のためのCo−Ni/Cr合金薄膜固定磁気デ
ィスク(Bタイプ)、(c)が比較のための固定磁気デ
ィスク(Cタイプ)の特性を示している。
In FIG. 3, the horizontal axis represents the recording density (recording wavelength), and the vertical axis represents the reproduction output. In addition, (a) is a fixed magnetic disk (A type) manufactured by the manufacturing method of the present invention, (b)
) shows the characteristics of a Co-Ni/Cr alloy thin film fixed magnetic disk (type B) for comparison, and (c) shows the characteristics of a fixed magnetic disk (type C) for comparison.

【0026】(図3)から、本発明の製造方法による固
定磁気ディスク(Aタイプ)は、Co−Ni/Cr合金
薄膜固定磁気ディスク(Bタイプ)より、短波長域の高
記録密度側で、再生出力が高い値を示すことがわかる。 また、固定磁気ディスク(Cタイプ)より、前波長域に
おいて高い再生出力を示した。
From FIG. 3, it can be seen that the fixed magnetic disk (A type) manufactured by the manufacturing method of the present invention has higher recording density in the short wavelength range than the Co-Ni/Cr alloy thin film fixed magnetic disk (B type). It can be seen that the playback output shows a high value. Furthermore, it exhibited higher reproduction output in the front wavelength range than a fixed magnetic disk (C type).

【0027】なお、本発明の固定磁気ディスクの記録信
号の再生波形をオシロスコ−プで観察すると、垂直磁気
記録成分を含むことの特徴であるダイパルス波形を示し
ていた。
When the reproduced waveform of the recording signal of the fixed magnetic disk of the present invention was observed with an oscilloscope, it showed a dipulse waveform, which is characterized by containing a perpendicular magnetic recording component.

【0028】電磁変換特性の測定終了後、有機溶剤を用
いて、潤滑膜層を取り除き固定磁気ディスク(Aタイプ
)および固定磁気ディスク(Cタイプ)についてX線回
折による解析を行った。その結果、結晶性や(100)
配向性のいずれも固定磁気ディスク(Aタイプ)の方が
優れていた。
After the measurement of the electromagnetic conversion characteristics, the lubricating film layer was removed using an organic solvent, and the fixed magnetic disk (type A) and fixed magnetic disk (type C) were analyzed by X-ray diffraction. As a result, crystallinity and (100)
The fixed magnetic disk (type A) was better in all orientations.

【0029】比較のために、ガラスディスク基板上に本
成膜方法における上記成膜条件でCoZnFe酸化物膜
のみを成膜した試料を作製し、300℃の空気中で3時
間熱処理した後、X線回折により結晶構造の解析を行っ
た結果、X線的にアモルファスであった。
For comparison, a sample was prepared in which only a CoZnFe oxide film was formed on a glass disk substrate under the above-mentioned film-forming conditions in this film-forming method, and after heat treatment in air at 300° C. for 3 hours, Analysis of the crystal structure by line diffraction revealed that it was amorphous in terms of X-rays.

【0030】固定磁気ディスク(Aタイプ)を破壊して
高分解能の走査型電子顕微鏡を用いて、ディスクの表面
および破断面を観察した。その結果、本ディスクの二層
膜は柱状構造を有し、膜厚約300nmでコラム径は4
5〜60nmであることがわかった。
A fixed magnetic disk (type A) was broken and the surface and fracture surface of the disk were observed using a high-resolution scanning electron microscope. As a result, the two-layer film of this disc has a columnar structure, with a film thickness of approximately 300 nm and a column diameter of 4.
It was found to be 5 to 60 nm.

【0031】次に、固定磁気ディスク(Aタイプ)およ
び固定磁気ディスク(Cタイプ)の磁気特性について振
動試料型磁力計(VSM)により測定を行った。その結
果、固定磁気ディスク(Aタイプ)のディスク基板に対
して垂直方向の保磁力はHc=1200Oe、面内方向
の保磁力はHc=780Oeであり、Msは236em
u/ccであった。また、固定磁気ディスク(Cタイプ
)の垂直方向の保磁力はHc=1200Oe、面内方向
の保磁力はHc=920Oeであり、Msは206em
u/ccであった。
Next, the magnetic properties of the fixed magnetic disk (A type) and the fixed magnetic disk (C type) were measured using a vibrating sample magnetometer (VSM). As a result, the coercive force in the perpendicular direction to the disk substrate of the fixed magnetic disk (type A) is Hc = 1200 Oe, the coercive force in the in-plane direction is Hc = 780 Oe, and Ms is 236 em.
It was u/cc. Furthermore, the vertical coercive force of the fixed magnetic disk (C type) is Hc = 1200 Oe, the in-plane coercive force is Hc = 920 Oe, and Ms is 206 em.
It was u/cc.

【0032】本発明の固定磁気ディスク(Aタイプ)が
Co−Ni/Cr合金薄膜固定磁気ディスク(Bタイプ
)より短波長域の高記録密度側で、再生出力が高い値を
示す原因は、垂直磁気記録成分を有しているからである
。また、固定磁気ディスク(Cタイプ)より再生出力が
高い値を示す原因は、反応ガスにオゾンを用いたことに
より、酸素を用いた場合と比べ、より結晶性や(100
)配向性が良好となり、Msが向上することが最も大き
な原因であると考えられる。
The reason why the fixed magnetic disk of the present invention (Type A) exhibits a higher reproduction output value than the Co-Ni/Cr alloy thin film fixed magnetic disk (Type B) at the high recording density side in the short wavelength range is due to the vertical This is because it has a magnetic recording component. Also, the reason why the playback output is higher than that of the fixed magnetic disk (C type) is that ozone is used as the reaction gas, which makes it more crystalline (100%) than when oxygen is used.
) It is thought that the most important reason is that the orientation becomes better and the Ms improves.

【0033】また、X線的にアモルファスな酸化物薄膜
として、マグネシウム、カルシウム、チタン、バナジウ
ム、マンガン、ニッケル、銅、ストロンチウム、ニオブ
、カドミウムなどを含む酸化物薄膜を用いた場合にも同
様の結果が得られた。
Similar results were obtained when an oxide thin film containing magnesium, calcium, titanium, vanadium, manganese, nickel, copper, strontium, niobium, cadmium, etc. was used as the X-ray amorphous oxide thin film. was gotten.

【0034】(実施例2)以下、本発明の一実施例のプ
ラズマCVD法による固定磁気ディスクの製造方法につ
いて(図2)を参照しながら説明する。
(Embodiment 2) Hereinafter, a method for manufacturing a fixed magnetic disk by plasma CVD method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to (FIG. 2).

【0035】気化器16に脱水処理を行った亜鉛アセチ
ルアセトナ−ト(空気中100℃で2時間)、17にコ
バルトアセチルアセトナ−ト、18に鉄アセチルアセト
ナ−トを入れ、それぞれ80℃、130℃、120℃に
加熱し保持しておく。バルブ19およびバルブ22を開
き窒素キャリア(気化器16、17、18にそれぞれ流
量10SCCM)とともに上記亜鉛、コバルト、鉄のそ
れぞれのアセチルアセトナ−トの蒸気と、反応ガスとし
てN2O(流量7SCCM)を排気系13により減圧さ
れた反応チャンバ−11内に導入し、プラズマを発生(
電力1.5W/cm2)させ、2分間減圧下(0.11
Torr)で反応を行い、350℃に加熱したガラスデ
ィスク基板(120回転/分)上にCoZnFe酸化物
膜を成膜し、バルブ19およ22を閉じた。
Dehydrated zinc acetylacetonate (in air at 100°C for 2 hours) was placed in the vaporizer 16, cobalt acetylacetonate was placed in the vaporizer 17, and iron acetylacetonate was placed in the vaporizer 18. ℃, 130℃, and 120℃ and keep it there. The valves 19 and 22 are opened, and the vapors of acetylacetonate of zinc, cobalt, and iron are supplied together with nitrogen carrier (flow rate: 10 SCCM to vaporizers 16, 17, and 18, respectively), and N2O (flow rate: 7 SCCM) as a reaction gas. It is introduced into the reaction chamber 11 which is depressurized by the exhaust system 13, and plasma is generated (
Electric power 1.5W/cm2), and under reduced pressure (0.11W/cm2) for 2 minutes.
Torr), a CoZnFe oxide film was formed on a glass disk substrate heated to 350° C. (120 revolutions/min), and valves 19 and 22 were closed.

【0036】さらに引き続き、同様の成膜条件で9分間
減圧下(0.08Torr)で反応を行い、Coフェラ
イト/CoZnFe酸化物の二層膜を作製した。そして
、二層膜を形成したガラスディスク基板を真空チャンバ
−から取り出し、裏面にも同様の方法で、同じ二層膜を
形成し、両面に磁性薄膜面をもつCoフェライト/Co
ZnFe酸化物ディスクを作製した。
Subsequently, a reaction was carried out under the same film forming conditions for 9 minutes under reduced pressure (0.08 Torr) to produce a two-layer film of Co ferrite/CoZnFe oxide. Then, the glass disk substrate on which the two-layer film was formed was taken out from the vacuum chamber, and the same two-layer film was formed on the back side using the same method.
A ZnFe oxide disk was fabricated.

【0037】次に、このディスクを300℃の空気中で
3時間熱処理を行った後、フッソ系有機物の潤滑剤の入
った液槽に沈めて塗布することによって、固定磁気ディ
スク(Dタイプ)を作製した。
Next, after heat-treating this disk in air at 300°C for 3 hours, the fixed magnetic disk (D type) is coated by submerging it in a liquid bath containing a fluorine-based organic lubricant. Created.

【0038】作製した本発明の固定磁気ディスク(Dタ
イプ)は、ギャプ長(GL)が0.25μm,トラック
幅(Tw)が10μmのMIGヘッドを用いて、50m
Aのヘッド電流値を選んで電磁変換特性の評価を行った
。 固定磁気ディスク(Dタイプ)を3600回転/分 の
速度で回転させ、ディスクの中心から20.0mmの円
周トラックで評価を行った。なお、固定磁気ディスク(
Dタイプ)と磁気ヘッドの相対速度は、7.5m/se
cであり、磁気ヘッドのフライングハイトは0.15μ
mであった。
The produced fixed magnetic disk (D type) of the present invention was manufactured using an MIG head with a gap length (GL) of 0.25 μm and a track width (Tw) of 10 μm.
The head current value of A was selected to evaluate the electromagnetic conversion characteristics. A fixed magnetic disk (D type) was rotated at a speed of 3600 revolutions/minute, and evaluation was performed on a circumferential track 20.0 mm from the center of the disk. Note that fixed magnetic disks (
D type) and the magnetic head relative speed is 7.5 m/sec.
c, and the flying height of the magnetic head is 0.15μ.
It was m.

【0039】得られた本発明の製造方法による固定磁気
ディスク(Dタイプ)、Co−Ni/Cr合金薄膜固定
磁気ディスク(Bタイプ)および反応ガスに酸素のみを
用いて作製した固定磁気ディスク(Cタイプ)の記録密
度と再生出力の関係を(図4)に示す。
The obtained fixed magnetic disk (D type) produced by the manufacturing method of the present invention, the Co-Ni/Cr alloy thin film fixed magnetic disk (B type), and the fixed magnetic disk produced using only oxygen as the reaction gas (C Figure 4 shows the relationship between recording density and playback output for the following types.

【0040】(図4)において、横軸が記録密度(記録
波長)で、縦軸が再生出力である。また(d)が本発明
の製造方法による固定磁気ディスク(Dタイプ)、(b
)が比較のためのCo−Ni/Cr合金薄膜固定磁気デ
ィスク(Bタイプ)、(c)が比較のための固定磁気デ
ィスク(Cタイプ)の特性を示している。
In FIG. 4, the horizontal axis represents the recording density (recording wavelength), and the vertical axis represents the reproduction output. In addition, (d) is a fixed magnetic disk (D type) manufactured by the manufacturing method of the present invention, (b)
) shows the characteristics of a Co-Ni/Cr alloy thin film fixed magnetic disk (type B) for comparison, and (c) shows the characteristics of a fixed magnetic disk (type C) for comparison.

【0041】(図4)から、本発明の製造方法による固
定磁気ディスク(Dタイプ)は、Co−Ni/Cr合金
薄膜固定磁気ディスク(Bタイプ)より、短波長域の高
記録密度側で、再生出力が高い値を示すことがわかる。 また、固定磁気ディスク(Cタイプ)より、前波長域に
おいて高い再生出力を示した。
From FIG. 4, it can be seen that the fixed magnetic disk (D type) manufactured by the manufacturing method of the present invention has higher recording density in the short wavelength range than the Co-Ni/Cr alloy thin film fixed magnetic disk (B type). It can be seen that the playback output shows a high value. Furthermore, it exhibited higher reproduction output in the front wavelength range than the fixed magnetic disk (C type).

【0042】なお、本発明の固定磁気ディスクの記録信
号の再生波形をオシロスコ−プで観察すると、垂直磁気
記録成分を含むことの特徴であるダイパルス波形を示し
ていた。
When the reproduced waveform of the recorded signal of the fixed magnetic disk of the present invention was observed with an oscilloscope, it showed a dipulse waveform, which is characterized by containing a perpendicular magnetic recording component.

【0043】電磁変換特性の測定終了後、有機溶剤を用
いて、潤滑膜層を取り除き固定磁気ディスク(Dタイプ
)および固定磁気ディスク(Cタイプ)についてX線回
折による解析を行った。その結果、結晶性や(100)
配向性のいずれも固定磁気ディスク(Dタイプ)の方が
優れていた。
After the measurement of the electromagnetic conversion characteristics, the lubricating film layer was removed using an organic solvent, and the fixed magnetic disk (D type) and fixed magnetic disk (C type) were analyzed by X-ray diffraction. As a result, crystallinity and (100)
The fixed magnetic disk (D type) was better in all orientations.

【0044】比較のために、ガラスディスク基板上に本
成膜方法における上記成膜条件でCoZnFe酸化物膜
のみを成膜した試料を作製し、300℃の空気中で3時
間熱処理した後、X線回折により結晶構造の解析を行っ
た結果、X線的にアモルファスであった。
For comparison, a sample was prepared in which only a CoZnFe oxide film was formed on a glass disk substrate under the above-mentioned film-forming conditions in this film-forming method, and after heat treatment in air at 300° C. for 3 hours, Analysis of the crystal structure by line diffraction revealed that it was amorphous in terms of X-rays.

【0045】固定磁気ディスク(Dタイプ)を破壊して
高分解能の走査型電子顕微鏡を用いて、ディスクの表面
および破断面を観察した。その結果、本ディスクの二層
膜は柱状構造を有し、膜厚約300nmでコラム径は4
5〜60nmであることがわかった。
A fixed magnetic disk (D type) was broken and the disk surface and fractured surface were observed using a high-resolution scanning electron microscope. As a result, the two-layer film of this disc has a columnar structure, with a film thickness of approximately 300 nm and a column diameter of 4.
It was found to be 5 to 60 nm.

【0046】次に、固定磁気ディスク(Aタイプ)の磁
気特性について振動試料型磁力計(VSM)により測定
を行った。その結果、固定磁気ディスク(Dタイプ)の
垂直方向の保磁力はHc=1180Oe、面内方向の保
磁力はHc=775Oeであり、Msは240emu/
ccであった。本発明の固定磁気ディスク(Dタイプ)
がCo−Ni/Cr合金薄膜固定磁気ディスク(Bタイ
プ)より短波長域の高記録密度側で、再生出力が高い値
を示す原因は、垂直磁気記録成分を有しているからであ
る。また、固定磁気ディスク(Cタイプ)より再生出力
が高い値を示す原因は、反応ガスにN2Oを用いたこと
により、酸素を用いた場合と比べ、より結晶性や(10
0)配向性が良好となり、Msが向上することが最も大
きな原因であると考えられる。
Next, the magnetic properties of the fixed magnetic disk (type A) were measured using a vibrating sample magnetometer (VSM). As a result, the vertical coercive force of the fixed magnetic disk (D type) is Hc = 1180 Oe, the in-plane coercive force is Hc = 775 Oe, and Ms is 240 emu/
It was cc. Fixed magnetic disk of the present invention (D type)
The reason why the reproduction output shows a higher value than the Co-Ni/Cr alloy thin film fixed magnetic disk (B type) at the high recording density side in the shorter wavelength range is that it has a perpendicular magnetic recording component. In addition, the reason why the reproduction output is higher than that of fixed magnetic disks (C type) is because N2O is used as the reaction gas, which increases crystallinity and (10
0) It is thought that the most important reason is that the orientation becomes better and the Ms improves.

【0047】また、X線的にアモルファスな酸化物薄膜
として、マグネシウム、カルシウム、チタン、バナジウ
ム、マンガン、ニッケル、銅、ストロンチウム、ニオブ
、カドミウムなどを含む酸化物薄膜を用いた場合にも同
様の結果が得られた。
Similar results were obtained when an oxide thin film containing magnesium, calcium, titanium, vanadium, manganese, nickel, copper, strontium, niobium, cadmium, etc. was used as the X-ray amorphous oxide thin film. was gotten.

【0048】(実施例3)以下、本発明の一実施例のプ
ラズマCVD法による固定磁気ディスクの製造方法につ
いて(図2)を参照しながら説明する。
(Embodiment 3) Hereinafter, a method for manufacturing a fixed magnetic disk by the plasma CVD method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to (FIG. 2).

【0049】気化器16に脱水処理を行った亜鉛アセチ
ルアセトナ−ト(空気中100℃で2時間)、17にコ
バルトアセチルアセトナ−ト、18に鉄アセチルアセト
ナ−トを入れ、それぞれ80℃、130℃、120℃に
加熱し保持しておく。バルブ19およびバルブ22を開
き窒素キャリア(気化器16、17、18にそれぞれ流
量10SCCM)とともに上記亜鉛、コバルト、鉄のそ
れぞれのアセチルアセトナ−トの蒸気と、反応ガスとし
て酸素(流量3SCCM)および水蒸気(分圧0.00
9Torr)を排気系13により減圧された反応チャン
バ−11内に導入し、プラズマを発生(電力1.5W/
cm2)させ、2分間減圧下(0.13Torr)で反
応を行い、350℃に加熱したガラスディスク基板(1
20回転/分)上にCoZnFe酸化物膜を成膜し、バ
ルブ19およ22を閉じた。
Dehydrated zinc acetylacetonate (in air at 100°C for 2 hours) was placed in the vaporizer 16, cobalt acetylacetonate was placed in the vaporizer 17, and iron acetylacetonate was placed in the vaporizer 18. ℃, 130℃, and 120℃ and keep it there. The valves 19 and 22 are opened, and the vapors of acetylacetonate of zinc, cobalt, and iron are released together with nitrogen carrier (flow rate: 10 SCCM to vaporizers 16, 17, and 18, respectively), oxygen (flow rate: 3 SCCM), and reactant gases. Water vapor (partial pressure 0.00
9 Torr) was introduced into the reaction chamber 11, which was depressurized by the exhaust system 13, and plasma was generated (power: 1.5 W/
cm2), reacted under reduced pressure (0.13 Torr) for 2 minutes, and heated to 350°C on a glass disk substrate (1
A CoZnFe oxide film was formed on the 20 rotations/min), and valves 19 and 22 were closed.

【0050】さらに引き続き、同様の成膜条件で9分間
減圧下(0.09Torr)で反応を行い、Coフェラ
イト/CoZnFe酸化物の二層膜を作製した。そして
、二層膜を形成したガラスディスク基板を真空チャンバ
−から取り出し、裏面にも同様の方法で、同じ二層膜を
形成し、両面に磁性薄膜面をもつCoフェライト/Co
ZnFe酸化物ディスクを作製した。
Subsequently, a reaction was carried out under the same film forming conditions for 9 minutes under reduced pressure (0.09 Torr) to produce a two-layer film of Co ferrite/CoZnFe oxide. Then, the glass disk substrate on which the two-layer film was formed was taken out from the vacuum chamber, and the same two-layer film was formed on the back side using the same method.
A ZnFe oxide disk was fabricated.

【0051】次に、このディスクを300℃の空気中で
3時間熱処理を行った後、フッソ系有機物の潤滑剤の入
った液槽に沈めて塗布することによって、固定磁気ディ
スク(Eタイプ)を作製した。
Next, after heat-treating this disk in air at 300°C for 3 hours, the fixed magnetic disk (E type) is coated by submerging it in a bath containing a fluorocarbon organic lubricant. Created.

【0052】作製した本発明の固定磁気ディスク(Eタ
イプ)は、ギャプ長(GL)が0.25μm,トラック
幅(Tw)が10μmのMIGヘッドを用いて、50m
Aのヘッド電流値を選んで電磁変換特性の評価を行った
。 固定磁気ディスク(Eタイプ)を3600回転/分 の
速度で回転させ、ディスクの中心から20.0mmの円
周トラックで評価を行った。なお、固定磁気ディスク(
Dタイプ)と磁気ヘッドの相対速度は、7.5m/se
cであり、磁気ヘッドのフライングハイトは0.15μ
mであった。
The manufactured fixed magnetic disk (E type) of the present invention was manufactured using an MIG head with a gap length (GL) of 0.25 μm and a track width (Tw) of 10 μm.
The head current value of A was selected to evaluate the electromagnetic conversion characteristics. A fixed magnetic disk (E type) was rotated at a speed of 3600 revolutions/minute, and evaluation was performed on a circumferential track 20.0 mm from the center of the disk. Note that fixed magnetic disks (
D type) and the magnetic head relative speed is 7.5 m/sec.
c, and the flying height of the magnetic head is 0.15μ.
It was m.

【0053】得られた本発明の製造方法による固定磁気
ディスク(Eタイプ)、Co−Ni/Cr合金薄膜固定
磁気ディスク(Bタイプ)および反応ガスに酸素のみを
用いて作製した固定磁気ディスク(Cタイプ)の記録密
度と再生出力の関係を(図6)に示す。
The obtained fixed magnetic disk (E type) produced by the manufacturing method of the present invention, the Co-Ni/Cr alloy thin film fixed magnetic disk (B type), and the fixed magnetic disk produced using only oxygen as the reaction gas (C Figure 6 shows the relationship between recording density and playback output for the following types.

【0054】(図6)において、横軸が記録密度(記録
波長)で、縦軸が再生出力である。また(e)が本発明
の製造方法による固定磁気ディスク(Eタイプ)、(b
)が比較のためのCo−Ni/Cr合金薄膜固定磁気デ
ィスク(Bタイプ)、(c)が比較のための固定磁気デ
ィスク(Cタイプ)の特性を示している。
In FIG. 6, the horizontal axis represents the recording density (recording wavelength), and the vertical axis represents the reproduction output. In addition, (e) is a fixed magnetic disk (E type) manufactured by the manufacturing method of the present invention, (b)
) shows the characteristics of a Co-Ni/Cr alloy thin film fixed magnetic disk (type B) for comparison, and (c) shows the characteristics of a fixed magnetic disk (type C) for comparison.

【0055】(図4)から、本発明の製造方法による固
定磁気ディスク(Eタイプ)は、Co−Ni/Cr合金
薄膜固定磁気ディスク(Bタイプ)より、短波長域の高
記録密度側で、再生出力が高い値を示すことがわかる。 また、固定磁気ディスク(Cタイプ)より、前波長域に
おいて高い再生出力を示した。
From (FIG. 4), the fixed magnetic disk (E type) manufactured by the manufacturing method of the present invention has higher recording density in the short wavelength range than the Co-Ni/Cr alloy thin film fixed magnetic disk (B type). It can be seen that the playback output shows a high value. Furthermore, it exhibited higher reproduction output in the front wavelength range than a fixed magnetic disk (C type).

【0056】なお、本発明の固定磁気ディスクの記録信
号の再生波形をオシロスコ−プで観察すると、垂直磁気
記録成分を含むことの特徴であるダイパルス波形を示し
ていた。
When the reproduced waveform of the recorded signal of the fixed magnetic disk of the present invention was observed with an oscilloscope, it showed a dipulse waveform, which is characterized by containing a perpendicular magnetic recording component.

【0057】電磁変換特性の測定終了後、有機溶剤を用
いて、潤滑膜層を取り除き固定磁気ディスク(Eタイプ
)および固定磁気ディスク(Cタイプ)についてX線回
折による解析を行った。その結果、結晶性や(100)
配向性のいずれも固定磁気ディスク(Eタイプ)の方が
優れていた。
After the measurement of electromagnetic conversion characteristics was completed, the lubricating film layer was removed using an organic solvent, and the fixed magnetic disk (E type) and fixed magnetic disk (C type) were analyzed by X-ray diffraction. As a result, crystallinity and (100)
The fixed magnetic disk (E type) was better in all orientations.

【0058】比較のために、ガラスディスク基板上に本
成膜方法における上記成膜条件でCoZnFe酸化物膜
のみを成膜した試料を作製し、300℃の空気中で3時
間熱処理した後、X線回折により結晶構造の解析を行っ
た結果、X線的にアモルファスであった。
For comparison, a sample was prepared in which only a CoZnFe oxide film was formed on a glass disk substrate under the above-mentioned film-forming conditions in this film-forming method, and after heat treatment in air at 300° C. for 3 hours, Analysis of the crystal structure by line diffraction revealed that it was amorphous in terms of X-rays.

【0059】固定磁気ディスク(Eタイプ)を破壊して
高分解能の走査型電子顕微鏡を用いて、ディスクの表面
および破断面を観察した。その結果、本ディスクの二層
膜は柱状構造を有し、膜厚約300nmでコラム径は4
5〜60nmであることがわかった。
A fixed magnetic disk (E type) was broken and the disk surface and fractured surface were observed using a high-resolution scanning electron microscope. As a result, the two-layer film of this disc has a columnar structure, with a film thickness of approximately 300 nm and a column diameter of 4.
It was found to be 5 to 60 nm.

【0060】次に、固定磁気ディスク(Eタイプ)の磁
気特性について振動試料型磁力計(VSM)により測定
を行った。その結果、固定磁気ディスク(Aタイプ)の
垂直方向の保磁力はHc=1200Oe、面内方向はH
c=785Oeであり、Msは234emu/ccであ
った。本発明の固定磁気ディスク(Eタイプ)がCo−
Ni/Cr合金薄膜固定磁気ディスク(Bタイプ)より
短波長域の高記録密度側で、再生出力が高い値を示す原
因は、垂直磁気記録成分を有しているからである。また
、固定磁気ディスク(Cタイプ)より再生出力が高い値
を示す原因は、反応ガスに酸素と水蒸気を用いたことに
より、酸素のみを用いた場合と比べ、より結晶性や(1
00)配向性が良好となり、Msが向上することが最も
大きな原因であると考えられる。
Next, the magnetic properties of the fixed magnetic disk (E type) were measured using a vibrating sample magnetometer (VSM). As a result, the vertical coercive force of the fixed magnetic disk (A type) is Hc = 1200 Oe, and the in-plane direction is H
c=785 Oe, and Ms was 234 emu/cc. The fixed magnetic disk (E type) of the present invention is Co-
The reason why the reproduction output shows a higher value on the high recording density side in the shorter wavelength range than the Ni/Cr alloy thin film fixed magnetic disk (B type) is that it has a perpendicular magnetic recording component. Also, the reason why the playback output is higher than that of the fixed magnetic disk (C type) is that the use of oxygen and water vapor as reaction gases results in more crystallinity and (1)
00) It is thought that the most important reason is that the orientation becomes better and the Ms improves.

【0061】また、X線的にアモルファスな酸化物薄膜
として、マグネシウム、カルシウム、チタン、バナジウ
ム、マンガン、ニッケル、銅、ストロンチウム、ニオブ
、カドミウムなどを含む酸化物薄膜を用いた場合にも同
様の結果が得られた。
Similar results were obtained when an oxide thin film containing magnesium, calcium, titanium, vanadium, manganese, nickel, copper, strontium, niobium, cadmium, etc. was used as the X-ray amorphous oxide thin film. was gotten.

【0062】[0062]

【発明の効果】以上のように本発明は、ディスク基板上
に、下地層としてX線的にアモルファスな酸化物薄膜を
形成し、さらにその上に磁性層として柱状構造を有する
Coを含むスピネル型酸化鉄磁性薄膜を形成することに
より、高信頼性でかつ高記録密度化が可能となる構造の
定磁気ディスクの製造方法に、反応ガスにオゾンやN2
Oや水蒸気を用いたプラズマCVD法を用いているため
、簡単な原料供給の制御を行うだけで、二層膜を簡単に
、比較的低温で、かつ連続的に製造できるのである。
As described above, the present invention forms an X-ray amorphous oxide thin film as an underlayer on a disk substrate, and further forms a spinel-type magnetic layer containing Co having a columnar structure as a magnetic layer. A method for manufacturing a constant magnetic disk with a structure that enables high reliability and high recording density by forming an iron oxide magnetic thin film uses ozone or N2 as a reactive gas.
Since a plasma CVD method using O or water vapor is used, a two-layer film can be manufactured easily, at a relatively low temperature, and continuously by simply controlling the supply of raw materials.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の製造方法により作製した固定磁気ディ
スクの要部拡大図である。
FIG. 1 is an enlarged view of the main parts of a fixed magnetic disk manufactured by the manufacturing method of the present invention.

【図2】本発明の製造方法を実施するために使用するプ
ラズマCVD装置の概略図である。
FIG. 2 is a schematic diagram of a plasma CVD apparatus used to carry out the manufacturing method of the present invention.

【図3】本発明の固定磁気ディスクの記録波長と再生出
力の関係を比較し示した特性図である。
FIG. 3 is a characteristic diagram comparing and showing the relationship between the recording wavelength and reproduction output of the fixed magnetic disk of the present invention.

【図4】本発明の固定磁気ディスクの記録波長と再生出
力の関係を比較し示した特性図である。
FIG. 4 is a characteristic diagram comparing and showing the relationship between the recording wavelength and reproduction output of the fixed magnetic disk of the present invention.

【図5】本発明の固定磁気ディスクの記録波長と再生出
力の関係を比較し示した特性図である。
FIG. 5 is a characteristic diagram comparing and showing the relationship between the recording wavelength and reproduction output of the fixed magnetic disk of the present invention.

【図6】従来例および実施例の固定磁気ディスクの要部
拡大図である。
FIG. 6 is an enlarged view of main parts of fixed magnetic disks of a conventional example and an example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  アルミニウム基板 2  Ni−Pめっき層 3  Cr層 4  Co−Ni磁性層 5  保護層 6  潤滑層 7  ディスク基板 8  CoZnFeアモルファス酸化物膜9  Coフ
ェライト膜 10  潤滑層 11  反応チャンバ− 12  電極 13  排気系 14  ガラスディスク基板 15  高周波電源 16  気化器 17  気化器 18  気化器 19  キャリアガス供給バルブ 20  キャリアガス供給バルブ 21  キャリアガス供給バルブ 22  原料ガス供給バルブ 23  原料ガス供給バルブ 24  原料ガス供給バルブ 25  窒素ボンベ 26  酸素ボンベ 27  オゾナイザー 28  N2Oボンベ 29  気化器 30  基板加熱ヒ−タ−
1 Aluminum substrate 2 Ni-P plating layer 3 Cr layer 4 Co-Ni magnetic layer 5 Protective layer 6 Lubricating layer 7 Disk substrate 8 CoZnFe amorphous oxide film 9 Co ferrite film 10 Lubricating layer 11 Reaction chamber 12 Electrode 13 Exhaust system 14 Glass disk substrate 15 High frequency power supply 16 Vaporizer 17 Vaporizer 18 Vaporizer 19 Carrier gas supply valve 20 Carrier gas supply valve 21 Carrier gas supply valve 22 Raw material gas supply valve 23 Raw material gas supply valve 24 Raw material gas supply valve 25 Nitrogen cylinder 26 Oxygen Cylinder 27 Ozonizer 28 N2O cylinder 29 Vaporizer 30 Substrate heating heater

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  マグネシウムを含む有機金属化合物、
カルシウムを含む有機金属化合物、チタンを含む有機金
属化合物、バナジウムを含む有機金属化合物、マンガン
を含む有機金属化合物、鉄を含む有機金属化合物コバル
トを含む有機金属化合物、ニッケルを含む有機金属化合
物、銅を含む有機金属化合物、亜鉛を含む有機金属化合
物、ストロンチウムを含む有機金属化合物、ニオブを含
む有機金属化合物カドミウム含む有機金属化合物、バリ
ウムを含む有機金属化合物のうち少なくとも一種以上の
有機金属化合物の蒸気とオゾンの混合ガスを、プラズマ
を用いて分解し反応させ、ディスク基板上にX線的にア
モルファスな酸化物薄膜を化学蒸着し、さらに、鉄を含
む有機金属化合物の蒸気とコバルトを含む有機金属化合
物の蒸気とオゾンの混合ガスを、プラズマを用いて分解
し反応させ、前記酸化物薄膜上にコバルトを含むスピネ
ル型結晶構造の酸化鉄磁性薄膜を化学蒸着することを特
徴とする固定磁気ディスクの製造方法。
[Claim 1] An organometallic compound containing magnesium,
Organometallic compounds containing calcium, organometallic compounds containing titanium, organometallic compounds containing vanadium, organometallic compounds containing manganese, organometallic compounds containing iron, organometallic compounds containing cobalt, organometallic compounds containing nickel, organometallic compounds containing copper, The vapor and ozone of at least one organometallic compound of organometallic compounds containing zinc, organometallic compounds containing strontium, organometallic compounds containing niobium, organometallic compounds containing cadmium, and organometallic compounds containing barium. A mixed gas of A method for manufacturing a fixed magnetic disk, which comprises decomposing and reacting a mixed gas of steam and ozone using plasma, and chemically depositing an iron oxide magnetic thin film having a spinel crystal structure containing cobalt on the oxide thin film. .
【請求項2】  マグネシウムを含む有機金属化合物、
カルシウムを含む有機金属化合物、チタンを含む有機金
属化合物、バナジウムを含む有機金属化合物、マンガン
を含む有機金属化合物、鉄を含む有機金属化合物コバル
トを含む有機金属化合物、ニッケルを含む有機金属化合
物、銅を含む有機金属化合物、亜鉛を含む有機金属化合
物、ストロンチウムを含む有機金属化合物、ニオブを含
む有機金属化合物カドミウム含む有機金属化合物、バリ
ウムを含む有機金属化合物のうち少なくとも一種以上の
有機金属化合物の蒸気とN2Oの混合ガスを、プラズマ
を用いて分解し反応させ、ディスク基板上にX線的にア
モルファスな酸化物薄膜を化学蒸着し、さらに、鉄を含
む有機金属化合物の蒸気とコバルトを含む有機金属化合
物の蒸気とN2Oの混合ガスを、プラズマを用いて分解
し反応させ、前記酸化物薄膜上にコバルトを含むスピネ
ル型結晶構造の酸化鉄磁性薄膜を化学蒸着することを特
徴とする固定磁気ディスクの製造方法。
[Claim 2] An organometallic compound containing magnesium,
Organometallic compounds containing calcium, organometallic compounds containing titanium, organometallic compounds containing vanadium, organometallic compounds containing manganese, organometallic compounds containing iron, organometallic compounds containing cobalt, organometallic compounds containing nickel, organometallic compounds containing copper, The vapor of at least one organometallic compound selected from the following: an organometallic compound containing zinc, an organometallic compound containing strontium, an organometallic compound containing niobium, an organometallic compound containing cadmium, an organometallic compound containing barium, and N2O. A mixed gas of A method for manufacturing a fixed magnetic disk, characterized in that a mixed gas of steam and N2O is decomposed and reacted using plasma, and an iron oxide magnetic thin film containing cobalt and having a spinel crystal structure is chemically deposited on the oxide thin film. .
【請求項3】  マグネシウムを含む有機金属化合物、
カルシウムを含む有機金属化合物、チタンを含む有機金
属化合物、バナジウムを含む有機金属化合物、マンガン
を含む有機金属化合物、鉄を含む有機金属化合物コバル
トを含む有機金属化合物、ニッケルを含む有機金属化合
物、銅を含む有機金属化合物、亜鉛を含む有機金属化合
物、ストロンチウムを含む有機金属化合物、ニオブを含
む有機金属化合物カドミウム含む有機金属化合物、バリ
ウムを含む有機金属化合物のうち少なくとも一種以上の
有機金属化合物の蒸気と水蒸気と酸素をの混合ガスを、
プラズマを用いて分解し反応させ、ディスク基板上にX
線的にアモルファスな酸化物薄膜を化学蒸着し、さらに
、鉄を含む有機金属化合物の蒸気とコバルトを含む有機
金属化合物の蒸気と水蒸気と酸素の混合ガスを、プラズ
マを用いて分解し反応させ、前記酸化物薄膜上にコバル
トを含むスピネル型結晶構造の酸化鉄磁性薄膜を化学蒸
着することを特徴とする固定磁気ディスクの製造方法。
[Claim 3] An organometallic compound containing magnesium,
Organometallic compounds containing calcium, organometallic compounds containing titanium, organometallic compounds containing vanadium, organometallic compounds containing manganese, organometallic compounds containing iron, organometallic compounds containing cobalt, organometallic compounds containing nickel, organometallic compounds containing copper, Steam and water vapor of at least one of the following: organometallic compounds containing zinc, organometallic compounds containing strontium, organometallic compounds containing niobium, organometallic compounds containing cadmium, organometallic compounds containing barium. and oxygen mixed gas,
Decompose and react using plasma, and deposit X on the disk substrate.
A linear amorphous oxide thin film is chemically vapor deposited, and a mixed gas of an organometallic compound containing iron, an organometallic compound containing cobalt, water vapor, and oxygen is decomposed and reacted using plasma. A method for manufacturing a fixed magnetic disk, characterized in that an iron oxide magnetic thin film containing cobalt and having a spinel crystal structure is chemically deposited on the oxide thin film.
【請求項4】  マグネシウムを含む有機金属化合物、
およびカルシウムを含む有機金属化合物、およびチタン
を含む有機金属化合物、およびバナジウムを含む有機金
属化合物、およびマンガンを含む有機金属化合物、およ
び鉄を含む有機金属化合物、およびコバルトを含む有機
金属化合物、およびニッケルを含む有機金属化合物、お
よび銅を含む有機金属化合物、および亜鉛を含む有機金
属化合物、およびストロンチウムを含む有機金属化合物
、およびニオブを含む有機金属化合物、およびカドミウ
ム含む有機金属化合物がβ−ジケトン金属錯体である請
求項1、2または3のいずれかに記載の固定磁気ディス
クの製造方法。
[Claim 4] An organometallic compound containing magnesium,
and organometallic compounds containing calcium, and organometallic compounds containing titanium, and organometallic compounds containing vanadium, and organometallic compounds containing manganese, and organometallic compounds containing iron, and organometallic compounds containing cobalt, and nickel. An organometallic compound containing copper, an organometallic compound containing zinc, an organometallic compound containing strontium, an organometallic compound containing niobium, and an organometallic compound containing cadmium are β-diketone metal complexes. The method of manufacturing a fixed magnetic disk according to claim 1, 2 or 3.
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