JPH04328345A - Magneto-optical recording medium - Google Patents

Magneto-optical recording medium

Info

Publication number
JPH04328345A
JPH04328345A JP9925991A JP9925991A JPH04328345A JP H04328345 A JPH04328345 A JP H04328345A JP 9925991 A JP9925991 A JP 9925991A JP 9925991 A JP9925991 A JP 9925991A JP H04328345 A JPH04328345 A JP H04328345A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
magneto
optical recording
atomic
recording medium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9925991A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayoshi Kurisu
栗 栖  正 吉
Kunihiko Mizumoto
水 本  邦 彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Original Assignee
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Petrochemical Industries Ltd filed Critical Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Priority to JP9925991A priority Critical patent/JPH04328345A/en
Publication of JPH04328345A publication Critical patent/JPH04328345A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To obtain the recording medium which has excellent long-term reliability and oxidation resistance, high C/N, wide recording power margin, and low dependency of a recording sensitivity on a line speed by specifying film constitution and film compsn. CONSTITUTION:This magneto-optical recording medium 1 is constituted by laminating a 1st protective film 3, a magneto-optical recording film 4, a 2nd protective film 5, a metallic film 6, and an over coat film 7 in this order on a substrate 2. For example, silicon nitride films are used for the protective films 3, 5. The magneto-optical recording film 4 is constituted of an amorphous alloy film which consists of at least one kind of the elements selected from at least one kind selected from (i) 3d transition metals, (ii) corrosion resistant metals and (iii) rare earth elements, is specified in the content of the above- mentioned corrosion resistant metals to 5 to 30 atomic % and has the axis of easy magnetization perpendicular to the film plane. The metallic film 6 consists of an aluminum alloy, for which an Al-Cr alloy, Al-Cu alloy, etc., are used.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【発明の技術分野】本発明は、長期信頼性に優れるとと
もに、耐酸化性および光磁気記録特性に優れた光磁気記
録媒体に関し、さらに詳しくは、長期信頼性および耐酸
化性に優れるとともに記録パワーマージンが広く、しか
も記録感度の線速依存性が小さく、かつC/N比が高い
ような優れた光磁気記録特性を有する光磁気記録媒体に
関する。
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a magneto-optical recording medium that has excellent long-term reliability, oxidation resistance, and magneto-optical recording characteristics, and more specifically, the present invention relates to a magneto-optical recording medium that has excellent long-term reliability and oxidation resistance, and has low recording power. The present invention relates to a magneto-optical recording medium having excellent magneto-optical recording characteristics such as a wide margin, low dependence of recording sensitivity on linear velocity, and high C/N ratio.

【0002】0002

【発明の技術的背景】鉄、コバルトなどの遷移金属と、
テルビウム(Tb)、カドリニウム(Gd)などの希土
類元素との合金からなる光磁気記録膜は、膜面と垂直な
方向に磁化容易軸を有し、一方向に全面磁化された膜面
にこの全面磁化方向とは逆向きの小さな反転磁区を形成
することができることが知られている。この反転磁区の
有無を「1」、「0」に対応させることによって、上記
のような光磁気記録膜にデジタル信号を記録させること
が可能となる。
[Technical background of the invention] Transition metals such as iron and cobalt,
A magneto-optical recording film made of an alloy with rare earth elements such as terbium (Tb) and cadrinium (Gd) has an axis of easy magnetization perpendicular to the film surface, and this entire surface is magnetized in one direction. It is known that it is possible to form small reversed magnetic domains that are oriented in the opposite direction to the magnetization direction. By associating the presence or absence of this inverted magnetic domain with "1" and "0", it becomes possible to record digital signals on the magneto-optical recording film as described above.

【0003】このような遷移金属と希土類元素とからな
る光磁気記録膜としては、たとえば特公昭57−206
91号公報に15〜30原子%のTbを含むTb−Fe
系光磁気記録膜が開示されている。またTb−Feに第
3の金属を添加してなる光磁気記録膜も用いられている
。さらにTb−Co系、Tb−Fe−Co系などの光磁
気記録膜も知られている。
Magneto-optical recording films made of such transition metals and rare earth elements are known, for example, from Japanese Patent Publication No. 57-206
No. 91 discloses Tb-Fe containing 15 to 30 atom % of Tb.
A magneto-optical recording film is disclosed. Also, a magneto-optical recording film made of Tb-Fe added with a third metal is also used. Furthermore, magneto-optical recording films such as Tb--Co and Tb--Fe--Co are also known.

【0004】このようなTb−Fe系、Tb−Co系な
どの光磁気記録膜中に、この薄膜の耐酸化性を向上させ
るために、第3の金属を添加する方法が種々試みられて
いる。
[0004] Various methods have been attempted to add a third metal to such Tb-Fe based, Tb-Co based, etc. magneto-optical recording films in order to improve the oxidation resistance of these thin films. .

【0005】このような光磁気記録膜を基板上に積層し
てなる光磁気記録媒体では、長期間使用しても読み取り
エラーが発生しにくく長期信頼性に優れていることが望
まれている。
It is desired that a magneto-optical recording medium formed by laminating such a magneto-optical recording film on a substrate has excellent long-term reliability and is unlikely to cause reading errors even after long-term use.

【0006】またこのような光磁気記録膜を基板上に積
層してなる光磁気記録媒体は、記録感度の向上も望まれ
ていた。さらにこのような光磁気記録媒体に情報を書込
む際には、記録パワーマージンが広く、しかも記録感度
の線速依存性が小さいことが望まれている。ここで情報
を書込む際の記録パワーマージンが広いとは、光磁気記
録媒体にレーザ光などによって情報を書込む際に、書込
み光としてのレーザ光のパワーが多少変化しても正確に
光磁気記録媒体に情報を書込むことができることを意味
し、記録感度の線速依存性が小さいとは、光磁気記録媒
体にレーザ光などによって情報を書込む際に、記録する
位置で線速度が変化しても書込み光としてのレーザ光の
最適の記録パワーの変化のしかたが小さいことを意味し
ている。このように長期間使用しても読み取りエラーが
発生しにくく、長期信頼性に優れ、かつ耐酸化性に優れ
、しかもC/N比が高く、かつ記録パワーマージンが広
く、その上記録感度の線速依存性が小さいような光磁気
記録媒体の出現が望まれている。
It has also been desired that a magneto-optical recording medium formed by laminating such a magneto-optical recording film on a substrate has improved recording sensitivity. Furthermore, when writing information on such a magneto-optical recording medium, it is desired that the recording power margin be wide and that the dependence of recording sensitivity on linear velocity be small. A wide recording power margin when writing information means that when information is written to a magneto-optical recording medium using a laser beam, etc., even if the power of the laser beam used as the writing light changes slightly, the magneto-optical It means that information can be written on a recording medium, and the linear velocity dependence of recording sensitivity is small.When information is written to a magneto-optical recording medium using a laser beam, etc., the linear velocity changes at the recording position. However, this means that the optimum recording power of the laser beam used as the writing light changes only in a small way. In this way, reading errors are less likely to occur even after long-term use, and it has excellent long-term reliability and oxidation resistance.In addition, it has a high C/N ratio, a wide recording power margin, and a line of recording sensitivity. It is desired that a magneto-optical recording medium with low speed dependence be developed.

【0007】本発明者らは、上記のような光磁気記録媒
体を得るべく鋭意検討したところ、基板上に、特定の第
1保護膜と、特定の光磁気記録膜と、特定の第2保護膜
と、特定の金属膜と、オーバーコート膜とをこの順序で
積層してなる光磁気記録媒体が優れた諸特性を有してい
ることを見出して、本発明を完成するに至った。
[0007] The inventors of the present invention made extensive studies to obtain the above-mentioned magneto-optical recording medium, and found that a specific first protective film, a specific magneto-optical recording film, and a specific second protective film were formed on the substrate. The present invention was completed by discovering that a magneto-optical recording medium formed by laminating a film, a specific metal film, and an overcoat film in this order has excellent properties.

【0008】[0008]

【発明の目的】本発明は、上記のような従来技術に伴う
問題点を解決しようとするものであって、長期間使用し
ても読み取りエラーが生じにくく、長期信頼性に優れ、
また耐酸化性にも優れ、長期間使用しても光磁気記録特
性が低下することがなく、しかもC/N比が高く、かつ
記録パワーマージンが広く、その上記録感度の線速依存
性が小さいような光磁気記録媒体を提供することを目的
としている。
OBJECTS OF THE INVENTION The present invention aims to solve the problems associated with the prior art as described above.
It also has excellent oxidation resistance, does not deteriorate magneto-optical recording characteristics even after long-term use, has a high C/N ratio, has a wide recording power margin, and has low linear velocity dependence of recording sensitivity. The purpose is to provide a small magneto-optical recording medium.

【0009】[0009]

【発明の概要】本発明に係る光磁気記録媒体は、基板上
に、第1保護膜(第1エンハンス膜)、光磁気記録膜、
第2保護膜(第2エンハンス膜)、金属膜およびオーバ
ーコート膜がこの順序で積層されてなる光磁気記録媒体
であって、第1保護膜(第1エンハンス膜)および第2
保護膜(第2エンハンス膜)が、SiNxからなり、光
磁気記録膜が、(i)3d遷移金属から選ばれる少なく
とも1種と、(ii)耐腐食性金属と、(iii )希
土類から選ばれる少なくとも1種の元素とからなり、前
記耐腐食性金属の含有量が5〜30原子%である、膜面
に垂直な磁化容易軸を有する非晶質合金薄膜からなり、
金属膜が、アルミニウム合金からなることを特徴として
いる。
SUMMARY OF THE INVENTION A magneto-optical recording medium according to the present invention includes a first protective film (first enhancement film), a magneto-optical recording film,
A magneto-optical recording medium in which a second protective film (second enhancement film), a metal film, and an overcoat film are laminated in this order, the first protective film (first enhancement film) and the second
The protective film (second enhancement film) is made of SiNx, and the magneto-optical recording film is selected from (i) at least one selected from 3D transition metals, (ii) corrosion-resistant metals, and (iii) rare earth metals. an amorphous alloy thin film having an axis of easy magnetization perpendicular to the film surface, the content of the corrosion-resistant metal being 5 to 30 at%;
It is characterized in that the metal film is made of an aluminum alloy.

【0010】このような本発明に係る光磁気記録媒体は
、上記のような膜構成および膜組成を有しているため、
長期信頼性および耐酸化性に優れており、長期間使用し
ても記録特性が低下することがなく、しかもC/N比が
高く、かつ記録パワーマージンが広く、その上記録感度
の線速依存性が小さい。
Since the magneto-optical recording medium according to the present invention has the above-described film structure and film composition,
It has excellent long-term reliability and oxidation resistance, does not deteriorate recording characteristics even after long-term use, has a high C/N ratio, has a wide recording power margin, and has recording sensitivity that depends on linear velocity. gender is small.

【0011】[0011]

【発明の具体的説明】以下本発明に係る光磁気記録媒体
について具体的に説明する。図1は、本発明の一実施例
に係る光磁気記録媒体の概略断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The magneto-optical recording medium according to the present invention will be specifically described below. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a magneto-optical recording medium according to an embodiment of the present invention.

【0012】本発明に係る光磁気記録媒体1は、基板2
上に、第1保護膜3、光磁気記録膜4、第2保護膜5、
金属膜6およびオーバーコート膜7がこの順序で積層さ
れている。
The magneto-optical recording medium 1 according to the present invention has a substrate 2
On top, a first protective film 3, a magneto-optical recording film 4, a second protective film 5,
The metal film 6 and the overcoat film 7 are laminated in this order.

【0013】基    板 基板2は、透明基板であることが好ましく、具体的には
、ガラスあるいはアルミニウム等の無機材料の他に、ポ
リメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリカー
ボネートとポリスチレンのポリマーアロイ、米国特許4
614778 号明細書で示されるような非晶質ポリオ
レフィン、ポリ4−メチル−1− ペンテン、エポキシ
樹脂、ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン、ポリ
エーテルイミド、エチレン・テトラシクロドデセン共重
合体等の有機材料が使用できる。特に上記米国特許第4
614778 号明細書に示されるような非晶質ポリオ
レフィンが好ましい。
Substrate The substrate 2 is preferably a transparent substrate, and specifically, in addition to inorganic materials such as glass or aluminum, polymethyl methacrylate, polycarbonate, a polymer alloy of polycarbonate and polystyrene, and US Pat.
Organic materials such as amorphous polyolefins, poly4-methyl-1-pentene, epoxy resins, polyethersulfones, polysulfones, polyetherimides, and ethylene-tetracyclododecene copolymers as shown in No. 614778 can be used. In particular, the above U.S. Patent No. 4
Amorphous polyolefins such as those shown in US Pat. No. 6,147,78 are preferred.

【0014】本発明では、保護膜との密着性に優れ、し
かも複屈折率が小さく、記録膜を酸化から保護しうると
いう観点から、下記に示すような基板が特に好ましく用
いられる。
In the present invention, the following substrates are particularly preferably used from the viewpoint of excellent adhesion with the protective film, low birefringence, and ability to protect the recording film from oxidation.

【0015】好ましい基板2は、(a)エチレンと、(
b)下記式[I]または[II]
A preferred substrate 2 comprises (a) ethylene;
b) The following formula [I] or [II]

【0016】[0016]

【化1】[Chemical formula 1]

【0017】…[I](式中、nは0または1であり、
mは0または正の整数であり、qは0または1であり、
R1 〜R18は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲ
ン原子または炭化水素基であり、R15〜R18および
Ra 、Rb は、互いに結合して単環または多環を形
成していてもよく、かつ該単環または多環は二重結合を
有していてもよく、また、R15とR16とで、または
R17とR18とでアキリデン基を形成していてもよい
。)
... [I] (wherein n is 0 or 1,
m is 0 or a positive integer, q is 0 or 1,
R1 to R18 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a hydrocarbon group, and R15 to R18 and Ra, Rb may be bonded to each other to form a monocyclic or polycyclic ring; The ring or polycyclic ring may have a double bond, and R15 and R16 or R17 and R18 may form an achilidene group. )

【0018】[0018]

【化2】[Case 2]

【0019】…[II][式中、pは0または1以上の
整数であり、qおよびrは、0、1または2であり、R
1 〜R15はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子
、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基またはアルコキ
シ基であり、R5 (またはR6 )とR9 (または
R7 )とは、炭素数1〜3のアルキレン基を介して結
合していてもよく、また何の基も介さずに直接結合して
いてもよい。]で表わされる不飽和単量体からなる群か
ら選ばれた少なくとも1種の環状オレフィンとの共重合
体であって、135℃のデカリン中で測定した極限粘度
[η]が0.05〜10dl/gの範囲にある環状オレ
フィン系ランダム共重合体からなっている。
... [II] [wherein p is 0 or an integer of 1 or more, q and r are 0, 1 or 2, and R
1 to R15 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, or an alkoxy group, and R5 (or R6) and R9 (or R7) are hydrogen atoms having 1 to 3 carbon atoms. They may be bonded via an alkylene group, or may be bonded directly without any group. ] A copolymer with at least one cyclic olefin selected from the group consisting of unsaturated monomers represented by /g of a cyclic olefin random copolymer.

【0020】なお、上記式[I]において、qが0の場
合は、qを用いて表される環は五員環を形成し、この場
合環状オレフィンは、下記の式で表わされる。
In the above formula [I], when q is 0, the ring represented by q forms a five-membered ring, and in this case, the cyclic olefin is represented by the following formula.

【0021】[0021]

【化3】[Chemical formula 3]

【0022】(式中、nは0または1であり、mは0ま
たは正の整数であって、R1 〜R18は、それぞれ独
立に、水素原子、ハロゲン原子および炭化水素基よりな
る群から選ばれる原子もしくは基を表し、R15〜R1
8は、互いに結合した単環または多環を形成していても
よく、かつ該単環または多環が二重結合を有していても
よく、また、R15とR16とで、またはR17とR1
8とでアルキリデン基を形成していてもよい)。
(where n is 0 or 1, m is 0 or a positive integer, and R1 to R18 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, and a hydrocarbon group) Represents an atom or group, R15 to R1
8 may form a monocyclic or polycyclic ring bonded to each other, and the monocyclic ring or polycyclic ring may have a double bond, and R15 and R16, or R17 and R1
8 may form an alkylidene group).

【0023】このような環状オレフィン系ランダム共重
合体のうち、軟化温度(TMA)が70℃以上である環
状オレフィン系ランダム共重合体(以下環状オレフィン
系ランダム共重合体[A]という)が好ましく用いられ
る。この環状オレフィン系ランダム系共重合体[A]は
、一般式[I]または[II]で示される環状オレフィ
ン類と、エチレンとを、炭化水素混合溶媒中あるいは上
記環状オレフィンからなる液相中で、該溶媒に可溶性の
バナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる
触媒の存在下に共重合させることより製造することがで
きる。
Among such cyclic olefin random copolymers, cyclic olefin random copolymers (hereinafter referred to as cyclic olefin random copolymers [A]) having a softening temperature (TMA) of 70° C. or higher are preferred. used. This cyclic olefin random copolymer [A] is produced by combining a cyclic olefin represented by the general formula [I] or [II] and ethylene in a hydrocarbon mixed solvent or in a liquid phase consisting of the above cyclic olefin. can be produced by copolymerizing a vanadium compound and an organoaluminum compound soluble in the solvent in the presence of a catalyst.

【0024】[0024]

【化4】[C4]

【0025】[0025]

【化5】[C5]

【0026】[0026]

【化6】[C6]

【0027】[0027]

【化7】[C7]

【0028】[0028]

【化8】[Chemical formula 8]

【0029】[0029]

【化9】[Chemical formula 9]

【0030】[0030]

【化10】[Chemical formula 10]

【0031】[0031]

【化11】[Chemical formula 11]

【0032】[0032]

【化12】[Chemical formula 12]

【0033】[0033]

【化13】[Chemical formula 13]

【0034】[0034]

【化14】[Chemical formula 14]

【0035】[0035]

【化15】[Chemical formula 15]

【0036】[0036]

【化16】[Chemical formula 16]

【0037】[0037]

【化17】[Chemical formula 17]

【0038】[0038]

【化18】[Chemical formula 18]

【0039】[0039]

【化19】[Chemical formula 19]

【0040】[0040]

【化20】[C20]

【0041】[0041]

【化21】[C21]

【0042】[0042]

【化22】[C22]

【0043】[0043]

【化23】[C23]

【0044】[0044]

【化24】[C24]

【0045】[0045]

【化25】[C25]

【0046】上記式[I]で示される環状オレフィンは
、シクロペンタジエン類と対応するオレフィン類とをデ
ィールス・アルダー反応させることにより容易に製造す
ることができる。
The cyclic olefin represented by the above formula [I] can be easily produced by subjecting cyclopentadiene and the corresponding olefin to a Diels-Alder reaction.

【0047】この環状オレフィン系ランダム共重合体[
A]は、上記のようにエチレンおよび前記環状オレフィ
ンを必須成分とするものであるが、該必須の二成分の他
に本発明の目的を損なわない範囲で、必要に応じて他の
共重合可能な不飽和単量体成分を含有していてもよい。 任意に共重合されていてもよい該不飽和単量体として、
具体的には、たとえば生成するランダム共重合体中のエ
チレン成分単位と等モル未満の範囲のプロピレン、1−
ブテン、4−メチル−1− ペンテン、1−ヘキセン、
1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラ
デセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、1−エ
イコセンなどの炭素原子数が3〜20のα− オレフィ
ンなどを例示することができる。
This cyclic olefin random copolymer [
A] has ethylene and the above-mentioned cyclic olefin as essential components as described above, but in addition to these two essential components, other copolymerizable components may be used as necessary within a range that does not impair the purpose of the present invention. It may contain unsaturated monomer components. As the unsaturated monomer which may be optionally copolymerized,
Specifically, for example, propylene, 1-
Butene, 4-methyl-1-pentene, 1-hexene,
Examples include α-olefins having 3 to 20 carbon atoms such as 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, and 1-eicosene.

【0048】上記のような環状オレフィン系ランダム共
重合体[A]では、エチレンに由来する繰り返し単位(
a) は、40〜85モル%、好ましくは50〜75モ
ル%の範囲で存在しており、また該環状オレフィンに由
来する繰り返し単位(b) は15〜60モル%、好ま
しくは25〜50モル%の範囲で存在しており、エチレ
ンに由来する繰り返し単位(a) および該環状オレフ
ィンに由来する繰り返し単位(b) は、ランダムに実
質上線状に配列している。なお、エチレン組成および環
状オレフィン組成は13C−NMRによって測定した。 この環状オレフィン系ランダム共重合体が実質上線状で
あり、ゲル状架橋構造を有していないことは、該共重合
体が135℃のデカリン中に完全に溶解することによっ
て確認できる。
In the above-mentioned cyclic olefin random copolymer [A], repeating units derived from ethylene (
a) is present in an amount of 40 to 85 mol%, preferably 50 to 75 mol%, and the repeating unit (b) derived from the cyclic olefin is present in an amount of 15 to 60 mol%, preferably 25 to 50 mol%. %, and the repeating units (a) derived from ethylene and the repeating units (b) derived from the cyclic olefin are arranged randomly and substantially linearly. Note that the ethylene composition and cyclic olefin composition were measured by 13C-NMR. The fact that this cyclic olefin random copolymer is substantially linear and does not have a gel-like crosslinked structure can be confirmed by completely dissolving the copolymer in decalin at 135°C.

【0049】このような環状オレフィン系ランダム共重
合体[A]の135℃のデカリン中で測定した極限粘度
[η]は、0.05〜10dl/g、好ましくは0.0
8〜5dl/gの範囲にある。
The intrinsic viscosity [η] of the cyclic olefin random copolymer [A] measured in decalin at 135° C. is 0.05 to 10 dl/g, preferably 0.0
It is in the range of 8 to 5 dl/g.

【0050】また環状オレフィン系ランダム共重合体[
A]のサーマル・メカニカル・アナライザーで測定した
軟化温度(TMA)は、70℃以上、好ましくは90〜
250℃、さらに好ましくは100〜200℃の範囲に
ある。なお軟化温度(TMA)は、デュポン社製The
rmomechanical Analyser を用
いて1mm厚さシートの熱変形挙動により測定した。す
なわちシート上に石英製針をのせ、荷重49gをかけ、
5℃/分で昇温していき、針が0.635mm侵入した
温度をTMAとした。また、該環状オレフィン系ランダ
ム共重合体[A]のガラス転移温度(Tg )は、通常
50〜230℃、好ましくは70〜210℃の範囲にあ
ることが望ましい。
[0050] Also, cyclic olefin random copolymer [
A] The softening temperature (TMA) measured with a thermal mechanical analyzer is 70°C or higher, preferably 90~
The temperature is preferably 250°C, more preferably 100 to 200°C. The softening temperature (TMA) is the DuPont manufactured by The
The thermal deformation behavior of a 1 mm thick sheet was measured using an rmomechanical analyzer. That is, a quartz needle is placed on the sheet, a load of 49 g is applied,
The temperature was increased at a rate of 5° C./min, and the temperature at which the needle penetrated 0.635 mm was defined as TMA. Further, it is desirable that the glass transition temperature (Tg) of the cyclic olefin random copolymer [A] is usually in the range of 50 to 230°C, preferably 70 to 210°C.

【0051】また、この環状オレフィン系ランダム共重
合体[A]のX線回析法によって測定した結晶化度は、
0〜10%、好ましくは0〜7%、とくに好ましくは0
〜5%の範囲である。
Further, the crystallinity of this cyclic olefin random copolymer [A] measured by X-ray diffraction method is as follows:
0 to 10%, preferably 0 to 7%, particularly preferably 0
It is in the range of ~5%.

【0052】本発明では、また上記のような軟化温度(
TMA)が70℃以上である環状オレフィン系ランダム
共重合体[A]に、エチレンと、上記式[I]または[
II]で表わされる環状オレフィンとの共重合体であっ
て、135℃のデカリン中で測定した極限粘度[η]が
0.01〜5dl/gの範囲にあり、軟化温度(TMA
)が70℃未満である環状オレフィン系ランダム共重合
体(以下環状オレフィン系ランダム共重合体[B]とい
う)を配合してなる環状オレフィン系ランダム共重合体
組成物から基板を形成することが特に好ましい。
In the present invention, the softening temperature (
Cyclic olefin random copolymer [A] having TMA) of 70°C or higher, ethylene and the above formula [I] or [
II] with a cyclic olefin, the intrinsic viscosity [η] measured in decalin at 135°C is in the range of 0.01 to 5 dl/g, and the softening temperature (TMA
) is less than 70°C (hereinafter referred to as cyclic olefin random copolymer [B]). preferable.

【0053】上記のような軟化点(TMA)が70℃未
満である環状オレフィン系ランダム共重合体[B]では
、エチレンに由来する繰り返し単位(a) は、60〜
98モル%、好ましくは60〜95モル%の範囲で存在
しており、また該環状オレフィンに由来する繰り返し単
位(b) は2〜40モル%、好ましくは5〜40モル
%の範囲で存在しており、エチレンに由来する繰り返し
単位(a) および該環状オレフィンに由来する繰り返
し単位(b) は、ランダムに実質上線状に配列してい
る。なお、エチレン組成および環状オレフィン組成は1
3C−NMRによって測定した。この環状オレフィン系
ランダム共重合体[B]が実質上線状であり、ゲル状架
橋構造を有していないことは、該共重合体が135℃の
デカリン中に完全に溶解することによって確認できる。
[0053] In the cyclic olefin random copolymer [B] having a softening point (TMA) of less than 70°C as described above, the repeating unit (a) derived from ethylene is 60 to
The repeating unit (b) derived from the cyclic olefin is present in an amount of 98 mol%, preferably 60 to 95 mol%, and 2 to 40 mol%, preferably 5 to 40 mol%. The repeating units (a) derived from ethylene and the repeating units (b) derived from the cyclic olefin are arranged randomly and substantially linearly. In addition, the ethylene composition and cyclic olefin composition are 1
Measured by 3C-NMR. The fact that this cyclic olefin random copolymer [B] is substantially linear and does not have a gel-like crosslinked structure can be confirmed by completely dissolving the copolymer in decalin at 135°C.

【0054】このような環状オレフィン系ランダム共重
合体[B]の135℃のデカリン中で測定した極限粘度
[η]は、0.01〜5dl/g好ましくは0.05〜
5dl/g、さらに好ましくは0.08〜3dl/gの
範囲にある。
The intrinsic viscosity [η] of the cyclic olefin random copolymer [B] measured in decalin at 135°C is 0.01 to 5 dl/g, preferably 0.05 to 5 dl/g.
5 dl/g, more preferably in the range of 0.08 to 3 dl/g.

【0055】また環状オレフィン系ランダム共重合体[
B]のサーマル・メカニカル・アナライザーで測定した
軟化温度(TMA)は、70℃未満、好ましくは−10
〜60℃、さらに好ましくは10〜55℃の範囲にある
。さらに、該環状オレフィン系ランダム共重合体[B]
のガラス転移温度(Tg)は、通常−30〜60℃、好
ましくは−20〜50℃の範囲にあることが望ましい。
[0055] Also, cyclic olefin random copolymer [
B] has a softening temperature (TMA) measured with a thermal mechanical analyzer of less than 70°C, preferably -10°C.
-60°C, more preferably 10-55°C. Furthermore, the cyclic olefin random copolymer [B]
It is desirable that the glass transition temperature (Tg) of is usually in the range of -30 to 60°C, preferably in the range of -20 to 50°C.

【0056】また、この環状オレフィン系ランダム共重
合体[B]のX線回析法によって測定した結晶化度は、
0〜10%、好ましくは0〜7%、とくに好ましくは0
〜5%の範囲である。
Further, the crystallinity of this cyclic olefin random copolymer [B] measured by X-ray diffraction method is as follows:
0 to 10%, preferably 0 to 7%, particularly preferably 0
It is in the range of ~5%.

【0057】本発明において、基板として環状オレフィ
ンランダム共重合体組成物を用いる場合には、該環状オ
レフィン系ランダム共重合体[A]/該環状オレフィン
系ランダム共重合体[B]の重量比は100/0.1な
いし100/10、好ましくは100/0.3ないし1
00/7、とくに好ましくは100/0.5ないし10
0/5の範囲であることが望ましい。[B]成分をこの
範囲で[A]成分に配合することによって、基板自体の
優れた透明性と表面平滑性を維持したままで本発明で用
いる光記録膜との苛酷な条件下での密着性が[A]成分
のみの場合に比べさらに向上するという効果があり、[
A]と[B]のブレンドよりなるこの上記の環状オレフ
ィンランダム共重合体組成物を基板に用いれば本発明で
用いる保護膜との優れた密着性は高温、高湿条件下放置
後においてさえも変化がないという特性を有している。
In the present invention, when a cyclic olefin random copolymer composition is used as the substrate, the weight ratio of the cyclic olefin random copolymer [A]/the cyclic olefin random copolymer [B] is 100/0.1 to 100/10, preferably 100/0.3 to 1
00/7, particularly preferably 100/0.5 to 10
A range of 0/5 is desirable. By blending component [B] with component [A] within this range, the substrate itself can adhere to the optical recording film used in the present invention under harsh conditions while maintaining its excellent transparency and surface smoothness. It has the effect of further improving the properties compared to the case of only component [A], and [
If the above-mentioned cyclic olefin random copolymer composition made of a blend of [A] and [B] is used as a substrate, excellent adhesion with the protective film used in the present invention can be obtained even after being left under high temperature and high humidity conditions. It has the characteristic of not changing.

【0058】本発明における基板を構成する上記の環状
オレフィン共重合体[A]および[B]は、特開昭60
−168708 号公報、特開昭61−120816 
号公報、特開昭61−115912号公報、特開昭61
−115916 号公報、特願昭61−95905号公
報、特願昭61−95906号公報、特開昭61−27
1308 号公報、特開昭61−272216 号公報
などにおいて本出願人が提案した方法に従い適宜条件を
選択することにより、製造することができる。
The above-mentioned cyclic olefin copolymers [A] and [B] constituting the substrate in the present invention are
-168708 Publication, JP-A-61-120816
No. 61-115912, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1983-115912
-115916 Publication, Japanese Patent Application No. 1983-95905, Japanese Patent Application No. 1982-95906, Japanese Patent Application No. 1982-27
It can be manufactured by appropriately selecting conditions according to the method proposed by the applicant in JP-A No. 1308, JP-A No. 61-272216, and the like.

【0059】また、基板を形成する樹脂として、上記の
ような環状オレフィンランダム共重合体と共に、上述の
式[I]で表わされる環状オレフィンが開環重合するこ
とにより形成される次式[III ]で表わされる繰り
返し単位を含む重合体もしくは共重合体を用いることも
でき、さらに上記式[III ]で表わされる繰り返し
単位を水添することにより形成される次式[IV]で示
すような繰り返し単位を含む重合体あるいは共重合体を
用いることもできる。
Further, as a resin forming the substrate, a resin of the following formula [III] formed by ring-opening polymerization of a cyclic olefin represented by the above formula [I] together with a cyclic olefin random copolymer as described above may be used. It is also possible to use a polymer or copolymer containing a repeating unit represented by the following formula [IV], which is formed by hydrogenating a repeating unit represented by the above formula [III]. Polymers or copolymers containing these can also be used.

【0060】[0060]

【化26】[C26]

【0061】…[III][0061]...[III]

【0062】[0062]

【化27】[C27]

【0063】…[IV]ただし、上記式[III ]お
よび[IV]において、m、n、qおよびR1 〜R1
8ならびにRa およびRb は、前記式[I]で示さ
れる環状オレフィンにおけるm、n、qおよびR1 〜
R18ならびにRa およびRb と同じ意味である。
...[IV] However, in the above formulas [III] and [IV], m, n, q and R1 to R1
8 and Ra and Rb are m, n, q and R1 in the cyclic olefin represented by the above formula [I]
It has the same meaning as R18 and Ra and Rb.

【0064】また上記の環状オレフィン共重合体には、
必要に応じ、耐熱安定剤、耐候安定剤、帯電防止剤、ス
リップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、染料
、顔料、天然油、合成油、ワックスなどを配合すること
ができ、その配合割合は適宜量である。たとえば、任意
成分として配合される安定剤として、具体的には、テト
ラキス[メチレン−3(3,5− ジ−t− ブチル−
4− ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、
β−(3,5−ジ−t− ブチル−4− ヒドロキシフ
ェニル)プロピオン酸アルキルエステル(特に炭素数1
8以下のアルキルエステルが好ましい)、2,2´−オ
キザミドビス[エチル−3(3,5− ジ−t− ブチ
ル−4− ヒドロキシフェニル)プロピオネートなどの
フェノール系酸化防止剤、ステアリン酸亜鉛、ステアリ
ン酸カルシウム、12− ヒドロキシステアリン酸カル
シウムなどの脂肪酸金属塩、グリセリンモノステアレー
ト、グリセリンモノラウレート、グリセリンジステアレ
ート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタ
エリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトール
トリステアレート等の多価アルコール脂肪酸エステルな
どを挙げることができる。これらは単独で配合してもよ
いが、組合わせて配合してもよく、たとえばテトラキス
[メチレン−3(3,5− ジ−t− ブチル−4− 
ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタンとステア
リン酸亜鉛およびグリセリンモノステアレートとの組合
せ等を例示することができる。
[0064] Furthermore, the above cyclic olefin copolymer includes:
If necessary, heat stabilizers, weather stabilizers, antistatic agents, slip agents, anti-blocking agents, antifogging agents, lubricants, dyes, pigments, natural oils, synthetic oils, waxes, etc. can be added. The proportions are appropriate amounts. For example, as a stabilizer that may be added as an optional component, specifically, tetrakis[methylene-3(3,5-di-t-butyl-
4-hydroxyphenyl)propionate]methane,
β-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionic acid alkyl ester (especially carbon number 1
8 or less), phenolic antioxidants such as 2,2′-oxamidobis[ethyl-3(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate), zinc stearate, calcium stearate , fatty acid metal salts such as calcium 12-hydroxystearate, polyhydric alcohol fatty acids such as glycerin monostearate, glycerin monolaurate, glycerin distearate, pentaerythritol monostearate, pentaerythritol distearate, and pentaerythritol tristearate. Examples include esters. These may be blended alone or in combination; for example, tetrakis[methylene-3(3,5-di-t-butyl-4-
Examples include combinations of hydroxyphenyl)propionate]methane, zinc stearate, and glycerin monostearate.

【0065】本発明では特に、フェノール系酸化防止剤
および多価アルコールの脂肪酸エステルとを組合せて用
いることが好ましく、該多価アルコールの脂肪酸エステ
ルは3価以上の多価アルコールのアルコール性水酸基の
一部がエステル化された多価アルコール脂肪酸エステル
であることが好ましい。
In the present invention, it is particularly preferable to use a phenolic antioxidant and a fatty acid ester of a polyhydric alcohol in combination, and the fatty acid ester of a polyhydric alcohol is used in combination with one of the alcoholic hydroxyl groups of a trivalent or higher polyhydric alcohol. It is preferable that the polyhydric alcohol fatty acid ester is partially esterified.

【0066】このような多価アルコールの脂肪酸エステ
ルとしては、具体的には、グリセリンモノステアレート
、グリセリンモノラウレート、グリセリンモノミリステ
ート、グリセリンモノパルミテート、グリセリンジステ
アレート、グリセリンジラウレート等のグリセリン脂肪
酸エステル、ペンタエリスリトールモノステアレート、
ペンタエリスリトールモノラウレート、ペンタエリスリ
トールジステアレート、ペンタエリスリトールジラウレ
ート、ペンタエリスリトールトリステアレート等のペン
タエリスリトールの脂肪酸エステルが用いられる。
Examples of such fatty acid esters of polyhydric alcohols include glycerin monostearate, glycerin monolaurate, glycerin monomyristate, glycerin monopalmitate, glycerin distearate, glycerin dilaurate, etc. fatty acid ester, pentaerythritol monostearate,
Fatty acid esters of pentaerythritol such as pentaerythritol monolaurate, pentaerythritol distearate, pentaerythritol dilaurate, and pentaerythritol tristearate are used.

【0067】このようなフェノール系酸化防止剤は、環
状オレフィン系ランダム共重合体組成物100重量部に
対して0〜10重量部好ましくは0.01〜10重量部
さらに好ましくは0.05〜3重量部特に好ましくは0
.1〜1重量部の量で用いられ、また多価アルコールの
脂肪酸エステルは該組成物100重量部に対して0〜1
0重量部好ましくは0.01〜10重量部さらに好まし
くは0.05〜3重量部の量で用いられる。
Such a phenolic antioxidant is used in an amount of 0 to 10 parts by weight, preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.05 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the cyclic olefin random copolymer composition. Part by weight is particularly preferably 0
.. The fatty acid ester of polyhydric alcohol is used in an amount of 0 to 1 part by weight per 100 parts by weight of the composition.
It is used in an amount of 0 parts by weight, preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.05 to 3 parts by weight.

【0068】また、本発明の光磁気記録媒体の基板には
、本発明の目的および透明性を損なわない範囲で、シリ
カ、ケイ藻土、アルミナ、酸化チタン、酸化マグネシウ
ム、軽石粉、軽石バルーン、水酸化アルミニウム、水酸
化マグネシウム、塩基性炭酸マグネシウム、ドロマイト
、硫酸カルシウム、チタン酸カリウム、硫酸バリウム、
亜硫酸カルシウム、タルク、クレー、マイカ、アスベス
ト、ガラス繊維、ガラスフレーク、ガラスビーズ、ケイ
酸カルシウム、モンモリナイト、ベントナイト、グラフ
ァイト、アルミニウム粉、硫化モリブデン、ボロン繊維
、炭化ケイ素繊維、ポリエチレン繊維、ポリプロピレン
繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維等の充填剤を
配合してもよい。
In addition, the substrate of the magneto-optical recording medium of the present invention may contain silica, diatomaceous earth, alumina, titanium oxide, magnesium oxide, pumice powder, pumice balloon, etc., as long as the object of the present invention and transparency are not impaired. Aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, basic magnesium carbonate, dolomite, calcium sulfate, potassium titanate, barium sulfate,
Calcium sulfite, talc, clay, mica, asbestos, glass fiber, glass flakes, glass beads, calcium silicate, montmolinite, bentonite, graphite, aluminum powder, molybdenum sulfide, boron fiber, silicon carbide fiber, polyethylene fiber, polypropylene fiber, polyester Fillers such as fibers and polyamide fibers may also be blended.

【0069】本発明に係る光記録媒体では、基板として
、上記のような環状オレフィン系ランダム共重合体[A
]または該環状オレフィン系ランダム共重合体[A]を
含む組成物が用いられる場合には、基板と記録層積層体
特に保護膜とは密着性に優れており、したがって本発明
の記録層積層体は長期安定性に優れるとともに記録膜の
酸化が効果的に防止される。したがってこの環状オレフ
ィン系ランダム共重合体または該共重合体を含む組成物
からなる基板上に第1保護膜、記録膜、第2保護膜、ア
ルミニウム合金膜、オーバーコート膜を積層してなる光
記録媒体は、耐久性および長期安定性にも優れている。 また本発明に係る光記録媒体は割れが生ずることがない
In the optical recording medium according to the present invention, the above-mentioned cyclic olefin random copolymer [A
] or the cyclic olefin random copolymer [A] is used, the substrate and the recording layer laminate, especially the protective film, have excellent adhesion, and therefore the recording layer laminate of the present invention has excellent long-term stability and effectively prevents oxidation of the recording film. Therefore, an optical recording film is formed by laminating a first protective film, a recording film, a second protective film, an aluminum alloy film, and an overcoat film on a substrate made of this cyclic olefin random copolymer or a composition containing this copolymer. The media also has excellent durability and long-term stability. Furthermore, the optical recording medium according to the present invention does not suffer from cracks.

【0070】また上記のような基板は、高湿雰囲気下で
の反りが比較的小さいという利点もある。このような基
板2の厚みは特に限定されないが、好ましくは0.5〜
5mm特に好ましくは1〜2mmである。
[0070] The above-mentioned substrate also has the advantage that warpage under a high humidity atmosphere is relatively small. The thickness of such a substrate 2 is not particularly limited, but is preferably 0.5 to 0.5.
5 mm, particularly preferably 1 to 2 mm.

【0071】保  護  膜 本発明に係る光磁気記録媒体1で用いられる第1保護膜
3および第2保護膜5は、SiNxで示される組成の膜
から形成されており、SiNx膜としては、たとえば窒
化ケイ素膜または窒化ケイ素含有膜が例示できる。
Protective Film The first protective film 3 and the second protective film 5 used in the magneto-optical recording medium 1 according to the present invention are formed from films having a composition represented by SiNx, and examples of the SiNx film include, for example. Examples include a silicon nitride film or a silicon nitride-containing film.

【0072】SiNxで示される保護膜では、原子比で
表わした場合に0<x≦5/3特に0<x≦4/3であ
ることが好ましく、具体的には、Si3 N4 (四窒
化三ケイ素)などの窒化ケイ素膜あるいは0<x<4/
3となるようにSi3 N4 とSiとを混合した混合
膜が特に好ましく用いられる。このようなSiNxで示
される保護膜は、たとえばターゲットとして、Si3 
N4 またはSi3 N4 とSiとを用いて、スパッ
タリング法により成膜することができる。またSiを含
窒素雰囲気中(たとえばAr/N)などでスパッタリン
グすることによって成膜することもできる。このような
SiNxからなる第1保護膜3および第2保護膜5は、
通常1.8以上好ましくは1.8〜2.2の屈折率を有
していることが望ましく、後述する光磁気記録膜4を酸
化などから保護する働きあるいは光磁気記録膜4の記録
特性を高めるエンハンス膜としての働きあるいはその両
方の働きをしている。またSiNx(0<x≦4/3)
からなる第1保護膜3および第2保護膜5は、特に耐ク
ラック性に優れている。
In the protective film represented by SiNx, it is preferable that 0<x≦5/3, especially 0<x≦4/3 when expressed in atomic ratio. Silicon nitride film such as silicon) or 0<x<4/
A mixed film in which Si3 N4 and Si are mixed so as to have a concentration of 3 is particularly preferably used. Such a protective film made of SiNx can be formed using, for example, Si3 as a target.
A film can be formed by sputtering using N4 or Si3 N4 and Si. Alternatively, the film can be formed by sputtering Si in a nitrogen-containing atmosphere (for example, Ar/N). The first protective film 3 and second protective film 5 made of SiNx are as follows:
Generally, it is desirable to have a refractive index of 1.8 or more, preferably 1.8 to 2.2, and it serves to protect the magneto-optical recording film 4 from oxidation, etc., which will be described later, or to improve the recording properties of the magneto-optical recording film 4. It acts as an enhancing film or both. Also, SiNx (0<x≦4/3)
The first protective film 3 and the second protective film 5 made of the above have particularly excellent crack resistance.

【0073】本発明の光磁気記録媒体では、基板上に第
1保護膜、特定の光磁気記録膜、第2保護膜、アルミニ
ウム合金からなる金属膜そしてオーバーコート膜を積層
した5層構成とし、かつ第1保護膜と第2保護膜として
SiNxを用いているため、広い記録パワーマージンを
得ることができるとともに線速依存性も小さくなる。
The magneto-optical recording medium of the present invention has a five-layer structure in which a first protective film, a specific magneto-optical recording film, a second protective film, a metal film made of an aluminum alloy, and an overcoat film are laminated on a substrate, Moreover, since SiNx is used as the first protective film and the second protective film, a wide recording power margin can be obtained and linear velocity dependence can be reduced.

【0074】本発明において、第1保護膜3の膜厚は4
00〜2000オングストローム好ましくは700〜1
500オングストロームであり、第2保護膜5の膜厚は
、50〜1000オングストローム好ましくは50〜7
00オングストロームさらに好ましくは100〜400
オングストローム程度である。
In the present invention, the thickness of the first protective film 3 is 4
00 to 2000 angstroms, preferably 700 to 1
500 angstroms, and the film thickness of the second protective film 5 is 50 to 1000 angstroms, preferably 50 to 7 angstroms.
00 angstroms, more preferably 100 to 400 angstroms
It is about angstrom.

【0075】本発明においては、保護膜の膜厚を上記の
ような範囲にすることによって、良好なC/N比と広い
記録パワーマージンを有する光磁気記録媒体を得ること
ができる。
In the present invention, by setting the thickness of the protective film within the above range, a magneto-optical recording medium having a good C/N ratio and a wide recording power margin can be obtained.

【0076】また第1保護膜の膜厚を上記のような範囲
にすることによって、光磁気記録媒体の見かけのθkを
大きくすることができる。さらに第2保護膜の膜厚を上
記のような範囲にすることによって、光磁気記録媒体は
優れたC/N比を保ったまま広い記録パワーマージンを
有することができる。
Further, by setting the thickness of the first protective film within the above range, the apparent θk of the magneto-optical recording medium can be increased. Further, by setting the thickness of the second protective film within the above range, the magneto-optical recording medium can have a wide recording power margin while maintaining an excellent C/N ratio.

【0077】光磁気記録膜 光磁気記録膜4は、(i)3d遷移金属から選ばれる少
なくとも1種と、(ii)耐腐食性金属と、(iii 
)希土類から選ばれる少なくとも1種の元素とからなっ
ている。 (i)3d遷移金属としては、Fe、Co、Ti、V、
Cr、Mn、Ni、Cu、Znなどが用いられるが、こ
のうちFeまたはCoあるいはこの両者であることが好
ましい。
Magneto-optical recording film The magneto-optical recording film 4 comprises (i) at least one selected from 3D transition metals, (ii) a corrosion-resistant metal, and (iii)
) At least one element selected from rare earths. (i) 3d transition metals include Fe, Co, Ti, V,
Cr, Mn, Ni, Cu, Zn, etc. are used, and among these, Fe, Co, or both are preferable.

【0078】この3d遷移金属は、光磁気記録膜4中に
好ましくは20〜90原子%より好ましくは30〜85
原子%とくに好ましくは35〜80原子%の量で存在し
ている。 (ii)耐腐食性金属は、光磁気記録膜4に含ませるこ
とによって、この光磁気記録膜の耐酸化性を高めること
ができる。このような耐腐食性金属としては、Pt、P
d、Ti、Zr、Ta、Nbなどが用いられるが、この
うちPt、Pd、Tiが好ましくとくにPtまたはPd
あるいはこの両者であることが好ましい。
The 3d transition metal is preferably contained in the magneto-optical recording film 4 in an amount of 20 to 90 atomic %, more preferably 30 to 85 atomic %.
It is present in an amount of 35 to 80 atomic %, particularly preferably 35 to 80 atomic %. (ii) By including a corrosion-resistant metal in the magneto-optical recording film 4, the oxidation resistance of the magneto-optical recording film can be improved. Such corrosion-resistant metals include Pt, P
d, Ti, Zr, Ta, Nb, etc., but among these, Pt, Pd, and Ti are preferable, especially Pt or Pd.
Or preferably both.

【0079】この耐腐食性金属は、光磁気記録膜4中に
、該記録膜の全原子数を基準として、5〜30原子%好
ましくは5〜25原子%、とくには10〜25原子%さ
らに好ましくは10〜20原子%の量で存在している。
This corrosion-resistant metal is present in the magneto-optical recording film 4 in an amount of 5 to 30 at%, preferably 5 to 25 at%, particularly 10 to 25 at%, based on the total number of atoms in the recording film. Preferably it is present in an amount of 10 to 20 atom %.

【0080】上記のような量で耐腐食性金属を光磁気記
録膜中に存在させると、得られる光磁気記録膜の耐酸化
性が充分には改善され、経時的に保磁力Hcが大きく変
化したりあるいはカー回転角θkが減少したりすること
がない。また、30原子%を超えて存在する場合には、
得られる非晶質合金薄膜のキュリー点が室温以下となる
傾向が生ずる。
When the corrosion-resistant metal is present in the magneto-optical recording film in the above amount, the oxidation resistance of the resulting magneto-optical recording film is sufficiently improved, and the coercive force Hc changes significantly over time. In this case, the Kerr rotation angle θk does not decrease. In addition, if it is present in an amount exceeding 30 atomic%,
The Curie point of the resulting amorphous alloy thin film tends to be below room temperature.

【0081】光磁気記録膜4は、上記(i)および(i
i)に加えて、(iii )希土類元素から選ばれた少
なくとも1種の元素を含んで構成されている。 (iii )希土類元素としては、たとえばGd、Tb
、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、La、Ce、
Pr、Nd、Pm、Sm、Euが挙げられる。
The magneto-optical recording film 4 has the above (i) and (i)
In addition to i), (iii) it contains at least one element selected from rare earth elements. (iii) Examples of rare earth elements include Gd, Tb
, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, La, Ce,
Examples include Pr, Nd, Pm, Sm, and Eu.

【0082】このうちGd、Tb、Dy、Ho、Nd、
Sm、Prが好ましく用いられる。上記のような群から
選ばれる少なくとも1種の希土類元素は、光磁気記録膜
4中に、好ましくは5〜50原子%さらに好ましくは8
〜45原子%とくに好ましくは10〜40原子%の量で
存在している。
Among these, Gd, Tb, Dy, Ho, Nd,
Sm and Pr are preferably used. At least one rare earth element selected from the above group is contained in the magneto-optical recording film 4, preferably in an amount of 5 to 50 atomic %, more preferably 8
It is present in an amount of from 10 to 40 atom %, particularly preferably from 10 to 40 atom %.

【0083】本発明では、光磁気記録膜4が、特に、下
記に記載するような組成を有することが好ましい。 (i)3d遷移元素 本発明において光磁気記録膜中には、(i)3d遷移元
素として、好ましくはFeまたはCoあるいはこの両者
が含まれており、Feおよび/またはCoは、40原子
%以上80原子%以下好ましくは40原子%以上75原
子%未満さらに好ましくは40原子%以上59原子%以
下の量で存在していることが望ましい。
In the present invention, it is particularly preferable that the magneto-optical recording film 4 has a composition as described below. (i) 3d transition element In the present invention, the magneto-optical recording film preferably contains Fe or Co or both as (i) 3d transition element, and Fe and/or Co is 40 atomic % or more. It is desirable that the content is 80 atomic % or less, preferably 40 atomic % or more and less than 75 atomic %, and more preferably 40 atomic % or more and 59 atomic % or less.

【0084】さらにFeおよび/またはCoは、Co/
(Fe+Co)比[原子比]が0以上0.3以下好まし
くは0以上0.2以下さらに好ましくは0.01以上0
.2以下であるような量で、光磁気記録膜中に存在して
いることが望ましい。
Further, Fe and/or Co may be Co/
(Fe+Co) ratio [atomic ratio] is 0 or more and 0.3 or less, preferably 0 or more and 0.2 or less, more preferably 0.01 or more and 0.
.. It is desirable that the amount is 2 or less in the magneto-optical recording film.

【0085】Feおよび/またはCoの量が40原子%
以上で80原子%以下の範囲にあると、耐酸化性に優れ
、かつ膜面に垂直な方向に磁化容易軸をもった光磁気記
録膜が得られるという利点を有する。
[0085] The amount of Fe and/or Co is 40 at%
When the content is in the above range of 80 atomic % or less, there is an advantage that a magneto-optical recording film having excellent oxidation resistance and having an axis of easy magnetization in a direction perpendicular to the film surface can be obtained.

【0086】ところで光磁気記録膜中に、Coを添加す
ると、(イ)光磁気記録膜のキュリー点が上昇し、また
(ロ)カー回転角(θk)が大きくなるという現象が認
められ、その結果、Coの添加量により、光磁気記録膜
の記録感度を調整することができ、しかもCoの添加に
より、再生信号のキャリアレベルを増加することができ
る。本発明に係る光磁気記録膜では、ノイズレベル、C
/N比の点からCo/(Fe+Co)比[原子比]は0
以上0.3以下好ましくは0以上0.2以下さらに好ま
しくは0.01以上0.2以下であることが望ましい。
By the way, when Co is added to a magneto-optical recording film, the following phenomena are observed: (a) the Curie point of the magneto-optical recording film increases, and (b) the Kerr rotation angle (θk) increases; As a result, the recording sensitivity of the magneto-optical recording film can be adjusted by adjusting the amount of Co added, and the carrier level of the reproduced signal can be increased by adding Co. In the magneto-optical recording film according to the present invention, the noise level, C
/N ratio, the Co/(Fe+Co) ratio [atomic ratio] is 0.
It is desirable that the range is 0.01 or more and 0.2 or less, preferably 0 or more and 0.2 or less, and more preferably 0.01 or more and 0.2 or less.

【0087】このような本発明に用いる光磁気記録膜は
、記録および消去を繰り返し行なっても、膜変質が生ず
ることはない。たとえば本発明においてPt13Tb2
8Fe50Co9 なる組成(原子%)を有する光磁気
記録膜を用いた場合、10万回の記録および消去を繰り
返し行なってもC/N比の低下は認められない。
The magneto-optical recording film used in the present invention does not undergo any deterioration even after repeated recording and erasing. For example, in the present invention, Pt13Tb2
When a magneto-optical recording film having a composition (atomic %) of 8Fe50Co9 is used, no decrease in the C/N ratio is observed even after 100,000 recording and erasing operations are repeated.

【0088】(ii)耐腐食性金属 本発明に用いる光磁気記録膜中には、(ii)耐腐食性
金属として、好ましくはPtまたはPdあるいはこの両
者が含まれており、Ptおよび/またはPdは、光磁気
記録膜中に5〜30原子%、好ましくは10原子%を超
えて30原子%以下、さらに好ましくは10原子%を超
えて20原子%未満、最も好ましくは11原子%以上1
9原子%以下の量で存在していることが望ましい。
(ii) Corrosion-resistant metal The magneto-optical recording film used in the present invention preferably contains Pt and/or Pd as the (ii) corrosion-resistant metal. is present in the magneto-optical recording film in an amount of 5 to 30 atom %, preferably more than 10 atom % and less than 30 atom %, more preferably more than 10 atom % and less than 20 atom %, and most preferably 11 atom % or more and 1
It is desirable that it is present in an amount of 9 atomic % or less.

【0089】光磁気記録膜中のPtおよび/またはPd
の量が5原子%以上特に10原子%を超えて存在すると
、光磁気記録膜の耐酸化性に優れ、長期間使用しても孔
食が発生せず、C/N比も劣化しないという利点を有す
る。
Pt and/or Pd in magneto-optical recording film
When the amount of is present in an amount of 5 atomic % or more, especially more than 10 atomic %, the magneto-optical recording film has excellent oxidation resistance, and has the advantage that pitting corrosion does not occur even after long-term use, and the C/N ratio does not deteriorate. has.

【0090】たとえばPt13Tb28Fe50Co9
 (原子%)あるいはPd12Tb28Fe57Co3
 (原子%)で示される組成を有する光磁気記録膜を有
する本発明の光磁気記録媒体は、相対湿度85%、80
℃の環境下に1000時間保持しても、C/N比は全く
変化しない。
For example, Pt13Tb28Fe50Co9
(atomic %) or Pd12Tb28Fe57Co3
The magneto-optical recording medium of the present invention has a magneto-optical recording film having a composition shown in (atomic %) at a relative humidity of 85%, 80%
The C/N ratio does not change at all even if it is kept in an environment of 1,000 hours at ℃.

【0091】また光磁気記録膜中にPtおよび/または
Pdを上記のような範囲の量で添加することにより、光
磁気記録膜に情報を記録したりあるいは情報を読出す際
に、小さなバイアス磁界で充分に高いC/N比が得られ
る。小さなバイアス磁界で充分に高いC/N比が得られ
ると、バイアス磁界発生用のマグネットを小さくするこ
とができ、しかもマグネットからの発熱も押えることが
できるため、光磁気記録膜を有する光ディスクのドライ
ブ装置を簡素化することができる。しかも小さなバイア
ス磁界で充分に大きなC/N比が得られるため、オーバ
ーライト可能な磁界変調記録用のマグネットの設計も容
易となる。
Furthermore, by adding Pt and/or Pd to the magneto-optical recording film in an amount within the above range, a small bias magnetic field can be applied when recording or reading information to the magneto-optical recording film. A sufficiently high C/N ratio can be obtained. If a sufficiently high C/N ratio can be obtained with a small bias magnetic field, the magnet for generating the bias magnetic field can be made smaller, and heat generation from the magnet can also be suppressed, making it possible to drive optical disks with a magneto-optical recording film. The device can be simplified. Moreover, since a sufficiently large C/N ratio can be obtained with a small bias magnetic field, it becomes easy to design a magnet for magnetic field modulation recording that can be overwritten.

【0092】(iii )希土類元素(RE)本発明に
係る光磁気記録膜中には、希土類元素(RE)が含まれ
ており、この希土類元素としては、Nd、Sm、Pr、
Ce、Eu、Gd、Tb、DyまたはHoが用いられる
(iii) Rare earth element (RE) The magneto-optical recording film according to the present invention contains a rare earth element (RE), and examples of the rare earth element include Nd, Sm, Pr,
Ce, Eu, Gd, Tb, Dy or Ho is used.

【0093】これらの中では、Nd、Pr、Gd、Tb
、Dyが好ましく用いられ、特にTbが好ましい。また
希土類元素は2種以上併用してもよく、この場合にTb
を希土類元素のうち50原子%以上含有していることが
好ましい。
Among these, Nd, Pr, Gd, Tb
, Dy are preferably used, and Tb is particularly preferred. In addition, two or more rare earth elements may be used in combination, and in this case, Tb
It is preferable that the rare earth element contains 50 atomic % or more of the rare earth elements.

【0094】この希土類元素は、膜面に垂直な方向に磁
化容易軸をもった光磁気を得るという点からRE/(R
E+Fe+Co)比[原子比]をxで表わした場合に、
0.15≦x≦0.45好ましくは0.20≦x≦0.
4であるような量で光磁気記録膜中に存在していること
が望ましい。
[0094] This rare earth element has the advantage of RE/(R
When the E+Fe+Co) ratio [atomic ratio] is expressed as x,
0.15≦x≦0.45 preferably 0.20≦x≦0.
It is desirable that the magneto-optical recording film be present in an amount of 4.

【0095】本発明においては、光磁気記録膜に種々の
元素を少量添加して、キュリー温度や補償温度あるいは
保磁力Hcやカー回転角θkの改善あるいは低コスト化
を計ることもできる。これらの元素は、記録膜を構成す
る全原子数に対してたとえば10原子%未満の割合で用
いることができる。
In the present invention, small amounts of various elements may be added to the magneto-optical recording film to improve the Curie temperature, compensation temperature, coercive force Hc, Kerr rotation angle θk, or to reduce costs. These elements can be used in a proportion of, for example, less than 10 atomic % based on the total number of atoms constituting the recording film.

【0096】併用できる他の元素の例としては、以下の
ような元素が挙げられる。 (I)Fe、Co以外の3d遷移元素 具体的には、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Ni、Cu
、Znが用いられる。
Examples of other elements that can be used in combination include the following elements. (I) 3d transition elements other than Fe and Co, specifically Sc, Ti, V, Cr, Mn, Ni, Cu
, Zn are used.

【0097】これらのうち、Ti、Ni、Cu、Znな
どが好ましく用いられる。 (II)Pd以外の4d遷移元素 具体的には、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh
、Ag、Cdが用いられる。
Among these, Ti, Ni, Cu, Zn, etc. are preferably used. (II) 4d transition elements other than Pd Specifically, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh
, Ag, and Cd are used.

【0098】このうちZr、Nbが好ましく用いられる
。 (III )Pt以外の5d遷移元素 具体的には、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Au
、Hgが用いられる。
Among these, Zr and Nb are preferably used. (III) 5d transition elements other than Pt Specifically, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Au
, Hg are used.

【0099】このうちTaが好ましく用いられる。 (IV)III B族元素 具体的には、B、Al、Ga、In、Tlが用いられる
Among these, Ta is preferably used. (IV) III Group B element Specifically, B, Al, Ga, In, and Tl are used.

【0100】このうちB、Al、Gaが好ましく用いら
れる。 (V)IVB族元素 具体的には、C、Si、Ge、Sn、Pbが用いられる
Among these, B, Al, and Ga are preferably used. (V) IVB group element Specifically, C, Si, Ge, Sn, and Pb are used.

【0101】このうち、Si、Ge、Sn、Pbが好ま
しく用いられる。 (VI)VB族元素 具体的には、N、P、As、Sb、Biが用いられる。
Among these, Si, Ge, Sn, and Pb are preferably used. (VI) VB group element Specifically, N, P, As, Sb, and Bi are used.

【0102】このうちSbが好ましく用いられる。 (VII )VIB族元素 具体的には、S、Se、Te、Poが用いられる。Among these, Sb is preferably used. (VII) VIB group element Specifically, S, Se, Te, and Po are used.

【0103】このうちTeが好ましく用いられる。上記
のような組成を有する光磁気記録膜4は、膜面に垂直な
磁化容易軸を有し、多くはカー・ヒステリシスが良好な
角形ループを示す垂直磁気および光磁気記録可能な非晶
質薄膜となることが、広角X線回析などにより確かめら
れる。
Among these, Te is preferably used. The magneto-optical recording film 4 having the above composition is an amorphous thin film capable of perpendicular magnetic and magneto-optical recording, which has an axis of easy magnetization perpendicular to the film surface and often exhibits a rectangular loop with good Kerr hysteresis. This can be confirmed by wide-angle X-ray diffraction.

【0104】なお本明細書において、カー・ヒステリシ
スが良好な角形ループを示すとは、最大外部磁場におけ
るカー回転角である飽和カー回転角(θk1)と外部磁
場ゼロにおけるカー回転角である残留カー回転角(θk
2 )との比θk2 /θk1 が0.8以上であるこ
とを意味している。
[0104] In this specification, a square loop with good Kerr hysteresis means that the saturated Kerr rotation angle (θk1), which is the Kerr rotation angle at the maximum external magnetic field, and the residual Kerr rotation angle, which is the Kerr rotation angle at zero external magnetic field. Rotation angle (θk
2) means that the ratio θk2 /θk1 is 0.8 or more.

【0105】この光磁気記録膜4の膜厚は100〜60
0オングストローム好ましくは100〜400オングス
トロームより好ましくは150〜350オングストロー
ム程度である。
The film thickness of this magneto-optical recording film 4 is 100 to 60
0 angstrom, preferably 100 to 400 angstrom, more preferably about 150 to 350 angstrom.

【0106】金  属  膜 本発明に係る光磁気記録媒体1では、上記のような第2
保護膜5上に、金属膜6が設けられている。
Metal film In the magneto-optical recording medium 1 according to the present invention, the second metal film as described above is used.
A metal film 6 is provided on the protective film 5.

【0107】本発明では、金属膜6は、アルミニウム合
金からなっている。このアルミニウム合金は、アルミニ
ウムと、アルミニウム以外の少なくとも1種の元素を含
んで構成されている。
In the present invention, the metal film 6 is made of an aluminum alloy. This aluminum alloy is composed of aluminum and at least one element other than aluminum.

【0108】このような金属膜6を構成するアルミニウ
ム合金としては、具体的には以下のようなものが例示で
きる。なお下記のアルミニウム合金において、各金属の
含有量は該アルミニウム合金を構成する全原子数に対す
る原子%である。
[0108] Specific examples of the aluminum alloy constituting the metal film 6 include the following. In addition, in the following aluminum alloy, the content of each metal is atomic % with respect to the total number of atoms constituting the aluminum alloy.

【0109】Al−Cr合金(Cr含有量0.1〜10
原子%)、Al−Cu合金(Cu含有量0.1〜10原
子%)、Al−Mn合金(Mn含有量0.1〜10原子
%)、Al−Hf合金(Hf含有量0.1〜10原子%
)、Al−Nb合金(Nb含有量0.1〜10原子%)
、Al−B合金(B含有量0.1〜10原子%)、Al
−Ti合金(Ti含有量0.1〜10原子%)、Al−
Ti−Nb合金(Ti含有量0.1〜5原子%、Nb含
有量0.1〜5原子%)、Al−Ti−Hf合金(Ti
含有量0.1〜5原子%、Hf含有量0.1〜10原子
%)、Al−Cr−Hf合金(Cr含有量0.1〜5原
子%、Hf含有量0.1〜10原子%)、Al−Cr−
Ti合金(Cr含有量0.1〜5原子%、Ti含有量0
.1〜10原子%)、Al−Cr−Zr合金(Cr含有
量0.1〜5原子%、Zr含有量0.1〜10原子%)
、Al−Ti−Nb合金(Ti含有量0.1〜5原子%
、Nb含有量0.1〜5原子%)、Al−Ni合金(N
i含有量0.1〜10原子%)、Al−Mg合金(Mg
含有量0.1〜10原子%)、Al−Mg−Ti合金(
Mg含有量0.1〜10原子%、Ti含有量0.1〜1
0原子%)、Al−Mg−Cr合金(Mg含有量0.1
〜10原子%、Cr含有量0.1〜10原子%)、Al
−Mg−Hf合金(Mg含有量0.1〜10原子%、H
f含有量0.1〜10原子%)、Al−Se合金(Se
含有量0.1〜10原子%)、Al−Zr合金(Zr含
有量0.1〜10原子%)、Al−Ta合金(Ta含有
量0.1〜10原子%)、Al−Ta−Hf合金(Ta
含有量0.1〜10原子%、Hf含有量0.1〜10原
子%)、Al−Si合金(Si含有量0.1〜10原子
%)、Al−Ag合金(Ag含有量0.1〜10原子%
)、Al−Pd合金(Pd含有量0.1〜10原子%)
、Al−Pt合金(Pt含有量0.1〜10原子%)。
[0109] Al-Cr alloy (Cr content 0.1-10
atomic%), Al-Cu alloy (Cu content 0.1 to 10 atomic%), Al-Mn alloy (Mn content 0.1 to 10 atomic%), Al-Hf alloy (Hf content 0.1 to 10 atomic%) 10 atomic%
), Al-Nb alloy (Nb content 0.1-10 at%)
, Al-B alloy (B content 0.1 to 10 at%), Al
-Ti alloy (Ti content 0.1 to 10 at%), Al-
Ti-Nb alloy (Ti content 0.1-5 at%, Nb content 0.1-5 at%), Al-Ti-Hf alloy (Ti
Al-Cr-Hf alloy (Cr content 0.1-5 at%, Hf content 0.1-10 at%) ), Al-Cr-
Ti alloy (Cr content 0.1 to 5 at%, Ti content 0
.. 1-10 at%), Al-Cr-Zr alloy (Cr content 0.1-5 at%, Zr content 0.1-10 at%)
, Al-Ti-Nb alloy (Ti content 0.1 to 5 at%
, Nb content 0.1 to 5 at%), Al-Ni alloy (Nb content 0.1 to 5 at%), Al-Ni alloy (N
i content 0.1 to 10 at%), Al-Mg alloy (Mg
content 0.1 to 10 at%), Al-Mg-Ti alloy (
Mg content 0.1-10 at%, Ti content 0.1-1
0 at%), Al-Mg-Cr alloy (Mg content 0.1
~10 at%, Cr content 0.1~10 at%), Al
-Mg-Hf alloy (Mg content 0.1-10 at%, H
f content 0.1 to 10 at%), Al-Se alloy (Se
Al-Zr alloy (Zr content 0.1-10 at%), Al-Ta alloy (Ta content 0.1-10 at%), Al-Ta-Hf Alloy (Ta
content 0.1-10 at%, Hf content 0.1-10 at%), Al-Si alloy (Si content 0.1-10 at%), Al-Ag alloy (Ag content 0.1 ~10 atomic%
), Al-Pd alloy (Pd content 0.1-10 at%)
, Al-Pt alloy (Pt content 0.1-10 at%).

【0110】これらの金属膜を構成するアルミニウム合
金のうち、特に以下のようなものが、光磁気記録媒体の
線速依存性を小さくし、かつ耐腐食性に優れているので
好ましい。
[0110] Among the aluminum alloys constituting these metal films, the following are particularly preferable because they reduce the linear velocity dependence of the magneto-optical recording medium and have excellent corrosion resistance.

【0111】ハフニウム0.1〜10原子%を含むアル
ミニウム合金、ニオブ0.1〜10原子%を含むアルミ
ニウム合金、チタン0.5〜5原子%とハフニウム0.
5〜5原子%を含み、チタンとハフニウムの合計含有量
が1〜5.5原子%であるアルミニウム合金、クロム0
.1〜5原子%とチタン0.1〜9.5原子%を含み、
クロムとチタンの合計含有量が10原子%以下であるア
ルミニウム合金、マグネシウム0.1〜10原子%とク
ロム0.1〜10原子%を含み、マグネシウムとクロム
の合計含有量が15原子%以下であるアルミニウム合金
、クロム0.1〜5原子%とハフニウム0.1〜9.5
原子%を含み、クロムとハフニウムの合計含有量が10
原子%以下であるアルミニウム合金、マグネシウム0.
1〜10原子%とハフニウム0.1〜10原子%を含み
、マグネシウムとハフニウムの合計含有量が15原子%
以下であるアルミニウム合金、クロム0.1〜5原子%
とジルコニウム0.1〜9.5原子%を含み、クロムと
ジルコニウムの合計含有量が10原子%以下であるアル
ミニウム合金、タンタル0.1〜10原子%とハフニウ
ム0.1〜10原子%とを含み、タンタルとハフニウム
の合計含有量が15原子%以下であるアルミニウム合金
、チタン0.5〜5原子%とニオブ0.5〜5原子%を
含み、チタンとニオブの合計含有量が1〜5.5原子%
であるアルミニウム合金、マグネシウム0.1〜10原
子%とチタン0.1〜10原子%を含み、マグネシウム
とチタンの合計含有量が15原子%以下であるアルミニ
ウム合金。
Aluminum alloy containing 0.1 to 10 atomic % of hafnium, aluminum alloy containing 0.1 to 10 atomic % of niobium, 0.5 to 5 atomic % of titanium and 0.5 atomic % of hafnium.
Aluminum alloy containing 5 to 5 atomic % and a total content of titanium and hafnium of 1 to 5.5 atomic %, chromium 0
.. Containing 1 to 5 at% and 0.1 to 9.5 at% of titanium,
Aluminum alloys with a total content of chromium and titanium of 10 atom% or less, containing 0.1 to 10 atom% of magnesium and 0.1 to 10 atom% of chromium, and a total content of magnesium and chromium of 15 atom% or less An aluminum alloy, 0.1-5 atomic percent chromium and 0.1-9.5 atomic percent hafnium
atomic%, with a total content of chromium and hafnium of 10
Aluminum alloy, magnesium 0.
1 to 10 at% and hafnium 0.1 to 10 at%, and the total content of magnesium and hafnium is 15 at%.
Aluminum alloy, chromium 0.1-5 at%
an aluminum alloy containing 0.1 to 9.5 at.% of zirconium and 0.1 to 10 at.% of tantalum and 0.1 to 10 at.% of hafnium, with a total content of chromium and zirconium of 10 at.% or less. Aluminum alloys containing 0.5 to 5 at% of titanium and 0.5 to 5 at% of niobium, with a total content of titanium and niobium of 1 to 5 at.% .5 atomic%
An aluminum alloy containing 0.1 to 10 atomic % of magnesium and 0.1 to 10 atomic % of titanium, the total content of magnesium and titanium being 15 atomic % or less.

【0112】ハウニウム0.1〜9.5原子%、クロム
0.1〜5原子%およびチタン0.1〜9.5原子%を
含み、ハフニウムとクロムとチタンとの合計含有量が1
0原子%以下であるアルミニウム合金。
[0112] Contains 0.1 to 9.5 atom% of hafnium, 0.1 to 5 atom% of chromium, and 0.1 to 9.5 atom% of titanium, and the total content of hafnium, chromium, and titanium is 1
Aluminum alloy with a content of 0 atomic % or less.

【0113】ハフニウム0.1〜10原子%、マグネシ
ウム0.1〜10原子%およびチタン0.1〜10原子
%を含み、ハフニウムとクロムとマグネシウムとの合計
含有量が15原子%以下であるアルミニウム合金。ハフ
ニウム0.1〜10原子%、マグネシウム0.1〜10
原子%およびクロム10原子%以下とを含み、ハフニウ
ムとマグネシウムとクロムの合計含有量が15原子%以
下であるアルミニウム合金。
[0113] Aluminum containing 0.1 to 10 atomic % of hafnium, 0.1 to 10 atomic % of magnesium, and 0.1 to 10 atomic % of titanium, and the total content of hafnium, chromium, and magnesium is 15 atomic % or less alloy. Hafnium 0.1-10 atomic%, magnesium 0.1-10
% and 10 atomic % or less of chromium, and the total content of hafnium, magnesium, and chromium is 15 atomic % or less.

【0114】ハフニウム0.1〜10原子%、マグネシ
ウム0.1〜10原子%、チタン0.1〜10原子%お
よびクロム10原子%以下とを含み、ハフニウムとマグ
ネシウムとチタンとクロムとの合計含有量が15原子%
未満であるアルミニウム合金。
[0114] Contains 0.1 to 10 at% of hafnium, 0.1 to 10 at% of magnesium, 0.1 to 10 at% of titanium, and 10 at% or less of chromium, and the total content of hafnium, magnesium, titanium, and chromium. The amount is 15 atomic%
Aluminum alloy that is less than

【0115】チタン0.1〜10原子%、マグネシウム
0.1〜10原子%およびクロム10原子%以下とを含
み、チタンとマグネシウムとクロムとの合計含有量が1
5原子%以下であるアルミニウム合金。
[0115] Contains 0.1 to 10 at% of titanium, 0.1 to 10 at% of magnesium, and 10 at% or less of chromium, and the total content of titanium, magnesium, and chromium is 1
Aluminum alloy containing 5 atomic % or less.

【0116】ニッケルを0.1〜10原子%含むアルミ
ニウム合金。ニッケルを0.1〜10原子%、クロムを
2原子%以下で含むアルミニウム合金。
[0116] Aluminum alloy containing 0.1 to 10 atomic percent of nickel. An aluminum alloy containing 0.1 to 10 at.% of nickel and 2 at.% or less of chromium.

【0117】このような金属膜6はたとえば第2保護膜
上に上記元素の複合ターゲットまたはその合金ターゲッ
トを用い、スパッタリング法等によって成膜することが
できる。
Such a metal film 6 can be formed, for example, on the second protective film by sputtering or the like using a composite target of the above elements or an alloy target thereof.

【0118】また上記のような金属膜6は、それぞれの
金属膜6を構成する金属以外に下記のような金属(元素
)を1種または2種以上含ませることもできる。このよ
うな金属としては、たとえば、チタン(Ti)、ハフニ
ウム(Hf)、ニオブ(Nb)、クロム(Cr)、シリ
コン(Si)、タンタル(Ta)、銅(Cu)、タング
ステン(W )、ジコルニウム(Zr)、マンガン(M
n)、マグネシウム(Mg)、バナジウム(V)などが
挙げられ、このような他の金属は通常5原子%以下好ま
しくは2原子%以下の量で含まれる。(ただし、金属膜
6には、上記に例示するような金属(元素)のうち、既
に金属膜6に含まれている金属(元素)をさらに上記の
量で重ねて含ませることはないものとする。たとえば、
金属膜6を構成するアルミニウム合金が、上記したAl
−Ti合金、Al−Ti−Hf合金等である場合には、
上記の金属(元素)のうちでチタン(Ti)がさらに上
記のような量で上記アルミニウム合金中に含まれること
はない。)このような金属膜6の膜厚は、100〜50
00オングストローム好ましくは500〜3000オン
グストロームさらに好ましくは700〜2000オング
ストローム程度であることが望ましい。
The metal film 6 as described above may also contain one or more of the following metals (elements) in addition to the metals constituting each metal film 6. Examples of such metals include titanium (Ti), hafnium (Hf), niobium (Nb), chromium (Cr), silicon (Si), tantalum (Ta), copper (Cu), tungsten (W), and dicornium. (Zr), manganese (M
n), magnesium (Mg), vanadium (V), etc., and such other metals are usually contained in an amount of 5 at % or less, preferably 2 at % or less. (However, among the metals (elements) exemplified above, the metal (elements) already contained in the metal film 6 are not added in the above amount. For example,
The aluminum alloy constituting the metal film 6 is the above-mentioned Al
-In the case of Ti alloy, Al-Ti-Hf alloy, etc.
Among the above metals (elements), titanium (Ti) is not further included in the above aluminum alloy in the above amount. ) The film thickness of such a metal film 6 is 100 to 50
00 angstroms, preferably about 500 to 3,000 angstroms, and more preferably about 700 to 2,000 angstroms.

【0119】本発明において、アルミニウム合金からな
る金属層は、熱良伝導体層としての機能を果しており、
この金属層が存在することによって記録層に記録された
ピットの中心部が記録レーザ光によって過度に高温にな
ることが防止され、その結果、記録パワーの線速依存性
が小さくなると考えられる。
In the present invention, the metal layer made of aluminum alloy functions as a good thermal conductor layer,
It is thought that the presence of this metal layer prevents the center of the pit recorded on the recording layer from becoming excessively hot due to the recording laser beam, and as a result, the linear velocity dependence of the recording power becomes smaller.

【0120】また本発明における金属層は、耐腐食性に
優れているため、長期間使用した後においても、記録媒
体の線速依存性が小さいという特徴を有しており、記録
層に対する保護作用にも優れている。
[0120] Furthermore, since the metal layer in the present invention has excellent corrosion resistance, it has a characteristic that the linear velocity dependence of the recording medium is small even after long-term use, and it has a protective effect on the recording layer. It is also excellent.

【0121】オーバーコート膜 本発明に係る光磁気記録媒体1では、上記のような金属
膜上に、オーバーコート膜7が設けられている。
Overcoat Film In the magneto-optical recording medium 1 according to the present invention, an overcoat film 7 is provided on the metal film as described above.

【0122】オーバーコート膜7としては、アクリル型
紫外線硬化樹脂などの紫外線硬化樹脂が用いられる。ア
クリル型紫外線硬化樹脂組成物としては、例えばアクリ
レートオリゴマーを主剤とし、これにネオペンチルグリ
コールジアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート硬化剤として、ベンゾフェノン、N,N−ジ
メチル−4− アミノアセトフェノンを添加した組成物
やアクリル酸エステルモノマー(CH2 =CHCOO
C4 H9 、CH2 =CHCOOC6 H13、C
H2 =CHCOOC10H21、CH2 =CHCO
OC16H33)の混合物に硬化剤としてベンゾフェノ
ンを加えた組成物、あるいは下記表1のA1 あるいは
A2が挙げられる。
As the overcoat film 7, an ultraviolet curing resin such as an acrylic type ultraviolet curing resin is used. An example of an acrylic type ultraviolet curable resin composition is a composition containing an acrylate oligomer as a main ingredient, to which benzophenone or N,N-dimethyl-4-aminoacetophenone is added as a curing agent of neopentyl glycol diacrylate or trimethylolpropane triacrylate. monomers and acrylic acid ester monomers (CH2=CHCOO
C4 H9, CH2 = CHCOOC6 H13, C
H2=CHCOOC10H21, CH2=CHCO
Examples include a composition obtained by adding benzophenone as a curing agent to a mixture of OC16H33), or A1 or A2 in Table 1 below.

【0123】[0123]

【表1】   上記表1中、Celrad 3700 :末端アク
リルオリゴマー、TMPTA:トリメチロールプロパン
トリアクリレート、2−HEA:2−ヒドロキシエチル
アクリレートをそれぞれ示す。
[Table 1] In Table 1 above, Celrad 3700: terminal acrylic oligomer, TMPTA: trimethylolpropane triacrylate, and 2-HEA: 2-hydroxyethyl acrylate, respectively.

【0124】このようなオーバーコート膜は、紫外線硬
化樹脂を塗布法たとえばロールコート法、スピンコート
法などによって金属膜上に塗布することによって形成す
ることができる。
Such an overcoat film can be formed by applying an ultraviolet curing resin onto a metal film by a coating method such as a roll coating method or a spin coating method.

【0125】このオーバーコート膜の膜厚は、1〜10
0μm好ましくは1〜50μmである。このようなオー
バーコート膜を金属膜上に設けることによって、長期間
使用しても読み取りエラーが生じにくく、長期信頼性に
優れた両面記録媒体が得られる。
[0125] The thickness of this overcoat film is 1 to 10
0 μm, preferably 1 to 50 μm. By providing such an overcoat film on the metal film, it is possible to obtain a double-sided recording medium that is unlikely to cause reading errors even after long-term use and has excellent long-term reliability.

【0126】上記のような第1保護膜、光磁気記録膜、
第2保護膜および金属膜は、基板上に、スパッタリング
法、電子ビーム蒸着法、真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法などの従来公知の方法によって成膜することがで
きる。
[0126] A first protective film as described above, a magneto-optical recording film,
The second protective film and the metal film can be formed on the substrate by conventionally known methods such as sputtering, electron beam evaporation, vacuum evaporation, and ion plating.

【0127】[0127]

【発明の効果】上記のような本発明に係る光磁気記録媒
体は、特定の膜構成および膜組成を有しているため、長
期信頼性および耐酸化性に優れ、長期間使用しても光磁
気記録特性が低下することがなく、しかもC/N比が高
く、かつ記録パワーマージンが広く、その上記録感度の
線速依存性が小さい。また本発明に係る光磁気記録媒体
は、特定の5層構造(すなわち基板上に特定の第1保護
膜/特定の記録膜/特定の第2保護膜/金属膜/オーバ
ーコート膜を積層した構造)をとり、第1保護膜、第2
保護膜としてSiNxを用い、さらに金属膜としてアル
ミニウム合金膜を用いているので、記録パワーマージン
が広い。さらに本発明に係る光磁気記録媒体では、アル
ミニウム合金からなる金属膜を有しているので、記録感
度の線速依存性が小さい。
[Effects of the Invention] The magneto-optical recording medium according to the present invention as described above has a specific film structure and film composition, so it has excellent long-term reliability and oxidation resistance, and retains light even after long-term use. The magnetic recording characteristics do not deteriorate, the C/N ratio is high, the recording power margin is wide, and the linear velocity dependence of recording sensitivity is small. Further, the magneto-optical recording medium according to the present invention has a specific five-layer structure (that is, a structure in which a specific first protective film/specific recording film/specific second protective film/metal film/overcoat film are laminated on a substrate). ), remove the first protective film and the second protective film.
Since SiNx is used as the protective film and an aluminum alloy film is used as the metal film, the recording power margin is wide. Furthermore, since the magneto-optical recording medium according to the present invention has a metal film made of an aluminum alloy, the dependence of recording sensitivity on linear velocity is small.

【0128】なお、本明細書において、最適記録パワー
とはf=1MHz、duty  50%の書込み信号に
対して再生信号の2次高調波が最小となる記録パワーの
ことを表わし、線速による最適記録パワーの差が小さい
程線速依存性が小さい。
[0128] In this specification, the optimum recording power refers to the recording power at which the second harmonic of the reproduced signal is minimized with respect to the write signal at f = 1 MHz and a duty of 50%. The smaller the difference in recording power, the smaller the linear velocity dependence.

【0129】以下本発明を実施例によって説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下
の実施例において、光磁気記録膜および金属膜の組成は
、原子%である。
[0129] The present invention will be explained below with reference to Examples.
The present invention is not limited to these examples. In the following examples, the compositions of the magneto-optical recording film and the metal film are in atomic percent.

【0130】[0130]

【実施例1】エチレンと1,4,5,8−ジメタノ−1
,2,3,4,4a,5,8,8a− オクタヒドロナ
フタレン(以下DMONと略記する)とを共重合させて
得られる非晶性の環状オレフィンランダム共重合体[1
3C−NMR分析で測定したエチレン含量59モル%、
DMON含量41モル%、135℃デカリン中で測定し
た極限粘度[η]が0.42dl/g、軟化温度(TM
A)154℃]からなる非晶質ポリオレフィン製基板(
厚さ1.2mm)上に、Si3 N4 ターゲットを用
いて、スパッタリング法により第1保護膜としてのSi
3 N4 膜を1100オングストロームの膜厚で被着
させた。
[Example 1] Ethylene and 1,4,5,8-dimethano-1
,2,3,4,4a,5,8,8a-Amorphous cyclic olefin random copolymer obtained by copolymerizing with octahydronaphthalene (hereinafter abbreviated as DMON)
Ethylene content 59 mol% measured by 3C-NMR analysis,
The DMON content was 41 mol%, the intrinsic viscosity [η] measured in decalin at 135°C was 0.42 dl/g, and the softening temperature (TM
A) Amorphous polyolefin substrate (154°C)
1.2 mm thick) as a first protective film by sputtering using a Si3 N4 target.
A 3N4 film was deposited at a thickness of 1100 angstroms.

【0131】このSi3 N4 膜上に、FeとCoと
からなるターゲットにPtおよびTbチップを載置して
なる複合ターゲットを用いて、スパッタリング法により
原子%でPt10Tb30Fe58Co2 の組成を有
する記録膜を300オングストロームの膜厚で被着させ
た。
[0131] On this Si3 N4 film, a recording film having a composition of Pt10Tb30Fe58Co2 in at. It was deposited with a film thickness of .

【0132】さらにこのPt10Tb30Fe58Co
2 膜上に、Si3 N4 ターゲットを用いて、スパ
ッタリング法により第2保護膜としてのSi3 N4 
膜を220オングストロームの膜厚で被着させた。
[0132] Furthermore, this Pt10Tb30Fe58Co
2. Sputtering Si3N4 as a second protective film onto the film by sputtering using a Si3N4 target.
The film was deposited at a film thickness of 220 angstroms.

【0133】次にこのSi3 N4 膜上に、Al−T
i−Hf複合ターゲットを用いて、スパッタリング法に
より原子%でAl96Ti2 Hf2 の組成を有する
アルミニウム合金膜を1500オングストロームの膜厚
で被着させた。
[0133] Next, on this Si3N4 film, Al-T
Using an i-Hf composite target, an aluminum alloy film having a composition of Al96Ti2Hf2 in atomic % was deposited to a thickness of 1500 angstroms by sputtering.

【0134】次に金属膜上に、アクリル系紫外線硬化樹
脂用組成物(商品名SD101、大日本インキ化学工業
(株)製)をスピンコーターで塗布し、UVを照射し、
厚さ10μmのオーバーコート膜を形成して、光磁気記
録媒体を製造した。
[0134] Next, an acrylic ultraviolet curable resin composition (trade name SD101, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) was applied onto the metal film using a spin coater, and UV was irradiated.
A magneto-optical recording medium was manufactured by forming an overcoat film with a thickness of 10 μm.

【0135】このようにして得られた光磁気記録媒体の
特性を、下記のようにして測定した。  最適記録パワ
ー:記録周波数1MHz、デューティー比(Duty比
)50%で記録し、再生レーザーパワー1mWで線速5
.7m/秒(second)、11.3m/秒(sec
ond)について評価した。
The characteristics of the magneto-optical recording medium thus obtained were measured as follows. Optimum recording power: Recording at a recording frequency of 1 MHz and a duty ratio of 50%, with a reproduction laser power of 1 mW and a linear velocity of 5.
.. 7m/second (second), 11.3m/second (second)
ond) was evaluated.

【0136】パワーマージン:下記の条件で測定したC
/Nの最高値(C/Nmax)から3dB低下するまで
の記録パワーの範囲をパワーマージンとした。すなわち
本発明において、パワーマージンとはCNmax −3
dB以上が得られる記録パワーの範囲のことである。
Power margin: C measured under the following conditions
The range of recording power from the maximum value of /N (C/Nmax) to a decrease of 3 dB was defined as the power margin. That is, in the present invention, the power margin is CNmax -3
This is the range of recording power that can obtain dB or more.

【0137】C/N(dB):記録周波数3.7MHz
、Duty比33.3%、再生レーザーパワーは1.0
mWとした。基板とエンハンス層との密着性を、以下の
ようにして評価した。
[0137] C/N (dB): Recording frequency 3.7MHz
, Duty ratio 33.3%, reproduction laser power 1.0
It was set as mW. The adhesion between the substrate and the enhancement layer was evaluated as follows.

【0138】密着性試験[碁盤目試験(JIS K 5
400)]:試料の記録膜、エンハンス膜上に、直交す
る縦横11本ずつの平行線をカッターナイフを用いて1
mmの間隔でひく。1cm2 の中に100個の升目が
できるように碁盤目状の切傷を付ける。
[0138] Adhesion test [Checkerboard test (JIS K 5
400)]: Cut 11 orthogonal parallel lines on the recording film and enhancement film of the sample using a cutter knife.
Grind at intervals of mm. Make a grid-like cut so that there are 100 squares in 1 cm2.

【0139】セロハンテープ(ニチバン製)を用いて剥
離評価する。また得られた光磁気記録媒体を、80℃で
相対湿度85%の雰囲気下に1000時間放置した後に
、再度C/N比を測定した。
Peeling was evaluated using cellophane tape (manufactured by Nichiban). Further, the obtained magneto-optical recording medium was left in an atmosphere of 80° C. and relative humidity of 85% for 1000 hours, and then the C/N ratio was measured again.

【0140】結果を表2に示す。また得られた光磁気記
録媒体のバイトエラーレート(BER)は、該記録媒体
を65℃から−40℃に24時間で変化させるヒートサ
イクルに20回付した後に測定した。バイトエラーレー
トは初期には1×10−5であり、20回のヒートサイ
クル後には、1×10−5であった。
[0140] The results are shown in Table 2. Further, the bite error rate (BER) of the obtained magneto-optical recording medium was measured after the recording medium was subjected to a heat cycle 20 times in which the temperature was changed from 65°C to -40°C in 24 hours. The bite error rate was 1 x 10-5 initially and 1 x 10-5 after 20 heat cycles.

【0141】[0141]

【実施例2】実施例1で用いたものと同様の基板上に、
Si3 N4 ターゲットを用いて、スパッタリング法
により第1保護膜としてのSi3 N4 膜を1100
オングストロームの膜厚で被着させた。
[Example 2] On the same substrate as used in Example 1,
Using a Si3 N4 target, a Si3 N4 film as a first protective film is formed by sputtering to a thickness of 1100 nm.
It was deposited with a film thickness of angstroms.

【0142】このSi3 N4 膜上に、FeとCoと
からなるターゲットにPtおよびTbチップを載置して
なる複合ターゲットを用いて、スパッタリング法により
原子%でPt5 Tb26Fe66Co3 の組成を有
する記録膜を300オングストロームの膜厚で被着させ
た。
[0142] On this Si3 N4 film, a recording film having a composition of Pt5 Tb26Fe66Co3 in atomic % of 300 atomic % was formed by sputtering using a composite target consisting of Fe and Co targets with Pt and Tb chips placed on them. It was deposited with a film thickness of angstroms.

【0143】さらにこのPt5 Tb26Fe66Co
3 膜上に、Si3 N4 ターゲットを用いて、スパ
ッタリング法により第2保護膜としてのSi3 N4 
膜を220オングストロームの膜厚で被着させた。
[0143] Furthermore, this Pt5 Tb26Fe66Co
3. Sputtering Si3N4 as a second protective film onto the film by sputtering using a Si3N4 target.
The film was deposited at a film thickness of 220 angstroms.

【0144】次にこのSi3 N4 膜上に、Al−T
i−Hf複合ターゲットを用いて、スパッタリング法に
より原子%でAl96Ti2 Hf2 の組成を有する
アルミニウム合金膜を1000オングストロームの膜厚
で被着させた。
[0144] Next, on this Si3N4 film, Al-T
Using an i-Hf composite target, an aluminum alloy film having a composition of Al96Ti2Hf2 in atomic % was deposited to a thickness of 1000 angstroms by sputtering.

【0145】次に金属膜上に、アクリル系紫外線硬化樹
脂用組成物(商品名SD101、大日本インキ化学工業
(株)製)をスピンコーターで塗布し、UVを照射し、
厚さ10μmのオーバーコート膜を形成して、光磁気記
録媒体を製造した。
[0145] Next, an acrylic ultraviolet curable resin composition (trade name SD101, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) was applied onto the metal film using a spin coater, and UV irradiation was performed.
A magneto-optical recording medium was manufactured by forming an overcoat film with a thickness of 10 μm.

【0146】このようにして得られた光磁気記録媒体の
特性を、実施例1と同様にして測定した。結果を表2に
示す。
The characteristics of the magneto-optical recording medium thus obtained were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

【0147】また得られた光磁気記録媒体のバイトエラ
ーレート(BER)は、初期には1×10−5であり、
20回のヒートサイクル後には、1×10−5であった
[0147] The byte error rate (BER) of the obtained magneto-optical recording medium was initially 1 x 10-5,
After 20 heat cycles it was 1 x 10-5.

【0148】[0148]

【実施例3】実施例1で用いたものと同様の基板上に、
Si3 N4 ターゲットを用いて、スパッタリング法
により第1保護膜としてのSi3 N4 膜を1100
オングストロームの膜厚で被着させた。
[Example 3] On the same substrate as used in Example 1,
Using a Si3 N4 target, a Si3 N4 film as a first protective film is formed by sputtering to a thickness of 1100 nm.
It was deposited with a film thickness of angstroms.

【0149】このSi3 N4 膜上に、FeとCoと
からなるターゲットにTbチップを載置してなる複合タ
ーゲットを用いて、スパッタリング法により原子%でT
b25Fe69Co6 の組成を有する記録膜を300
オングストロームの膜厚で被着させた。
[0149] On this Si3 N4 film, using a composite target consisting of a target made of Fe and Co and a Tb chip placed on it, T was added in atomic % by a sputtering method.
A recording film having a composition of b25Fe69Co6 was
It was deposited with a film thickness of angstroms.

【0150】さらにこのTb25Fe69Co6 膜上
に、Si3 N4 ターゲットを用いて、スパッタリン
グ法により第2保護膜としてのSi3 N4 膜を22
0オングストロームの膜厚で被着させた。
Further, on this Tb25Fe69Co6 film, a Si3 N4 film as a second protective film was formed by sputtering using a Si3 N4 target.
A film thickness of 0 angstroms was deposited.

【0151】次にこのSi3 N4 膜上に、Al−T
i−Hf複合ターゲットを用いて、スパッタリング法に
より原子%でAl96Ti2 Hf2 の組成を有する
アルミニウム合金膜を600オングストロームの膜厚で
被着させた。
[0151] Next, on this Si3N4 film, Al-T
Using an i-Hf composite target, an aluminum alloy film having a composition of Al96Ti2Hf2 in atomic % was deposited to a thickness of 600 angstroms by sputtering.

【0152】次に金属膜上に、アクリル系紫外線硬化樹
脂用組成物(商品名SD101、大日本インキ化学工業
(株)製)をスピンコーターで塗布し、UVを照射し、
厚さ10μmのオーバーコート膜を形成して、光磁気記
録媒体を製造した。
[0152] Next, an acrylic ultraviolet curing resin composition (trade name SD101, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) was applied onto the metal film using a spin coater, and UV irradiation was performed.
A magneto-optical recording medium was manufactured by forming an overcoat film with a thickness of 10 μm.

【0153】このようにして得られた光磁気記録媒体の
特性を、実施例1と同様にして測定した。結果を表2に
示す。
The characteristics of the magneto-optical recording medium thus obtained were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

【0154】また得られた光磁気記録媒体のバイトエラ
ーレート(BER)は、初期には1×10−5であり、
20回のヒートサイクル後には、1×10−5であった
[0154] The byte error rate (BER) of the obtained magneto-optical recording medium was initially 1 x 10-5;
After 20 heat cycles it was 1 x 10-5.

【0155】[0155]

【表2】[Table 2]

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】  本発明に係る光磁気記録媒体の概略断面図
である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a magneto-optical recording medium according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…光磁気記録媒体 2…基板 3…第1保護膜 4…光磁気記録膜 5…第2保護膜 6…金属膜 7…オーバーコート膜 1...Magneto-optical recording medium 2...Substrate 3...First protective film 4...Magneto-optical recording film 5...Second protective film 6...Metal film 7...Overcoat film

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  基板上に、第1保護膜、光磁気記録膜
、第2保護膜、金属膜およびオーバーコート膜がこの順
序で積層されてなる光磁気記録媒体であって、第1保護
膜および第2保護膜が、SiNxからなり、光磁気記録
膜が、(i)3d遷移金属から選ばれる少なくとも1種
と、(ii)耐腐食性金属と、(iii )希土類から
選ばれる少なくとも1種の元素とからなり、前記耐腐食
性金属の含有量が5〜30原子%である、膜面に垂直な
磁化容易軸を有する非晶質合金薄膜からなり、金属膜が
、アルミニウム合金からなることを特徴とする光磁気記
録媒体。
1. A magneto-optical recording medium in which a first protective film, a magneto-optical recording film, a second protective film, a metal film and an overcoat film are laminated in this order on a substrate, wherein the first protective film and the second protective film is made of SiNx, and the magneto-optical recording film is made of (i) at least one kind selected from 3D transition metals, (ii) at least one kind chosen from corrosion-resistant metals, and (iii) rare earth metals. an amorphous alloy thin film having an axis of easy magnetization perpendicular to the film surface, the content of the corrosion-resistant metal being 5 to 30 atomic %, and the metal film being made of an aluminum alloy. A magneto-optical recording medium characterized by:
JP9925991A 1991-04-30 1991-04-30 Magneto-optical recording medium Pending JPH04328345A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9925991A JPH04328345A (en) 1991-04-30 1991-04-30 Magneto-optical recording medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9925991A JPH04328345A (en) 1991-04-30 1991-04-30 Magneto-optical recording medium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04328345A true JPH04328345A (en) 1992-11-17

Family

ID=14242718

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9925991A Pending JPH04328345A (en) 1991-04-30 1991-04-30 Magneto-optical recording medium

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04328345A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR920005480B1 (en) Magneto-optical recording medium
KR920007320B1 (en) Magneto-optical recording media
JPH04328345A (en) Magneto-optical recording medium
JPH05274726A (en) Magneto-optical recording medium and its production
EP0406823B1 (en) Magnetooptical recording media
KR930007160B1 (en) Optical recording material
JPH05101460A (en) Magneto-optical recording medium
JP2682710B2 (en) Magneto-optical recording medium
JPH05101463A (en) Magneto-optical recording medium
JPH0490154A (en) Magneto-optical recording medium
JP2682709B2 (en) Magneto-optical recording medium
JPH05238148A (en) Photomagnetic recording medium and its manufacture
JP2915964B2 (en) Information recording medium
JPH04170737A (en) Magnetooptic recording medium
JPH04117644A (en) Magneto-optical recording medium
JPH05242539A (en) Magneto-optical recording medium and production thereof
JPH04134652A (en) Magneto-optical recording medium
JPH05101462A (en) Magneto-optical recording medium
KR930008456B1 (en) Optical magnetic recording materials
JPH0490155A (en) Magneto-optical recording medium
JPH0432054A (en) Magneto-optical recording medium
JP2663167B2 (en) Optical recording medium
JPH0440650A (en) Magneto-optical recording medium
EP0454079A2 (en) Magnetooptical recording media
JPH046644A (en) Magneto-optical recording medium