JPH0432213A - Ceramic capacitor - Google Patents

Ceramic capacitor

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JPH0432213A
JPH0432213A JP2136993A JP13699390A JPH0432213A JP H0432213 A JPH0432213 A JP H0432213A JP 2136993 A JP2136993 A JP 2136993A JP 13699390 A JP13699390 A JP 13699390A JP H0432213 A JPH0432213 A JP H0432213A
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JP
Japan
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dielectric
ceramic capacitor
barrier layer
electrode
ceramic
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Application number
JP2136993A
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Japanese (ja)
Inventor
Mitsuo Harada
光雄 原田
Yohachi Yamashita
洋八 山下
Osamu Furukawa
修 古川
Hideyuki Kanai
金井 秀之
Hisami Okuwada
久美 奥和田
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Publication of JPH0432213A publication Critical patent/JPH0432213A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain a highly reliable ceramic capacitor which has excellent electric characteristics including a capacity and is hardly susceptible to defects by locating a conductive barrier layer between a ceramic dielectric and an electrode for preventing the diffusion of the material of the dielectric into the material of the conductor. CONSTITUTION:This laminated ceramic capacitor is made by laminating a ceramic dielectric 1, a barrier layer 2 and an electric 3 in order some times and then forming a pair of external electrodes 4 as terminals on both ends of the laminated body. For the material of the barrier layer, it is desired that the material has a low reactivity with low melting-point metal such as Pb or Bi and is hardly oxidized even if it is burned in the air or under the hypoxia partial pressure. More specifically, high melting- point metal such as Pd or Au or a conductive inorganic compound such as SnO2 or ITO is desirable for the material of the barrier layer. Because of such a structure of the capacitor, the material of the dielectric is prevented from being diffused into the electrode at the time of burning or heat treatment. The diffusion of the material of the dielectric into the electrode causes the deterioration of characteristics of the ceramic capacitor. The deterioration of characteristics of the ceramic capacitor is prevented by keeping the diffusion of the material of the dielectric from occurring.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、ペロブスカイト型組成物を誘電体材料として
用いたセラミックコンデンサに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a ceramic capacitor using a perovskite composition as a dielectric material.

(従来の技術) 誘電体材料は、大きな誘電率が要求されることは当然で
あるが、さらに誘電率温度係数、誘電損失、絶縁抵抗等
の電気的特性をも満足することが要求される。このよう
な電気的特性を満足する誘電体材料としては、ペロブス
カイト型組成物が早くから報告されており、ペロブスカ
イト型組成物を誘電体材料として用いたセラミックコン
デンサは広く知られている。
(Prior Art) Dielectric materials are naturally required to have a large dielectric constant, but are also required to satisfy electrical properties such as temperature coefficient of dielectric constant, dielectric loss, and insulation resistance. As a dielectric material satisfying such electrical characteristics, perovskite compositions have been reported for a long time, and ceramic capacitors using perovskite compositions as dielectric materials are widely known.

一方、このように誘電体材料をセラミックコンデンサに
適用する場合は、上述したような電気的特性が要求され
ることに加えて、セラミックス材料としての優れた特性
を有することが望まれる。
On the other hand, when a dielectric material is applied to a ceramic capacitor in this way, in addition to the above-mentioned electrical properties being required, it is also desired that the dielectric material has excellent properties as a ceramic material.

セラミック材料として要求される特性としては、具体的
には焼成温度が比較的低温であることが挙げられる。す
なわち、積層タイプのセラミックコンデンサを考えた場
合、電極と誘電体とは一体的に焼成されるため、電極に
用いられる導電体材料としては誘電体材料の焼成温度で
も安定であることが求められる。従って、誘電体材料の
焼成温度が高いと導電体材料としてPt、Pd等の高価
な材料を用いなければならず、Ag等の安価な材料が使
用できる程度に、低温での焼成が可能であることが要求
されるのである。
Specifically, the characteristics required for a ceramic material include a relatively low firing temperature. That is, when considering a multilayer ceramic capacitor, since the electrodes and the dielectric are fired integrally, the conductive material used for the electrodes is required to be stable even at the firing temperature of the dielectric material. Therefore, if the firing temperature of the dielectric material is high, expensive materials such as Pt and Pd must be used as the conductor material, but it is possible to fire at a low temperature to the extent that inexpensive materials such as Ag can be used. That is what is required.

上述したような理由から、近年、比較的低温での焼成が
可能なPb、Bi等の低融点金属を含むペロブスカイト
型組成物及びAg−Pd合金をそれぞれ誘電体材料、導
電体材料として用いたセラミックコンデンサが主流とな
りつつある。しかしながらこのようなセラミックコンデ
ンサにおいては、焼成時に誘電体材料が電極中に拡散し
て電極の電気抵抗を高め、電気的特性が損なわれるおそ
れがあった。また、特に誘電体材料中に含まれるPbO
,B15on等の低融点成分が、焼成時に一部揮発して
電極中の導電体材料と反応し、セラミックコンデンサの
容量が低減され、信頼性が低下してしまうという問題が
あった。
For the reasons mentioned above, in recent years, ceramics using perovskite-type compositions containing low-melting point metals such as Pb and Bi, which can be fired at relatively low temperatures, and Ag-Pd alloys as dielectric materials and conductive materials, respectively, have been developed. Capacitors are becoming mainstream. However, in such ceramic capacitors, there is a risk that the dielectric material will diffuse into the electrodes during firing, increasing the electrical resistance of the electrodes and impairing the electrical characteristics. In addition, especially PbO contained in dielectric materials
, B15on, etc., partially volatilizes during firing and reacts with the conductive material in the electrode, resulting in a problem in that the capacitance of the ceramic capacitor is reduced and the reliability is lowered.

(発明が解決しようとする課題) 近年の電子機器の小形化、高速化に伴ない、セラミック
コンデンサに対する高密度化の要求が高まっている。こ
のような要求に応えるために、現在、セラミックコンデ
ンサのセラミック誘電体や電極を薄膜化する試みが活発
に行なわれている。
(Problems to be Solved by the Invention) As electronic devices have become smaller and faster in recent years, there has been an increasing demand for higher density ceramic capacitors. In order to meet such demands, attempts are currently being made to reduce the thickness of ceramic dielectrics and electrodes of ceramic capacitors.

しかしながら、このようにセラミック誘電体や電極が薄
膜化された場合、上述したような誘電体材料の電極中へ
の拡散が一層深刻となり、時には電極が切断して容量不
足不良が発生するおそれすらある。さらには電極中の導
電体材料が逆にセラミック誘電体中に拡散して、セラミ
ックコンデンサの対向電極が短絡する可能性も出てくる
However, when ceramic dielectrics and electrodes are thinned in this way, the diffusion of the dielectric material into the electrodes as described above becomes even more serious, and there is even a risk that the electrodes may break and cause insufficient capacity defects. . Furthermore, there is also the possibility that the conductive material in the electrodes will diffuse into the ceramic dielectric, causing a short circuit between the opposing electrodes of the ceramic capacitor.

本発明はこのような問題点を解決して、容量を始めとす
る電気的特性に優れ、不良が発生するおそれが少なく極
めて信頼性の高いセラミックコンデンサを提供すること
を目的としている。
It is an object of the present invention to solve these problems and provide a highly reliable ceramic capacitor that has excellent electrical characteristics including capacitance, is less likely to cause defects, and is highly reliable.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は、ペロブスカイト型組成物を誘電体材料として
用いたセラミック誘電体と、前記セラミック誘電体を介
して対向形成されAg、Ag−Pd、Cu及びNiの少
なくとも1種を導電体材料として用いた電極とを具備し
てなるセラミックコンデンサにおいて、前記セラミック
誘電体と電極との間に導電性のバリア層を有するセラミ
ックコンデンサである。すなわち本発明のセラミックコ
ンデンサは、セラミック誘電体と電極との間に、誘電体
材料と導電体材料との拡散を防止するためのバリア層が
設けられていることを特徴としている。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The present invention provides a ceramic dielectric material using a perovskite type composition as a dielectric material, and a ceramic dielectric material having Ag, Ag-Pd, The present invention is a ceramic capacitor comprising an electrode using at least one of Cu and Ni as a conductive material, the ceramic capacitor having a conductive barrier layer between the ceramic dielectric and the electrode. That is, the ceramic capacitor of the present invention is characterized in that a barrier layer is provided between the ceramic dielectric and the electrode to prevent diffusion of the dielectric material and the conductive material.

本発明のセラミックコンデンサにおいて、上述したよう
なバリア層は導電性を示すことが必要となる。何となれ
ば、係るバリア層が絶縁性であれば得られるセラミック
コンデンサの容量が大幅に低下してしまうからである。
In the ceramic capacitor of the present invention, the barrier layer as described above is required to exhibit electrical conductivity. This is because if such a barrier layer is insulating, the capacitance of the resulting ceramic capacitor will be significantly reduced.

さらに前記バリア層に用いられる材料としては、Pb、
Bi等の低融点金属との反応性が低く、大気中あるいは
低酸素分圧下で焼成を行なった場合でも酸化されにくい
ことが望まれる。このような材料としては、具体的には
、Pd、Au、Pt、Rh等の高融点金属やSnO*、
ITO,MnO,Cub、Ru5t。
Furthermore, the materials used for the barrier layer include Pb,
It is desired that it has low reactivity with low melting point metals such as Bi, and that it is not easily oxidized even when fired in the air or under low oxygen partial pressure. Specifically, such materials include high melting point metals such as Pd, Au, Pt, Rh, SnO*,
ITO, MnO, Cub, Ru5t.

LaCo0.、T iN、グラ7フイト、カーボン等の
導電性無機化合物等が挙げられる。このうち特に前記高
融点金属は電気抵抗が低く、得られるセラミックコンデ
ンサのESR(等価直列抵抗)が増大することがなく、
より好適である。また、本発明では前記バリア層の材料
としてペロブスカイト型の酸化物超電導体を用いること
も可能である。
LaCo0. , TiN, graphite, carbon, and other conductive inorganic compounds. Among these, the high melting point metal has a particularly low electrical resistance, and the ESR (equivalent series resistance) of the resulting ceramic capacitor does not increase.
More suitable. Further, in the present invention, it is also possible to use a perovskite-type oxide superconductor as the material for the barrier layer.

一方、本発明で用いられる誘電体材料としては、Pb 
(Mg+/s Nbxis ) Os 、  P b 
(Zn+/sNb*zs)ol、PbTiOs、PbZ
rOs。
On the other hand, the dielectric material used in the present invention is Pb
(Mg+/s Nbxis) Os, P b
(Zn+/sNb*zs)ol, PbTiOs, PbZ
rOs.

Pb (Fe172 Nb)72 ) O3、Pb (
FexzsWsys ) Os 、  P b (Mg
+zt Wxyx ) Os 。
Pb (Fe172 Nb)72 ) O3, Pb (
FexzsWsys) Os, Pb (Mg
+zt Wxyx ) Os.

P b (N f x/s Nb5ys ) Os等を
基本成分とする鉛含有ペロブスカイト型組成物や、 BaTtO,,5rTiOs、CaTi0.。
Lead-containing perovskite type compositions having Pb(Nfx/sNb5ys)Os as a basic component, BaTtO, 5rTiOs, CaTi0. .

MgT i O,の置換体等のペロブスカイト型組成物
を挙げることができる。
Examples include perovskite type compositions such as substituted products of MgT i O.

さらに、本発明のセラミックコンデンサにおいては、最
上層及び最下層にZrO,及びMgOの少なくとも1種
を主成分とする保護層を設けることもできる。このとき
には、保護層の焼成温度を下げペロブスカイト型組成物
との同時焼成を可能とするために、ZrO□及びMgO
の少なくとも1種に対して2〜5重量%のガラス成分、
より好ましくはB 10 @   S l 01   
A L x OsB a O−M g O系のガラス成
分が添加されることが望まれる。保護層の材料として上
記したZ r O*及びMgOを選択したのは、これら
の酸化物は特にpb、siとの反応性が低い成分だから
である。
Furthermore, in the ceramic capacitor of the present invention, a protective layer containing at least one of ZrO and MgO as a main component can be provided on the uppermost layer and the lowermost layer. At this time, in order to lower the firing temperature of the protective layer and enable simultaneous firing with the perovskite composition, ZrO□ and MgO
2 to 5% by weight of a glass component with respect to at least one of
More preferably B 10 @ S l 01
It is desired that an A L x OsB a O-M g O type glass component be added. The reason why the above-mentioned Z r O* and MgO were selected as the materials for the protective layer is that these oxides are components that have low reactivity with pb and si.

さらに本発明は、上述したようなセラミック誘電体が多
層に形成された積層セラミックコンデンサに好適に応用
することができる。このような積層セラミックコンデン
サの縦断面図を第1図に示す。すなわちこのような積層
セラミックコンデンサにおいては、セラミック誘電体(
1)、バリア層(2)及び電極(3)が順次積層された
後、両端部に端子となる一対の外部電極(4)が形成さ
れる。また第1図に示した積層セラミックコンデンサで
は、最上層及び最下層に本発明に係る保護層(5)が設
けられている。なおこのような積層セラミックコンデン
サでは、外部電極はセラミック誘電体が焼成された後に
、900℃以下程度で且つ短時間の焼き付けにより形成
されるので、係る外部電極とセラミックコンデンサの間
にバリア層を設ける必要はない。
Further, the present invention can be suitably applied to a multilayer ceramic capacitor in which ceramic dielectrics as described above are formed in multiple layers. A vertical cross-sectional view of such a multilayer ceramic capacitor is shown in FIG. In other words, in such a multilayer ceramic capacitor, a ceramic dielectric (
1), a barrier layer (2) and an electrode (3) are sequentially laminated, and then a pair of external electrodes (4) serving as terminals are formed at both ends. Furthermore, in the multilayer ceramic capacitor shown in FIG. 1, the protective layer (5) according to the present invention is provided on the uppermost layer and the lowermost layer. In addition, in such a multilayer ceramic capacitor, the external electrode is formed by baking at a temperature of about 900°C or less for a short time after the ceramic dielectric is fired, so it is necessary to provide a barrier layer between the external electrode and the ceramic capacitor. There's no need.

(作用) 本発明のセラミックコンデンサにおいては、以上のよう
に構成することにより、焼成あるいは熱処理の際の誘電
体材料の電極中への拡散が抑制される。上述したように
、誘電体材料の電極中への拡散はセラミックコンデンサ
の諸特性の低下を誘発するので、本発明では誘電体材料
の拡散を抑制することにより、このような諸特性の低下
が防止される。なおバリア層の材料として特に前述した
ような導電性無機化合物を用いた場合には、焼成あるい
は熱処理時の条件によっては、係る導電性無機化合物と
電極中の導電体材料との拡散が起こることがあるが、こ
のような拡散は本発明のセラミックコンデンサにおいて
は特に問題とはならない。また本発明のセラミックコン
デンサにおいて最上層及び最下層に上述したような保護
層を設ければ、セラミックコンデンサの機械的強度が向
上するの、は勿論のこと、特に誘電体材料としてPb、
Bi等を含むペロブスカイト型組成物を用いた場合は、
焼成あるいは熱処理の際の低融点成分の蒸発が抑制され
る。従って低融点成分の蒸発に起因する焼成不足のため
、セラミックコンデンサの電気的特性が不充分となるお
それを低減することができる。さらにこのような理由で
、従来のセラミックコンデンサの製造工程で行なわれて
いた、焼成(熱処理)時における低融点成分の蒸気圧の
綿密な制御が不必要となる。なお、このよう′な保護層
を形成することによる作用効果は、本発明に係るバリア
層の有無に関わらず得られるものであることは言うまで
もない。
(Function) In the ceramic capacitor of the present invention, by having the structure as described above, diffusion of the dielectric material into the electrode during firing or heat treatment is suppressed. As mentioned above, diffusion of the dielectric material into the electrodes causes deterioration of various characteristics of the ceramic capacitor, so the present invention prevents such deterioration of various characteristics by suppressing the diffusion of the dielectric material. be done. In particular, when a conductive inorganic compound as described above is used as a material for the barrier layer, diffusion of the conductive inorganic compound and the conductive material in the electrode may occur depending on the conditions during firing or heat treatment. However, such diffusion does not pose a particular problem in the ceramic capacitor of the present invention. Furthermore, in the ceramic capacitor of the present invention, if the above-mentioned protective layers are provided on the uppermost layer and the lowermost layer, the mechanical strength of the ceramic capacitor will of course be improved.
When using a perovskite composition containing Bi etc.,
Evaporation of low melting point components during firing or heat treatment is suppressed. Therefore, it is possible to reduce the possibility that the electrical characteristics of the ceramic capacitor will be insufficient due to insufficient firing due to evaporation of low melting point components. Furthermore, for this reason, careful control of the vapor pressure of the low melting point component during firing (heat treatment), which was performed in the conventional manufacturing process of ceramic capacitors, is no longer necessary. It goes without saying that the effects of forming such a protective layer can be obtained regardless of the presence or absence of the barrier layer according to the present invention.

(実施例) 以下に、本発明の実施例を示す。(Example) Examples of the present invention are shown below.

実施例1 まず、出発材料として鉛イソプロポキシド、金属マグネ
シウム、ニオブイソプロポキシド、チタンイソプロポキ
シドを1+0.31:0.62:0.07のモル比で混
合し、混合物を溶剤のエチルセロソルブに加えた後、窒
素気流中で加熱撹拌して均一に溶解した。この溶液に蒸
留水を含んだエチルアルコールを加えて加水分解を行な
い、各金属の水酸化物を沈殿せしめた。次いで、得られ
た沈殿物を濾別し蒸留水で2回洗浄した後、樹脂コーテ
ィングボールと樹脂ポットを用いてボールミル混合を行
なった。得られた粉末を乾燥した後8oO℃、2時間の
仮焼を行ない、さらに仮焼粉体を再粉砕して一般式0.
93Pb  (MgtzsNb*/s )On  0.
07PbTi03で表される誘電体の粉末を得た。得ら
れた誘電体の粉末は平均粒径が0.3μmで凝集が少な
く、さらに単板焼成実験を行なったところ焼成温度10
00℃で緻密に焼成され、比誘電率は16000であっ
た。
Example 1 First, lead isopropoxide, metallic magnesium, niobium isopropoxide, and titanium isopropoxide were mixed as starting materials in a molar ratio of 1+0.31:0.62:0.07, and the mixture was mixed with ethyl cellosolve as a solvent. After adding it to the solution, it was heated and stirred in a nitrogen stream to uniformly dissolve it. Ethyl alcohol containing distilled water was added to this solution to perform hydrolysis, and the hydroxides of each metal were precipitated. Next, the obtained precipitate was filtered and washed twice with distilled water, followed by ball mill mixing using a resin-coated ball and a resin pot. After drying the obtained powder, it was calcined at 800°C for 2 hours, and the calcined powder was re-pulverized to give the general formula 0.
93Pb (MgtzsNb*/s)On 0.
A dielectric powder represented by 07PbTi03 was obtained. The obtained dielectric powder had an average particle size of 0.3 μm and little agglomeration, and when a veneer firing experiment was conducted, the firing temperature was 10.
It was densely fired at 00°C and had a relative dielectric constant of 16,000.

次にポリビニルブチラール6重量%、フタル酸ブチル2
重量%、エチルアルコール25重量%、トルエン36重
量%からなる溶液中に、前記誘電体の粉末31重量%を
加えて撹拌した後、混合物をポリエチレン製のビンに入
れてジルコニアビーズと共に24時間ボールミルを行な
い、均一分散した誘電体スラリーを得た。続いてリバー
スロールコータ装置を用いて、剥離性向上のためにシリ
コーンによる表面処理をあらかじめ行なったベースフィ
ルム(ポリエチレンテレフタレートフィルム)上に前記
誘電体スラリーを塗布した後、乾燥して厚さがi2μm
の誘電体グリーンシートを作成した。
Next, 6% by weight of polyvinyl butyral, 2% by weight of butyl phthalate.
After adding 31% by weight of the dielectric powder to a solution consisting of 25% by weight of ethyl alcohol and 36% by weight of toluene and stirring, the mixture was placed in a polyethylene bottle and subjected to a ball mill with zirconia beads for 24 hours. A uniformly dispersed dielectric slurry was obtained. Next, using a reverse roll coater device, the dielectric slurry was applied onto a base film (polyethylene terephthalate film) whose surface had been previously treated with silicone to improve releasability, and then dried to a thickness of i2 μm.
A dielectric green sheet was created.

一方上述したような工程とは別に、剥離性向上のために
窒化ホウ素による表面処理をあらかじめ行なったガラス
板を基板として、係る基板上の全面に膜厚0.5μmの
バリア層、膜厚0.8μmの電極、膜厚0.5μmのバ
リア層をイオンブレーティング法により順次積層した後
、エツチングを行なってQ、5mm間隔で7.5mmx
2.5mmの大きさに加工した。上記バリア層としては
、第1表に示したようにそれぞれSnO*(Sb含有)
、MnO,Cub、TiN、カーボンからなる5種類の
異なるバリア層を形成したが、これらは各々蒸発源とし
てSn (8wt%sb含有)。
On the other hand, apart from the above-mentioned process, a glass plate whose surface has been previously treated with boron nitride to improve releasability is used as a substrate, and a barrier layer with a thickness of 0.5 μm is coated on the entire surface of the substrate. After sequentially laminating an 8 μm electrode and a 0.5 μm thick barrier layer using the ion blating method, etching was performed to form a 7.5 mm x 7.5 mm electrode with a 5 mm interval.
It was processed to a size of 2.5 mm. As shown in Table 1, the barrier layer is SnO* (containing Sb).
, MnO, Cub, TiN, and carbon were formed, each using Sn (containing 8 wt% sb) as an evaporation source.

Mn、Cu、Ti、カーボンを用いて、反応性イオンブ
レーティング法により成膜を行なった。また電極の導電
体材料としては、すべて70層g−30Pdを用いた。
A film was formed using Mn, Cu, Ti, and carbon by a reactive ion blasting method. In addition, 70 layer g-30Pd was used as the conductive material for the electrodes in all cases.

゛次いで、ガラス基板上に形成されたバリア層及び電極
を、前記したような方法により別途作成された誘電体グ
リーンシート上に転写した。第2図は、このような転写
の工程を模式的に示す縦断面図である。すなわち第2図
に示したように、ベースフィルム(6)上に形成された
誘電体グリーンシート(7)と、ガラス基板(8)上に
形成されたバリア層(2)及び電極(3)とを当接せし
めた後、ヒータ(9)を内蔵した熱盤(10)を用いて
ベースフィルム(6)上より100℃、10kg/cd
で加熱加圧する。この後ガラス基板(8)を引き離すこ
とにより、バリア層(2)及び電極(3)がガラス基板
(8)上の窒化ホウ素層(11)より剥がれて誘電体グ
リーンシート(7)上に転写される。
Next, the barrier layer and electrodes formed on the glass substrate were transferred onto a dielectric green sheet separately prepared by the method described above. FIG. 2 is a longitudinal sectional view schematically showing such a transfer process. That is, as shown in FIG. 2, a dielectric green sheet (7) formed on a base film (6), a barrier layer (2) and an electrode (3) formed on a glass substrate (8), After the base film (6) is brought into contact with
Heat and pressurize. After this, by separating the glass substrate (8), the barrier layer (2) and the electrode (3) are peeled off from the boron nitride layer (11) on the glass substrate (8) and transferred onto the dielectric green sheet (7). Ru.

次に、このようにしてバリア層及び電極の形成された誘
電体グリーンシートを、あらかじめ治具上に固定された
バリア層及び電極の形成されていない誘電体グリーンシ
ートと当接せしめ、前述した工程と同様にして転写を行
なった。第3図は、この工程を模式的に示す縦断面図で
ある。この後第3図に示したような転写の工程を繰り返
して、治具(12)’上に固定された前記誘電体グリー
ンシート(7)上にバリア層(2)及び電極(3)の形
成された誘電体グリーンシート(7)を順次積層して、
最終的に40層まで積層した。次いで、得られた積層体
についてラバープレスで300kg1a1165℃、1
分間の静水圧成形を行ない、ダイヤモンドカッターで4
.0mmx3. 1mmのチップ状に切断した後、マグ
ネシアルツボに密封収容して1000℃、1時間の焼成
を行なった。
Next, the dielectric green sheet on which the barrier layer and electrodes have been formed in this way is brought into contact with a dielectric green sheet on which no barrier layer and electrodes have been formed, which has been fixed in advance on a jig, and the above-mentioned process is carried out. Transfer was performed in the same manner. FIG. 3 is a longitudinal sectional view schematically showing this process. Thereafter, the transfer process shown in FIG. 3 is repeated to form a barrier layer (2) and an electrode (3) on the dielectric green sheet (7) fixed on the jig (12)'. The dielectric green sheets (7) are stacked one after another,
Finally, up to 40 layers were laminated. Next, the obtained laminate was pressed with a rubber press at 300 kg 1 a at 1165°C for 1
Perform isostatic pressing for 4 minutes, then use a diamond cutter to
.. 0mmx3. After cutting into 1 mm chips, they were sealed in a magnesia crucible and fired at 1000° C. for 1 hour.

焼成後、積層体の両端部より電極をサンドペーパーで削
り出し、その上からAgペーストを塗布した後、ベルト
炉内で800℃の焼き付けを行ない外部電極とした。
After firing, electrodes were cut out from both ends of the laminate using sandpaper, and after applying Ag paste thereon, they were baked at 800° C. in a belt furnace to form external electrodes.

このようにして得られた本発明に係る積層セラミックコ
ンデンサの容量を測定した結果を第1表に示す。また8
0℃、95%RHの条件下で10■の直流電流を500
時間印加して、信頼性試験を行なった結果を第1表に示
す二さらに第1表には、バリア層を有していないこと以
外は本発明に係る積層セラミックコンデンサと全く同様
の積層セラミックコンデンサについて、同様の容量測定
、信頼性試験を行なった結果を比較例として併せて示す
Table 1 shows the results of measuring the capacitance of the multilayer ceramic capacitor according to the present invention thus obtained. 8 again
Under the conditions of 0℃ and 95%RH, 10μ of DC current is applied to 500
Table 1 shows the results of a reliability test with time applied.2 Furthermore, Table 1 shows a multilayer ceramic capacitor that is exactly the same as the multilayer ceramic capacitor according to the present invention except that it does not have a barrier layer. The results of similar capacity measurements and reliability tests are also shown as a comparative example.

第1表に示j7たように、本発明に係る積層セラミック
コンデンサにおいてはいずれも5.0μF以上の充分な
容量が得られており、この値は、前述の単板焼成試験で
の比誘電率の測定値より求められた理論値5.3μFと
近い値であった。しかも高温、高湿下でも特性が劣化す
ること無く、優れた信頼性を有している。一方比較例に
係る積層セラミックコンデンサでは、容量が小さく、ま
た信頼性試験の後に対向電極の短絡が生じ、不良の発生
が見られた。この原因について解析を行なったところ、
比較例に係る積層セラミックコンデンサでは、内部電極
中の導電体材料が焼成時に酸化鉛の蒸気と一部反応する
ことにより内部電極の切断が発生し、また信頼性試験時
に係る導電体材料のセラミック誘電体中へのマイグレー
シヨンが生じたためであることが確認された。
As shown in Table 1, all of the multilayer ceramic capacitors according to the present invention have a sufficient capacitance of 5.0 μF or more, and this value is equal to This value was close to the theoretical value of 5.3 μF determined from the measured value. In addition, its characteristics do not deteriorate even under high temperature and high humidity conditions, and it has excellent reliability. On the other hand, in the multilayer ceramic capacitor according to the comparative example, the capacitance was small, and short-circuiting of the opposing electrodes occurred after the reliability test, resulting in defects. When we analyzed the cause of this, we found that
In the multilayer ceramic capacitor according to the comparative example, the conductive material in the internal electrode partially reacted with lead oxide vapor during firing, causing the internal electrode to break. It was confirmed that this was due to migration into the body.

第  1 表 実施例2 まず実施例1と同様にして誘電体グリーンシートを作成
した後、誘電体グリーンシート上の所定の位置にそれぞ
れ膜厚0.15μm、0.6μm。
Table 1 Example 2 First, a dielectric green sheet was prepared in the same manner as in Example 1, and then film thicknesses of 0.15 μm and 0.6 μm were deposited on predetermined positions on the dielectric green sheet, respectively.

0.15μmのバリア層、電極、バリア層をスパッタリ
ング法により順次積層した。ただし本実施例では、バリ
ア層としては第2表に示したようにそれぞれP4.Pt
、Au、Rhからなる異なる4種類のバリア層を形成し
、電極の導電体材料は全てAgとした。以下、バリア層
及び電極の形成された誘電体グリーンシートを通常の方
法により積層、圧着した後チップ状に切断して焼成し、
次いで両端部への外部電極の焼き付けを行なうことによ
り、本実施例に係る積層セラミックコンデンサを得た。
A 0.15 μm barrier layer, an electrode, and a barrier layer were sequentially laminated by sputtering. However, in this example, as shown in Table 2, the barrier layers are P4. Pt
Four different types of barrier layers consisting of , Au, and Rh were formed, and the conductive material of the electrodes was all Ag. Thereafter, the dielectric green sheets on which barrier layers and electrodes have been formed are laminated and crimped by a conventional method, and then cut into chips and fired.
Next, by baking external electrodes onto both ends, a multilayer ceramic capacitor according to this example was obtained.

得られた積層セラミックコンデンサについて、実施例1
と同様の容量測定及び信頼性試験を行なった結果を第2
表に示す。第2表より明らがなように、本実施例におい
ても大容量で信頼性の高い積層セラミックコンデンサが
得られている。
Example 1 Regarding the obtained multilayer ceramic capacitor
The results of the same capacitance measurement and reliability test as in the second
Shown in the table. As is clear from Table 2, a multilayer ceramic capacitor with large capacity and high reliability was obtained in this example as well.

以下余白 第  2  表 実施例3 まず、MgO基板上にRFマグネトロンスパッタリング
法により膜厚的0.2μmのPt薄膜を成膜して、本発
明に係るバリア層を形成した。ただし、ターゲットとし
ては水冷Cu製プレートにボンディングされた直径5イ
ンチのpt板を用いて、基板とターゲットの距離を約1
00mmに保持し、0.5PaのAr及び0.雰囲気下
、エネルギー500Wの高周波電力を印加した。このp
t薄膜をX線回折により分析したところ、<111>方
向に配向していることが確認された。
The following is a margin.Table 2 Example 3 First, a Pt thin film having a thickness of 0.2 μm was formed on an MgO substrate by RF magnetron sputtering to form a barrier layer according to the present invention. However, as a target, a PT plate with a diameter of 5 inches bonded to a water-cooled Cu plate was used, and the distance between the substrate and target was approximately 1
00mm, and 0.5Pa Ar and 0.00mm. High frequency power with an energy of 500 W was applied in an atmosphere. This p
When the t-thin film was analyzed by X-ray diffraction, it was confirmed that it was oriented in the <111> direction.

さらにこのpt薄膜上に同様の方法により、膜厚1μm
のAg薄膜及び膜厚0.2μmのpt薄膜を順次成膜し
た。この後、得られたPt薄膜及びAg薄膜をイオンミ
リング法によりパターニングして、本発明に係るバリア
層及び電極を形成した。
Furthermore, a film with a thickness of 1 μm was coated on this PT thin film by the same method.
An Ag thin film with a thickness of 0.2 μm and a PT thin film with a thickness of 0.2 μm were sequentially formed. Thereafter, the obtained Pt thin film and Ag thin film were patterned by ion milling to form a barrier layer and an electrode according to the present invention.

次いで前記バリア層及び電極の形成された基板上に、高
周波電力のエネルギーを200Wとした以外は同様のR
Fマグネトロンスパッタリング法により、膜厚1μmの
ジルコン酸チタン酸うンタン船の薄膜を成膜した。ただ
しターゲットとしては、P b O、T i O@ 、
  Z r 02 、  L a x Osを出発材料
として、これらがPb6.myLao、+5(Zro、
5sTio4t)ol +10mo 1%PbOの組成
となるように混合して800〜900℃で仮焼し、さら
に仮焼粉末をボールミルで粉砕しバインダを加えて成形
した後、1200〜1250℃で焼結して得られたセラ
ミック板を用いた。成膜後、前記ジルコン酸チタン酸う
ンタン船の薄膜上に写真蝕刻法によりレジストパターン
を形成し、このレジストパターンをマスクとして前記薄
膜を選択的にエツチングして、本発明に係るセラミック
誘電体を褥た。さらにこのセラミック誘電体上に、先に
バリア層及び電極を形成したときと同様の方法によりバ
リア層及び電極を形成した後、1000℃、30分の熱
処理を行なって本発明のセラミックコンデンサを得た。
Next, on the substrate on which the barrier layer and electrodes were formed, the same R
A 1 μm thick zirconate titanate film was formed by F magnetron sputtering. However, as targets, P b O, T i O@,
Z r 02 , L a x Os are used as starting materials, and these are Pb6. myLao, +5 (Zro,
5sTio4t)ol + 10mo 1% PbO was mixed and calcined at 800 to 900°C, and the calcined powder was ground in a ball mill, a binder was added, molded, and then sintered at 1200 to 1250°C. A ceramic plate obtained by After film formation, a resist pattern is formed on the thin film of the zirconate titanate carrier by photolithography, and the thin film is selectively etched using this resist pattern as a mask to form the ceramic dielectric according to the present invention. I fell asleep. Further, a barrier layer and electrodes were formed on this ceramic dielectric by the same method as in the case of forming the barrier layer and electrodes previously, and then heat treatment was performed at 1000° C. for 30 minutes to obtain a ceramic capacitor of the present invention. .

これと同時に、本発明に係るバリア層を備えず、電極と
して膜厚1.4μmの80Ag−20Pt薄膜を有する
セラミックコンデンサを同様の方法で作成して、比較例
とした。
At the same time, a ceramic capacitor without the barrier layer according to the present invention and having an 80Ag-20Pt thin film with a thickness of 1.4 μm as an electrode was prepared in the same manner as a comparative example.

このようなセラミックコンデンサについて、実施例1と
同様の容量測定及び信頼性試験を行なった結果を第3表
に示す。第3表より明らかなように、本実施例において
も充分な容量を有し、比較例より信頼性の高いセラミッ
クコンデンサが得ら第  3  表 実施例4 まず実施例1と同様にして誘電体グリーンシートを作成
し、また実施例1と同様の表面処理の行なわれたガラス
板上に、膜厚0.3μmのバリア層、膜厚↓、0μmの
電極、膜厚0.3μmのバリア層を、金属イオンを含有
する溶液を塗布した後焼成する方法で順次形成した。た
だしバリア層の材料としてはMnOを用い、電極の導電
体材料は70Ag−30Pdとした。次いで、実施例1
と同様にしてバリア層及び電極を誘電体グリーンシート
上に転写した。この後、実施例1と同様の方法で係る誘
電体グリーンシートを積層したが、本実施例では最上層
及び最下層のグリーンシートとして、バリア層及び電極
が形成されたグリーンシートと同一材料からなるもの、
ZrO,及びガラス成分からなるもの、MgO及びガラ
ス成分からなるものの3種類を用意した。なお、上述し
たようなZ r O*又はMgO及びガラス成分からな
るグリーンシートは、まず、ZrO,又はMgOの粉体
と、30重量%のB!01.30重量%のSl 0 *
 、10重量%のAl!01.20重量%のBaO及び
10重量%のMgOからなるガラス成分を出発材料とし
て、実施例1において一般式%式%) 0.07PbTiO,で表される誘電体のスラリーを調
製したのと同様の方法によりスラリーを調製した後、ド
クターブレード法によりグリーンシートを作成した。ま
たこのとき、前記ガラス成分はZrO,又はMgOに対
して5重量%添加し、グリーンシートの膜厚は200μ
mとした。次いで、得られた3種類の積層体を圧着しチ
ップ状に切断した後、マグネシウムルツボ内に密封収容
して焼成を行なったが、このような焼成によりZrO,
又はMgO及びガラス成分からなるグリーンシートを用
いた積層体では、上面及び下面にZrO,又はMgOを
主成分とする保護層が形成された。また本実施例ではこ
のときそれぞれの積層体について、マグネシウムルツボ
内への充填率を変化させて焼成を行なった。ただし充填
率は下記(*)式より換算した。この後両端部に外部電
極の焼き付けを行ない、本発明に係る積層セラミックコ
ンデンサを得た。
Table 3 shows the results of capacitance measurements and reliability tests conducted on such ceramic capacitors in the same manner as in Example 1. As is clear from Table 3, a ceramic capacitor with sufficient capacity and higher reliability than the comparative example was obtained in this example. A sheet was prepared, and a barrier layer with a thickness of 0.3 μm, an electrode with a thickness of 0 μm, and a barrier layer with a thickness of 0.3 μm were placed on a glass plate that had been subjected to the same surface treatment as in Example 1. They were sequentially formed by applying a solution containing metal ions and then firing. However, MnO was used as the material for the barrier layer, and 70Ag-30Pd was used as the conductor material for the electrode. Next, Example 1
A barrier layer and an electrode were transferred onto a dielectric green sheet in the same manner as in . Thereafter, the dielectric green sheets were laminated in the same manner as in Example 1, but in this example, the uppermost and lowermost green sheets were made of the same material as the green sheets on which the barrier layer and electrodes were formed. thing,
Three types were prepared: one consisting of ZrO and a glass component, and one consisting of MgO and a glass component. Note that the green sheet made of ZrO* or MgO and glass components as described above is first made of ZrO or MgO powder and 30% by weight of B! 01.30% by weight Sl 0 *
, 10% by weight Al! Using a glass component consisting of 01.20% by weight of BaO and 10% by weight of MgO as a starting material, a dielectric slurry represented by the general formula 0.07PbTiO was prepared in Example 1. After preparing a slurry using the method described above, a green sheet was created using a doctor blade method. At this time, the glass component was added in an amount of 5% by weight based on ZrO or MgO, and the thickness of the green sheet was 200 μm.
It was set as m. Next, the three types of laminates obtained were crimped and cut into chips, then sealed in a magnesium crucible and fired.
Alternatively, in the case of a laminate using a green sheet made of MgO and glass components, a protective layer mainly composed of ZrO or MgO was formed on the upper and lower surfaces. Further, in this example, each laminate was fired while changing the filling rate into the magnesium crucible. However, the filling rate was calculated using the formula (*) below. Thereafter, external electrodes were baked on both ends to obtain a multilayer ceramic capacitor according to the present invention.

試料全体の容積 充填率=(*) マグネシウムルツボ容積 得られた積層セラミックコンデンサについて、実施例1
.と同様の容量測定及び信頼性試験を行なった結果を第
4表に示す。第4表より明らかなように、保護層の形成
されていない積層セラミックコンデンサにおいては、充
填率を8Qvo 1%として焼成を行なった場合は充分
な特性が得られているが、充填率が40vo 1%の場
合は容量が不足しており、また充填率が40vo 1%
及び60vo1%の場合、信頼性試験の後に不良が発生
していた。一方、ZrO,又はMgOを主成分とする保
護層を有する積層セラミックコンデンサにおいては、充
填率が40vo 1%+  60 v o 1%。
Volume filling rate of entire sample = (*) Magnesium crucible volume Regarding the obtained multilayer ceramic capacitor, Example 1
.. Table 4 shows the results of the same capacitance measurement and reliability test. As is clear from Table 4, in the multilayer ceramic capacitor with no protective layer formed, sufficient characteristics were obtained when firing was performed at a filling rate of 8Qvo 1%, but when the filling rate was 40vo 1%, sufficient characteristics were obtained. %, the capacity is insufficient and the filling rate is 40vo 1%
In the case of 60vo1%, defects occurred after the reliability test. On the other hand, in a multilayer ceramic capacitor having a protective layer mainly composed of ZrO or MgO, the filling rate is 40vo 1% + 60vo 1%.

8Qvo1%のいずれの場合においても充分な容量が得
られており、しかも信頼性試験の後も不良の発生は認め
られず高い信頼性を有していた。さらに外部電極の焼き
付けの際に生じたワレやカケも認められず、また実装時
に発生する熱応力によって損傷することもなく、機械的
強度も優れていた。すなわち本発明では、上記した如く
の保護層がセラミックコンデンサの特性向上に有効であ
り、係る保護層を設けることにより焼成時における鉛成
分の蒸気圧の綿密な制御が不必要となることが確認され
た。
Sufficient capacity was obtained in all cases of 8Qvo1%, and no defects were observed even after the reliability test, indicating high reliability. Furthermore, there were no cracks or chips that occurred during baking of the external electrodes, and there was no damage due to thermal stress generated during mounting, and the mechanical strength was excellent. That is, in the present invention, it has been confirmed that the above-mentioned protective layer is effective in improving the characteristics of a ceramic capacitor, and that by providing such a protective layer, careful control of the vapor pressure of the lead component during firing becomes unnecessary. Ta.

以下余白 [発明の効果〕 上述したように本発明によれば、容量等の電気的特性に
優れ、しかも信頼性の高いセラミックコンデンサを提供
することができる。
[Advantageous Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, it is possible to provide a ceramic capacitor that has excellent electrical characteristics such as capacitance and is highly reliable.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係る積層セラミックコンデンサの縦断
面図、第2図は本発明に係る積層セラミックコンデンサ
の製造工程におけるバリア層及び電極の転写を模式的に
示す縦断面図、第3図は本発明に係る積層セラミックコ
ンデンサの製造工程における積層工程の一例を模式的に
示す縦断面図である。 1・・・セラミック誘電体 2・・・バリア層 3・・
・電極4・・・外部電極 5・・・保護層
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to the present invention, FIG. 2 is a vertical cross-sectional view schematically showing transfer of barrier layers and electrodes in the manufacturing process of the multilayer ceramic capacitor according to the present invention, and FIG. FIG. 2 is a vertical cross-sectional view schematically showing an example of a lamination step in the manufacturing process of a multilayer ceramic capacitor according to the present invention. 1... Ceramic dielectric 2... Barrier layer 3...
・Electrode 4...External electrode 5...Protective layer

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ペロブスカイト型組成物を誘電体材料として用い
たセラミック誘電体と、前記セラミック誘電体を介して
対向形成されAg、Ag−Pd、Cu及びNiの少なく
とも1種を導電体材料として用いた一対の電極とを具備
してなるセラミックコンデンサにおいて、前記セラミッ
ク誘電体と電極との間に前記誘電体材料の拡散を防止す
る導電性のバリア層を有することを特徴とするセラミッ
クコンデンサ。
(1) A ceramic dielectric using a perovskite composition as a dielectric material, and a pair formed facing each other with the ceramic dielectric interposed therebetween and using at least one of Ag, Ag-Pd, Cu, and Ni as a conductive material. What is claimed is: 1. A ceramic capacitor comprising: an electrode; further comprising a conductive barrier layer between the ceramic dielectric and the electrode to prevent diffusion of the dielectric material.
(2)バリア層がPd,Au,Pt及びRhより選ばれ
た少なくとも1種の金属からなることを特徴とする請求
項1記載のセラミックコンデンサ。
(2) The ceramic capacitor according to claim 1, wherein the barrier layer is made of at least one metal selected from Pd, Au, Pt, and Rh.
(3)バリア層がSnO_2,ITO,MnO,CuO
,RuO,LaCoO_3,TiN,グラファイト及び
カーボンより選ばれた少なくとも1種の無機化合物から
なることを特徴とする請求項1記載のセラミックコンデ
ンサ。
(3) Barrier layer is SnO_2, ITO, MnO, CuO
2. The ceramic capacitor according to claim 1, comprising at least one inorganic compound selected from , RuO, LaCoO_3, TiN, graphite, and carbon.
(4)ペロブスカイト型組成物が鉛含有ペロブスカイト
型組成物であることを特徴とする請求項2又は3記載の
セラミックコンデンサ。
(4) The ceramic capacitor according to claim 2 or 3, wherein the perovskite composition is a lead-containing perovskite composition.
(5)最上層及び最下層にZrO_2及びMgOの少な
くとも1種を主成分とする保護層が設けられたことを特
徴とする請求項4記載のセラミックコンデンサ。
(5) The ceramic capacitor according to claim 4, wherein the uppermost layer and the lowermost layer are provided with a protective layer containing at least one of ZrO_2 and MgO as a main component.
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