JPH04317442A - Method and device for producing hermetically coated optical fiber - Google Patents

Method and device for producing hermetically coated optical fiber

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JPH04317442A
JPH04317442A JP3108734A JP10873491A JPH04317442A JP H04317442 A JPH04317442 A JP H04317442A JP 3108734 A JP3108734 A JP 3108734A JP 10873491 A JP10873491 A JP 10873491A JP H04317442 A JPH04317442 A JP H04317442A
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optical fiber
hermetic
eddy current
resistance value
electrical resistance
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Sadanori Ishida
禎則 石田
Yukio Komura
幸夫 香村
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Furukawa Electric Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To produce a high-quality optical fiber by on-line detecting the electrical resistance value of a conductive film such as a hermetic coat formed on an optical fiber using an eddy current and using the value for the formation of the coat. CONSTITUTION:This device for producing a hermetically coated optical fiber of this invention has an eddy current generating and detecting coil 20 set close to a traveling optical fiber 2B to be hermetically coated and the electrical resistance value measuring device 21 for impressing a high-frequency current to generate an eddy current in the hermetic coat 2c in the optical fiber 2B on the coil 20 and calculating the resistance value from the eddy current generated by the coil 20. The resistance value is specified as the phase angle of a complex impedance calculated from the eddy current. The resistance value calculated by the device 21 is outputted to a process controller 22, and the flow rate of C2H2 gas as the raw gas is controlled by the process controller 22 through a mass flow controller 24 so that the resistance value of the hermetic coat is controlled to a specified fixed value.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は,アモルファス(非晶質
)カーボンなどの導電性ハーメチック被覆を有する光フ
ァイバのハーメチック被覆の成膜状態をオンラインで評
価して,その評価結果に基づいてハーメチック被覆を形
成させるハーメチック被覆光ファイバの製造方法および
その装置に関する。
[Industrial Application Field] The present invention evaluates the state of the hermetic coating of an optical fiber having a conductive hermetic coating such as amorphous carbon on-line, and then evaluates the hermetic coating based on the evaluation results. The present invention relates to a method for manufacturing a hermetic coated optical fiber and an apparatus therefor.

【0002】0002

【従来の技術】一般に光ファイバ心線(ケーブル)は,
石英製の光ファイバ母材(プリフォーム)から紡糸され
たコアとクラッドから構成される光ファイバの表面に保
護用プラスチック被覆を設けることにより製造されてい
る。このようなプラスチック被覆を有する光ファイバ心
線は,大気中の水素や水分のコアへの透過侵入によって
光信号の伝送損失が時間の経過と共に増加する性質があ
る。このような光ファイバ心線の欠点を解消するために
,光ファイバ素線の表面,すなわち,クラッドの外表面
に緻密な構造を有するアモルファスカーボン等の無機物
質よりなるハーメチック被覆を設けて,水素分子や水分
子のコア部への透過を防ぐ構造のハーメチック被覆光フ
ァイバ心線が提案されている。
[Prior art] Generally, optical fiber core wire (cable) is
It is manufactured by providing a protective plastic coating on the surface of an optical fiber consisting of a core and cladding spun from a quartz optical fiber preform. Optical fiber cores having such plastic coatings have the property that transmission loss of optical signals increases over time due to penetration of hydrogen and moisture in the atmosphere into the core. In order to eliminate these drawbacks of optical fibers, a hermetic coating made of an inorganic material such as amorphous carbon with a dense structure is provided on the surface of the optical fiber, that is, on the outer surface of the cladding, to prevent hydrogen molecules. Hermetically coated optical fibers have been proposed that have a structure that prevents water molecules from permeating into the core.

【0003】このようなハーメチック被覆光ファイバ心
線は,光ファイバ母材から紡糸した直後のコアおよびク
ラッドを有する光ファイバを,反応管内においてハーメ
チック被覆形成用原料ガスに接触させ,反応管の外に設
けられたヒータからの熱および紡糸直後の光ファイバ自
体の熱を利用することによって,上記原料ガスを熱分解
反応させてクラッドの外表面にアモルファスカーボン等
のハーメチック被覆を形成させて製造される。その後,
ハーメチック被覆の外表面にプラスチック被覆などの保
護用被覆を施して光ファイバ心線とする。かかる構造の
ハーメチック被覆光ファイバ心線は,前述したハーメチ
ック被覆が有する特徴のため水素や水分の光ファイバの
コア部への透過侵入を防止して長期間にわたって光信号
の伝送損失を増加させず,さらに光ファイバの外表面を
機械的に保護し光ファイバの機械的強度を高めるという
効果を奏する。
[0003] Such a hermetic coated optical fiber core wire is produced by bringing an optical fiber having a core and a cladding immediately after spinning from an optical fiber preform into contact with a raw material gas for forming a hermetic coating in a reaction tube, and then exposing the optical fiber to the outside of the reaction tube. By using the heat from the provided heater and the heat of the optical fiber itself immediately after spinning, the raw material gas is subjected to a thermal decomposition reaction to form a hermetic coating such as amorphous carbon on the outer surface of the cladding. after that,
A protective coating such as a plastic coating is applied to the outer surface of the hermetic coating to form an optical fiber core. Due to the above-mentioned characteristics of the hermetic coating, the hermetic coated optical fiber core having such a structure prevents hydrogen and moisture from penetrating into the core of the optical fiber and does not increase the transmission loss of optical signals over a long period of time. Furthermore, it has the effect of mechanically protecting the outer surface of the optical fiber and increasing the mechanical strength of the optical fiber.

【0004】このようなハーメチック被覆光ファイバ心
線では,ハーメチック被覆のケーブル長手方向の安定性
が重要であり,膜質や膜厚変動が1か所でもあると,膜
厚の薄い部分から水素分子や水分子が光ファイバのコア
部に侵入し伝送損失の増加を招くこととなる。そこで,
ハーメチック被覆が光ファイバ全長に渡って均一に設け
られていることを保証する必要がある。アモルファスカ
ーボンなどのハーメチック被覆は,通常,500〜10
00Åの膜厚を有し,数〜数10KΩ/cmの電気抵抗
値を持った導電体でもある。したがって,ハーメチック
被覆の成膜状態を評価する1つの方法としてその電気抵
抗値を測定することがハーメチック被覆の成膜状態を評
価する上で有効である。従来知られているハーメチック
被覆の成膜状態を評価する方法は,ハーメチック被覆の
外表面に形成されたプラスチック被覆を除去し,剥き出
しになったハーメチック被覆をテスターを用いてその電
気抵抗値を測定するオフラインかつ破壊方式の評価方法
である。
[0004] In such a hermetic coated optical fiber, the stability of the hermetic coat in the longitudinal direction of the cable is important, and if the film quality or film thickness varies even in one place, hydrogen molecules and Water molecules invade the core of the optical fiber, leading to an increase in transmission loss. Therefore,
It is necessary to ensure that the hermetic coating is applied uniformly over the entire length of the optical fiber. Hermetic coatings such as amorphous carbon typically have a
It is also a conductor with a film thickness of 00 Å and an electrical resistance value of several to several tens of kilohms/cm. Therefore, it is effective to measure the electrical resistance value as one method for evaluating the state of film formation of the hermetic coating. The conventional method for evaluating the state of the hermetic coating is to remove the plastic coating formed on the outer surface of the hermetic coating and measure the electrical resistance of the exposed hermetic coating using a tester. This is an offline and destructive evaluation method.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来のオフラインかつ
破壊方式による電気抵抗測定方法では,ハーメチック被
覆が形成され,さらにプラスチック被覆などの保護被覆
が形成された製品として完成された段階で行われるから
,ハーメチック被覆の成膜状態に不良が検出されたとし
ても,その結果をハーメチック被覆形成段階にオンライ
ンで製造工程にフィードバックして,その後連続して形
成されるハーメチック被覆を所定の品質を維持するため
に有効に使用することができない。また従来の破壊方式
による電気抵抗測定方法では,部分的な抜き取り検査と
なり,光ファイバ素線全長にわたってプラスチック被覆
を除去することはできないから,光ファイバ素線のケー
ブル長手方向全長にわたって連続的にハーメチック被覆
の成膜状態を検査することは出来ない。したがって,そ
の検査結果を有効にハーメチック被覆形成にフィードバ
ックさせることができない。ハーメチック被覆形成段階
で未然に不良ハーメチック被覆が形成されないようにす
ることが望まれるが,以上から明らかなように,従来の
電気抵抗測定方法では不良ハーメチック被覆が形成され
ないように,ハーメチック被覆の形成段階で品質管理を
行うことができない。また,従来の他の方法としては,
保護被覆を形成させる前に電気抵抗測定用プロープをハ
ーメチック被覆に直接接触させる接触電気抵抗測定方式
が考えられるが,プローブなどを移動しているハーメチ
ック被覆に直接接触させるとハーメチック被覆に傷など
がつき光ファイバの強度低下の原因になる場合があり,
その従来方法を採用することはできない。
[Problem to be Solved by the Invention] In the conventional off-line and destructive electrical resistance measurement method, measurement is carried out after the product has been completed with a hermetic coating and a protective coating such as a plastic coating. Even if a defect is detected in the film formation state of the hermetic coating, the result is fed back to the manufacturing process online at the hermetic coating formation stage to maintain the specified quality of the hermetic coating that is subsequently formed. cannot be used effectively. In addition, with the conventional destructive electrical resistance measurement method, only a partial sampling test is required, and the plastic coating cannot be removed over the entire length of the optical fiber. It is not possible to inspect the state of film formation. Therefore, the inspection results cannot be effectively fed back to the hermetic coating formation. It is desirable to prevent the formation of defective hermetic coatings during the hermetic coating formation stage, but as is clear from the above, in the conventional electrical resistance measurement method, it is necessary to prevent the formation of defective hermetic coatings during the hermetic coating formation stage. cannot perform quality control. In addition, as other conventional methods,
A contact electrical resistance measurement method in which a probe for electrical resistance measurement is brought into direct contact with the hermetic sheathing before forming the protective coating is considered, but if the probe etc. is brought into direct contact with the moving hermetic sheathing, the hermetic sheathing may be damaged. This may cause a decrease in the strength of the optical fiber.
The conventional method cannot be adopted.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
,本願発明者は,渦電流検出方法によって,導電性ハー
メチック被覆の電気抵抗値を非接触でかつオンラインで
測定することを見出した。本発明によれば,コアおよび
クラッドを有する光ファイバに導電性ハーメチック被覆
を形成する光ファイバの製造方法において,渦電流検査
法に基づいて上記ハーメチック被覆の電気抵抗値を非接
触かつオンラインで測定し,この測定した電気抵抗値に
基づいてハーメチック被覆形成条件をオンラインで調整
することを特徴とするハーメチック被覆光ファイバの製
造方法が提供される。好適には,上記渦電流検査法は,
渦電流を発生させるに充分な高周波電流をその周波数よ
り充分低い周波数で変動させ平均強度を変化させて行う
。また本発明によれば,上記ハーメチック被覆光ファイ
バの製造方法を行う装置,すなわち,導電性ハーメチッ
ク被覆が形成された光ファイバの移動経路の近傍に配設
された渦電流発生および検出用コイル,このコイルに,
その平均強度が変化し,上記ハーメチック被覆に渦電流
を発生させる高周波電流を印加する手段,上記コイルで
ハーメチック被覆に発生した渦電流を検出した渦電流検
出値からハーメチック被覆の電気抵抗値を算出する手段
,この算出された電気抵抗値に基づいてハーメチック被
覆形成装置を制御するプロセス制御手段を有するハーメ
チック被覆光ファイバ製造装置が提供される。
[Means for Solving the Problems] In order to solve the above problems, the inventors of the present invention have discovered that the electrical resistance value of a conductive hermetic coating can be measured non-contact and online using an eddy current detection method. According to the present invention, in an optical fiber manufacturing method in which a conductive hermetic coating is formed on an optical fiber having a core and a cladding, the electrical resistance value of the hermetic coating is measured non-contact and online based on an eddy current testing method. , there is provided a method for manufacturing a hermetic coated optical fiber, characterized in that hermetic coating forming conditions are adjusted online based on the measured electrical resistance value. Preferably, the eddy current testing method comprises:
A high-frequency current sufficient to generate an eddy current is varied at a frequency sufficiently lower than that frequency, and the average intensity is varied. Further, according to the present invention, there is provided an apparatus for carrying out the above method for manufacturing a hermetic coated optical fiber, that is, an eddy current generation and detection coil disposed near the moving path of the optical fiber on which the conductive hermetic coat is formed; to the coil,
A means for applying a high frequency current whose average intensity changes and generates an eddy current in the hermetic coating, and an electrical resistance value of the hermetic coating is calculated from a detected eddy current value obtained by detecting the eddy current generated in the hermetic coating by the coil. There is provided a hermetic coated optical fiber manufacturing apparatus having process control means for controlling the hermetic coating forming apparatus based on the calculated electrical resistance value.

【0007】[0007]

【作用】渦電流検査法は,導体を交番磁場中に置くとそ
の導体内に磁界を打ち消す方向に渦電流が流れ,この渦
電流の大きさや分布が,導体の形状,導電率,透磁率,
内部欠陥などにより変化することを利用してハーメチッ
ク被覆の電気抵抗値を測定するという原理に基づく。つ
まり,渦電流検査方法は,渦電流により発生する磁界が
相互誘導により渦電流発生・検出用コイルのインピーダ
ンスを変化させるので,このインピーダンスの変化を電
圧値や位相の変化として検出する。特に,本発明におい
ては,電気抵抗値を複素インピーダンス平面における位
相角として検出する。好適には,渦電流を発生されるに
充分な高周波電流をその周波数より充分低い周波数で変
動させてハーメチック被覆の渦電流発生用平均強度を変
化させると,ドリフトなどの影響を受けない位相角を規
定する2点が得られ,電気抵抗値を正確に測定できる。 渦電流検査法によってハーメチック被覆の電気抵抗値を
測定したら,その電気抵抗値からハーメチック被覆の膜
厚形成状態を評価する。この評価結果をハーメチック被
覆形成装置にフィードバックする。
[Operation] In the eddy current inspection method, when a conductor is placed in an alternating magnetic field, an eddy current flows within the conductor in a direction that cancels out the magnetic field.
It is based on the principle of measuring the electrical resistance value of a hermetic coating by utilizing changes caused by internal defects. In other words, in the eddy current inspection method, the magnetic field generated by the eddy current changes the impedance of the eddy current generation/detection coil through mutual induction, and this change in impedance is detected as a change in voltage value or phase. In particular, in the present invention, the electrical resistance value is detected as a phase angle in a complex impedance plane. Preferably, by changing the average intensity of the hermetic coating for generating eddy currents by varying a high-frequency current sufficient to generate eddy currents at a frequency sufficiently lower than that frequency, it is possible to obtain a phase angle that is not affected by drift or the like. Two specified points can be obtained and the electrical resistance value can be measured accurately. Once the electrical resistance value of the hermetic coating is measured using the eddy current testing method, the state of the film thickness of the hermetic coating is evaluated from the electrical resistance value. This evaluation result is fed back to the hermetic coating forming apparatus.

【0008】[0008]

【実施例】図1は本発明の第1実施例のハーメチック被
覆光ファイバ製造装置の構成図である。このハーメチッ
ク被覆光ファイバ製造装置は,光ファイバ母材(プリフ
ォーム)1を線引(紡糸)するためヒータ5が配設され
た線引炉(図示せず),反応管6,レーザーファイバ外
径測定器9,樹脂被覆用ダイス10,キャプスタンロー
ラー11,ダンサーローラー12,巻取りドラム13を
有している。ハーメチック被覆光ファイバ製造装置はま
た,シールガスおよび希釈ガスとして用いる不活性ガス
,本実施例では窒素(N2 )ガスが充填された窒素ガ
スボンベ14,ハーメチック被覆形成用原料ガス,本実
施例ではアセチレン(C2 H2 )ガスが充填された
アセチレンガスボンベ15,これらの供給量を制御する
マスフローコントローラ(MFC)23〜26を有して
いる。ハーメチック被覆光ファイバ製造装置はさらに,
渦電流発生・検出用コイル20,このコイル20に高周
波電流を供給しハーメチック被覆の電気抵抗値を測定す
る電気抵抗測定装置21,および,プロセス制御装置2
2を有している。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a block diagram of a hermetic coated optical fiber manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention. This hermetic coated optical fiber manufacturing apparatus includes a drawing furnace (not shown) equipped with a heater 5 for drawing (spinning) an optical fiber preform 1, a reaction tube 6, a laser fiber outer diameter It has a measuring device 9, a resin coating die 10, a capstan roller 11, a dancer roller 12, and a winding drum 13. The hermetic coated optical fiber manufacturing apparatus also includes a nitrogen gas cylinder 14 filled with an inert gas (in this example, nitrogen (N2) gas) used as a sealing gas and a diluent gas, and a raw material gas for forming the hermetic coating (in this example, acetylene (N2) gas). It has an acetylene gas cylinder 15 filled with C2H2) gas, and mass flow controllers (MFC) 23 to 26 that control the supply amount thereof. Furthermore, the hermetic coated optical fiber manufacturing equipment
An eddy current generation/detection coil 20, an electrical resistance measuring device 21 that supplies a high frequency current to the coil 20 and measures the electrical resistance of the hermetic coating, and a process control device 2
It has 2.

【0009】反応管6は上部シールゾーンに窒素ガスボ
ンベ14からシールガスであるN2 ガスを封入する上
部シールガス入口6A,下部のシールゾーンにN2 ガ
スを封入する下部シールガス入口6Cを有している。こ
れらのシールガスの質量制御はMFC23,26が行う
。上部シールガス入口6Aの下部に原料ガス入口6Bが
設けられており,MFC24およびMFC25によって
,原料ガスのC2 H2 ガスと希釈ガスとしてのN2
 ガスが反応部6Eに導入される。使用ずみのガスは排
気ポンブ8が排出口6Dから排出する。上部シールガス
入口6Aと下部シールガス入口6Cとの間の内部空間6
Eがハーメチック被覆を形成させる反応部である。この
反応部6Eの圧力を測定するため圧力センサ7が配設さ
れている。
The reaction tube 6 has an upper seal gas inlet 6A for sealing N2 gas from the nitrogen gas cylinder 14 in the upper seal zone, and a lower seal gas inlet 6C for sealing N2 gas in the lower seal zone. . The MFCs 23 and 26 control the mass of these seal gases. A raw material gas inlet 6B is provided at the bottom of the upper seal gas inlet 6A, and the raw material gas C2 H2 gas and the diluent gas N2 are separated by the MFC24 and MFC25.
Gas is introduced into the reaction section 6E. The used gas is discharged from the exhaust port 6D by the exhaust pump 8. Internal space 6 between upper seal gas inlet 6A and lower seal gas inlet 6C
E is a reaction part that forms a hermetic coating. A pressure sensor 7 is provided to measure the pressure in the reaction section 6E.

【0010】プリフォーム1を線引炉で線引して,たと
えば,直径10μmのコアと,このコアの外部に形成さ
れた外径125μmのクラッドとを有する光ファイバ2
が形成される。この光ファイバ2は反応管6に導入され
て線引炉から導出された直後の光ファイバ2自体の熱,
あるいは,この熱と反応管6の外部に配設されるヒータ
(図示せず)からの熱によって,反応部6B内に導入さ
れたC2 H2 ガスが加熱反応しクラッドの表面にカ
ーボンが析出されて厚さ500〜1000Åのアモルフ
ァス・カーボンハーメチック被覆が形成され,裸の光フ
ァイバ素線2Aとして反応管6から引き出される。MF
C24,25はハーメチック被覆が形成されるように,
C2 H2 ガスおよびN2 ガスを適切に質量(流量
)制御を行う。裸の光ファイバ素線2Aはレーザー外径
測定器9を通過するときその外径が測定される。レーザ
ー外径測定器9を通過した光ファイバ2Aは樹脂被覆用
ダイス10においてプラスチック樹脂が保護被覆として
付着され,ハーメチック被覆光ファイバ素線2Bとなる
。図2に上記製造工程で製造されたハーメチック被覆光
ファイバ素線2Bの断面を示す。内部から外部に向けて
,コア2a,クラッド2b,アモルファス・カーボンハ
ーメチック被覆2c,プラスチック被覆2dが形成され
,それぞれ上述した厚さを有している。このハーメチッ
ク被覆光ファイバ素線2Bはキャプスタンローラー11
,ダンサーローラー12を介して搬送され,巻取りドラ
ム13で巻き取られる。
The preform 1 is drawn in a drawing furnace to form an optical fiber 2 having, for example, a core with a diameter of 10 μm and a cladding with an outer diameter of 125 μm formed on the outside of this core.
is formed. This optical fiber 2 is heated by the heat of the optical fiber 2 itself immediately after being introduced into the reaction tube 6 and led out from the drawing furnace.
Alternatively, due to this heat and heat from a heater (not shown) disposed outside the reaction tube 6, the C2H2 gas introduced into the reaction section 6B reacts by heating, and carbon is deposited on the surface of the cladding. An amorphous carbon hermetic coating having a thickness of 500 to 1000 Å is formed, and the bare optical fiber strand 2A is drawn out from the reaction tube 6. Midfielder
C24 and 25 are coated so that a hermetic coating is formed.
Appropriately control the mass (flow rate) of C2 H2 gas and N2 gas. When the bare optical fiber strand 2A passes through a laser outer diameter measuring device 9, its outer diameter is measured. The optical fiber 2A that has passed through the laser outer diameter measuring device 9 is coated with plastic resin as a protective coating in a resin coating die 10, and becomes a hermetic coated optical fiber strand 2B. FIG. 2 shows a cross section of the hermetically coated optical fiber strand 2B manufactured by the above manufacturing process. A core 2a, a cladding 2b, an amorphous carbon hermetic coating 2c, and a plastic coating 2d are formed from the inside to the outside, and each has the thickness described above. This hermetic coated optical fiber strand 2B is connected to the capstan roller 11.
, and is conveyed via dancer rollers 12 and wound up by a winding drum 13.

【0011】本実施例においては,キャプスタンローラ
ー11とダンサーローラー12の間に,移動するハーメ
チック被覆光ファイバ素線2Bに接近させて渦電流発生
・検出用コイル20を配設して,プラスチック被覆2d
の外側から非接触状態でハーメチック被覆2cの電気抵
抗値をオンラインで測定する。図3に示すように,渦電
流発生・検出用コイル20は円筒状コイル201が空心
樹脂202内に固められて形成されている。図3はまた
,ハーメチック被覆光ファイバ素線2Bに渦電流を発生
させるに充分な高周波電流を渦電流発生・検出用コイル
20に供給し,このコイル20からの渦電流検出値を入
力する電気抵抗測定装置21の構成を示す。電気抵抗測
定装置21は,ハーメチック被覆光ファイバ素線2Bに
渦電流を発生させるに充分な高周波電流,たとえば,振
幅A1は実効値で5mA,周波数f1 =2〜3MHZ
 の電流を発生させる高周波電流源211,バイアス電
流D1=500mAの直流電流を発生させるバイアス電
源212,電流加算回路214,制御回路215,およ
びスイッチング回路216を有している。
In this embodiment, an eddy current generation/detection coil 20 is disposed between the capstan roller 11 and the dancer roller 12 in close proximity to the moving hermetic coated optical fiber strand 2B. 2d
The electrical resistance value of the hermetic coating 2c is measured online in a non-contact manner from the outside. As shown in FIG. 3, the eddy current generation/detection coil 20 is formed by solidifying a cylindrical coil 201 within an air-core resin 202. As shown in FIG. FIG. 3 also shows an electric resistance that supplies a high frequency current sufficient to generate an eddy current in the hermetic coated optical fiber strand 2B to the eddy current generation/detection coil 20, and inputs the detected eddy current value from this coil 20. The configuration of the measuring device 21 is shown. The electrical resistance measuring device 21 measures a high frequency current sufficient to generate an eddy current in the hermetic coated optical fiber strand 2B, for example, the amplitude A1 is 5 mA in effective value and the frequency f1 = 2 to 3 MHZ.
, a bias power source 212 that generates a DC current of bias current D1=500 mA, a current addition circuit 214, a control circuit 215, and a switching circuit 216.

【0012】この電気抵抗測定装置21によって渦電流
発生・検出用コイル20に印加される検査用電流の波形
を図4に示す。制御回路215が高周波数f1 よりも
充分低い周波数f2 ,たとえば,周波数f1 の10
0分の1の周波数f2 =200HZ でスイッチング
回路216をオン・オフさせることにより,バイアス電
流D1でバイアスされた高周波電流が渦電流発生・検出
用コイル20に断続的に印加される。本実施例では,検
出用電流の平均強度を図4に示すように,検出用高周波
数2MHZ よりも充分低い周波数200HZ で検出
用高周波電流を断続的にオン・オフさせた。オンタイミ
ングの電流の周波数は高い周波数2MHZであるが,そ
の振幅はオン・オフするときの振幅より充分小さい。こ
のようにオン・オフするのは,オン時の渦電流とオフ時
の渦電流を検出してこの2点で規定される複素インピー
ダンスベクトルの位相角を正確に測定するためである。
FIG. 4 shows the waveform of the test current applied to the eddy current generation/detection coil 20 by the electrical resistance measuring device 21. The control circuit 215 selects a frequency f2 that is sufficiently lower than the high frequency f1, for example, 10 of the frequency f1.
By turning on and off the switching circuit 216 at a frequency f2 = 200 Hz, which is 1/0, a high frequency current biased by the bias current D1 is intermittently applied to the eddy current generation/detection coil 20. In this example, the high frequency detection current was intermittently turned on and off at a frequency of 200 Hz, which is sufficiently lower than the high frequency of 2 MHZ, as shown in FIG. 4, showing the average intensity of the detection current. The frequency of the current at the on timing is a high frequency of 2 MHZ, but its amplitude is sufficiently smaller than the amplitude at the time of turning on and off. The reason for turning on and off in this manner is to detect the eddy current when on and the eddy current when off, and to accurately measure the phase angle of the complex impedance vector defined by these two points.

【0013】ハーメチック被覆光ファイバ素線2Bの電
気抵抗値は,図5に示すように,渦電流発生・検出用コ
イル20が検出した渦電流から求めた複素インピーダン
ス平面における位相角θとして規定される。図5の横軸
Xは複素インピーダンスの実数部,縦軸Yは複素インピ
ーダンスの虚数部を示す。実際に抵抗値の異なる下記の
3つのサンプルa〜c,すなわち,ハーメチック被覆光
ファイバ心線内の3種のハーメチック被覆に対する測定
結果に基づく複素インピーダンスベクトルの位相角θa
 〜θc を示す。         サンプルaの抵抗値=4.6KΩ/c
mのときθa =21°        サンプルbの
抵抗値=7.0KΩ/cmのときθb =19°   
     サンプルcの抵抗値=9.3KΩ/cmのと
きθc =13°この測定結果は下記の渦電流発生・検
出用コイル20および高周波電流印加条件で求めた。           検出コイル201の内径    
    1.6mmΦ          検出コイル
201の線径        0.05mmΦ    
          検出コイルのターン数     
     150          検出コイルの長
さ              10mm      
              検出コイルに流す検出用
高周波数電流の周波数f1             
                         
   2MHz                  
  検出用電流の平均強度を変化させるオン・オフする
周波数f2                    
                     200H
z                  光ファイバ2
Bの走行速度(線速)  600m/min
As shown in FIG. 5, the electrical resistance value of the hermetic coated optical fiber strand 2B is defined as the phase angle θ in the complex impedance plane determined from the eddy current detected by the eddy current generation/detection coil 20. . In FIG. 5, the horizontal axis X represents the real part of the complex impedance, and the vertical axis Y represents the imaginary part of the complex impedance. The phase angle θa of the complex impedance vector is based on the measurement results for the three samples a to c below, which actually have different resistance values, that is, the three types of hermetic coating in the hermetic coated optical fiber.
~θc is shown. Resistance value of sample a = 4.6KΩ/c
When m, θa = 21° When resistance value of sample b = 7.0KΩ/cm, θb = 19°
When the resistance value of sample c = 9.3 KΩ/cm, θc = 13°. This measurement result was obtained under the following eddy current generation/detection coil 20 and high frequency current application conditions. Inner diameter of detection coil 201
1.6mmΦ Wire diameter of detection coil 201 0.05mmΦ
Number of turns of detection coil
150 Detection coil length 10mm
Frequency f1 of high frequency current for detection flowing through the detection coil

2MHz
On/off frequency f2 that changes the average intensity of the detection current
200H
z Optical fiber 2
Traveling speed (linear speed) of B: 600m/min

【0014
】以上の結果は,サンプルとなるハーメチック被覆2c
の電気抵抗値の増加につれて位相角θが小さくなってお
り,位相角θがサンプルの電気抵抗値に依存しているこ
とを示している。したがって,電気抵抗測定装置21内
の制御回路215にマイクロコンピュータなどの演算手
段を配設して,上記位相角θからハーメチック被覆光フ
ァイバ素線2Bの電気抵抗値を計算することができる。 なお,図5において,渦電流発生・検出用コイル20に
検査用電流が印加されたONタイミングにおける出力点
が,1点にならず位相角θ方向に伸びているのは,走行
するハーメチック被覆光ファイバ素線2Bの振動による
。コイル20に印加する検出用電流がオフの時は,出力
は零となるため原点位置になるから,この時に毎回,零
点の補正を行う。したがって,出力の零点が温度によっ
てドリフトすることによる影響をなくすことができる。
0014
】The above results are based on the sample hermetic coating 2c.
The phase angle θ becomes smaller as the electrical resistance value increases, indicating that the phase angle θ depends on the electrical resistance value of the sample. Therefore, by providing a calculation means such as a microcomputer in the control circuit 215 in the electrical resistance measuring device 21, it is possible to calculate the electrical resistance value of the hermetically coated optical fiber strand 2B from the phase angle θ. In addition, in FIG. 5, the output point at the ON timing when the test current is applied to the eddy current generation/detection coil 20 is not a single point but extends in the phase angle θ direction, which is due to the traveling hermetic coating light. This is due to the vibration of the fiber wire 2B. When the detection current applied to the coil 20 is off, the output is zero and therefore the origin position is reached, so the zero point is corrected every time. Therefore, the influence of the output zero point drifting due to temperature can be eliminated.

【0015】図6にハーメチック被覆2cの電気抵抗値
の変化を示す。図6の曲線CV1はMFC24が同じ設
定条件でC2 H2 ガスを原料ガス供給入口6Bに導
入したときの変化を示す。このときの光ファイバ製造条
件を下記に示す。           線引炉の温度         
       2100°C          線引
速度                      6
00m/min          反応管6内圧力 
               −30mmAq   
       シールガス流量           
       10リットル/min        
  原料ガス流量                 
     1リットル/min          希
釈ガス流量                    
  9リットル/min渦電流発生・検出用コイル20
の形状は上記したものと同じである。通常,ハーメチッ
ク被覆2cの電気抵抗値は10KΩ/cm前後であるが
,曲線CV1は,MFC24が同じ設定値であっても,
ハーメチック被覆2cの電気抵抗値が増加すること,換
言すれば,膜厚が薄くなることを示している。その理由
としては,時間経過とともにカーボンが反応部6Eの内
壁に付着して管径が細くなりガス流速が大きくなるため
,クラッド2bの外表面に付着するカーボン量が低下す
るためと考えられる。
FIG. 6 shows changes in the electrical resistance value of the hermetic coating 2c. A curve CV1 in FIG. 6 shows changes when the MFC 24 introduces C2 H2 gas into the raw material gas supply inlet 6B under the same setting conditions. The optical fiber manufacturing conditions at this time are shown below. Drawing furnace temperature
2100°C Drawing speed 6
00m/min Pressure inside reaction tube 6
-30mmAq
Seal gas flow rate
10 liters/min
Raw material gas flow rate
1 liter/min dilution gas flow rate
9 liter/min eddy current generation/detection coil 20
The shape of is the same as above. Normally, the electrical resistance value of the hermetic coating 2c is around 10KΩ/cm, but the curve CV1 shows that even if the MFC24 has the same setting value,
This indicates that the electrical resistance value of the hermetic coating 2c increases, in other words, the film thickness decreases. The reason for this is thought to be that carbon adheres to the inner wall of the reaction section 6E as time passes, the tube diameter becomes smaller and the gas flow rate increases, so the amount of carbon adhered to the outer surface of the cladding 2b decreases.

【0016】上記ハーメチック被覆2cの成膜状況のオ
ンライン補正を行うため,本発明においては,電気抵抗
測定装置21において計算したハーメチック被覆2cの
電気抵抗値をプロセス制御装置22に出力する。プロセ
ス制御装置22は,この電気抵抗値が所定の範囲,たと
えば,10KΩ/cmになるようにMFC24に制御指
令を出力する。MFC24はプロセス制御装置22から
の制御指令に基づいて,アセチレンガスボンベ15から
反応部6Eに導入されるC2 H2 ガスの流量を低下
させて,クラッド2bの外表面に所定の厚さのアモルフ
ァスカーボン被覆が形成されるようにする。このように
C2 H2 ガスの流量を制御して,図6の曲線CV2
に示すようにハーメチック被覆2cの電気抵抗値をほぼ
10KΩ/cmに保ち,ハーメチック被覆2cの膜厚が
所定の値,たとえば,1000Åになるようにする。こ
のようにC2 H2 ガスの導入量を形成されたハーメ
チック被覆2cの電気抵抗値をフィードバックさせるこ
とにより,後続して形成されるハーメチック被覆2cの
膜厚を正確に管理することができる。
In order to perform online correction of the film formation status of the hermetic coating 2c, in the present invention, the electrical resistance value of the hermetic coating 2c calculated by the electrical resistance measuring device 21 is output to the process control device 22. The process control device 22 outputs a control command to the MFC 24 so that the electrical resistance value falls within a predetermined range, for example, 10 KΩ/cm. Based on the control command from the process control device 22, the MFC 24 reduces the flow rate of C2H2 gas introduced from the acetylene gas cylinder 15 into the reaction section 6E, and coats the outer surface of the cladding 2b with amorphous carbon to a predetermined thickness. Allow to form. By controlling the flow rate of C2 H2 gas in this way, the curve CV2 in FIG.
As shown in FIG. 2, the electrical resistance value of the hermetic coating 2c is maintained at approximately 10 KΩ/cm, and the film thickness of the hermetic coating 2c is set to a predetermined value, for example, 1000 Å. In this way, by feeding back the electrical resistance value of the hermetic coating 2c formed based on the amount of C2 H2 gas introduced, the thickness of the subsequently formed hermetic coating 2c can be accurately controlled.

【0017】図7に本発明の第2実施例のハーメチック
被覆光ファイバの製造装置の構成を示す。この実施例は
,図1にハーメチック被覆光ファイバの製造装置の構成
と比較すると明らかなように,プロセス制御装置22か
らのフィードバックをヒータ5を制御する温度調整器2
7の設定値を変化させるように構成したものである。 すなわち,この例は第1実施例のように直接,カーボン
流量を制御するのではなく,線引炉における線引温度を
制御する。図8A〜図8Cに電気抵抗値と線引温度との
関係を示す。この図は,電気抵抗値がそれぞれ10,1
5,20KΩ/cmにおける線引温度,そして線速を示
す。線引温度を低下させると,コア2aおよびクラッド
2bからなる光ファイバの直径が細くなり,線速が遅く
なる。これにより,原料ガスの分解温度を効果的に低下
させることができる。さらに,第1実施例を参照して述
べたように,反応部6E内の変化によって電気抵抗値が
上昇するため,個々の設定条件では,ハーメチック被覆
2cの電気抵抗値を一定にするように線引温度を徐々に
上昇させている。
FIG. 7 shows the configuration of a hermetic coated optical fiber manufacturing apparatus according to a second embodiment of the present invention. In this embodiment, as is clear from a comparison with the configuration of the hermetic coated optical fiber manufacturing apparatus shown in FIG.
The configuration is such that the set values of 7 are changed. That is, in this example, the drawing temperature in the drawing furnace is controlled instead of directly controlling the carbon flow rate as in the first embodiment. The relationship between the electrical resistance value and the drawing temperature is shown in FIGS. 8A to 8C. This figure shows that the electrical resistance values are 10 and 1, respectively.
The drawing temperature and drawing speed at 5 and 20 KΩ/cm are shown. When the drawing temperature is lowered, the diameter of the optical fiber consisting of the core 2a and the cladding 2b becomes thinner, and the drawing speed becomes slower. Thereby, the decomposition temperature of the raw material gas can be effectively lowered. Furthermore, as described with reference to the first embodiment, since the electrical resistance value increases due to changes in the reaction section 6E, it is necessary to set the wire so that the electrical resistance value of the hermetic coating 2c is constant under each setting condition. The draw temperature is gradually raised.

【0018】本発明の実施に際しては,上述した第1実
施例と第2実施例とを組み合わせることもできる。また
図1および図7において,渦電流発生・検出用コイル2
0を樹脂被覆用ダイス10とキャプスタンローラー11
との間に配設してもよい。さらに,本発明においては,
渦電流発生・検出用コイル20とハーメチック被覆2c
とは接触しないので,レーザー外径測定器9と樹脂被覆
用ダイス10との間に配設して,ハーメチック被覆2c
の電気抵抗値を測定することもできる。
When implementing the present invention, the above-described first embodiment and second embodiment can also be combined. In addition, in Figures 1 and 7, the eddy current generation/detection coil 2
0, resin coating die 10 and capstan roller 11
It may be placed between. Furthermore, in the present invention,
Eddy current generation/detection coil 20 and hermetic coating 2c
Since the laser outer diameter measuring device 9 and the resin coating die 10 do not contact
It is also possible to measure the electrical resistance value of

【0019】また渦電流発生・検出用コイル20に印加
する高周波電流は上述した図4に示した波形の他,種々
の波形の高周波電流を印加することができる。図9にそ
の高周波電流波形を示す。この高周波電流は,渦電流発
生・検出用コイル20に流す検出用電流の周波数を3M
Hzとし,検出用電流の平均強度を50Hzで変化させ
たものである。すなわち,第1実施例では高周波電流を
断続(オン・オフ)させたが,この第2実施例では,正
弦波状に変化させる。この例においては,高周波電流の
振幅A2は実効値で3mA,低周波交流の振幅A3は実
効値で10mA,直流バイアス電流D2は20mAであ
った。この場合,電気抵抗測定装置21は,図3に示す
ように,高周波数f3 =3MHZ の交流電源211
と,破線で示した低周波数f4 =50HZ の交流電
源213,たとえば,商用周波数電源を有し,さらに,
50HZ の交流電流に3MHZ の電流を加算する回
路214を有している。この加算された交流電流は渦電
流発生・検出用コイル20に印加される。この例におい
ても,上述したように,ハーメチック被覆2cの電気抵
抗値に応じた位相角を求めることができ,その位相角か
らハーメチック被覆2cの電気抵抗値を算出することが
できる。直流バイアス電源212の出力電流を調整する
ことにより,出力点が原点(零点)に近づいた時に,信
号の変化の直線が零点を通るように,補正することがで
きる。また補正をしなくとも複素インピーダンス・ベク
トルの方向のみ,すなわち位相角θを測定すれば,零点
のドリフトとは関係なく安定した測定が可能である。
The high frequency current applied to the eddy current generation/detection coil 20 can have various waveforms in addition to the waveform shown in FIG. 4 described above. FIG. 9 shows the high frequency current waveform. This high frequency current increases the frequency of the detection current flowing through the eddy current generation/detection coil 20 to 3M.
Hz, and the average intensity of the detection current was changed at 50 Hz. That is, in the first embodiment, the high frequency current was turned on and off, but in the second embodiment, it was changed in a sinusoidal manner. In this example, the amplitude A2 of the high frequency current was 3 mA in effective value, the amplitude A3 of the low frequency AC was 10 mA in effective value, and the DC bias current D2 was 20 mA. In this case, as shown in FIG.
and an AC power source 213 with a low frequency f4 = 50 Hz shown by a broken line, for example, a commercial frequency power source, and further,
It has a circuit 214 that adds a 3 MHZ current to a 50 Hz alternating current. This added alternating current is applied to the eddy current generation/detection coil 20. In this example as well, as described above, it is possible to determine the phase angle according to the electrical resistance value of the hermetic coating 2c, and from that phase angle, it is possible to calculate the electrical resistance value of the hermetic coating 2c. By adjusting the output current of the DC bias power supply 212, correction can be made so that the straight line of signal change passes through the zero point when the output point approaches the origin (zero point). Further, even without correction, stable measurement is possible regardless of the drift of the zero point by measuring only the direction of the complex impedance vector, that is, the phase angle θ.

【0020】ハーメチック被覆2cの電気抵抗値を非接
触かつオンラインで行う他の実施例について述べる。図
10は,図1または図7の部分図を示す。この実施例に
おいては,電気抵抗測定装置21がキャプスタンローラ
ー11とダンサーローラー12との間に配設された振動
台28を,渦電流を発生させる高周波電流の1/10程
度の200HZ 程度の振動数で高速に振動させ,この
載置台28に載置された渦電流発生・検出用コイル20
を移動するハーメチック被覆光ファイバ素線2Bの近傍
で高速に振動させる。この振動は上述した高周波電流を
低い周波数電流に加算して平均電力を変化させることに
等しい。したがって,この方法によっても,移動するハ
ーメチック被覆光ファイバ素線2B内のハーメチック被
覆2cの電気抵抗値を非接触かつオンラインが正確に測
定することができる。なお,渦電流発生・検出用コイル
20を固定しておき,移動するハーメチック被覆光ファ
イバ素線2Bを渦電流発生・検出用コイル20に対して
振動させてもよい。以上から明らかなように,渦電流発
生・検出用コイル20とハーメチック被覆光ファイバ素
線2Bとの間を渦電流発生用高周波電流の周波数の1/
10程度の周波数で接近・離間させることにより,上述
したと同様にハーメチック被覆2cの電気抵抗値を測定
することができる。
Another embodiment in which the electrical resistance value of the hermetic coating 2c is measured in a non-contact and online manner will be described. FIG. 10 shows a partial view of FIG. 1 or FIG. In this embodiment, an electrical resistance measuring device 21 vibrates a vibration table 28 disposed between a capstan roller 11 and a dancer roller 12 at a frequency of about 200Hz, which is about 1/10 of the high frequency current that generates eddy currents. The coil 20 for generating and detecting eddy current is vibrated at high speed by a number and placed on this mounting table 28.
is vibrated at high speed near the moving hermetic coated optical fiber strand 2B. This oscillation is equivalent to adding the above-mentioned high frequency current to the low frequency current to change the average power. Therefore, with this method as well, it is possible to accurately measure the electrical resistance value of the hermetic coating 2c within the moving hermetically coated optical fiber strand 2B in a non-contact and online manner. Note that the eddy current generation/detection coil 20 may be fixed, and the moving hermetic coated optical fiber strand 2B may be vibrated relative to the eddy current generation/detection coil 20. As is clear from the above, the frequency of the high frequency current for eddy current generation is 1/1 of the frequency between the eddy current generation/detection coil 20 and the hermetic coated optical fiber 2B.
By approaching and separating at a frequency of about 10, the electrical resistance value of the hermetic coating 2c can be measured in the same manner as described above.

【0021】以上の実施例はハーメチック被覆としてア
モルファスカーボン被覆を例示したが,導電性被覆であ
れば上記本発明の方法および装置を適用することができ
る。したがって,たとえば,本発明をアルミニウムなど
の導電性被覆を有するケーブルなどの製造にも用いるこ
とができる。
Although the above embodiments have exemplified an amorphous carbon coating as a hermetic coating, the method and apparatus of the present invention can be applied to any conductive coating. Thus, for example, the invention can also be used to manufacture cables having conductive coatings such as aluminum.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上に述べたように,本発明によれば,
移動しているハーメチック被覆光ファイバ素線内の導電
性ハーメチック被覆の電気抵抗値を非接触かつオンライ
ンで測定し,その結果をハーメチック被覆形成にフィー
ドバックさせることができるので,ハーメチック被覆形
成条件の変化に依存せず,一定の条件を充足するハーメ
チック被覆を形成することができ,不良品の発生を防止
できる。
[Effect of the invention] As described above, according to the present invention,
The electrical resistance value of the conductive hermetic coating inside a moving hermetic coated optical fiber can be measured non-contact and online, and the results can be fed back to the hermetic coating formation, making it possible to easily respond to changes in the hermetic coating formation conditions. It is possible to form a hermetic coating that satisfies certain conditions without depending on the method, and it is possible to prevent the occurrence of defective products.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の第1実施例のハーメチック被覆光ファ
イバの製造装置の構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of a hermetic coated optical fiber manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示したハーメチック被覆光ファイバの製
造装置において製造されるハーメチック被覆光ファイバ
心線の断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a hermetically coated optical fiber core manufactured by the hermetic coated optical fiber manufacturing apparatus shown in FIG. 1;

【図3】図1における電気抵抗測定装置および渦電流発
生・検出用コイルの構成を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing the configuration of the electrical resistance measuring device and the eddy current generation/detection coil in FIG. 1;

【図4】図3の電気抵抗測定装置によって渦電流発生・
検出用コイルに印加される電流波形図である。
[Figure 4] Eddy current generation and
FIG. 3 is a current waveform diagram applied to a detection coil.

【図5】図4に示した渦電流発生・検出用コイルによっ
て検出されるハーメチック被覆の電気抵抗値に相当する
位相角測定結果を示すグラフである。
5 is a graph showing a phase angle measurement result corresponding to the electrical resistance value of the hermetic coating detected by the eddy current generation/detection coil shown in FIG. 4. FIG.

【図6】ハーメチック被覆形成工程における時間経過に
よって変化するハーメチック被覆の電気抵抗値の時間変
化を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing changes over time in the electrical resistance value of the hermetic coating, which changes over time in the hermetic coating forming process.

【図7】本発明の第2実施例のハーメチック被覆光ファ
イバの製造装置の構成を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing the configuration of a hermetic coated optical fiber manufacturing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図8】図7に示したハーメチック被覆光ファイバの製
造装置によるハーメチック被覆の電気抵抗値,線引温度
および線速の関係を示すグラフである。
8 is a graph showing the relationship between the electrical resistance value of the hermetic coating, the drawing temperature, and the drawing speed by the hermetic coating optical fiber manufacturing apparatus shown in FIG. 7. FIG.

【図9】図3に示した電気抵抗測定装置によって渦電流
発生・検出用コイルに印加される電流波形の変形例を示
す図である。
9 is a diagram showing a modified example of the current waveform applied to the eddy current generation/detection coil by the electrical resistance measuring device shown in FIG. 3; FIG.

【図10】本発明のハーメチック被覆光ファイバの製造
装置におけるハーメチック被覆の電気抵抗値を測定すの
他の方法として,渦電流発生・検出用コイルをハーメチ
ック被覆光ファイバ素線に対して振動させる構成を示す
図である。
FIG. 10: Another method for measuring the electrical resistance value of the hermetic coating in the hermetic coating optical fiber manufacturing apparatus of the present invention is a configuration in which an eddy current generation/detection coil is vibrated with respect to the hermetically coated optical fiber strand. FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・プリフォーム,2B・・ハーメチック被覆光ファ
イバ素線,2c・・ハーメチック被覆,5・・線引炉の
ヒータ,6・・反応管,6E・・反応部,7・・圧力セ
ンサ,9・・レーザー外径測定器,10・・樹脂被覆用
ダイス,11・・キャプスタンローラー,12・・ダン
サーローラー,13・・巻取りドラム,14・・窒素ガ
スボンベ,15・・アセチレンガスボンベ,20・・渦
電流発生・検出用コイル,21・・電気抵抗測定装置,
22・・プロセス制御装置,23〜26・・MFC,2
7・・温度調整器,28・・振動載置台。
1... Preform, 2B... Hermetic coating optical fiber strand, 2c... Hermetic coating, 5... Heater of drawing furnace, 6... Reaction tube, 6E... Reaction part, 7... Pressure sensor, 9 ...Laser outer diameter measuring device, 10.. Resin coating die, 11.. Capstan roller, 12.. Dancer roller, 13.. Winding drum, 14.. Nitrogen gas cylinder, 15.. Acetylene gas cylinder, 20.・Eddy current generation/detection coil, 21...Electrical resistance measuring device,
22...Process control device, 23-26...MFC, 2
7. Temperature regulator, 28. Vibration mounting table.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  コアおよびクラッドを有する光ファイ
バに導電性ハーメチック被覆を形成する光ファイバの製
造方法において,渦電流検査法に基づいて上記ハーメチ
ック被覆の電気抵抗値を非接触,オンラインで測定し,
この測定した電気抵抗値に基づいてオンラインでハーメ
チック被覆形成条件を調整することを特徴とするハーメ
チック被覆光ファイバの製造方法。
Claim 1. A method for manufacturing an optical fiber in which a conductive hermetic coating is formed on an optical fiber having a core and a cladding, the electrical resistance value of the hermetic coating being measured non-contact and online based on an eddy current testing method,
A method for producing a hermetic coated optical fiber, comprising adjusting hermetic coat forming conditions online based on the measured electrical resistance value.
【請求項2】  導電性ハーメチック被覆が形成された
光ファイバの移動経路の近傍に配設された渦電流発生お
よび検出用コイル,このコイルに,その平均強度が変化
し,上記ハーメチック被覆に渦電流を発生させる高周波
電流を印加する手段,上記コイルでハーメチック被覆に
発生した渦電流を検出した渦電流検出値からハーメチッ
ク被覆の電気抵抗値を算出する手段,この算出された電
気抵抗値に基づいてハーメチック被覆形成装置を制御す
る制御手段を有するハーメチック被覆光ファイバ製造装
置。
2. An eddy current generation and detection coil disposed near the moving path of an optical fiber on which a conductive hermetic coating is formed, the average intensity of which changes, and an eddy current generated in the hermetic coating. means for applying a high-frequency current that generates eddy current generated in the hermetic coating by the coil; means for calculating the electrical resistance value of the hermetic coating from the detected eddy current value obtained by detecting the eddy current generated in the hermetic coating by the above-mentioned coil; A hermetic coated optical fiber manufacturing apparatus having a control means for controlling a coating forming apparatus.
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