JPH04312891A - Screening mask, method of screening and method of formation of conductor pattern - Google Patents

Screening mask, method of screening and method of formation of conductor pattern

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JPH04312891A
JPH04312891A JP403292A JP403292A JPH04312891A JP H04312891 A JPH04312891 A JP H04312891A JP 403292 A JP403292 A JP 403292A JP 403292 A JP403292 A JP 403292A JP H04312891 A JPH04312891 A JP H04312891A
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distance
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Abstract

PURPOSE: To adhere a conductive paste in a selective thickness onto a substrate. CONSTITUTION: A screening mask 10 for forming an image pattern corresponding to a conductive line, via and pad to be adhered to an electronic substrate 31 can be thinned in a screening paste adhered onto a shape isolated at a distance of a predetermined distance or less by a selective disposition of a reinforcing tab 22. When a lamination of the substrates is executed, the paste is slightly developed in a thin part to other part. Accordingly, at the pattern part isolated at the distance of a predetermined distance or less, a short-circuit and an improper withstand voltage capability can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、ペーストを薄いシート
材料上へスクリーニングするための装置に関する。更に
詳細には、好ましい実施例において本発明は、セラミッ
クエレクトロニクス・パッケージング基板上のスクリー
ニングされた導体間の短絡を減少させるための、選択的
タブ配置を有する改良されたスクリーニングマスクに関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for screening paste onto thin sheet materials. More particularly, in a preferred embodiment, the present invention is directed to an improved screening mask with selective tab placement to reduce shorts between screened conductors on a ceramic electronics packaging substrate.

【0002】0002

【従来の技術】集積回路半導体パッケージ構造体用の多
層セラミック(multilayer ceramic
、MLC)基板の製造において、樹脂バインダー、粒子
状セラミック材料、溶剤及び可塑剤を含むスラリーをド
クターブレードすることによって、複数のグリーンセラ
ミックシートが形成される。ドクターブレードされたシ
ートは乾燥されて、適切な大きさのシートに切断される
。次に、シートを貫通する電気的相互接続を形成するた
めのバイア孔があけられる。孔内及びシート表面の配線
パターン内に導電性のペーストが付着され、シートが積
重ねられて積層(ラミネーション)された後、このアセ
ンブリは焼結温度で焼かれる。最終生成物の一例は、米
国特許第4、245、273号に開示されている。この
ような基板は数ダース以上の個々の層を有することがで
き、各層は特有のパターンを有する。パターンには、個
々のバイア孔を充満するメタライゼーション、バイア孔
を相互接続する薄い導電線、外部層上のバイア孔を包囲
するパッド、及び電力又は接地パターンを形成する大型
導電領域が含まれる。
BACKGROUND OF THE INVENTION Multilayer ceramic for integrated circuit semiconductor package structures.
, MLC), a plurality of green ceramic sheets are formed by doctor blading a slurry containing a resin binder, particulate ceramic material, solvent, and plasticizer. The doctor bladed sheet is dried and cut into appropriately sized sheets. Via holes are then drilled to form electrical interconnections through the sheet. After a conductive paste is deposited in the holes and in the wiring pattern on the sheet surface and the sheets are stacked and laminated, the assembly is fired at a sintering temperature. An example of the final product is disclosed in US Pat. No. 4,245,273. Such substrates can have several dozen or more individual layers, each layer having a unique pattern. The pattern includes metallization filling individual via holes, thin conductive lines interconnecting the via holes, pads surrounding the via holes on external layers, and large conductive areas forming power or ground patterns.

【0003】グリーンセラミックシート上の導電ペース
トの付着は、各層毎に特有の開孔パターンを有する薄型
金属マスクを介してペーストを押し出すことによって実
行されるのが典型的である。更に詳細には、グリーンシ
ートのメタライゼーションはスクリーニングノズルによ
って行われ、ノズルがグリーンシートと接触して金属マ
スクを横切りながら金属化ペーストを押し出すことによ
って達成される。このスクリーニングプロセスは、米国
特許第4、362、486号に開示されたようなマシー
ンにおいて自動化することができる。
[0003] Deposition of conductive paste on green ceramic sheets is typically accomplished by extruding the paste through a thin metal mask having a unique pattern of apertures for each layer. More specifically, metallization of the green sheet is accomplished by a screening nozzle that extrudes the metallization paste in contact with the green sheet and across a metal mask. This screening process can be automated in a machine such as that disclosed in US Pat. No. 4,362,486.

【0004】先行技術のスクリーニングマスクは、ペー
ストを基板上へ付着するために選択的にパターン形成さ
れたメッシュスクリーニングを使用した。テクノロジー
の進歩によって、より高密度の基板パターン及びより微
細な導電ラインが必要とされ、比較的大きいスクリーン
メッシュに起因する微細導電ラインの欠損のため、メッ
シュスクリーンマスクはペースト付着にとって適切では
ないとされた。この問題は、所望の基板パターンを表示
する開口パターンを有する金属スクリーニングマスクの
開発によって解決された。しかしながら、このようなマ
スクは十分な構造上の支持を持たず、パターンを架橋す
るタブの追加によって補強する必要がある。このような
タブの使用は、カッチ(Kutch) らの”IBM 
Technical DisclosureBulle
tin, Vol. 12, No. 12, 197
0年 5月, 2073−2074 頁”及びバーン(
Byrne)の”IBM Technical Dis
closure Bulletin, Vol. 18
, No.4, 1975 年 9月, 1035頁”
に開示されている。エッチング技法を使用するこのよう
なマスクの製造方法は、ギブニー(Gibney)らの
”IBM Technical Disclosure
 Bulletin, Vol. 19, No. 3
, 1976 年 8月, 930−931 頁”及び
ギブニー(Gibney)らの”IBM Techni
cal Disclosure Bulletin, 
Vol. 19, No. 5, 1976 年10月
, 1790−1971 頁”に開示されている。薄膜
エレクトロルミネセント表示パネルの製造用のスクリー
ニングマスクにおける補強タブの使用は、米国特許第4
、615、781号及び第4、715、940号に開示
されている。上記参考文献に記載された型のマスクを横
切ってペーストがスクリーニングされるとき、ペースト
はマスクによって画定されたパターン内へ圧入される。 タブの厚さはマスクの厚さより薄く、ペーストはタブ下
方へ圧入されて基板上に連続導電パスを形成する。
Prior art screening masks used selectively patterned mesh screening to deposit paste onto a substrate. As technology advances require denser substrate patterns and finer conductive lines, mesh screen masks are considered unsuitable for paste deposition due to the loss of fine conductive lines caused by relatively large screen meshes. Ta. This problem was solved by the development of a metal screening mask with an aperture pattern displaying the desired substrate pattern. However, such masks do not have sufficient structural support and need to be reinforced by the addition of tabs that bridge the pattern. The use of such tabs is described in Kutch et al.'s “IBM
Technical Disclosure Bullet
tin, Vol. 12, No. 12, 197
May 0, pp. 2073-2074” and Byrne (
Byrne)'s “IBM Technical Dis
Closure Bulletin, Vol. 18
, No. 4, September 1975, p. 1035”
has been disclosed. Methods for manufacturing such masks using etching techniques are described in Gibney et al., “IBM Technical Disclosure.
Bulletin, Vol. 19, No. 3
, August 1976, pp. 930-931" and Gibney et al., "IBM Techni.
cal Disclosure Bulletin,
Vol. 19, No. 5, October 1976, pp. 1790-1971. The use of reinforcing tabs in screening masks for the manufacture of thin film electroluminescent display panels is disclosed in U.S. Pat.
, 615,781 and 4,715,940. When the paste is screened across a mask of the type described in the above reference, the paste is forced into the pattern defined by the mask. The thickness of the tab is less than the thickness of the mask, and the paste is pressed under the tab to form a continuous conductive path on the substrate.

【0005】近接するライン及びバイア間隔を有する多
層基板の製造上で認められない問題は、既に近接してい
る間隔を減少させる、ラミネーション及び焼結プロセス
の間のスクリーニングペーストの延展である。その結果
、完成した基板は、ライン間又はラインとバイアとの間
に容認できない耐電圧能力を有するであろう。またある
場合には、これらの構造体の間に短絡が存在する。
An unrecognized problem in the manufacture of multilayer substrates with close line and via spacing is the spreading of screening paste during the lamination and sintering processes, which reduces the already close spacing. As a result, the finished board will have unacceptable voltage withstanding capability between lines or between lines and vias. Also, in some cases, short circuits exist between these structures.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】先行技術の認められな
い問題は、選択的厚さの導電ペーストの付着を考慮に入
れたスクリーニングマスク及び方法が必要であることを
示している。従って、本発明の目的は、選択的厚さの導
電ペーストの付着のために、選択的タブ配置を有するス
クリーニングマスクを提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Unacknowledged problems in the prior art demonstrate the need for a screening mask and method that allows for the deposition of selective thicknesses of conductive paste. It is therefore an object of the present invention to provide a screening mask with selective tab placement for the deposition of conductive paste of selective thickness.

【0007】更に本発明の目的は、選択的タブ配置がマ
スクの構造上の支持も提供するようなマスクを提供する
ことである。
It is a further object of the present invention to provide a mask in which the selective tab placement also provides structural support for the mask.

【0008】また更に本発明の目的は、得られる基板の
電気的性能を低下させることなく、導電ペーストの選択
的付着を可能にするマスクを提供することである。
A still further object of the present invention is to provide a mask that allows selective deposition of conductive paste without degrading the electrical performance of the resulting substrate.

【0009】更に、本発明のもう1つの目的は、本発明
の選択的タブ配置スクリーニングマスクを使用する選択
的ペースト付着方法を提供することである。
Yet another object of the present invention is to provide a selective paste deposition method using the selective tab placement screening mask of the present invention.

【0010】0010

【課題を解決するための手段及び作用】本発明のこれら
及び他の目的に従って、パターンを基板へ転写するため
のスクリーニングマスクが提供される。マスクには、ス
クリーニング操作の間マスクを固定するためのボーダ(
縁部)が含まれることが好ましい。第1スクリーニング
表面はスクリーニングペーストを含むデバイスと接触す
るよう構成され、第2スクリーニング表面は基板と接触
するように適合される。マスクには、第1表面から第2
表面へ延長する開孔形状のパターンが含まれる。マスク
の可変形状間隔は、所定距離以下の距離によって隔てら
れた形状を含む。所定距離以下の距離によって隔てられ
た形状の欠陥は、これらの形状の領域に、より薄いペー
ストを選択的に付着することによって防止することがで
きる。電子基板の製造に使用されるスクリーニングされ
たグリーンセラミックシートでは、所定距離以下の距離
によって隔てられた形状を通って付着されたペーストは
、ラミネーションプロセスの間に延展し、完成基板に短
絡の問題を生じる。所定距離以下の距離によって隔てら
れた形状に近接するタブは、形状を架橋し、選択的によ
り薄いペーストを付着するのを手助けする。
SUMMARY OF THE INVENTION In accordance with these and other objects of the invention, a screening mask is provided for transferring a pattern to a substrate. The mask includes a border (
Preferably, the edges) are included. The first screening surface is configured to contact a device containing a screening paste, and the second screening surface is adapted to contact a substrate. The mask has a first surface to a second surface.
It includes a pattern of aperture shapes that extend to the surface. The variable shape spacing of the mask includes shapes that are separated by a distance that is less than or equal to a predetermined distance. Defects with features separated by a distance less than a predetermined distance can be prevented by selectively applying thinner paste to areas of these features. In screened green ceramic sheets used in the manufacture of electronic boards, paste deposited through features separated by a distance less than a predetermined distance can spread during the lamination process and cause shorting problems on the finished board. arise. Tabs adjacent to the features separated by a distance less than or equal to a predetermined distance help bridge the features and selectively deposit thinner pastes.

【0011】本発明はまた、電子基板に導体のパターン
を形成するためのスクリーニングマスクを提供する。マ
スクの周辺領域には、自動スクリーニングマシーンのよ
うなスクリーニング装置へマスクを固定するための手段
が含まれるのが好ましい。第1の平坦な表面は周辺領域
で終結し、スクリーニングマシーンのペーストノズルと
接触するように適合される。第2の平坦な表面は周辺領
域で終結し、マスクがスクリーニングマシーンのスクリ
ーニング位置に配置されるときにスクリーニング基板と
接触するように適合される。マスクの厚さを通って第1
表面から第2表面へ延長するパターンは、基板上に形成
されるべき可変的に間隔が隔てられる導体パターンを画
定する。マスクパターンの複数の導体イメージセクショ
ンは、最小中心距離以下の距離を有する。この最小中心
距離以下の距離だけ隔てられた導体イメージセクション
によって、ラミネーションプロセスの間にペーストが延
展して最終生成物に短絡を生じるので、欠陥のある導体
の付着が引き起こされる。しかしながら、本発明による
と、第1表面のタブが、最小中心距離以下の距離を有す
る複数の導体イメージセクションを架橋する。タブの厚
さはマスク厚より薄く、スクリーニング位置においてタ
ブ及び基板はスクリーニングペースト開孔を画定する。
The present invention also provides a screening mask for forming a pattern of conductors on an electronic substrate. Preferably, the peripheral area of the mask includes means for securing the mask to a screening device, such as an automatic screening machine. The first flat surface terminates in a peripheral area and is adapted to contact the paste nozzle of the screening machine. A second planar surface terminates in the peripheral region and is adapted to contact the screening substrate when the mask is placed in a screening position of the screening machine. 1st through the thickness of the mask
A pattern extending from the surface to the second surface defines a variably spaced conductor pattern to be formed on the substrate. The plurality of conductor image sections of the mask pattern have a distance that is less than or equal to the minimum center distance. Conductor image sections separated by a distance less than this minimum center distance can cause defective conductor deposition as the paste spreads during the lamination process and creates shorts in the final product. However, according to the present invention, the tabs on the first surface bridge the plurality of conductor image sections having a distance that is less than or equal to the minimum center distance. The thickness of the tab is less than the thickness of the mask, and at the screening location the tab and substrate define a screening paste aperture.

【0012】また本発明は、パターンがその上にスクリ
ーニングされるべき基板部分に対して、パターンを画定
する可変的に間隔が隔てられた開孔形状を有するマスク
を配置することを含む、基板上へパターンをスクリーニ
ングするための方法を提供する。マスクは形状を架橋す
るタブを含み、タブは所定距離以下の距離だけ隔てられ
た形状へ近接する。開口はタブと基板との間でマスク及
び基板によって画定される。次に本発明の方法は、マス
ク上及び開孔形状内へペーストをスクリーニングし、パ
ターンを基板へ転写することを含む。得られた基板パタ
ーンは、タブのない領域における厚さよりもタブのある
領域の厚さのほうが薄い。
[0012] The present invention also provides a method for forming a mask on a substrate comprising: disposing a mask having a shape of variably spaced apertures defining a pattern over a portion of the substrate on which a pattern is to be screened; provides a method for screening patterns. The mask includes tabs that bridge the shapes, the tabs being adjacent to the shapes separated by a distance that is less than or equal to a predetermined distance. An opening is defined between the tab and the substrate by the mask and the substrate. The method then includes screening the paste onto the mask and into the aperture shapes and transferring the pattern to the substrate. The resulting substrate pattern is thinner in areas with tabs than in areas without tabs.

【0013】[0013]

【実施例】図面についてより詳細に説明する。特に本発
明の図1(A)及び図1(B)を参照すると、本発明に
従うマスク10が示されている。マスク周辺領域のボー
ダ11は、好ましくは、スクリーニング操作の間マスク
10をスクリーニング装置へ固定するための手段を含む
。図示される実施例では、ボーダ11はフレーム15へ
接着剤によって固定される。そして、クランプ18のホ
ール20内に嵌め込まれたスクリーニング装置のテーパ
・ピン上へフレーム15を配置することによって、フレ
ーム15はスクリーニング装置へ固定される。このシス
テムのアライメントについては、以下に更に説明される
。マスクをスクリーニング装置へ直接固定するための形
状を組込んだボーダを有するマスクもまた、本発明の範
囲内にある。しかしながら、フレーム15の使用によっ
て、薄いマスクが使用される際、より頑丈な界面がスク
リーニング装置へ提供される。マスクの第1の平坦な表
面12はボーダ11で終結し、米国特許第4、362、
486号で開示されるスクリーニング装置のペーストノ
ズルのようなスクリーニングペーストを含むデバイスと
接触するよう構成される。第2の平坦な表面13もまた
ボーダ11で終結し、スクリーニング装置のスクリーニ
ング位置にマスクが配置されたときに基板31と接触す
るように適合される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The drawings will be explained in more detail. Referring specifically to FIGS. 1A and 1B of the present invention, a mask 10 according to the present invention is shown. The border 11 of the mask peripheral area preferably includes means for securing the mask 10 to the screening device during screening operations. In the illustrated embodiment, the border 11 is fixed to the frame 15 by adhesive. The frame 15 is then secured to the screening device by placing the frame 15 over the taper pin of the screening device fitted into the hole 20 of the clamp 18. The alignment of this system is discussed further below. Masks having borders that incorporate features for directly securing the mask to a screening device are also within the scope of the invention. However, the use of frame 15 provides a more robust interface to the screening device when thin masks are used. The first planar surface 12 of the mask terminates in a border 11, as described in U.S. Pat. No. 4,362;
The present invention is configured to contact a device containing a screening paste, such as the paste nozzle of the screening apparatus disclosed in '486. A second flat surface 13 also terminates in the border 11 and is adapted to contact the substrate 31 when the mask is placed in the screening position of the screening device.

【0014】パターン14は、第1の平坦な表面12か
ら第2の平坦な表面13へマスク10を厚さ方向に貫通
して延長する複数の開孔形状からなる。既に説明したよ
うに、パターンは、バイア及びパッド、可変的に隔てら
れた信号ライン、又は電力及び接地メタライゼーション
のような、グリーンシートへ転写されるべき可変的に間
隔が隔てられた導体イメージを画定する。形状及び導体
イメージという用語は、このパターンの開孔形状を説明
するために、交換可能に使用される。
Pattern 14 is comprised of a plurality of aperture shapes extending through the thickness of mask 10 from first flat surface 12 to second flat surface 13 . As previously discussed, the pattern provides variably spaced conductor images to be transferred to the green sheet, such as vias and pads, variably spaced signal lines, or power and ground metallization. Define. The terms shape and conductor image are used interchangeably to describe the aperture shape of this pattern.

【0015】記載された電子的応用の他に、本発明は、
パターンのスクリーニングが実行され狭い形状間隔のた
めに選択的なペースト厚が所望されるどんな他の応用に
おいても使用することができる。電子基板の応用におい
て、多数のマスク形状は、複数の基板のラミネーション
及び焼結においてペーストが延展するために生じる短絡
又は電圧破壊の問題を防止するのに十分な間隔を有する
。しかし、導体イメージの多くのセクションは、より狭
い所定距離によって隔てられている。この距離の下では
、スクリーニングされた基板のラミネーションの際、導
体の延展が短絡及び電圧破壊の問題を引き起こす。
In addition to the electronic applications described, the invention also includes:
It can be used in any other application where pattern screening is performed and selective paste thickness is desired due to narrow feature spacing. In electronic substrate applications, the multiple mask shapes have sufficient spacing to prevent short circuit or voltage breakdown problems caused by paste spreading during lamination and sintering of multiple substrates. However, many sections of the conductor image are separated by smaller predetermined distances. Below this distance, conductor extension causes short circuit and voltage breakdown problems during lamination of screened substrates.

【0016】マスク形状の例は、図2(A)〜図2(D
)に示されている。図2(A)及び図2(B)は、バイ
アを包囲する導電ライン及びパッドを含む電子基板の外
側層へ転写されるべきパターンを説明している。この場
合、所定距離以下の距離によって隔てられた形状は、導
電ライン及びパッドで終結するラインを画定する。所定
距離とは、介在する金属ウェブの幅に対応する開口間の
距離である。有効な間隔は、隣接する開孔形状の中心間
の中心距離としても特徴付けられる。隣接する開口の各
幅の半分が加算された所定距離である中心距離は、形状
間の許容される所定距離に基づいて派生される。形状間
隔を説明する際に、この用語を使用するのが便利なこと
が多い。図2(C)及び図2(D)は、導電ライン及び
バイアを含む電子基板の内側層へ転写されるべきパター
ンを説明している。この場合、所定距離以下の距離によ
って隔てられた形状は導電ライン及びバイアを画定する
Examples of mask shapes are shown in FIGS. 2(A) to 2(D).
) is shown. Figures 2A and 2B illustrate the pattern to be transferred to the outer layer of the electronic board, including conductive lines and pads surrounding the vias. In this case, the features separated by a distance less than or equal to a predetermined distance define a conductive line and a line terminating in a pad. The predetermined distance is the distance between the openings that corresponds to the width of the intervening metal web. Effective spacing is also characterized as the center-to-center distance between the centers of adjacent aperture shapes. A center distance, which is a predetermined distance of the sum of half the widths of adjacent openings, is derived based on the allowed predetermined distance between shapes. It is often convenient to use this term when describing feature spacing. Figures 2(C) and 2(D) illustrate the pattern to be transferred to the inner layer of the electronic board, including conductive lines and vias. In this case, features separated by a distance less than or equal to a predetermined distance define conductive lines and vias.

【0017】内側層の導体イメージセクションの場合、
例えば、図2(D)の”a”のような所定距離は、約0
.0040〜0.0073インチ(0.10〜0.19
ミリメートル)の範囲にある。外側層上の形状の場合、
例えば、図2(B)の”c”のような所定距離は、約0
.0025〜0.0073インチ(0.06〜0.19
ミリメートル)の範囲にある。好ましいライン幅は、0
.002〜0.005インチ(0.05〜0.13ミリ
メートル)の範囲内である。別の言い方をすると、例え
ば、図2(C)の”b”のような最小中心距離は、全て
の層について、約0.008〜0.012インチ(0.
20〜0.30ミリメートル)の範囲内である。また将
来は、線幅の減少が達成されて、大幅に小さくなるであ
ろう。
For the conductor image section of the inner layer:
For example, the predetermined distance such as “a” in FIG. 2(D) is approximately 0.
.. 0040~0.0073 inch (0.10~0.19
millimeters). For shapes on the outer layer,
For example, a predetermined distance such as “c” in FIG. 2(B) is approximately 0.
.. 0025~0.0073 inch (0.06~0.19
millimeters). The preferred line width is 0
.. Within the range of 0.002 to 0.005 inches (0.05 to 0.13 mm). Stated another way, the minimum center-to-center distance, such as "b" in FIG.
20-0.30 mm). Also in the future, a reduction in line width will be achieved and will become significantly smaller.

【0018】既に記載したように、間隔が近接した微細
形状を生成するために現在使用されているマスクへ構造
上の剛性を提供するためには架橋タブが必要である。本
発明において、形状を架橋するタブは、所定距離以下の
距離だけ隔てられたこれらの形状に近接して配置される
。タブは第1表面12上に配置され、第2表面13へ向
かって延長するが、マスク厚全体よりも薄い厚さを有す
る。もし所定距離以下の距離を有する導体イメージセク
ションを架橋するこれらのタブによって十分なマスク支
持が提供されなければ、追加のタブを提供することが可
能である。
As previously noted, bridging tabs are necessary to provide structural rigidity to masks currently used to produce closely spaced features. In the present invention, tabs bridging shapes are placed adjacent to these shapes separated by a distance that is less than or equal to a predetermined distance. The tab is disposed on the first surface 12 and extends towards the second surface 13, but has a thickness that is less than the entire mask thickness. If sufficient mask support is not provided by these tabs bridging conductor image sections having a distance of less than a predetermined distance, additional tabs may be provided.

【0019】図2(A)から図2(D)を参照すると、
マスクの導体イメージセクション上のタブ配置の例が示
されている。図2(A)では、ライン23はパッド21
と接続し、この結合イメージはライン35と平行に走る
。タブ22はこれらの形状に近接して選択的に配置され
る。図2(B)では、ライン26はパッド25で終結し
、この形状の一部はライン24から所定距離以下の距離
に配置されている。タブ22は、所定距離以下の距離だ
け隔てられたこれらの形状部分に近接して配置される。 図2(C)では、ライン28及びバイア27が所定距離
以下の距離だけ隔てられている。タブ22はこれらの形
状に近接して配置される。図2(D)では、ライン30
はライン29から所定距離以下の距離だけ隔てられた部
分を有する。タブ22は、これらのラインが所定距離以
下の距離だけ隔てられたところに配置される。
Referring to FIGS. 2(A) to 2(D),
An example of tab placement on a conductor image section of a mask is shown. In FIG. 2(A), the line 23 is the pad 21
and this combined image runs parallel to line 35. Tabs 22 are selectively placed proximate these shapes. In FIG. 2B, line 26 terminates at pad 25, and a portion of this feature is located at a distance less than a predetermined distance from line 24. In FIG. The tabs 22 are placed adjacent to these features separated by a distance that is less than or equal to a predetermined distance. In FIG. 2C, line 28 and via 27 are separated by a distance that is less than or equal to a predetermined distance. Tabs 22 are placed in close proximity to these shapes. In FIG. 2(D), line 30
has a portion separated from line 29 by a distance less than or equal to a predetermined distance. The tabs 22 are placed where these lines are separated by a distance that is less than or equal to a predetermined distance.

【0020】図3を参照すると、図2(A)に表示され
たマスク形状の断面図が示されている。マスク10は、
基板31に当接する基板接触位置内にある。マスク10
は、タブ22と基板31との間の開口内に、スクリーニ
ングペースト開孔33を画定する。図面からわかるよう
に、タブ厚”d”は、マスク厚”e”よりも薄い。図示
された実施例では、開口33は約0.0015インチ(
0.038ミリメートル)の高さ”f”を有し、全体の
マスク厚は約0.0035インチ(0.089ミリメー
トル)である。スクリーニング操作の間、導電ペースト
は開口33を介して圧入され、タブ下方のエリアにペー
スト32の厚さがより薄い部分34を形成する。好まし
い実施例において、スクリーニングされたペーストの通
常の厚さは0.0015インチ(0.038ミリメート
ル)であり、タブ下方のより薄い厚さは0.0008イ
ンチ(0.02ミリメートル)である。このペースト厚
のより薄い部分は、電気信号の導電性に適切な抵抗を提
供し、セラミックグリーンシートを組込んだ基板から製
造される電子装置システムの操作性を低下させることが
ない。
Referring to FIG. 3, a cross-sectional view of the mask shape shown in FIG. 2A is shown. The mask 10 is
It is in a substrate contact position where it abuts the substrate 31. mask 10
defines a screening paste aperture 33 within the opening between tab 22 and substrate 31 . As can be seen from the drawing, the tab thickness "d" is thinner than the mask thickness "e". In the illustrated embodiment, opening 33 is approximately 0.0015 inches (
The total mask thickness is approximately 0.0035 inches (0.089 mm). During the screening operation, the conductive paste is forced through the opening 33, forming a thinner portion 34 of the paste 32 in the area below the tab. In a preferred embodiment, the typical thickness of the screened paste is 0.0015 inches (0.038 millimeters) and the thinner thickness below the tab is 0.0008 inches (0.02 millimeters). This thinner portion of paste thickness provides adequate resistance to the conductivity of electrical signals and does not degrade the operability of electronic device systems fabricated from substrates incorporating ceramic green sheets.

【0021】図1(A)に示される実施例では、マスク
は、モリブデン又はニッケルめっきされた銅から成るグ
ループから選択される金属から、エッチングによって製
造されるのが好ましい。フレーム15は、スクリーニン
グマシーンに取付けられたときに構造上の完全性を保持
するのに十分な厚さを有する。図1(B)に示される厚
さはかなり誇張されており、マスクのスクリーニング部
分はフレームよりも極めて薄い。
In the embodiment shown in FIG. 1A, the mask is preferably manufactured by etching from a metal selected from the group consisting of molybdenum or nickel-plated copper. Frame 15 has sufficient thickness to maintain structural integrity when attached to the screening machine. The thickness shown in FIG. 1B is greatly exaggerated, with the screening portion of the mask being much thinner than the frame.

【0022】マスク10がマスクフレーム15へ接着さ
れるとき、マスクをフレームと位置合わせするために接
着前に、マスクはホール16及びフレームホール17を
介して取付け具に取付けられる。最終アライメント調整
は、他のフレームホール19とクランプホール20との
間の直径差異を用いて行われる。クランプホール20は
スクリーニングマシーンのテーパ・ピンと係合し、マス
クをスクリーニング位置に取り付ける。
When the mask 10 is bonded to the mask frame 15, the mask is attached to the fixture via holes 16 and frame holes 17 prior to bonding to align the mask with the frame. Final alignment adjustments are made using the diameter difference between the other frame holes 19 and clamp holes 20. Clamp holes 20 engage tapered pins of the screening machine to attach the mask to the screening position.

【0023】スクリーニング操作の第1工程は、スクリ
ーニングマシーンのスクリーニング位置にグリーンシー
トのような電子基板を提供することである。本発明のス
クリーニングマスクは、次に基板と接触して配設される
。次に、導電ペーストがマスクを横切ってスクリーニン
グされ、マスクパターンを基板へ不均一に転写する。 スクリーニングされた導体が、マスクのタブされた部分
に対応するグリーンシート部分において、厚さのより薄
い断面エリアを有するという点で、転写は均一ではない
。既に述べたように、タブは、所定間隔以下の間隔を隔
てた形状と近接して提供され、他のエリアでは必要に応
じてマスクの構造上の支持を提供する。ペーストがマス
クを介して基板上へスクリーニングされると、マスクは
基板から除去され、基板がスクリーニング位置から除去
され、別の基板がスクリーニング位置に配置される。 この操作は必要なだけ続けられ、連続フロー操作とする
ことができる。
The first step in the screening operation is to provide an electronic substrate, such as a green sheet, to the screening position of the screening machine. A screening mask of the invention is then placed in contact with the substrate. A conductive paste is then screened across the mask, non-uniformly transferring the mask pattern to the substrate. The transfer is not uniform in that the screened conductor has a thinner cross-sectional area of thickness in the greensheet portions corresponding to the tabbed portions of the mask. As previously mentioned, the tabs are provided in close proximity to the features spaced apart by a predetermined distance or less and provide structural support for the mask in other areas as needed. Once the paste has been screened through the mask onto the substrate, the mask is removed from the substrate, the substrate is removed from the screening location, and another substrate is placed in the screening location. This operation can continue as long as necessary, making it a continuous flow operation.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のスクリー
ニングマスクを使用すると、補強タブの選択的配置によ
って、所定距離以下の距離だけ隔てられた形状の上へ付
着するペーストをより薄くすることができる。従って、
ラミネーション操作の間にペーストが少ししか延展しな
いので、短絡及び不適切な耐電圧能力を防止することが
可能である。
As explained above, when the screening mask of the present invention is used, the paste that adheres to the shapes separated by a predetermined distance or less can be made thinner by selectively arranging the reinforcing tabs. can. Therefore,
Since the paste spreads only a little during the lamination operation, it is possible to prevent short circuits and inadequate voltage-withstanding capability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】(A)は、本発明のスクリーニングマスクの平
面図である。(B)は、基板をスクリーニングするため
に配置されたスクリーニングマスクの側面図である。
FIG. 1 (A) is a plan view of a screening mask of the present invention. (B) is a side view of a screening mask arranged to screen a substrate.

【図2】(A)〜(D)は、本発明の選択的タブを有す
るパターンの種々の実施例の詳細図を示す。
2(A)-(D) show detailed views of various embodiments of patterns with selective tabs of the present invention; FIG.

【図3】図2(A)の線3−3についての断面図である
FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line 3-3 in FIG. 2(A).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10    マスク 11    ボーダ 12    第1の表面 13    第2の表面 14    パターン 15    フレーム 18    クランプ 20    ホール 22    タブ 31    基板 10    Mask 11 Border 12 First surface 13 Second surface 14 Pattern 15 Frame 18 Clamp 20 Hall 22 Tab 31     Substrate

Claims (33)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  パターンを基板へ転写するためのスク
リーニングマスクであって、スクリーニングペーストを
含むデバイスと接触するように適合される第1のスクリ
ーニング表面と、基板と接触するよう適合される第2の
スクリーニング表面と、前記第1の表面から前記第2の
表面へ延長する開孔形状のパターンであって、所定距離
以下の距離によって隔てられた形状を含む可変的な形状
間隔を有するパターンと、形状を架橋するタブであって
、所定距離以下の距離によって隔てられた形状に少なく
とも近接するタブと、を備えたスクリーニングマスク。
1. A screening mask for transferring a pattern to a substrate, comprising a first screening surface adapted to contact a device containing a screening paste and a second screening surface adapted to contact the substrate. a screening surface; a pattern of aperture shapes extending from the first surface to the second surface, the pattern having variable feature spacing including features separated by a distance less than or equal to a predetermined distance; 1. A screening mask comprising: a tab that bridges a shape, the tab being at least close to a shape separated by a distance equal to or less than a predetermined distance;
【請求項2】  スクリーニング操作の間マスクを固定
するための手段を有するボーダを更に備えた請求項1記
載のスクリーニングマスク。
2. The screening mask of claim 1 further comprising a border having means for securing the mask during screening operations.
【請求項3】  マスクへ固定されるマスクフレームを
更に備えた請求項2記載のスクリーニングマスク。
3. The screening mask of claim 2, further comprising a mask frame secured to the mask.
【請求項4】  前記タブは前記第1の表面から延長す
ると共に、第1の表面から第2の表面への距離より薄い
厚さを有することによって、基板と接触する位置におい
てマスクが基板とタブとの間に開口を画定する請求項1
記載のスクリーニングマスク。
4. The tab extends from the first surface and has a thickness that is less than a distance from the first surface to the second surface, such that the mask is in contact with the substrate at a location where the tab contacts the substrate. Claim 1 defining an opening between the
Screening mask as described.
【請求項5】  前記開口は約0.0015インチ(約
0.038ミリメートル)の高さを有する請求項4記載
のスクリーニングマスク。
5. The screening mask of claim 4, wherein the aperture has a height of about 0.0015 inches (about 0.038 millimeters).
【請求項6】  前記マスクは金属を含む請求項1記載
のスクリーニングマスク。
6. The screening mask according to claim 1, wherein the mask includes metal.
【請求項7】  前記金属は、モリブデン及びニッケル
めっきされた銅から成るグループから選択される請求項
6記載のスクリーニングマスク。
7. The screening mask of claim 6, wherein the metal is selected from the group consisting of molybdenum and nickel-plated copper.
【請求項8】  前記パターンは電子基板のライン及び
バイアを画定する請求項1記載のスクリーニングマスク
8. The screening mask of claim 1, wherein the pattern defines lines and vias of an electronic board.
【請求項9】  所定距離以下の距離によって隔てられ
た前記形状がラインを画定する請求項8記載のスクリー
ニングマスク。
9. The screening mask of claim 8, wherein the shapes separated by a distance less than or equal to a predetermined distance define a line.
【請求項10】  前記所定距離は、約0.0040乃
至0.0085インチ(約0.10乃至0.22ミリメ
ートル)の範囲内である請求項9記載のスクリーニング
マスク。
10. The screening mask of claim 9, wherein the predetermined distance is within a range of approximately 0.0040 to 0.0085 inches (approximately 0.10 to 0.22 mm).
【請求項11】  所定距離以下の距離によって隔てら
れた前記形状がライン及びバイアを画定する請求項9記
載のスクリーニングマスク。
11. The screening mask of claim 9, wherein the features separated by a distance less than or equal to a predetermined distance define lines and vias.
【請求項12】  前記所定距離は約0.0040乃至
0.0073インチ(約0.10乃至0.19ミリメー
トル)の範囲内である請求項11記載のスクリーニング
マスク。
12. The screening mask of claim 11, wherein the predetermined distance is within a range of about 0.0040 to 0.0073 inches (about 0.10 to 0.19 millimeters).
【請求項13】  所定距離以下の距離によって隔てら
れた前記形状はライン及びパッドで終結するラインを画
定する請求項8記載のスクリーニングマスク。
13. The screening mask of claim 8, wherein the features separated by a distance less than or equal to a predetermined distance define a line and a line terminating in a pad.
【請求項14】  前記所定距離は約0.0025乃至
0.0073インチ(約0.064乃至0.19ミリメ
ートル)の範囲である請求項13記載のスクリーニング
マスク。
14. The screening mask of claim 13, wherein the predetermined distance is in the range of about 0.0025 to 0.0073 inches (about 0.064 to 0.19 millimeters).
【請求項15】  導体のパターンを電子基板上に形成
するためのスクリーニングマスクであって、スクリーニ
ング装置のペーストノズルと接触するように適合される
第1の平坦な表面と、スクリーニング装置のスクリーニ
ング位置でスクリーニングされるべき基板と接触するよ
う適合される第2の平坦な表面と、基板上に形成される
べき可変的に隔てられた導体パターンを画定する、前記
第1の表面から前記第2の表面へマスク厚を貫くパター
ンであって、前記パターンの複数の導体イメージセクシ
ョンが最小中心距離以下の距離を有するようなパターン
と、最小中心距離以下の距離によって隔てられたパター
ンの複数の導体イメージセクションを少なくとも架橋し
、厚さがマスク厚より薄い第1の平面上のタブであって
、スクリーニング位置においてタブと基板とがスクリー
ニングペースト開孔を画定するようなタブと、を備えた
スクリーニングマスク。
15. A screening mask for forming a pattern of conductors on an electronic substrate, comprising: a first planar surface adapted to contact a paste nozzle of a screening device; and a first planar surface adapted to contact a paste nozzle of a screening device; a second planar surface adapted to contact the substrate to be screened; and the second surface from the first surface defining a variably spaced conductive pattern to be formed on the substrate. a pattern extending through the mask thickness such that a plurality of conductor image sections of the pattern have a distance less than or equal to a minimum center distance; and a plurality of conductor image sections of the pattern separated by a distance less than or equal to a minimum center distance. A screening mask comprising: a tab on a first plane that is at least cross-linked and has a thickness less than the mask thickness, such that at the screening location the tab and the substrate define a screening paste aperture.
【請求項16】  マスクをスクリーニング装置へ固定
するための手段を含む周辺領域を更に備えると共に、第
1及び第2の表面が周辺領域で終結する請求項15記載
のスクリーニングマスク。
16. The screening mask of claim 15, further comprising a peripheral region including means for securing the mask to a screening device, and wherein the first and second surfaces terminate in the peripheral region.
【請求項17】  マスクへ固定されるマスクフレーム
を更に備えた請求項16記載のスクリーニングマスク。
17. The screening mask of claim 16, further comprising a mask frame secured to the mask.
【請求項18】  前記最小中心距離は約0.008乃
至0.012インチ(約0.20乃至0.30ミリメー
トル)の範囲内である請求項15記載のスクリーニング
マスク。
18. The screening mask of claim 15, wherein the minimum center distance is within a range of about 0.008 to 0.012 inches (about 0.20 to 0.30 millimeters).
【請求項19】  最小中心距離以下の距離の前記イメ
ージセクションが導電ラインを画定する請求項15記載
のスクリーニングマスク。
19. The screening mask of claim 15, wherein the image sections at a distance less than or equal to a minimum center distance define conductive lines.
【請求項20】  最小中心距離以下の距離の前記イメ
ージセクションが導電ライン及びバイアを画定する請求
項15記載のスクリーニングマスク。
20. The screening mask of claim 15, wherein the image sections at a distance less than or equal to a minimum center distance define conductive lines and vias.
【請求項21】  最小中心距離以下の距離の前記イメ
ージセクションが導電ライン及びパッドで終結する導電
ラインを画定する請求項15記載のスクリーニングマス
ク。
21. The screening mask of claim 15, wherein the image section at a distance less than or equal to a minimum center distance defines a conductive line and a conductive line terminating in a pad.
【請求項22】  前記マスクは、モリブデン及びニッ
ケルめっきされた銅から成るグループから選択される金
属を含む請求項15記載のスクリーニングマスク。
22. The screening mask of claim 15, wherein the mask comprises a metal selected from the group consisting of molybdenum and nickel-plated copper.
【請求項23】  パターンを基板上へスクリーニング
するための方法であって、パターンを画定する可変的に
隔てられた開孔形状を有するマスクをパターンが形成さ
れるべき基板の部分に対して配置する工程であって、前
記マスクは形状を架橋するタブを含み、タブは所定距離
以下の距離によって隔てられた形状に少なくとも近接し
、タブと基板との間でマスク及び基板によって開口が画
定される工程と、パターンを基板へ転写するためにペー
ストをマスク上及び開孔形状内へスクリーニングする工
程であって、前記基板パターンはタブのない領域におけ
る厚さよりもタブされた領域の厚さのほうが薄い工程と
、を含むスクリーニング方法。
23. A method for screening a pattern onto a substrate, the method comprising: positioning a mask having variably spaced aperture shapes defining a pattern over a portion of the substrate on which the pattern is to be formed. the mask includes tabs bridging the shapes, the tabs are at least proximate to the shapes separated by a distance less than or equal to a predetermined distance, and an opening is defined by the mask and the substrate between the tabs and the substrate. and screening the paste onto the mask and into the aperture shapes to transfer the pattern to the substrate, the substrate pattern having a thickness thinner in the tabbed areas than in the untabbed areas. and a screening method including.
【請求項24】  マスクパターンは、電子基板の導電
ライン及びバイアを画定する請求項23記載のスクリー
ニング方法。
24. The method of screening of claim 23, wherein the mask pattern defines conductive lines and vias in the electronic substrate.
【請求項25】  所定距離以下の距離によって隔てら
れた前記形状が導電ラインを画定する請求項24記載の
スクリーニング方法。
25. The screening method of claim 24, wherein the features separated by a distance less than or equal to a predetermined distance define conductive lines.
【請求項26】  所定距離以下の距離によって隔てら
れた前記形状が導電ライン及びバイアを画定する請求項
24記載のスクリーニング方法。
26. The method of screening of claim 24, wherein the features separated by a distance less than or equal to a predetermined distance define conductive lines and vias.
【請求項27】  所定距離以下の距離によって隔てら
れた前記形状が導電ライン及びパッドで終結する導電ラ
インを画定する請求項24記載のスクリーニング方法。
27. The screening method of claim 24, wherein the features separated by a distance less than or equal to a predetermined distance define a conductive line and a conductive line terminating in a pad.
【請求項28】  前記スクリーニング工程は、ペース
トを開口を介して圧入し基板パターンのより薄い厚さの
部分を形成することを含む請求項23記載のスクリーニ
ング方法。
28. The screening method according to claim 23, wherein the screening step includes press-fitting the paste through the opening to form a thinner thickness portion of the substrate pattern.
【請求項29】  導体のパターンを電子基板上に形成
するための方法であって、電子基板を提供する工程と、
基板と接触してスクリーニングマスクを配設する工程で
あって、前記マスクは可変的に隔てられた導体を画定す
るスルーパターンを有すると共に、最小中心距離以下の
距離を有するスルーパターンの複数の導体イメージセク
ションを少なくとも架橋するタブを含む工程と、マスク
パターンを基板へ不均一に転写するためにマスクを横切
って導電ペーストをスクリーニングする工程であって、
スクリーニングされた導体は、少なくとも最小中心距離
以下のマスクの複数の導体イメージセクションに対応す
る複数の導体セクションにおいて、他の基板導体セクシ
ョンよりも少ない断面積を有する工程と、前記基板から
マスクを除去する工程と、を含む導体パターンの形成方
法。
29. A method for forming a pattern of conductors on an electronic substrate, the method comprising: providing an electronic substrate;
disposing a screening mask in contact with a substrate, the mask having a through pattern defining variably spaced conductors, and a plurality of conductor images of the through pattern having a distance less than or equal to a minimum center distance; screening a conductive paste across the mask to non-uniformly transfer the mask pattern to the substrate;
the screened conductors have a cross-sectional area less than other substrate conductor sections in a plurality of conductor sections corresponding to the plurality of conductor image sections of the mask at least less than or equal to a minimum center distance; and removing the mask from said substrate. A method for forming a conductor pattern, including a process.
【請求項30】  マスクが基板と接触するときタブと
基板との間に開口が提供され、前記スクリーニング工程
が、開口を介してペーストを圧入し、より薄い断面エリ
アの基板導体セクションを形成することを含む請求項2
9記載の導体パターンの形成方法。
30. An opening is provided between the tab and the substrate when the mask contacts the substrate, and the screening step press-fits paste through the opening to form a thinner cross-sectional area of the substrate conductor section. Claim 2 comprising
9. The method for forming a conductor pattern according to 9.
【請求項31】  最小中心距離以下の前記イメージセ
クションが導電ラインを画定する請求項29記載の導体
パターンの形成方法。
31. The method of forming a conductive pattern as recited in claim 29, wherein the image sections less than or equal to a minimum center distance define conductive lines.
【請求項32】  最小中心距離以下の前記イメージセ
クションが導電ライン及びバイアを画定する請求項29
記載の導体パターンの形成方法。
32. Clause 29, wherein the image sections less than or equal to a minimum center distance define conductive lines and vias.
The method for forming the conductor pattern described above.
【請求項33】  最小中心距離以下の前記イメージセ
クションが導電ライン及びパッドで終結する導電ライン
を画定する請求項29記載の導体パターンの形成方法。
33. The method of forming a conductive pattern as recited in claim 29, wherein said image sections less than or equal to a minimum center distance define conductive lines and conductive lines terminating in pads.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0212868U (en) * 1988-07-11 1990-01-26
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