JPH0430741U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0430741U JPH0430741U JP7231890U JP7231890U JPH0430741U JP H0430741 U JPH0430741 U JP H0430741U JP 7231890 U JP7231890 U JP 7231890U JP 7231890 U JP7231890 U JP 7231890U JP H0430741 U JPH0430741 U JP H0430741U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- blower
- holding
- inert gas
- view
- wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 1
Description
第１図ａ，ｂは、ウエフアー等を二カ所で保持
するこの考案の第一実施例の保持装置の断面図お
よび平面図、第２図ａ，ｂは、ウエフアー等を一
カ所で保持する第二実施例の保持装置の断面図お
よび平面図、第３図は、対向する二個のブロウワ
ーを設けた第三実施例の平面図、第４図ａ，ｂは
、センタリング装置にこの考案を適用した第四実
施例の断面図および平面図である。 １……アーム、２……ウエフアー、３……主受
台、４……従受台、５……バキユームパイプ、６
……ブロウワー、６ａ……吹出し口、６１，６２
……ブロウワー、７……センタリングカツプ、７
ａ……内部斜面、８……保持機構、９……ブロウ
ワー、９ａ……吹出し部、９ｂ……吹出し孔。
するこの考案の第一実施例の保持装置の断面図お
よび平面図、第２図ａ，ｂは、ウエフアー等を一
カ所で保持する第二実施例の保持装置の断面図お
よび平面図、第３図は、対向する二個のブロウワ
ーを設けた第三実施例の平面図、第４図ａ，ｂは
、センタリング装置にこの考案を適用した第四実
施例の断面図および平面図である。 １……アーム、２……ウエフアー、３……主受
台、４……従受台、５……バキユームパイプ、６
……ブロウワー、６ａ……吹出し口、６１，６２
……ブロウワー、７……センタリングカツプ、７
ａ……内部斜面、８……保持機構、９……ブロウ
ワー、９ａ……吹出し部、９ｂ……吹出し孔。
Claims (1)
- ウエフアー等の被保持物の保持手段と、この保
持手段により保持された前記被保持物の表面に不
活性ガスを吹き付けるブロウワーと、このブロウ
ワーに不活性ガスを送るガス供給手段とを備えた
ことを特徴とするウエフアー等の保持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7231890U JPH0430741U (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7231890U JPH0430741U (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0430741U true JPH0430741U (ja) | 1992-03-12 |
Family
ID=31610154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7231890U Pending JPH0430741U (ja) | 1990-07-09 | 1990-07-09 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0430741U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002067303A1 (fr) * | 2001-02-19 | 2002-08-29 | Nikon Corporation | Systeme d'exposition, dispositif d'exposition et procede de production du dispositif |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63193525A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | Seiko Epson Corp | スピンナ用回転テ−ブル |
-
1990
- 1990-07-09 JP JP7231890U patent/JPH0430741U/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63193525A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | Seiko Epson Corp | スピンナ用回転テ−ブル |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002067303A1 (fr) * | 2001-02-19 | 2002-08-29 | Nikon Corporation | Systeme d'exposition, dispositif d'exposition et procede de production du dispositif |