JPH04304460A - Positive chargeable photosensitive body - Google Patents

Positive chargeable photosensitive body

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JPH04304460A
JPH04304460A JP6990691A JP6990691A JPH04304460A JP H04304460 A JPH04304460 A JP H04304460A JP 6990691 A JP6990691 A JP 6990691A JP 6990691 A JP6990691 A JP 6990691A JP H04304460 A JPH04304460 A JP H04304460A
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JP
Japan
Prior art keywords
group
layer
substituted
carrier
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP6990691A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tatsuro Nagai
永井 達郎
Yoshiaki Takei
武居 良明
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP6990691A priority Critical patent/JPH04304460A/en
Publication of JPH04304460A publication Critical patent/JPH04304460A/en
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  • Discharging, Photosensitive Material Shape In Electrophotography (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve electrophotographic characteristics and to prevent the generation of image defects, adhesion defects, etc., by providing a photosensitive layer of single layer constitution contg. a carrier generating material and carrier transfer material directly on a base body which is not subjected to machining. CONSTITUTION:The photosensitive layer 2 of the single layer constitution contg. the carrier generating material 3 and the carrier transfer material 4 is directly provided on the base body 1 which is not subjected to machining. The weight ratio P of the carrier generating material 3/binder resin in the photosensitive layer 2 is preferably 0.3<=P<=2.0. The average depth Rp of the surface roughness of the base body 1 which is not subjected to machining is preferably >=0.5mum and the max. height Rmax is preferably <= 5mum. The production cost of the photosensitive body is reduced and the moire troubles at the time of image formation are eliminated by using the base body 1 having such original surface. The coating itself is stabilized and the good image quality free from the defects is obtd. by increasing the thickness of the coated layer. The repetitive characteristics, and the adhesiveness of the layer are thus improved.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は基体上に単層構成の有機
光導電性感光層を設けてなる正帯電用電子写真感光体に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a positively charging electrophotographic photoreceptor comprising a single-layer organic photoconductive photosensitive layer provided on a substrate.

【0002】0002

【発明の背景】電子写真法が開発されてから、感光体に
用いられる光導電性物質は無機から有機の光導電性物質
(PCM)へ検討範囲が拡げられ、更にキャリア発生、
キャリア輸送の光導電性機能は夫々キャリア発生物質(
CGM)、キャリア輸送物質(CTM)に機能分離され
、光導電層(感光層;PCL)の層構成についてもキャ
リア挙動解析から改良が加えられ、更に層形成に用いら
れるバインダ樹脂についてもその改良或は開拓研究が盛
んに行われている。
BACKGROUND OF THE INVENTION After the development of electrophotography, the scope of research for photoconductive materials used in photoreceptors has been expanded from inorganic to organic photoconductive materials (PCM), and carrier generation,
The photoconductive function of carrier transport is caused by carrier-generating substances (
The layer structure of the photoconductive layer (photosensitive layer; PCL) has been improved based on carrier behavior analysis, and the binder resin used for layer formation has also been improved. Pioneering research is being actively conducted.

【0003】かつこれらの技術改善に伴いプレンペーパ
が転写材として使用可能になってからは電子写真複写法
は頓に一般化、大量使用に向い、性能の向上、耐用性、
ランニングコストの改善、特に使用中の環境衛生の面の
配慮が求められるようになって来ている。
[0003] After these technological improvements made it possible to use plain paper as a transfer material, the electrophotographic copying method quickly became popular, suitable for mass use, improved performance, durability,
There is a growing demand for improvements in running costs, especially consideration of environmental hygiene during use.

【0004】一方現在までに実用化されているPCMで
は負帯電用が主流を占めているが、コロナ放電による負
帯電は正帯電の5〜10倍のオゾン発生があり、高濃度
オゾンによる劣化が顕著となり耐用性の面で問題がある
On the other hand, the mainstream of PCMs that have been put into practical use to date are those for negative charging, but negative charging due to corona discharge generates 5 to 10 times as much ozone as positive charging, and deterioration due to high concentration of ozone occurs. This becomes noticeable and poses a problem in terms of durability.

【0005】更に使用頻度の増大により複写機からのオ
ゾン排出量が作業環境衛生上の問題となって来ているが
、前記の通り負帯電方式は原理的にオゾン発生量が多く
環境対策にはそぐわない。
Furthermore, due to the increased frequency of use, the amount of ozone emitted from copying machines has become a problem in terms of working environment and hygiene, but as mentioned above, the negative charging method in principle generates a large amount of ozone, making it difficult for environmental measures. It doesn't suit me.

【0006】従って正帯電方式が注目されるが従来のP
CM(CGM)は正帯電方式においては感度、帯電性、
耐オゾン性等について未だ不満足でる。
Therefore, the positive charging method is attracting attention, but the conventional P
CM (CGM) has sensitivity, chargeability,
Still unsatisfied with ozone resistance etc.

【0007】正帯電方式に適用するPCLの層構成とし
ては、単層型、キャリア発生層(CGL)の上にキャリ
ア輸送層(CTL)を重ねたCTL/CGL/基体型若
しくはその逆位CGL/CTL/基体型の積層型のいづ
れも構成できるが高性能のn型CTMが得難いことから
単層型及びCGL/CTL/基体型が都合がよい。
The layer structure of PCL applied to the positive charging method is a single layer type, a CTL/CGL/substrate type in which a carrier transport layer (CTL) is stacked on a carrier generation layer (CGL), or a reverse type CGL/ Although either a CTL/substrate type or a laminated type can be constructed, since it is difficult to obtain a high-performance n-type CTM, a single layer type and a CGL/CTL/substrate type are convenient.

【0008】しかしこの場合にはPCLの表面に耐用性
、耐久性に乏しいCGL、CGMがあることからオゾン
吸着、膜厚減耗、疵発生等の化学的、機械的支障を蒙り
易く、性能調整上薄層とされるCGLの耐用性は甚だ薄
弱で、保護層を設けてこの欠点を償おうとすると感度、
残留電位特性の劣化をもたらし、バインダについての改
善が必要であり、バインダについても今までに多数の検
討結果が開示されて来ており、その中にポリカーボネー
ト等の優れた特徴が示されている。
However, in this case, since CGL and CGM are poor in durability and durability on the surface of PCL, they are susceptible to chemical and mechanical problems such as ozone adsorption, thinning of the film, and formation of scratches, making it difficult to adjust performance. The durability of CGL, which is considered to be a thin layer, is extremely weak, and if you try to compensate for this shortcoming by adding a protective layer, the sensitivity and
This causes deterioration of the residual potential characteristics, and it is necessary to improve the binder.Many study results have been disclosed so far regarding binders, and among them, the excellent characteristics of polycarbonate and the like have been shown.

【0009】しかし近時のニーズに合せた機能改善の要
求と共に、電子写真複写の普遍化に伴い廉価に感光体の
要求が高く、層構成の単純化、基体加工の簡略化等の必
要に迫られている。
However, along with the demand for improved functionality to meet recent needs, there is a growing demand for inexpensive photoreceptors due to the widespread use of electrophotographic copying, and the need for simplification of the layer structure and simplification of substrate processing is increasing. It is being

【0010】電子写真用の基体の材料としてはアルミニ
ウム、銅、真鍮、スチール、ステンレス等の金属材料そ
の他プラスチック材料をベルト状又はドラム状に成型加
工したものが用いられる。中でもコスト及び加工性等に
すぐれたアルミニウムが好ましく用いられ、通常押出成
型又は引抜成型された薄肉円筒状のアルミ素管が多く用
いられる。前記成型についても、その成型方法、及び成
型用手段を改良して面精度の高い素管をうる努力がなさ
れているが成型機の精度、成型中混入する金属粉、塵埃
等の介在により素管の表面粗さ(Rmax)は数μmに
達し、特に金属粉等の介在により、深い傷が発生するこ
とが多い。従って、例えばダイアモンドバイト等を用い
て鏡面加工等の仕上加工を施し、0.1〜2μmの中間
層を形成した上に感光層を設けるのが一般的である。
As the material for the substrate for electrophotography, metal materials such as aluminum, copper, brass, steel, stainless steel, and other plastic materials molded into a belt or drum shape are used. Among these, aluminum is preferably used due to its excellent cost and workability, and thin-walled cylindrical aluminum tubes usually extruded or pultruded are often used. As for the above-mentioned molding, efforts have been made to improve the molding method and forming means to obtain raw pipes with high surface precision, but due to the precision of the molding machine and the presence of metal powder, dust, etc. The surface roughness (Rmax) of the material reaches several micrometers, and deep scratches often occur, especially due to the presence of metal powder or the like. Therefore, it is common to apply finishing processing such as mirror finishing using a diamond cutting tool or the like to form an intermediate layer of 0.1 to 2 .mu.m, and then provide a photosensitive layer thereon.

【0011】このような薄層形成は、生産技術上加工が
難しく、均一加工が困難であり、基体表面の疵、凹凸、
塵埃等の基体欠陥が必ずしも十分には被覆されず、画像
形成時、筋、ピンホール、黒ぽち等の画像欠陥が発生し
易い。
Formation of such a thin layer is difficult to process due to production technology, difficult to process uniformly, and may cause scratches, irregularities, etc. on the surface of the substrate.
Substrate defects such as dust are not always sufficiently covered, and image defects such as streaks, pinholes, and black spots are likely to occur during image formation.

【0012】そこで例えばダイアモンドバイト等により
基体表面を鏡面仕上とすると共に洗浄を強化して清浄な
表面を確保する必要があると共に精密な塗布加工が必要
とされ、これらが感光体製造時のコストアップを招いて
いる。
Therefore, it is necessary to give the substrate surface a mirror finish using, for example, a diamond bite, strengthen cleaning to ensure a clean surface, and require precise coating processing, which increases the cost when manufacturing the photoreceptor. is inviting.

【0013】[0013]

【発明の目的】本発明の目的は、生産性高く、感光層の
基体に対する接着性がよく、かつ像形成時の残留電位低
下及び反復使用における疲労劣化がなく高感度であり、
しかも低コストの正帯電用感光体の提供にある。
OBJECTS OF THE INVENTION The objects of the present invention are to provide high productivity, good adhesion of the photosensitive layer to the substrate, and high sensitivity without decrease in residual potential during image formation and fatigue deterioration during repeated use.
Moreover, it is an object of the present invention to provide a low-cost positive charging photoreceptor.

【0014】[0014]

【発明の構成】前記本発明の目的は、切削加工を施さな
い基体(以後素面基体と称する)上に直接キャリア発生
物質とキャリア輸送物質を含有する単層構成の感光層を
設けることを特徴とする正帯電用感光体によって達成さ
れる。
[Structure of the Invention] The object of the present invention is to provide a single-layered photosensitive layer containing a carrier-generating substance and a carrier-transporting substance directly on a substrate that is not subjected to cutting processing (hereinafter referred to as a plain substrate). This is achieved by using a positive charging photoreceptor.

【0015】尚本発明の態様においては、前記感光層中
のキャリア発生物質/バインダ樹脂の重量比Pが;0.
3≦P≦2.0 であることが好ましい。
In an embodiment of the present invention, the weight ratio P of carrier generating substance/binder resin in the photosensitive layer is;
It is preferable that 3≦P≦2.0.

【0016】Pが0.3未満であると、感度、帯電性の
低下、残留電位の増大を招き、また2.0を超えると暗
減衰、受容電位が低下し、耐刷性等の耐用性に欠ける。
If P is less than 0.3, sensitivity and chargeability will decrease, and residual potential will increase; if it exceeds 2.0, dark decay and acceptance potential will decrease, resulting in poor durability such as printing durability. It lacks.

【0017】更に前記素面基体の表面粗さにおいて、粗
さ曲線の平均深さRpが0.5μm以下、最大高さRm
axが5μm以下であることが好ましい。
Furthermore, regarding the surface roughness of the plain substrate, the average depth Rp of the roughness curve is 0.5 μm or less, and the maximum height Rm
It is preferable that ax is 5 μm or less.

【0018】本発明において定める基体の表面粗さの範
囲はJIS表面粗さ(BO601)の規定に基いて設定
される。
The range of surface roughness of the substrate defined in the present invention is determined based on the JIS surface roughness (BO601).

【0019】第1図は素面基体の粗さ曲線を示し、Lは
平均方向の基準長、hは中心線、Rpは基準長L内での
中心線hから最大の山までの高さに相当し、定義に従え
ば最大の山の頂点を通り平均方向に平行な直線(即ち表
面の外形線)から中心線までの深さとなる。またdは基
準長L内での中心線hから最大の谷までの深さ、Rma
xは最深の谷からの最高の山までの標高;Rp+dを表
し、前記粗さ曲線の最大高さと称される。本発明に係る
基体では、Rpが0.5μm以内でRmaxが5μm以
下の粗さに規制される。
FIG. 1 shows the roughness curve of a plain substrate, where L is the reference length in the average direction, h is the center line, and Rp is the height from the center line h to the maximum peak within the reference length L. However, according to the definition, it is the depth from the straight line passing through the top of the largest mountain and parallel to the average direction (i.e., the outer contour line of the surface) to the center line. Also, d is the depth from the center line h to the maximum valley within the reference length L, Rma
x represents the elevation from the deepest valley to the highest peak; Rp+d, and is referred to as the maximum height of the roughness curve. In the substrate according to the present invention, the roughness is restricted to Rp of 0.5 μm or less and Rmax of 5 μm or less.

【0020】尚、粗さ曲線は素面基体断面そのままの断
面平面に現れる表面の断面曲線から表面形状のうねり部
成分をカットオフし、表面凹凸を平均方向直線のx軸を
基準にして、それからの凹凸に整え直して求めた曲線で
あって、これをyとすればy=f(x)と表現される。 また表面の外形線からの凹凸の偏差の度合をみるために
x軸を外形線にとった時の粗さ曲線をy’=f’(x)
とすれば、直線関数としての中心線h及び平均深さRp
は;
[0020] The roughness curve is calculated by cutting off the waviness component of the surface shape from the cross-sectional curve of the surface that appears on the cross-sectional plane of the plain substrate, and calculating the surface unevenness with the x-axis of the average direction straight line as a reference. This is a curve obtained by rearranging the curve to make it uneven, and if this is y, it can be expressed as y=f(x). In addition, in order to see the degree of deviation of the unevenness from the contour line of the surface, the roughness curve when the x-axis is taken as the contour line is y'=f'(x)
Then, the center line h and the average depth Rp as a linear function
teeth;

【0021】[0021]

【数1】[Math 1]

【0022】で求められる。ここでhとRpは同位置を
占めることになる。
It can be found as follows. Here, h and Rp occupy the same position.

【0023】尚、中心線hから粗さ曲線までの距離f(
x)−hの絶対値|f(x)−h|の0〜L間の定積分
を基準長Lで割った商は中心線平均粗さRaとして区別
される。
Note that the distance f(
The quotient obtained by dividing the absolute value of |f(x)-h| between 0 and L by the reference length L is distinguished as the centerline average roughness Ra.

【0024】粗さ曲線の測定には、光触針式ピックアッ
プE−DT−SL204を組み込んだ表面粗さ測定器(
東京精密製)等が用いられる。
To measure the roughness curve, a surface roughness measuring instrument incorporating an optical stylus pickup E-DT-SL204 was used.
manufactured by Tokyo Seimitsu) etc. are used.

【0025】本発明では、前記表面粗さを有する基体上
に感光層を多少厚め10〜200μm、好ましくは20
〜100μmに設け、塗布液の基体凹部への濡れ、侵入
による投錨効果によって、基体の欠陥を被覆し、基体と
感光層(PCL)との接着を良好にするものである。R
p,Rmaxが前記の闘値を越えた場合には表面の凹凸
を排除しえないことがある。
In the present invention, the photosensitive layer is formed on the substrate having the above-mentioned surface roughness with a thickness of 10 to 200 μm, preferably 20 μm.
The coating liquid is provided at a thickness of 100 μm to cover defects in the substrate due to the anchoring effect caused by wetting and penetration of the coating liquid into the concave portions of the substrate, thereby improving adhesion between the substrate and the photosensitive layer (PCL). R
If p, Rmax exceeds the above threshold, it may not be possible to eliminate surface irregularities.

【0026】基体の平均深さRpが0.5μmを越える
場合は、例えば基体成型機の部品、特にダイス等の加工
面が既に実用可能性を失うほどに摩耗しているので、交
換の必要があり、またRmaxが5μmを越える場合は
、例えばダイス等に金属粉、塵埃が強固に付着していて
清掃、除去の要がある。
[0026] If the average depth Rp of the substrate exceeds 0.5 μm, for example, the parts of the substrate molding machine, especially the machined surfaces of dies, etc., are already worn to the extent that they are no longer practical, and therefore need to be replaced. If Rmax exceeds 5 μm, for example, metal powder and dust are firmly attached to the die and must be cleaned and removed.

【0027】本発明に係る基体上にPCLを形成するに
は、成型加工された基体を例えばアルコール、アセトン
、メチルエチルケトン、酢酸エチル、トリクレーン等の
溶剤を用い、必要により超音波洗浄器等を併用して十分
洗浄する。
To form PCL on the substrate according to the present invention, the molded substrate is treated with a solvent such as alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, ethyl acetate, or triclane, and if necessary, an ultrasonic cleaner or the like is used. and wash thoroughly.

【0028】洗浄後の基体に調製したPCL用塗布液を
、ディップコーティング、スプレーコーティング、スピ
ンコーティング、ブレードコーティング等の塗布方法に
より前記基体上に乾燥後の膜厚が10〜200μmとな
るよう塗布加工すればよい。
[0028] After cleaning, the prepared PCL coating liquid is applied onto the substrate by a coating method such as dip coating, spray coating, spin coating, or blade coating so that the film thickness after drying is 10 to 200 μm. do it.

【0029】本発明の単層構成、正帯電用感光層に用い
るCGMは電子吸引性基を有していることが好ましく、
これによって層中での電子輸送能が充分となり、正帯電
時に正に帯電せしめられた感光体表面への電子の移動が
速くなり、光感度が大きくかつ残留電位も小さくなる。 逆に、電子吸引性基を有していない場合には、電子輸送
能に乏しく、光感度、残電特性が劣化してしまう。即ち
、一般に、正帯電用の感光体としてCGMとCTMとを
含む混相のPCLに光照射した場合、表面正電荷はある
程度まで減衰するがそれ以上は充分に減衰しない傾向が
ある。しかし、本発明で使用するCGMとして、それ単
独からなるPCLを有する感光体を負帯電としたときの
層中の電子移動速度が正帯電時よりも大きい(つまり負
帯電時の光感度が大きい)ものであるから、上記混相の
PCLを有する感光体の正帯電後の光照射によって生じ
た電子が表面へ高速で移動し、これによって表面正電荷
が充分に減衰する(光感度が向上し、残留電位も小さく
なる)。
[0029] It is preferable that the CGM used in the monolayer structure and positive charging photosensitive layer of the present invention has an electron-withdrawing group,
As a result, the electron transport ability in the layer becomes sufficient, and when positively charged, electrons move quickly to the positively charged surface of the photoreceptor, resulting in high photosensitivity and low residual potential. On the other hand, if it does not have an electron-withdrawing group, it will have poor electron transport ability, and its photosensitivity and residual charge characteristics will deteriorate. That is, in general, when a mixed-phase PCL containing CGM and CTM is irradiated with light as a photoreceptor for positively charging, the surface positive charges are attenuated to a certain extent, but there is a tendency that the attenuation is not sufficient beyond that. However, when the CGM used in the present invention has a photoreceptor having a PCL consisting of the CGM alone and is negatively charged, the electron transfer rate in the layer is higher than when it is positively charged (that is, the photosensitivity is higher when negatively charged). Therefore, electrons generated by light irradiation after positive charging of the photoreceptor having the above-mentioned mixed phase PCL move to the surface at high speed, thereby sufficiently attenuating the surface positive charge (the photosensitivity is improved and the residual (The potential also becomes smaller).

【0030】一方、本発明に使用するCTMは、ホール
の移動が容易となる性質を有していることが好ましく、
上記したCTMの性質との組合せで、感光体の正帯電使
用を実現することができる。
On the other hand, it is preferable that the CTM used in the present invention has a property that allows the holes to move easily.
In combination with the properties of CTM described above, it is possible to use the photoreceptor with positive charging.

【0031】尚、本発明において、後述の電子受容性物
質又はルイス酸をPCLに添加すれば、電荷移動錯体を
形成するため、増感効果をより向上させることができる
In the present invention, if an electron-accepting substance or a Lewis acid, which will be described later, is added to PCL, a charge transfer complex is formed, so that the sensitizing effect can be further improved.

【0032】本発明で使用するCGMは、次の一般式〔
BA〕群のビスアゾ化合物、一般式〔PQ〕の多環キノ
ン化合物が好ましい。
The CGM used in the present invention has the following general formula [
Bisazo compounds of group BA] and polycyclic quinone compounds of general formula [PQ] are preferred.

【0033】[0033]

【化1】[Chemical formula 1]

【0034】一般式〔BA〕中、Ar1,Ar2及びA
r3はそれぞれ、置換もしくは無置換の炭素環式芳香族
環基、R1及びR2はそれぞれ、電子吸引性基又は水素
原子であって、R1,R2の少なくとも1つはシアノ基
等の電子吸引性基、AにおいてXはヒドロキシ基、−N
(R4)R5、−NHSO2−R6(但、R4及びR5
はそれぞれ、水素原子又は置換若しくは無置換のアルキ
ル基、R6は置換若しくは無置換のアルキル基又は置換
若しくは無置換のアリール基)、Yは、水素原子、ハロ
ゲン原子、置換若しくは無置換のアルキル基、アルコキ
シ基、カルボキシル基、スルホ基、置換若しくは無置換
のカルバモイル基又は置換若しくは無置換のスルファモ
イル基(但、lが2以上のときは、互いに異なる基であ
ってもよい。)、Zは、置換若しくは無置換の炭素環式
芳香族環又は置換若しくは無置換の複素環式芳香族環を
構成するに必要な原子群、R3は、水素原子、置換若し
くは無置換のアミノ基、置換若しくは無置換のカルバモ
イル基、カルボキシル基又はそのエステル基、A’は、
置換若しくは無置換のアリール基、kは、1又は2の整
数、lは、0〜4の整数である。
In the general formula [BA], Ar1, Ar2 and A
r3 is a substituted or unsubstituted carbocyclic aromatic ring group, R1 and R2 are each an electron-withdrawing group or a hydrogen atom, and at least one of R1 and R2 is an electron-withdrawing group such as a cyano group. , in A, X is a hydroxy group, -N
(R4)R5, -NHSO2-R6 (However, R4 and R5
are each a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, R6 is a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group), Y is a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an alkoxy group, a carboxyl group, a sulfo group, a substituted or unsubstituted carbamoyl group, or a substituted or unsubstituted sulfamoyl group (however, when l is 2 or more, mutually different groups may be used), Z is a substituted or an atomic group necessary to constitute an unsubstituted carbocyclic aromatic ring or a substituted or unsubstituted heterocyclic aromatic ring, R3 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted amino group, a substituted or unsubstituted Carbamoyl group, carboxyl group or its ester group, A' is
In the substituted or unsubstituted aryl group, k is an integer of 1 or 2, and l is an integer of 0 to 4.

【0035】又、上記ビスアゾ化合物の他、分子中に上
記の如き電子吸引性基を有するモノアゾ化合物や、他の
ビスアゾ化合物、ポリアゾ化合物も使用してよい。
In addition to the above-mentioned bisazo compounds, monoazo compounds having the above-mentioned electron-withdrawing groups in the molecule, other bisazo compounds, and polyazo compounds may also be used.

【0036】本発明に使用可能なアゾ系化合物の具体例
としては特開昭61−48861号の第4頁左下欄〜第
8頁右上欄に列記されたものが援用される。
As specific examples of azo compounds that can be used in the present invention, those listed in JP-A-61-48861, page 4, lower left column to page 8, upper right column, may be cited.

【0037】[0037]

【化2】[Chemical 2]

【0038】一般式〔PQ〕中、Xはハロゲン原子、ニ
トロ基、シアノ基又はカルボキシル基を表し、nは1〜
4の整数、mは1〜6の整数を表す。
In the general formula [PQ], X represents a halogen atom, a nitro group, a cyano group, or a carboxyl group, and n is 1 to
An integer of 4, m represents an integer of 1 to 6.

【0039】前記多環キノン化合物の具体例としては特
開昭61−48861号の第8頁右下欄〜第10頁左上
欄に列記されたものが援用される。
As specific examples of the polycyclic quinone compounds, those listed in the lower right column on page 8 to the upper left column on page 10 of JP-A-61-48861 are cited.

【0040】本発明で使用するキャリア輸送物質は、オ
キサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾー
ル誘導体、チアシアゾール誘導体、トリアゾール誘導体
、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、イミダゾ
リジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化
合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、オキサゾ
ロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾ
ール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、
アクリジン誘導体、フエナジン誘導体、アミノスチルベ
ン誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−
ビニルピレン、ポリ−9−ビニルアントラセン等であっ
てよい。
Carrier transport substances used in the present invention include oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, thiazole derivatives, thiasiazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, imidazolone derivatives, imidazolidine derivatives, bisimidazolidine derivatives, styryl compounds, and hydrazone compounds. , pyrazoline derivatives, oxazolone derivatives, benzothiazole derivatives, benzimidazole derivatives, quinazoline derivatives, benzofuran derivatives,
Acridine derivatives, phenazine derivatives, aminostilbene derivatives, poly-N-vinylcarbazole, poly-1-
It may be vinylpyrene, poly-9-vinylanthracene, etc.

【0041】更に好ましいキャリア輸送物質としては、
次記の一般式〔ST−1〕、〔ST−2〕で表されるス
チリル化合物、一般式〔HA−1〕、〔HA−2〕、〔
HA−3〕及び〔HA−4〕で表されるヒドラゾン化合
物、一般式〔PA〕で表されるピラゾリン化合物、一般
式〔AM〕で表されるアミン誘導体が挙げられる。
More preferred carrier transport substances include:
Styryl compounds represented by the following general formulas [ST-1], [ST-2], general formulas [HA-1], [HA-2], [
HA-3] and [HA-4], pyrazoline compounds represented by the general formula [PA], and amine derivatives represented by the general formula [AM].

【0042】[0042]

【化3】[Chemical formula 3]

【0043】前記一般式〔ST−1〕において、R1,
R2は置換若しくは無置換のアルキル基、アリール基を
表し、置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、置換
アミノ基、水酸基、ハロゲン原子、アリール基を用いる
。 Ar1,Ar2は置換若しくは無置換のアリール基を表
し、置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、置換ア
ミノ基、水酸基、ハロゲン原子、アリール基を用いる。 R3,R4は置換若しくは無置換のアリール基、水素原
子を表し、置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、
置換アミノ基、水酸基、ハロゲン原子、アリール基を用
いる。
In the general formula [ST-1], R1,
R2 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group, and as the substituent, an alkyl group, an alkoxy group, a substituted amino group, a hydroxyl group, a halogen atom, or an aryl group is used. Ar1 and Ar2 represent a substituted or unsubstituted aryl group, and the substituent used is an alkyl group, an alkoxy group, a substituted amino group, a hydroxyl group, a halogen atom, or an aryl group. R3 and R4 represent a substituted or unsubstituted aryl group or a hydrogen atom, and substituents include an alkyl group, an alkoxy group,
A substituted amino group, hydroxyl group, halogen atom, or aryl group is used.

【0044】前記一般式〔ST−2〕において、R5は
置換若しくは無置換のアリール基、R6は水素原子、ハ
ロゲン原子、置換若しくは無置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アミノ基、置換アミノ基、水酸基、R7は置換
若しくは無置換のアリール基、置換若しくは無置換の複
素環基を表す。
In the general formula [ST-2], R5 is a substituted or unsubstituted aryl group, and R6 is a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an alkoxy group, an amino group, a substituted amino group, or a hydroxyl group. , R7 represents a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group.

【0045】前記一般式〔ST−1〕又は〔ST−2〕
で表されるスチリル化合物の具体例としては特開昭61
−48861号の夫々第10頁右下欄〜第15頁左下欄
又は第15頁右下欄〜第17頁左下欄に列記されたもの
が援用される。
[0045] The above general formula [ST-1] or [ST-2]
As a specific example of the styryl compound represented by
-48861, those listed in the lower right column on page 10 to the lower left column on page 15 or the lower right column on page 15 to the lower left column on page 17 are incorporated.

【0046】[0046]

【化4】[C4]

【0047】[0047]

【化5】[C5]

【0048】前記一般式〔HA−1〕において、R1及
びR2はそれぞれ水素原子又はハロゲン原子、R3及び
R4はそれぞれ、置換若しくは無置換のアリール基、A
rは置換若しくは無置換のアリーレン基を表す。
In the general formula [HA-1], R1 and R2 are each a hydrogen atom or a halogen atom, R3 and R4 are each a substituted or unsubstituted aryl group, and A
r represents a substituted or unsubstituted arylene group.

【0049】前記一般式〔HA−2〕において、R5は
メチル基、エチル基、2−ヒドロキシエチル基又は2−
クロルエチル基、R6はメチル基、エチル基、ベンジル
基又はフェニル基、R7はメチル基、エチル基、ベンジ
ル基又はフェニル基を示す。
In the general formula [HA-2], R5 is a methyl group, an ethyl group, a 2-hydroxyethyl group, or a 2-hydroxyethyl group.
Chlorethyl group, R6 represents a methyl group, ethyl group, benzyl group or phenyl group, R7 represents a methyl group, ethyl group, benzyl group or phenyl group.

【0050】前記一般式〔HA−3〕において、R8は
置換若しくは無置換のナフチル基;R9は置換若しくは
無置換のアルキル基、アラルキル基又はアリール基;R
10は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基;R11
及びR12は置換若しくは無置換のアルキル基、アラル
キル基又はアリール基からなる互いに同一の若しくは異
なる基を示す。
In the general formula [HA-3], R8 is a substituted or unsubstituted naphthyl group; R9 is a substituted or unsubstituted alkyl group, aralkyl group, or aryl group; R
10 is a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group; R11
and R12 are the same or different groups consisting of a substituted or unsubstituted alkyl group, aralkyl group, or aryl group.

【0051】前記一般式〔HA−4〕において、R13
は置換若しくは無置換のアリール基又は置換若しくは無
置換の複素環基、R14は水素原子、置換若しくは無置
換のアルキル基又は置換若しくは無置換のアリール基、
Qは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アミノ
基、アルコキシ基又はシアノ基、pは0又は1の整数を
表す。
In the general formula [HA-4], R13
is a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group, R14 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group,
Q represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted amino group, an alkoxy group, or a cyano group, and p represents an integer of 0 or 1.

【0052】これらの一般式〔HA−1〕〜〔HA−4
〕のヒドラゾン化合物の具体例としては特開昭61−4
8861号の第19頁左上欄〜第27頁左上欄に列記さ
れたものが援用される。
These general formulas [HA-1] to [HA-4
] Specific examples of hydrazone compounds include JP-A-61-4
Those listed in the upper left column on page 19 to the upper left column on page 27 of No. 8861 are incorporated.

【0053】[0053]

【化6】[C6]

【0054】前記一般式〔PA〕において、lは0又は
1、R1,R2及びR3は置換若しくは無置換のアリー
ル基、R4及びR5は水素原子、炭素原子数1〜4のア
ルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基若しく
はアラルキル基(但、R4及びR5は水素原子であるこ
とはなく、lが0のときはR4は水素原子ではない。)
前記一般式〔PA〕で表されるピラゾリン化合物の具体
例としては特開昭61−48861号の第27頁右上欄
〜第28頁右上欄に列記されたものが援用される。
In the general formula [PA], l is 0 or 1, R1, R2 and R3 are substituted or unsubstituted aryl groups, R4 and R5 are hydrogen atoms, alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, or substituted or an unsubstituted aryl group or aralkyl group (However, R4 and R5 are not hydrogen atoms, and when l is 0, R4 is not a hydrogen atom.)
As specific examples of the pyrazoline compound represented by the general formula [PA], those listed in the upper right column on page 27 to the upper right column on page 28 of JP-A-61-48861 are cited.

【0055】前記一般式〔AM〕において、Ar1,A
r2は置換若しくは無置換のフェニル基を表し、置換基
としてはハロゲン原子、アルキル基、ニトロ基、アルコ
キシ基を用いる。Ar3は置換若しくは無置換のフェニ
ル基、ナフチル基、アントリル基、フルオレニル基、複
素環基を表し、置換基としてはアルキル基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、水酸基、アリールオキシ基、アリー
ル基、アミノ基、ニトロ基、ピペリジノ基、モルホリノ
基、ナフチル基、アンスリル基及び置換アミノ基を用い
る。但し、置換アミノ基の置換基としてアシル基、アル
キル基、アリール基、アラルキル基を用いる。
In the general formula [AM], Ar1, A
r2 represents a substituted or unsubstituted phenyl group, and the substituent used is a halogen atom, an alkyl group, a nitro group, or an alkoxy group. Ar3 represents a substituted or unsubstituted phenyl group, naphthyl group, anthryl group, fluorenyl group, or heterocyclic group, and substituents include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a hydroxyl group, an aryloxy group, an aryl group, an amino group, Nitro groups, piperidino groups, morpholino groups, naphthyl groups, anthryl groups and substituted amino groups are used. However, an acyl group, an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group is used as a substituent for the substituted amino group.

【0056】前記一般式〔AM〕で表されるアミン誘導
体の具体例としては、特開昭61−48861号の第2
8頁右下欄〜第30頁左下欄に列記されたものが援用さ
れる。
Specific examples of the amine derivative represented by the general formula [AM] include those described in JP-A No. 61-48861, No. 2
Those listed in the lower right column on page 8 to the lower left column on page 30 are incorporated.

【0057】本発明において使用可能なバインダ物質、
特にバインダ樹脂としては、例えばポリエチレン、ポリ
プロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニ
ル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン
樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド
樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミ
ン樹脂等の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹
脂、並びにこれらの樹脂の繰返し単位のうちの2つ以上
を含む共重合体樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸
共重合体樹脂等の絶縁性樹脂の他、ポリ−N−ビニルカ
ルバゾール等の高分子有機半導体が挙げられる。
Binder materials usable in the present invention:
In particular, binder resins include polyethylene, polypropylene, acrylic resin, methacrylic resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, epoxy resin, polyurethane resin, phenol resin, polyester resin, alkyd resin, polycarbonate resin, silicone resin, melamine resin, etc. Addition polymer resins, polyaddition resins, polycondensation resins, and copolymer resins containing two or more repeating units of these resins, such as vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resins, vinyl chloride-acetic acid Examples include insulating resins such as vinyl-maleic anhydride copolymer resins, and polymeric organic semiconductors such as poly-N-vinylcarbazole.

【0058】電子写真感光体を機能分離型の単層構成と
する場合、通常は第2図の如く構成する。第2図は、上
述のCGMから成るCGM4を、上述のCTM3を主成
分として含有する層中に分散せしめて成るPCL2を導
電性支持体1上に直接設けた構成を示す。
When the electrophotographic photoreceptor has a functionally separated single-layer structure, it is usually constructed as shown in FIG. FIG. 2 shows a structure in which a PCL 2 formed by dispersing CGM 4 made of the above-mentioned CGM in a layer containing the above-mentioned CTM 3 as a main component is provided directly on the conductive support 1 .

【0059】上記CGMを粒状で分散せしめてPCLを
形成する場合においては、CGMは2μm以下、好まし
くは1μm以下の平均粒径の粉粒体とするのが好ましい
。即ち、粒径があまり大きいと層中への分散が悪くなる
と共に、粒子が表面に一部突出して表面の平滑性が悪く
なり、場合によっては粒子の突出部分で放電が生じたり
或はそこにトナー粒子が付着してトナーフィルミング現
象が生じ易い。CGMとして長波長光(〜700nm)
に対して感度を有するものは、CGMの中での熱励起キ
ャリアの発生により表面電荷が中和され、CGMの粒径
が大きいとこの中和効果が大きいと思われる。従って粒
径を微小化することによって始めて高抵抗化、高感度化
が達成できる。但、上記粒径があまり小さいと却って凝
集し易く、層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増えて感
度及び繰返し特性が低下したり、或は微細化する上で限
界があるから、平均粒径の下限を0.01μmとするの
が望ましい。
When the above CGM is dispersed in the form of particles to form a PCL, the CGM is preferably in the form of powder having an average particle size of 2 μm or less, preferably 1 μm or less. In other words, if the particle size is too large, dispersion in the layer will be poor, and some of the particles will protrude from the surface, resulting in poor surface smoothness. Toner particles tend to adhere and a toner filming phenomenon occurs easily. Long wavelength light (~700nm) as CGM
It is thought that the surface charge of those sensitive to CGM is neutralized by the generation of thermally excited carriers within the CGM, and the larger the particle size of the CGM, the greater this neutralization effect. Therefore, high resistance and high sensitivity can only be achieved by reducing the particle size. However, if the above grain size is too small, it tends to aggregate, which increases the resistance of the layer, increases crystal defects and reduces sensitivity and repeatability, or there is a limit to miniaturization. It is desirable that the lower limit of the diameter is 0.01 μm.

【0060】本発明のPCL中にはCGMのキャリア発
生機能を改善する目的で有機アミン類を添加することが
でき、特に2級アミンを添加するのが好ましい。
Organic amines can be added to the PCL of the present invention for the purpose of improving the carrier generation function of CGM, and it is particularly preferable to add a secondary amine.

【0061】かかる2級アミンとしては、例えばジメチ
ルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソ
プロピルアミン、ジブチルアミン、ジイソブチルアミン
、ジアミルアミン、ジヘキシルアミン、ジイソヘキシル
アミン、ジペンチルアミン、ジイソペンチルアミン、ジ
オクチルアミン、ジイソオクチルアミン、ジノニルアミ
ン、ジイソノニルアミン、ジデシルアミン、ジイソデシ
ルアミン、ジモノデシルアミン、ジイソモノデシルアミ
ン、ジドデシルアミン、ジイソドデシルアミン等を挙げ
ることができる。
Examples of such secondary amines include dimethylamine, diethylamine, dipropylamine, diisopropylamine, dibutylamine, diisobutylamine, diamylamine, dihexylamine, diisohexylamine, dipentylamine, diisopentylamine, dioctylamine, Examples include diisooctylamine, dinonylamine, diisononylamine, didecylamine, diisodecylamine, dimonodecylamine, diisomonodecylamine, didodecylamine, diisododecylamine, and the like.

【0062】又かかる有機アミン類の添加量としては、
CGMに対して該CGMの等量以下、好ましくは0.2
倍〜0.005倍の範囲のモル数とするのがよい。
[0062] The amount of organic amines added is as follows:
The amount of CGM is equal to or less than CGM, preferably 0.2
The number of moles is preferably in the range of 0.005 times to 0.005 times.

【0063】又、本発明のPCLにおいては、オゾン劣
化防止の目的で酸化防止剤を添加することができる。
Further, in the PCL of the present invention, an antioxidant can be added for the purpose of preventing ozone deterioration.

【0064】かかる酸化防止剤の代表的具体例を以下に
示すが、これに限定されるものではない。
Typical examples of such antioxidants are shown below, but the invention is not limited thereto.

【0065】(1)群:ヒンダードフェノール類ジブチ
ルヒドロキシトルエン、2,2′−メチレンビス(6−
t−ブチル−4−メチルフェノール)、4,4′−ブチ
リデンビス(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)
、4,4′−チオビス(6−t−ブチル−3−メチルフ
ェノール)、2,2′−ブチリデンビス(6−t−ブチ
ル−4−メチルフェノール)、α−トコフェノール、β
−トコフェノール、2,2,4−トリメチル−6−ヒド
ロキシ−7−t−ブチルクロマン、ペンタエリスチルテ
トラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジ
オ−ルビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオネート]、ブチルヒドロキシ
アニソール、ジブチルヒドロキシアニソール、1−[2
−{(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオニルオキシ}エチル]−4−[3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオニルオキシ]−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジルなど。
Group (1): Hindered phenols dibutylhydroxytoluene, 2,2'-methylenebis(6-
t-butyl-4-methylphenol), 4,4'-butylidenebis(6-t-butyl-3-methylphenol)
, 4,4'-thiobis(6-t-butyl-3-methylphenol), 2,2'-butylidenebis(6-t-butyl-4-methylphenol), α-tocopherol, β
-tocophenol, 2,2,4-trimethyl-6-hydroxy-7-t-butylchroman, pentaerythyltetrakis [3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], 1 , 6-hexanedi-rubis[3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate], butylhydroxyanisole, dibutylhydroxyanisole, 1-[2
-{(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionyloxy}ethyl]-4-[3-
(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)
propionyloxy]-2,2,6,6-tetramethylpiperidyl and the like.

【0066】(2)群:パラフェニレンジアミン類N−
フェニル−N′−イソプロピル−p−フェニレンジアミ
ン、N,N′−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジ
アミン、N−フェニル−N−sec−ブチル−p−フェ
ニレンジアミン、N,N′−ジメチル−N,N′−ジ−
t−ブチル−p−フェニレンジアミンなど。
Group (2): paraphenylenediamines N-
Phenyl-N'-isopropyl-p-phenylenediamine, N,N'-di-sec-butyl-p-phenylenediamine, N-phenyl-N-sec-butyl-p-phenylenediamine, N,N'-dimethyl- N,N'-ji-
t-butyl-p-phenylenediamine, etc.

【0067】(3)群:ハイドロキノン類2,5−ジ−
t−オクチルハイドロキノン、2,6−ジドデシルハイ
ドロキノン、2−ドデシルハイドロキノン、2−ドデシ
ル−5−クロルハイドロキノン、2−t−オクチル−5
−メチルハイドロキノン、2−(2−オクタデセニル)
−5−メチルハイドロキノンなど。
Group (3): Hydroquinones 2,5-di-
t-octylhydroquinone, 2,6-didodecylhydroquinone, 2-dodecylhydroquinone, 2-dodecyl-5-chlorohydroquinone, 2-t-octyl-5
-Methylhydroquinone, 2-(2-octadecenyl)
-5-methylhydroquinone, etc.

【0068】(4)群:有機燐化合物類ジラウリル−3
,3′−チオジプロピオネート、ジステアリル−3−3
′−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−3,3′
−チオジプロピオネートなど。
Group (4): Organophosphorus compounds dilauryl-3
, 3'-thiodipropionate, distearyl-3-3
'-thiodipropionate, ditetradecyl-3,3'
- Thiodipropionate, etc.

【0069】これらの化合物はゴム、プラスチック、油
脂類等の酸化防止剤として知られており、市販品を容易
に入手できる。
These compounds are known as antioxidants for rubber, plastics, oils and fats, and are easily available commercially.

【0070】酸化防止剤の添加量はCTM100重量部
に対して0.1〜100重量部(0.1〜100%重量
)、好ましくは1〜50%重量、特に好ましくは5〜2
5%重量である。
The amount of antioxidant added is 0.1 to 100 parts by weight (0.1 to 100% by weight), preferably 1 to 50% by weight, particularly preferably 5 to 2 parts by weight, based on 100 parts by weight of CTM.
5% by weight.

【0071】次に前記PCLを支持する導電性支持体と
しては、アルミニウム、ニッケルなどの金属板、金属ド
ラム又は金属箔をラミネートした、或はアルミニウム、
酸化錫、酸化インジュウムなどを蒸着したプラスチック
フィルム或は導電性物質を塗布した紙、プラスチックな
どのフィルム又はドラムを使用することができる。
Next, as the conductive support for supporting the PCL, a metal plate made of aluminum, nickel, etc., a metal drum, or a metal foil laminated, or aluminum,
A plastic film coated with tin oxide, indium oxide, etc., or a paper or plastic film coated with a conductive substance, or a drum can be used.

【0072】本発明において、PCLは代表的には前述
の本発明に係るCGM,CTMを適当な分散媒又は溶媒
に単独もしくは適当なバインダ樹脂と共に分散せしめた
分散液を例えばディップ塗布、スプレイ塗布、ブレード
塗布、ロール塗布等によって基体上に直接塗布して乾燥
させる方法により設けることができる。
[0072] In the present invention, PCL is typically prepared by dipping, spray coating, or dispersing a dispersion of the CGM or CTM according to the present invention described above in a suitable dispersion medium or solvent alone or together with a suitable binder resin. It can be provided by a method of directly coating the substrate by blade coating, roll coating, etc. and drying it.

【0073】本発明に用いられる分散媒としては、例え
ばヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水
素類;メチレンクロライド、メチレンブロマイド、1,
2−ジクロルエタン、sym−テトラクロルエタン、c
is−1,2−ジクロルエタン、1,1,2−トリクロ
ルエタン、1,2−ジクロプロパン、クロロホルム、ブ
ロモホルム、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素;
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等の
ケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類:メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シ
クロヘキサノール、ヘプタノール、エチレングリコール
、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、酢酸セルソル
ブ等のアルコール類及びこの誘導体;テトラヒドロフラ
ン、1,4−ジオキサン、フラン、フルフラール等のエ
ーテル、アセタール類;ピリジンやブチルアミン、ジエ
チルアミン、エチレンジアミン、イソプロパノールアミ
ン等のアミン類;N,N−ジメチルホルムアミド等のア
ミド類等の窒素化合物、その他脂肪酸及びフェノール類
、二硫化炭素や燐酸トリエチル等の硫黄、燐化合物等の
1種又は2種以上を用いることができる。
Examples of the dispersion medium used in the present invention include hydrocarbons such as hexane, benzene, toluene, and xylene; methylene chloride, methylene bromide,
2-dichloroethane, sym-tetrachloroethane, c
Halogenated hydrocarbons such as is-1,2-dichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, 1,2-dichloropropane, chloroform, bromoform, chlorobenzene;
Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone; Esters such as ethyl acetate and butyl acetate; Alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, cyclohexanol, heptanol, ethylene glycol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and acetic acid cellosolve. and derivatives thereof; ethers and acetals such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, furan, and furfural; amines such as pyridine, butylamine, diethylamine, ethylenediamine, and isopropanolamine; nitrogen such as amides such as N,N-dimethylformamide One or more compounds such as fatty acids, phenols, sulfur and phosphorus compounds such as carbon disulfide and triethyl phosphate can be used.

【0074】本発明においてPCLには感度の向上、残
留電位乃至反復使用時の疲労低減等を目的として、一種
又は二種以上の電子受容性物質を含有せしめることがで
きる。ここに用いることのできる電子受容性物質として
は、例えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無
水、マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタ
ル酸、テトラブロム無水フタル酸、3−ニトロ無水フタ
ル酸、4−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、
無水メリット酸、テトラシアノウチレン、テトラシアノ
キノジメタン、o−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベ
ンゼン、1,3,5−トリニトロベンゼン、パラニトロ
ベンゼン、ピクリルクライド、キノンクロルイミド、ク
ロラリル、ブルマニル、ジクロルジシアノパラベンゾノ
ン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、2,7
−ジニトロフルオレノン、2,4,7−トリニトロフル
オレノン、9−フルオレニリデン[ジシアノメチレンマ
ロノジニトリル]、ポリニトロ−9−フルオレニリデン
−[ジシアノメチレンマロノジニトリル]、ピクリン酸
、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3,5−
ジニトロ安息香酸、ペンタフルオル安息香酸、5−ニト
ロサリチル酸、3,5−ジニトロサリチル酸、フタル酸
、メリット酸、その他の電子親和力の大きい化合物を挙
げることができる。又、電子受容性物質の添加割合は、
重量比で本発明のペリレン誘導体:電子受容性物質=1
00:0.01〜200、好ましくは100:0.1〜
100である。
In the present invention, PCL may contain one or more electron-accepting substances for the purpose of improving sensitivity, reducing residual potential or fatigue during repeated use, etc. Examples of electron-accepting substances that can be used here include succinic anhydride, maleic anhydride, dibromide anhydride, maleic acid, phthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, 3-nitrophthalic anhydride, 4-nitrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride,
Mellitic anhydride, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, o-dinitrobenzene, m-dinitrobenzene, 1,3,5-trinitrobenzene, paranitrobenzene, picryl clide, quinone chlorimide, chloralyl, brumanil, dinitrobenzene Chlordicyanoparabenzonone, anthraquinone, dinitroanthraquinone, 2,7
-Dinitrofluorenone, 2,4,7-trinitrofluorenone, 9-fluorenylidene [dicyanomethylenemalonodinitrile], polynitro-9-fluorenylidene-[dicyanomethylenemalonodinitrile], picric acid, o-nitrobenzoic acid, p- Nitrobenzoic acid, 3,5-
Examples include dinitrobenzoic acid, pentafluorobenzoic acid, 5-nitrosalicylic acid, 3,5-dinitrosalicylic acid, phthalic acid, mellitic acid, and other compounds with high electron affinity. In addition, the addition ratio of the electron-accepting substance is
Perylene derivative of the present invention:electron-accepting substance=1 by weight
00:0.01~200, preferably 100:0.1~
It is 100.

【0075】また本発明の感光体には、その他、必要に
よりPCLを保護する目的で紫外線吸収剤、また感色性
補正の染料を含有してもよい。
The photoreceptor of the present invention may also contain an ultraviolet absorber and a dye for color sensitivity correction, if necessary, for the purpose of protecting the PCL.

【0076】[0076]

【実施例】次に実施例によって本発明を具体的に説明す
る。
[Examples] Next, the present invention will be explained in detail with reference to Examples.

【0077】感光体の層構成としては前記第2図に示す
層構成を用い、表−1に示すように、表面粗さ曲線にお
ける最大高さRmax、平均深さRpの異なる素面アル
ミ管を支持体とし、PCL中のCGM,CTMの組合せ
を表−1に示すように変えて実施例1〜8及び比較例(
1)〜(6)を作成し、常温常湿(NN)、高温高湿(
HH)及び低温低湿(LL)の環境下における電位特性
(VH,VL)及び画質を評価した。
As the layer structure of the photoreceptor, the layer structure shown in FIG. Examples 1 to 8 and Comparative Example (
1) to (6) are prepared, normal temperature and humidity (NN), high temperature and high humidity (NN),
Potential characteristics (VH, VL) and image quality under low temperature and low humidity (LL) environments were evaluated.

【0078】(1)基体の調製 表−1の表面粗さ特性を有し、径60.6mmのアルミ
素管を用いた。前記アルミ素管はまず直接押出成型機に
より熱間成型して粗製アルミ管を作成し、次いで前記粗
製アルミ管を引抜き成型機により冷間で引抜き加工して
寸法精度の改善を行いアルミ素管としたもので、通常後
者の処理はアイオニング処理と呼ばれている。 (2)PCLの形成 本発明に係る下記CGM20gとポリカーボネートZ−
200「三菱ガス化学(株)」20gとをメチルエチル
ケトン1lに混合溶解、分散して、塗布液を調製した。
(1) Preparation of Substrate An aluminum tube having the surface roughness characteristics shown in Table 1 and having a diameter of 60.6 mm was used. The aluminum tube is first hot-formed using a direct extrusion molding machine to create a crude aluminum tube, and then the crude aluminum tube is cold-drawn using a pultrusion molding machine to improve dimensional accuracy and become an aluminum tube. The latter process is usually called ioning process. (2) Formation of PCL 20g of the following CGM and polycarbonate Z-
A coating solution was prepared by mixing, dissolving and dispersing 200 "Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd." (20 g) in 1 liter of methyl ethyl ketone.

【0079】更に下記CTM140gと、ポリカーボネ
ートZ−200「三菱ガス化学(株)」230gをジク
ロルエタン1lに混合、溶解して塗布液を調製し、前記
液を混合し塗布液を調合した。この塗布液を前記基体上
に20μm厚に塗布して用感光体を得た。
Further, 140 g of the following CTM and 230 g of polycarbonate Z-200 (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) were mixed and dissolved in 1 liter of dichloroethane to prepare a coating solution, and the above solutions were mixed to prepare a coating solution. This coating liquid was coated onto the substrate to a thickness of 20 μm to obtain a photoreceptor.

【0080】[0080]

【表1】[Table 1]

【0081】[0081]

【化7】[C7]

【0082】[0082]

【化8】[Chemical formula 8]

【0083】[0083]

【化9】[Chemical formula 9]

【0084】[0084]

【化10】[Chemical formula 10]

【0085】(テスト条件及び評価) 前記感光体をコニカ社製レーザプリンタ「Lp−301
5」の改造機に搭載し、常温常湿(20℃,50%RH
;NN)、高温高湿(33℃,80%RH;HH)及び
低温低湿(10℃,20%RH;LL)の各雰囲気下、
感光体電位−600±10(v)、現像バイアス−48
0(v)、「Lip−3015」専用の一成分系磁性現
像剤の条件下で一万回迄のランニングテストを行い、電
位変動、反転現像により得られた画質変化(特に黒ぽち
及びかぶり)をチェックし結果を表−2(1),(2)
に示した。
(Test conditions and evaluation) The photoreceptor was used in a laser printer "Lp-301" manufactured by Konica Corporation.
5” is installed on a modified machine, at room temperature and humidity (20°C, 50% RH).
; NN), high temperature and high humidity (33°C, 80% RH; HH) and low temperature and low humidity (10°C, 20% RH; LL) atmospheres,
Photoreceptor potential -600±10(v), development bias -48
0(v), a running test of up to 10,000 times was performed under the conditions of a single-component magnetic developer exclusively used for "Lip-3015", and image quality changes (especially black spots and fogging) obtained due to potential fluctuations and reversal development were observed. Check the results in Table 2 (1), (2)
It was shown to.

【0086】[0086]

【表2】[Table 2]

【0087】[0087]

【表3】[Table 3]

【0088】尚表中VHは未露光部、VLは露光部の電
位である。
In the table, VH is the potential of the unexposed area, and VL is the potential of the exposed area.

【0089】反転画質評価のうち黒ぽちの評価は、画像
解析装置「オミニコン3000形」(島津製作所社製)
を用いて黒ぽちの粒径と個数を測定し、φ(径)0.0
5mm以上の黒ぽちが1cm2当たり何個あるかにより
判定した。
[0089] For the evaluation of black spots in the evaluation of inversion image quality, the image analysis device "Ominicon 3000" (manufactured by Shimadzu Corporation) was used.
Measure the particle size and number of black spots using φ (diameter) 0.0
Judgment was made based on the number of black spots of 5 mm or more per cm2.

【0090】黒ぽちの評価の判定基準は、表−3に示す
通りである。かぶり濃度はPDP−65濃度計(コニカ
(株)製)で読み取った。
The criteria for evaluating black spots are shown in Table 3. The fog density was read using a PDP-65 densitometer (manufactured by Konica Corporation).

【0091】[0091]

【表4】[Table 4]

【0092】尚、黒ぽち判定の結果が△までであれば実
用になるが、×である場合は実用に適さない。
It should be noted that if the black spot determination result is up to △, it is practical, but if it is ×, it is not suitable for practical use.

【0093】表−2から本発明の感光体はNN,HH,
LLのいづれの条件下においても比較用感光体に比して
初期及びランニング後の電位変動が少なく、黒ぽち、か
ぶりの発生が極めて少ないことがわかる。
From Table 2, the photoreceptors of the present invention are NN, HH,
It can be seen that under both conditions of LL, the initial and post-running potential fluctuations are smaller than the comparative photoreceptor, and the occurrence of black spots and fogging is extremely small.

【0094】[0094]

【発明の効果】素面のままの基体を用いることにより、
感光体の製造コストが低減し、かつレーザによる像形成
時のモアレ支障が消滅した。
[Effect of the invention] By using a bare substrate,
The manufacturing cost of the photoreceptor has been reduced, and the problem of moiré during laser image formation has been eliminated.

【0095】更に塗布層を厚くしたので塗布自体が安定
容易となり、かつ均一層で表面の欠陥が完全被覆され、
欠陥のない良画質が得られる。
Furthermore, since the coating layer was thickened, the coating itself became stable and easy, and surface defects were completely covered with a uniform layer.
Good image quality with no defects can be obtained.

【0096】また残留及び帯電電位に関る繰返し特性が
良好であり、かつ高感度なり、更に層の接着性が向上し
た。
[0096] Further, the repeatability regarding residual and charging potential was good, the sensitivity was high, and the adhesion of the layer was further improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】第1図は基体断面の粗さ曲線を表す図、第2図
は実施例の感光体の層構成を示す断面図である。
FIG. 1 is a diagram showing a roughness curve of a cross section of a substrate, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing a layer structure of a photoreceptor according to an example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…基体 2…感光層 3…キャリア輸送物質 4…キャリア発生物質 1...Base 2...Photosensitive layer 3...Carrier transport substance 4...Carrier generating substance

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】切削加工を施さない基体上に直接キャリア
発生物質とキャリア輸送物質を含有する単層構成の感光
層を設けることを特徴とする正帯電用感光体。
1. A photoreceptor for positive charging, characterized in that a photoreceptor layer having a single layer structure containing a carrier-generating substance and a carrier-transporting substance is provided directly on a substrate that is not subjected to cutting processing.
【請求項2】前記感光層中のキャリア発生物質/バイン
ダ樹脂の重量比Pが; 0.3≦P≦2.0 である請求項1に記載の正帯電用感光体。
2. The photoreceptor for positive charging according to claim 1, wherein the weight ratio P of carrier generating substance/binder resin in the photosensitive layer is: 0.3≦P≦2.0.
【請求項3】前記切削加工を施さない基体の表面粗さに
おいて、粗さ曲線の平均深さRpが0.5μm以下、最
大高さRmaxが5μm以下である請求項1又は2に記
載の正帯電用感光体。
3. The surface roughness according to claim 1 or 2, wherein the average depth Rp of the roughness curve is 0.5 μm or less and the maximum height Rmax is 5 μm or less in the surface roughness of the substrate that is not subjected to cutting. Photoreceptor for charging.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5733698A (en) * 1996-09-30 1998-03-31 Minnesota Mining And Manufacturing Company Release layer for photoreceptors
US6331371B1 (en) 1998-08-19 2001-12-18 Nec Corporation Electrophotographic photoreceptor and its manufacturing method

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