JPH04303919A - Coating apparatus - Google Patents

Coating apparatus

Info

Publication number
JPH04303919A
JPH04303919A JP9312091A JP9312091A JPH04303919A JP H04303919 A JPH04303919 A JP H04303919A JP 9312091 A JP9312091 A JP 9312091A JP 9312091 A JP9312091 A JP 9312091A JP H04303919 A JPH04303919 A JP H04303919A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
annular ring
fins
ring portion
coating liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9312091A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3050630B2 (en
Inventor
Hitoshi Sato
均 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Mechatronics Corp
Original Assignee
Shibaura Engineering Works Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shibaura Engineering Works Co Ltd filed Critical Shibaura Engineering Works Co Ltd
Priority to JP3093120A priority Critical patent/JP3050630B2/en
Publication of JPH04303919A publication Critical patent/JPH04303919A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3050630B2 publication Critical patent/JP3050630B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent the spray of a coating liquid such as a photo-resist or the like from adhering to a substrate again and to form a homogeneous coating film on the substrate by a method wherein the substrate is turned at high speed. CONSTITUTION:A substrate 3 onto which a coating liquid has been dripped by using a dripping means 2 is turned inside a casing 5 by using a motor 10. A multiwinged centrifugal fan 16 in which the side of the said substrate 3 is opened and whose lower part is provided with an annular ring part 15 widened toward the end is installed on the inner circumference of said casing 5; many fins 23 which have been curved radially along the outside from the turning direction of said substrate 3 are formed in the said annular ring part 15. The said annular ring part 15 is turned in the direction opposite to that of the substrate 3; the spray of the coating liquid is guided to parts between the fins 23 so as to prevent the spray from adhering to the substrate 3 again.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、半導体用のウエハなど
の基板を回転させて、ホトレジストなどを塗布する塗布
装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating apparatus for rotating a substrate such as a semiconductor wafer and coating it with photoresist or the like.

【0002】0002

【従来の技術】基板上にホトレジストを塗布する場合、
通常、ホトレジストをノズルにより基板上に滴下する滴
下手段と、ケーシング内で前記基板を載置する載置台と
、吸引により前記基板を載置台に吸着する吸着手段と、
載置台を回転させるモータを備えた塗布装置が使用され
ている。この塗布装置では、基板にホトレジストを滴下
し、ケーシング内で前記基板を高速回転させてホトレジ
ストの薄膜を形成している。
[Prior Art] When applying photoresist on a substrate,
Usually, a dropping means for dropping photoresist onto the substrate using a nozzle, a mounting table for mounting the substrate within a casing, and an adsorption means for adsorbing the substrate to the mounting table by suction.
A coating device equipped with a motor that rotates a mounting table is used. In this coating device, photoresist is dropped onto a substrate and the substrate is rotated at high speed within a casing to form a thin film of photoresist.

【0003】しかしながら、前記塗布装置では、基板の
高速回転に伴なって飛散するホトレジストの飛沫がケー
シングの内部側壁と衝突し、反射して基板に再付着する
ので、基板上に薄く均一なホトレジストの塗膜を形成で
きない。そして、ホトレジスト膜が不均一化すると、微
細なレジスト像を精度よく形成できなくなる。
However, in the coating device, the photoresist droplets scattered as the substrate rotates at high speed collide with the inner side wall of the casing, are reflected, and re-adhere to the substrate, so that a thin and uniform photoresist is not deposited on the substrate. Unable to form a coating film. If the photoresist film becomes non-uniform, it becomes impossible to accurately form a fine resist image.

【0004】0004

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、基板を高速回転させても、ホトレジストなどの塗布
液の飛沫が基板に再付着することがなく、基板上に均一
な塗膜を形成できる塗布装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, it is an object of the present invention to prevent droplets of coating liquid such as photoresist from re-adhering to the substrate even when the substrate is rotated at high speed, and to form a uniform coating film on the substrate. An object of the present invention is to provide a coating device that can form a coating.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
、本発明は、塗布液を基板上に滴下する滴下手段と、ケ
ーシング内で前記基板を回転させる回転手段とを有する
塗布装置であって、前記ケーシングの内周に、前記基板
側が開放した環状リング部が設けられていると共に、こ
の環状リング部に、前記基板の回転方向から外方に沿っ
て多数の放射状のフィンが設けられている塗布装置を提
供する。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention provides a coating device having a dropping means for dropping a coating liquid onto a substrate, and a rotating means for rotating the substrate within a casing. , an annular ring portion that is open on the substrate side is provided on the inner periphery of the casing, and a large number of radial fins are provided on the annular ring portion along the outer side from the rotation direction of the substrate. Provides a coating device.

【0006】好ましい塗布装置においては、前記環状リ
ング部が、基板と逆方向に回転する。また、前記フィン
は、基板の回転方向から外方に沿って放射状に湾曲して
いるのが好ましい。さらに、前記環状リング部は、その
下部が末広がり状に形成されているのが好ましい。
In a preferred coating device, the annular ring portion rotates in a direction opposite to that of the substrate. Preferably, the fins are curved radially outward from the direction of rotation of the substrate. Furthermore, it is preferable that the annular ring portion has a lower portion formed in a shape that widens toward the end.

【0007】[0007]

【作用】前記構成の塗布装置では、滴下手段により塗布
液を基板上に滴下し、ケーシング内で、回転手段により
前記基板を回転させると、遠心力により、過剰の塗布液
が放射状に飛散する。飛散した塗布液は、基板側が開放
した環状リング部内に飛翔する。そして、前記環状リン
グ部には基板の回転方向から外方に沿って多数のフィン
が放射状に設けられているので、遠心力による塗布液の
飛沫をフィン間に導くことができると共に、前記フィン
間に飛翔した塗布液の飛沫が環状リング部の内方へ反射
するのを規制できる。従って、基板への再付着を防止で
き、塗布液の飛沫を環状リング部内に効率よく収容でき
る。
[Operation] In the coating apparatus having the above structure, when the coating liquid is dropped onto the substrate by the dropping means and the substrate is rotated by the rotating means within the casing, the excess coating liquid is scattered radially due to centrifugal force. The scattered coating liquid flies into the annular ring portion that is open on the substrate side. Since the annular ring portion is provided with a large number of fins radially outward from the rotational direction of the substrate, it is possible to guide the spray of the coating liquid due to centrifugal force between the fins, and It is possible to prevent splashes of the coating liquid from being reflected inward of the annular ring portion. Therefore, re-adhesion to the substrate can be prevented, and droplets of the coating liquid can be efficiently contained within the annular ring portion.

【0008】また、前記環状リング部が、基板と逆方向
に回転する場合には、飛翔した塗布液を複数のフィン間
に効率よく導くことができる。
Furthermore, when the annular ring portion rotates in the opposite direction to the substrate, the flying coating liquid can be efficiently guided between the plurality of fins.

【0009】また、前記フィンが、前記基板の回転方向
から外方に湾曲している場合には、飛散した塗布液の飛
翔方向と、フィンの方向を略一致させることができるの
で、飛翔した塗布液を環状リング部のフィン間により効
率よく導くことができると共に、フィンによる飛沫の反
射をさらに抑制できる。
Furthermore, when the fins are curved outward from the direction of rotation of the substrate, the flying direction of the sprayed coating liquid can be made to substantially match the direction of the fins, so that the sprayed coating liquid can be The liquid can be more efficiently guided between the fins of the annular ring portion, and the reflection of droplets by the fins can be further suppressed.

【0010】さらに、前記環状リング部の下部が末広が
り状に形成されている場合には、飛翔した飛沫を傾斜し
た側壁により下方に反射させることができる。
Furthermore, when the lower part of the annular ring portion is formed in a shape that widens toward the end, the flying droplets can be reflected downward by the inclined side wall.

【0011】[0011]

【実施例】以下に、添付図面を参照しつつ、本発明の実
施例をより詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

【0012】図1は本発明の一実施例による塗布装置を
示す断面図、図2は図1の塗布装置を示す概略平面図で
ある。
FIG. 1 is a sectional view showing a coating apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic plan view showing the coating apparatus of FIG.

【0013】この塗布装置は、ホトレジストなどの塗布
液を定量的に供給し、ノズル1から基板3に滴下する滴
下手段2と、排気流路4を備えたケーシング5内に配設
され、前記基板3を回転駆動する回転手段とを備えてい
る。
This coating device is arranged in a casing 5 equipped with a dripping means 2 for quantitatively supplying a coating liquid such as photoresist and dripping it onto a substrate 3 from a nozzle 1, and an exhaust flow path 4, 3.

【0014】前記回転手段は、前記基板3が載置される
載置プレート6と、この載置プレート6の上面で中空部
が開口し、載置プレート6に載置された基板3を吸引に
より吸着するための中空軸7と、この中空軸7を、前記
ケーシング5の下部で内方へ延出した端部で回転可能に
保持する軸受8a,8bとを備えている。また、回転手
段は、前記軸受8a,8b間の中空軸7およびモータ1
0の回転軸11に取付けられた滑車9aと、滑車9a間
に緊張状態で設けられたベルト9bと、前記モータ10
の回転軸を回転可能に支持する軸受12とを有している
The rotating means includes a mounting plate 6 on which the substrate 3 is mounted, a hollow portion is opened on the upper surface of the mounting plate 6, and the substrate 3 mounted on the mounting plate 6 is moved by suction. It includes a hollow shaft 7 for adsorption, and bearings 8a and 8b that rotatably hold the hollow shaft 7 at an end extending inward at the lower part of the casing 5. Further, the rotating means includes the hollow shaft 7 between the bearings 8a and 8b and the motor 1.
A pulley 9a attached to the rotating shaft 11 of the motor 10, a belt 9b provided under tension between the pulleys 9a, and the motor 10.
It has a bearing 12 that rotatably supports a rotating shaft.

【0015】従って、前記中空軸7を通じて吸引し、基
板3を載置プレート6に吸着させ、モータ10を回転さ
せると、回転運動が、ベルト9bを介して中空軸7に伝
達し、前記載置プレート6および基板3が回転する。
Therefore, when the substrate 3 is attracted to the mounting plate 6 by suction through the hollow shaft 7 and the motor 10 is rotated, the rotational motion is transmitted to the hollow shaft 7 via the belt 9b, and the substrate 3 is attracted to the mounting plate 6. Plate 6 and substrate 3 rotate.

【0016】前記ケーシング5の内周には、基板3側が
開放し、かつ前記基板3と非接触状態で回転する多翼遠
心ファン16が配設されている。この多翼遠心ファン1
6は、前記ケーシング5内の底板部13と、この底板部
13の中央部から延出し、前記中空軸7を回転可能に収
容する筒状部14と、前記底板部13の周縁部に形成さ
れ、基板3側が開放した環状リング部15とで構成され
ている。
A multi-blade centrifugal fan 16 is disposed on the inner periphery of the casing 5 and is open on the substrate 3 side and rotates without contacting the substrate 3. This multi-blade centrifugal fan 1
6 is formed at the bottom plate part 13 in the casing 5, a cylindrical part 14 extending from the center of the bottom plate part 13 and rotatably housing the hollow shaft 7, and a peripheral edge part of the bottom plate part 13. , and an annular ring portion 15 that is open on the substrate 3 side.

【0017】また、前記基板3の回転に伴なって、飛散
した塗布液を下方へ反射させるため、前記環状リング部
15は、その下部が末広がり状、すなわち縦断面ハ字状
に形成されている。さらに、環状リング部15の外側端
部には、貯溜する塗布液を流出させる開口17が形成さ
れている。
Further, in order to reflect downward the coating liquid scattered as the substrate 3 rotates, the annular ring portion 15 has a lower portion that widens toward the end, that is, a vertical section having a V-shape. . Furthermore, an opening 17 is formed at the outer end of the annular ring portion 15 to allow the stored coating liquid to flow out.

【0018】前記筒状部14は、ケーシング5の下部に
、ケーシング5と一体に形成された受液部18の端部で
、軸受19により回転可能に保持されている。また、前
記筒状部14の下端部にはギヤ20が取付けられ、この
ギヤ20は、前記モータ10の回転軸11に取付けられ
たギヤ21と噛合している。なお、回転軸11の端部は
、軸受22により回転可能に保持されている。
The cylindrical portion 14 is rotatably held by a bearing 19 at the end of a liquid receiving portion 18 formed integrally with the casing 5 at the lower part of the casing 5 . Further, a gear 20 is attached to the lower end of the cylindrical portion 14, and this gear 20 meshes with a gear 21 attached to the rotating shaft 11 of the motor 10. Note that the end of the rotating shaft 11 is rotatably held by a bearing 22.

【0019】従って、前記モータ10の回転運動は、前
記ギヤ20,21により多翼遠心ファン16に伝達され
、かつ前記基板3の回転方向とは逆方向に多翼遠心ファ
ン16が回転する。この例では、基板3が反時計方向に
回転し、多翼遠心ファン16が時計方向に回転する。
Therefore, the rotational motion of the motor 10 is transmitted to the multi-blade centrifugal fan 16 by the gears 20 and 21, and the multi-blade centrifugal fan 16 rotates in a direction opposite to the direction of rotation of the substrate 3. In this example, the substrate 3 rotates counterclockwise and the multi-blade centrifugal fan 16 rotates clockwise.

【0020】そして、前記環状リング部15には、多数
のフィン23が設けられ、これらのフィン23は、基板
3の回転方向から外方に沿って湾曲している。従って、
多翼遠心ファン16を基板3と逆方向に回転させること
により、回転に伴なって飛翔する飛沫の飛翔方向と、フ
ィン23の向きを略一致させることができ、環状リング
部15内のフィン23間に飛沫を効率よく導き、収容で
きる。また、前記フィン23が湾曲しているので、フィ
ン23間に飛翔した飛沫が、環状リング部15から基板
3の方向へ反射するのを規制できる。
The annular ring portion 15 is provided with a large number of fins 23, and these fins 23 are curved outward from the direction of rotation of the substrate 3. Therefore,
By rotating the multi-blade centrifugal fan 16 in the opposite direction to the substrate 3, the flying direction of the droplets that fly as the fan 16 rotates can be made to substantially match the direction of the fins 23, and the fins 23 in the annular ring portion 15 It can efficiently guide and contain droplets in between. Furthermore, since the fins 23 are curved, droplets flying between the fins 23 can be prevented from being reflected from the annular ring portion 15 toward the substrate 3.

【0021】さらに、前記受液部18には、前記環状リ
ング部15の開口17から流出する塗布液を排出または
回収するためのドレインパイプ24が接続されている。
Furthermore, a drain pipe 24 is connected to the liquid receiving portion 18 for discharging or collecting the coating liquid flowing out from the opening 17 of the annular ring portion 15.

【0022】なお、フィンが塗布液の飛沫の飛翔方向、
すなわち基板の回転方向から外方向に沿って設けられて
いると、飛翔する飛沫をフィン間に導き、環状リング部
に収容できるので、前記環状リング部は、必ずしも回転
させる必要はない。また、前記フィンは、飛沫の飛翔方
向に沿って湾曲している必要はなく、平板状や捩れてい
てもよい。
[0022] Note that the fins are arranged in the direction in which the droplets of the coating liquid fly;
That is, if it is provided along the outward direction from the rotational direction of the substrate, the flying droplets can be guided between the fins and accommodated in the annular ring part, so the annular ring part does not necessarily need to be rotated. Furthermore, the fins do not need to be curved along the flight direction of the droplets, and may be flat or twisted.

【0023】前記フィンは、環状リング部内で揺動自在
に設けられていてもよい。図3は本発明の他の実施例に
よる環状リング部の部分概略平面図である。
[0023] The fin may be swingably provided within the annular ring portion. FIG. 3 is a partial schematic plan view of an annular ring portion according to another embodiment of the present invention.

【0024】この例では、環状リング部31の内方開放
側の上下部には、フィン33を回転可能に枢支するピン
32が設けられ、前記環状リング部31の上部周方向に
は、フィン33の揺動範囲を規定する規制ピン34が設
けられている。なお、前記規制ピン34は、前記環状リ
ング部31の上部周方向に形成された環状スリット(図
示せず)内でスライド可能で、かつ所定位置で固定可能
な環状部材(図示せず)の下面から環状リング部31内
へ突出している。
In this example, pins 32 for rotatably supporting the fins 33 are provided at the upper and lower portions of the inward open side of the annular ring portion 31, and fins are provided in the upper circumferential direction of the annular ring portion 31. A regulating pin 34 is provided to define the swinging range of 33. The regulation pin 34 is arranged on the lower surface of an annular member (not shown) that is slidable within an annular slit (not shown) formed in the upper circumferential direction of the annular ring portion 31 and fixed at a predetermined position. It protrudes into the annular ring portion 31 from the inside.

【0025】このようなフィン33を設けた環状リング
部31を、基板と同一又は逆方向に回転させる場合、前
記環状リング部31の回転に伴なう流動抵抗により、フ
ィン33が、前記ピン32を中心として前記基板の回転
方向から外方に向き、フィン33の移動が規制ピン34
により規制される。従って、フィン33を所定の方向に
配列させることができ、塗布液の飛沫をフィン33間に
導くことができる。また、環状部材と共に規制ピン34
を環状スリットに沿って周方向へ移動させることにより
、フィン33の揺動範囲を容易に規定できる。
When the annular ring portion 31 provided with such fins 33 is rotated in the same direction as the substrate or in the opposite direction, the fins 33 are rotated against the pins 32 due to the flow resistance accompanying the rotation of the annular ring portion 31. The movement of the fin 33 is directed outward from the direction of rotation of the board with
regulated by. Therefore, the fins 33 can be arranged in a predetermined direction, and droplets of the coating liquid can be guided between the fins 33. In addition, together with the annular member, the regulating pin 34
By moving the fins 33 in the circumferential direction along the annular slit, the swing range of the fins 33 can be easily defined.

【0026】なお、図3に示す実施例において、前記フ
ィン33を枢支するピンは、基板及び環状リング部の回
転方向に応じて適所に形成することができ、環状リング
部の上下方向に回転可能に設けられたピンに、前記フィ
ンを取付けてもよい。また、前記規制ピン34に代えて
、環状リング部に形成されたピンや凸部により、前記フ
ィンの揺動範囲を規定してもよい。
In the embodiment shown in FIG. 3, the pins for pivotally supporting the fins 33 can be formed at appropriate positions depending on the rotational direction of the substrate and the annular ring section, and the pins that pivot the fins 33 can be formed at appropriate positions depending on the rotation direction of the substrate and the annular ring section. The fins may be attached to pins that are provided. Further, instead of the regulating pin 34, the swinging range of the fin may be defined by a pin or a convex portion formed on the annular ring portion.

【0027】前記各実施例において、環状リング部は、
基板と同じ方向に回転してもよい。この場合、例えば、
前記滑車9a及びベルト9bに代えてギヤを使用しても
よく、前記モータ10の回転軸11と中空軸7とに互い
に噛合するギヤを取付け、前記回転軸11のギヤ21と
筒状部14のギヤ20との間にギヤを介在させてもよい
。さらに、ギヤ比やプーリ比を調整することにより、基
板の回転速度と環状リング部の回転速度を制御してもよ
い。
[0027] In each of the above embodiments, the annular ring portion is
It may be rotated in the same direction as the substrate. In this case, for example,
Gears may be used in place of the pulley 9a and the belt 9b. Gears that mesh with each other are attached to the rotating shaft 11 and the hollow shaft 7 of the motor 10, and the gear 21 of the rotating shaft 11 and the cylindrical portion 14 are connected to each other. A gear may be interposed between the gear 20 and the gear 20. Furthermore, the rotational speed of the substrate and the rotational speed of the annular ring portion may be controlled by adjusting the gear ratio and pulley ratio.

【0028】さらに、前記環状リング部の側壁は、立設
していてもよいが、前記のように、下方に末広がり状に
傾斜して形成されているのが好ましい。環状リング部の
側壁の角度は、基板の回転数などに応じて選択できる。
Further, the side wall of the annular ring portion may be provided upright, but it is preferable that the side wall be formed to be inclined downwardly and spread out as described above. The angle of the side wall of the annular ring portion can be selected depending on the rotation speed of the substrate, etc.

【0029】本発明の塗布装置は、ホトレジストを用い
て微細な回路パターンなどを製造する場合に好適に使用
されるが、ホトレジストに限らず種々の塗布液を塗布す
る場合にも使用できる。
The coating apparatus of the present invention is suitably used when manufacturing fine circuit patterns using photoresist, but it can also be used when coating various coating liquids other than photoresist.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明の塗布装置によれば、環状リング
部に、特定の方向に向いた多数のフィンが設けられてい
るため、基板を高速回転させても、塗布液の飛沫をフィ
ン間に飛翔させて収容できると共に、環状リング部の内
方へ反射するのを規制でき、ホトレジストなどの塗布液
の飛沫が基板に再付着することがなく、基板上に均一な
塗膜を形成できる。
According to the coating device of the present invention, the annular ring portion is provided with a large number of fins oriented in a specific direction, so even if the substrate is rotated at high speed, the coating liquid is not splashed between the fins. In addition, it is possible to control the inward reflection of the annular ring portion, prevent droplets of coating liquid such as photoresist from adhering to the substrate again, and form a uniform coating film on the substrate.

【0031】前記環状リング部が、基板と逆方向に回転
する場合には、飛翔した塗布液の飛沫を複数のフィン間
に効率よく導くことができ、基板への飛沫の再付着をさ
らに防止できる。
[0031] When the annular ring portion rotates in the opposite direction to the substrate, the sprayed coating liquid droplets can be efficiently guided between the plurality of fins, further preventing the droplets from re-adhering to the substrate. .

【0032】また、前記フィンが、前記基板の回転方向
から外方に湾曲している場合には、飛散した塗布液の飛
翔方向と、フィンの方向を一致させることができるので
、飛翔した塗布液を環状リング部のフィン間により効率
よく導くことができると共に、フィンによる飛沫の反射
をさらに抑制できる。
Furthermore, when the fins are curved outward from the direction of rotation of the substrate, the flying direction of the splashed coating liquid can be made to match the direction of the fins, so that the flying direction of the flying coating liquid can be made to match the direction of the fins. can be guided more efficiently between the fins of the annular ring portion, and reflection of droplets by the fins can be further suppressed.

【0033】さらに、前記環状リング部は、その下部が
末広がり状に形成されている場合には、塗布液の飛沫を
下方へ反射させることができるので、基板への飛沫の再
付着を防止できる。
Furthermore, when the annular ring portion is formed so that its lower part widens toward the end, droplets of the coating liquid can be reflected downward, thereby preventing the droplets from re-adhering to the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】本発明の一実施例による塗布装置を示す断面図
である。
FIG. 1 is a sectional view showing a coating device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の塗布装置を示す概略平面図である。FIG. 2 is a schematic plan view showing the coating device of FIG. 1;

【図3】本発明の他の実施例による環状リング部の部分
概略平面図である。
FIG. 3 is a partial schematic plan view of an annular ring portion according to another embodiment of the invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2…滴下手段 3…基板 5…ケーシング 10…モータ 15,31…環状リング部 16…多翼遠心ファン 23,33…フィン 2...Dripping means 3...Substrate 5...Casing 10...Motor 15, 31...Annular ring part 16...Multi-blade centrifugal fan 23, 33...fin

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  塗布液を基板上に滴下する滴下手段と
、ケーシング内で前記基板を回転させる回転手段とを有
する塗布装置であって、前記ケーシングの内周に、前記
基板側が開放した環状リング部が設けられていると共に
、この環状リング部に、前記基板の回転方向から外方に
沿って多数の放射状のフィンが設けられている塗布装置
1. A coating device comprising a dropping means for dropping a coating liquid onto a substrate and a rotating means for rotating the substrate within a casing, the coating device having an annular ring on the inner periphery of the casing that is open on the substrate side. The coating device is provided with a ring-shaped ring portion, and a large number of radial fins are provided on the annular ring portion along the outer side from the rotation direction of the substrate.
【請求項2】  環状リング部が、基板と逆方向に回転
する請求項1記載の塗布装置。
2. The coating apparatus according to claim 1, wherein the annular ring portion rotates in a direction opposite to that of the substrate.
【請求項3】  フィンが、基板の回転方向から外方に
湾曲している請求項1又は2記載の塗布装置。
3. The coating device according to claim 1, wherein the fin is curved outward from the direction of rotation of the substrate.
【請求項4】  環状リング部の下部が末広がり状に形
成されている請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の
塗布装置。
4. The coating device according to claim 1, wherein the lower part of the annular ring portion is formed in a shape that widens toward the end.
JP3093120A 1991-03-30 1991-03-30 Coating device Expired - Fee Related JP3050630B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3093120A JP3050630B2 (en) 1991-03-30 1991-03-30 Coating device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3093120A JP3050630B2 (en) 1991-03-30 1991-03-30 Coating device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04303919A true JPH04303919A (en) 1992-10-27
JP3050630B2 JP3050630B2 (en) 2000-06-12

Family

ID=14073662

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3093120A Expired - Fee Related JP3050630B2 (en) 1991-03-30 1991-03-30 Coating device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3050630B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5591264A (en) * 1994-03-22 1997-01-07 Sony Corporation Spin coating device
JP2009032777A (en) * 2007-07-25 2009-02-12 Tokyo Electron Ltd Substrate processing apparatus
CN113655167A (en) * 2020-05-12 2021-11-16 国家烟草质量监督检验中心 Method for measuring ammonia content in main stream smoke of cigarette by automatic filter disc liquid coating device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5591264A (en) * 1994-03-22 1997-01-07 Sony Corporation Spin coating device
JP2009032777A (en) * 2007-07-25 2009-02-12 Tokyo Electron Ltd Substrate processing apparatus
US8006636B2 (en) 2007-07-25 2011-08-30 Tokyo Electron Limited Substrate treatment apparatus
CN113655167A (en) * 2020-05-12 2021-11-16 国家烟草质量监督检验中心 Method for measuring ammonia content in main stream smoke of cigarette by automatic filter disc liquid coating device

Also Published As

Publication number Publication date
JP3050630B2 (en) 2000-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5706843A (en) Substrate rotating device
US5989632A (en) Coating solution applying method and apparatus
US5069156A (en) Spin coating apparatus for forming a photoresist film over a substrate having a non-circular outer shape
JPH06210230A (en) Spin coater
US11961757B2 (en) Substrate holding apparatus and substrate processing apparatus
JPH04303919A (en) Coating apparatus
JPH0945750A (en) Holding member of plate object and rotary treatment device with it
KR100594119B1 (en) Substrate Surface Treatment Device
JP2002151455A (en) Cleaning apparatus for semiconductor wafer
KR20020041418A (en) Method and apparatus for controlling air over a spinning microelectronic substrate
JPH0864568A (en) Wafer cleaning device
JPS63229169A (en) Coating apparatus
JPS584926A (en) Spin coater
JP2635135B2 (en) Coating device
JPS6079724A (en) Rotary processing device
JPH01139172A (en) Coating equipment
JPH01159080A (en) Rotary coating device
JPH11102883A (en) Spin cleaner
JP5467583B2 (en) Substrate cleaning device
US6555276B2 (en) Substrate coating and semiconductor processing method of improving uniformity of liquid deposition
JP2970657B1 (en) Substrate processing equipment
JPH06285414A (en) Rotary coating device
JPH04352315A (en) Resist coater
JPH04332117A (en) Resist coating method and device
JPH09260276A (en) Coating method and coater

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080331

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090331

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100331

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees